JP2017040821A5 - - Google Patents

Description

上記目的を達成するために、本発明の一側面としての決定方法は、第１露光条件での基板の露光中における投影光学系の光学特性の変動を予測するための第１予測式を決定する決定方法であって、前記第１露光条件と、前記光学特性の変動を予測するための第２予測式に対応する第２露光条件との相関係数を求める第１工程と、前記相関係数が許容範囲内にある場合に、前記第２予測式に基づいて前記第１予測式を決定する第２工程と、を含むことを特徴とする。

Claims (17)

1. 第１露光条件での基板の露光中における投影光学系の光学特性の変動を予測するための第１予測式を決定する決定方法であって、
   前記第１露光条件と、前記光学特性の変動を予測するための第２予測式に対応する第２露光条件との相関係数を求める第１工程と、
   前記相関係数が許容範囲内にある場合に、前記第２予測式に基づいて前記第１予測式を決定する第２工程と、
   を含むことを特徴とする決定方法。
2. 前記相関係数が前記許容範囲内にない場合に、前記第１露光条件での基板の露光中における前記光学特性の変動を実測し、その実測結果に基づいて前記第１予測式を決定する第３工程を含む、ことを特徴とする請求項１に記載の決定方法。
3. 前記第３工程では、前記光学特性の変動を実測する内容を前記相関係数に応じて変更する、ことを特徴とする請求項２に記載の決定方法。
4. 前記第１工程では、前記相関係数は、前記第１露光条件と前記第２露光条件との項目ごとの差に基づいて求められる、ことを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の決定方法。
5. 前記第１工程の前に、前記第２露光条件での基板の露光中における前記光学特性の変動を実測し、その実測結果に基づいて前記第２予測式を決定する工程を含む、ことを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載の決定方法。
6. 前記第１工程では、前記第１露光条件と複数の前記第２露光条件の各々との前記相関係数を求め、
   前記第２工程では、複数の前記第２露光条件のうち、前記相関係数が前記許容範囲内にあり且つ前記相関係数が最も高い第２露光条件に対応する前記第２予測式に基づいて前記第１予測式を決定する、ことを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載の決定方法。
7. 前記第２工程では、前記第１露光条件と前記第２露光条件との差、および前記第２予測式に基づいて前記第１予測式を決定する、ことを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載の決定方法。
8. 前記第１予測式および前記第２予測式は、予測値を実測値に近づけるための係数をそれぞれ含み、
   前記第２工程では、前記第１露光条件と前記第２露光条件との差、および前記第２予測式の係数に基づいて、前記第１予測式の係数を決定する、ことを特徴とする請求項７に記載の決定方法。
9. 前記第２工程では、
   前記第１露光条件と前記第２露光条件との項目ごとの差に対して重み付けを行って得られた値の総和を求め、
   前記総和と前記第２予測式の係数とを用いて前記第１予測式の係数を決定する、ことを特徴とする請求項８に記載の決定方法。
10. 前記第２工程では、
    露光条件の変化に対する前記光学特性の変動率を示す敏感度を、露光条件の項目ごとに求め、
    前記総和を、前記敏感度に応じた重み付けを行って得られた値の総和として求める、ことを特徴とする請求項９に記載の決定方法。
11. 前記第２工程では、前記第２予測式を前記第１予測式として適用する、ことを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載の決定方法。
12. 前記第１工程では、
    前記第１露光条件と前記第２露光条件との項目ごとの差に重み付けを行って得られた値の二乗和を用いて前記相関係数を求める、ことを特徴とする請求項１乃至１１のうちいずれか１項に記載の決定方法。
13. 前記第１工程では、
    露光条件の変化に対する前記光学特性の変動率を示す敏感度を、露光条件の項目ごとに求め、
    前記二乗和を、前記敏感度に応じた重み付けを行って得られた値の二乗和として求める、ことを特徴とする請求項１２に記載の決定方法。
14. 前記第１露光条件および前記第２露光条件は、照明ＮＡ、照明σおよび露光画角のうち少なくとも１つの項目をそれぞれ含む、ことを特徴とする請求項１乃至１３のうちいずれか１項に記載の決定方法。
15. 請求項１乃至１４のうちいずれか１項に記載の決定方法の各工程をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
16. 投影光学系を介して基板を露光する露光装置であって、
    前記投影光学系の光学特性を変更する変更部と、
    第１露光条件での基板の露光中における前記投影光学系の光学特性の変動を予測するための第１予測式を決定し、前記第１予測式により求められた予測値に基づいて前記変更部を制御する制御部と、
    を含み、
    前記制御部は、
    前記第１露光条件と、前記光学特性の変動を予測するための第２予測式に対応する第２露光条件との相関係数を求め、
    前記相関係数が許容範囲内にある場合には、前記第２予測式に基づいて前記第１予測式を決定する、ことを特徴とする露光装置。
17. 請求項１６に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
    前記工程で露光された前記基板を現像する工程と、
    を含み、現像された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。