JP2017039176A5 - - Google Patents

Claims (12)

1. トップリング本体と、その下方に設けられた弾性膜と、を有するトップリングに基板を吸着させる基板吸着方法であって、
   前記基板の下面が支持部材に支持され、前記基板の上面が前記弾性膜の下面と接触した状態で、前記弾性膜の上面と前記トップリング本体との間に同心円状に形成された複数のエリアのうちの少なくとも１つのエリアを真空引きする真空引き工程と、
   真空引きの対象エリアより外側にあるエリアにおけるガスの流量を計測する流量計測工程と、
   前記ガスの流量に基づいて、前記トップリングに前記基板が吸着したか否かを判定する判定工程と、を備える基板吸着方法。
2. 前記トップリングに前記基板が吸着したと判定された後に、前記基板が吸着された前記弾性膜と前記支持部材とを離間させる離間工程と、を備える請求項１に記載の基板吸着方法。
3. 前記真空引き工程の後に、前記真空引きの対象エリアの少なくとも１つのエリアの圧力を計測する圧力計測工程を備え、
   前記判定工程では、前記ガスの流量に加え、前記真空引きの対象エリアの少なくとも１つのエリアにおける圧力も考慮して、前記トップリングに前記基板が吸着したか否かを判定する、請求項１または２に記載の基板吸着方法。
4. 前記複数のエリアのうちの少なくとも１つのエリアを加圧する加圧工程と、
   前記基板の上面と前記弾性膜の下面とを接触させる接触工程と、を備え、
   その後に前記真空引き工程が行われる、請求項１ないし３のいずれかに記載の基板吸着方法。
5. 前記加圧工程では、前記真空引きの対象エリアを加圧する、請求項４に記載の基板吸着方法。
6. 前記基板の上面と前記弾性膜の下面とが接触している際に、前記真空引きの対象エリアより外側にあるエリアを加圧しない、請求項１乃至５のいずれかに記載の基板吸着方法。
7. 前記支持部材は、前記トップリングに前記基板を受け渡す搬送機構である、請求項１乃至６のいずれかに記載の基板吸着方法。
8. 前記支持部材は、前記トップリングに保持された基板を研磨する研磨テーブルである、請求項１乃至７のいずれかに記載の基板吸着方法。
9. トップリング本体と、
   前記トップリング本体の下方に設けられる弾性膜であって、その上面と前記トップリング本体との間に同心円状に複数のエリアが形成された弾性膜と、
   支持部材によって下面が支持された基板の上面と前記弾性膜の下面とが接触した状態で、前記複数のエリアのうちの少なくとも１つのエリアを真空引きする圧力調整手段と、
   前記真空引きの対象エリアより外側にあるエリアにおけるガスの流量を計測する流量計と、
   前記ガスの流量に基づいて、前記弾性膜の下面に前記基板が吸着したか否かを判定する判定手段と、を備えるトップリング。
10. 前記真空引きの対象エリアより外側にあるエリアには、前記流量計が設けられた流路が接続され、該エリアと前記流量計との間で、前記流路は分岐していない、請求項９に記載のトップリング。
11. 前記複数のエリアが形成された位置において、前記弾性膜には孔が形成されていない、請求項９または１０に記載のトップリング。
12. 請求項９乃至１１のいずれかに記載のトップリングと、
    前記トップリングに前記基板を受け渡す搬送機構と、
    前記トップリングに保持された前記基板を研磨する研磨テーブルと、を備える基板研磨装置。