JP2017032666A - 電気泳動表示装置および電子機器 - Google Patents

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Abstract

【課題】電気泳動分散液中における気泡の発生を抑制または防止して、優れた表示特性を発揮する電気泳動表示装置および信頼性が高い電子機器を提供すること。【解決手段】電気泳動表示装置10は、素子基板(第1基板)51と、この素子基板51と対向して配置された対向基板(第2基板)52と、素子基板51と対向基板52との間に配置された、電気泳動粒子34とこの電気泳動粒子34を分散する分散媒15とを含有する分散液を有する電気泳動層33と、電気泳動層33を複数のセル36に区切るために配置された隔壁35と、隔壁35と対向基板52との間に配置された封止層42とを有している。そして、封止層42は、25℃における弾性率が1MPa以上100MPa以下となっている。【選択図】図4

Description

本発明は、電気泳動表示装置および電子機器に関するものである。
従来から、粒子の電気泳動を利用した電気泳動表示装置が知られており、この電気泳動表示装置は、可搬性および省電力性を有している点で優れている。
この電気泳動表示装置では、電気泳動粒子を含む電気泳動分散液を挟んで対向する画素電極と共通電極との間に電圧を印加して、帯電した黒粒子や白粒子等の電気泳動粒子を空間的に移動させることで表示領域に画像を形成している。電気泳動表示装置としては、例えば、一対の基板間を隔壁によって複数の空間に区画し、各空間内に電気泳動粒子および分散媒を含む電気泳動分散液を封入した構成のものが知られている。
このような電気泳動表示装置は、例えば、特許文献1に記載のように、電気泳動分散液(電気泳動インク)を空間(セル)の内部に隙間なく封止するために、隔壁の頂部を、基板に接着された接着層に食い込ませて、前記空間の封止性を高めている技術が開示されている。
ところが、この電気泳動表示装置において、電気泳動分散液は、環境の温度変化により体積膨張収縮が起こるが、特に、低温時において、上記の通り、空間の封止性を高めたとしても、電気泳動分散液の体積が収縮して気泡が発生することがあった。
この気泡は、電気泳動分散液の体積収縮による真空気泡が、電気泳動分散液を構成する構造材料からのガス成分を引き抜いて起こる。そのため、温度を低温から室温に戻したとしても、電気泳動分散液の内部に気泡が残存し、その結果、電気泳動表示装置の表示特性が著しく低下するという問題が生じる。
特開2013−41036号公報
本発明の目的は、電気泳動分散液中における気泡の発生を抑制または防止して、優れた表示特性を発揮する電気泳動表示装置および信頼性が高い電子機器を提供することにある。
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の電気泳動表示装置は、第1基板と、
前記第1基板と対向して配置された第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間に配置された、電気泳動粒子と分散媒とを含有する分散液を有する電気泳動層と、
前記電気泳動層を複数のセルに区切るために配置された隔壁と、
前記隔壁と前記第2基板との間に配置された封止層とを有し、
前記封止層は、25℃における弾性率が1MPa以上100MPa以下であることを特徴とする。
これにより、低温(例えば、−30℃程度)の環境下に電気泳動表示装置が晒されることに起因して、分散液が体積収縮したとしても、この体積収縮に対応して封止層が変形して追従することができる。したがって、この体積収縮による分散液からの気泡の発生を的確に抑制または防止することができることから、電気泳動表示装置を、長期に亘って、優れた表示特性を維持するものとすることができる。
本発明の電気泳動表示装置では、前記封止層は、平均膜厚が前記電気泳動層の平均膜厚に対して1/5以上の厚さを有していることが好ましい。
これにより、封止層が変形して、分散液の体積収縮に対応して、封止層が追従することで、分散液に気泡が発生するのを的確に抑制または防止することができる。
本発明の電気泳動表示装置では、前記封止層は、体積抵抗率が前記分散液の体積抵抗率よりも低いことが好ましい。
これにより、第1基板と第2基板との間に封止層が介在したとしても、電気泳動層中において、電気泳動粒子の移動度が低下するのを的確に抑制または防止することができる。
本発明の電気泳動表示装置では、前記封止層と前記電気泳動層との接触面のうち、前記隔壁と平面視で重なる部分は、前記隔壁と平面視で重ならない部分よりも断面視において前記第2基板側に位置しており、これにより、前記隔壁は、頂部が前記封止層に食い込むことが好ましい。
このように、隔壁の頂部を封止層に食い込ませることで、封止層と、第1基板と、隔壁とにより区画された閉空間に充填された分散液が、隣接するセル同士の間で、行き来するのをより的確に抑制または防止することができる。
本発明の電気泳動表示装置では、前記封止層は、前記第2基板側に位置する第1封止層と、前記電気泳動層側に位置する第2封止層とを有する積層体であることが好ましい。
本発明の電気泳動表示装置では、前記第1封止層は、25℃における弾性率が5MPa以上40MPa以下であることが好ましい。
これにより、積層体、すなわち、封止層全体としての弾性率を、1MPa以上100MPa以下の範囲内に容易に設定することができる。
本発明の電気泳動表示装置では、前記第2封止層は、25℃における弾性率が50MPa以上10GPa以下であることが好ましい。
これにより、積層体、すなわち、封止層全体としての弾性率を、1MPa以上100MPa以下の範囲内に容易に設定することができる。
本発明の電気泳動表示装置では、前記第1封止層は、平均膜厚が2.5μm以上20μm以下であることが好ましい。
これにより、積層体、すなわち、封止層全体としての弾性率を、1MPa以上100MPa以下の範囲内に容易に設定することができる。
本発明の電気泳動表示装置では、前記第2封止層は、平均膜厚が0.05μm以上1.0μm以下であることが好ましい。
これにより、積層体、すなわち、封止層全体としての弾性率を、1MPa以上100MPa以下の範囲内に容易に設定することができる。
本発明の電気泳動表示装置では、前記第1封止層は、体積抵抗率が1×107Ω・cm以上5×1010Ω・cm以下であることが好ましい。
これにより、積層体、すなわち、封止層全体としての体積抵抗率を、1×107Ω・cm以上1×1012Ω・cm以下の範囲内に容易に設定することができることから、第1基板と第2基板との間に封止層が介在することに起因して、電気泳動粒子の移動度が低下するのを的確に抑制または防止することができる。
本発明の電気泳動表示装置では、前記第2封止層は、体積抵抗率が1×107Ω・cm以上2×1011Ω・cm以下であることが好ましい。
これにより、積層体、すなわち、封止層全体としての体積抵抗率を、1×107Ω・cm以上1×1012Ω・cm以下の範囲内に容易に設定することができることから、第1基板と第2基板との間に封止層が介在することに起因して、電気泳動粒子の移動度が低下するのを的確に抑制または防止することができる。
本発明の電子機器は、本発明の電気泳動表示装置を備えることを特徴とする。
これにより、性能および信頼性の高い電子機器が得られる。
本発明の電気泳動表示装置が搭載された電子機器の実施形態を示す斜視図である。 本発明の電気泳動表示装置の電気的な構成の実施形態を示す等価回路図である。 本発明の電気泳動表示装置の構造の実施形態を示す模式平面図である。 図3に示す電気泳動表示装置のA−A’線断面図である。 図3に示す電気泳動表示装置のうち封止層、およびシール部周辺の構造を示す模式平面図である。 図5に示す電気泳動表示装置のB−B’線断面図である。 図5に示す電気泳動表示装置のC部を拡大して示す拡大平面図である。 図6に示す電気泳動表示装置のF部を拡大して示す拡大断面図である。 電気泳動表示装置の製造方法を工程順に示すフローチャートである。 図3に示す電気泳動表示装置の製造方法を説明するための模式断面図である。 図3に示す電気泳動表示装置の製造方法を説明するための模式断面図である。 図3に示す電気泳動表示装置の製造方法を説明するための模式断面図である。 図3に示す電気泳動表示装置の製造方法を説明するための模式断面図である。 図3に示す電気泳動表示装置の製造方法を説明するための模式断面図である。 図3に示す電気泳動表示装置の製造方法を説明するための模式断面図である。 図3に示す電気泳動表示装置の製造方法を説明するための模式断面図である。 図3に示す電気泳動表示装置の製造方法を説明するための模式断面図である。 各サンプルNo.の評価用サンプルにおける気泡発生の有無と第1封止層の弾性率および膜厚の関係を示すグラフである。
以下、本発明の電気泳動表示装置および電子機器を添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。
なお、以下の形態において、例えば「基板上に」と記載された場合、基板の上に接するように配置される場合、または基板の上に他の構成物を介して配置される場合、または基板の上に一部が接するように配置され、一部が他の構成物を介して配置される場合を含むものとする。
<電子機器>
まず、本発明の電気泳動表示装置を説明するのに先立って、本発明の電気泳動表示装置を備える電子機器(本発明の電子機器)について説明する。
図1は、本発明の電気泳動表示装置が搭載された電子機器の実施形態を示す斜視図である。なお、使用する図面(図1および以下で示す図を含む)は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大または縮小して表示している。
図1に示すように、電子機器100は、電気泳動表示装置10と、電子機器100を操作するためのインターフェイスとを備えている。このインターフェイスは、具体的には、例えば、操作部110で、スイッチ等から構成される。
電気泳動表示装置10は、本発明の電気泳動表示装置で構成され、表示領域Eを有するディスプレイモジュールである。表示領域Eは複数の画素から成り、これらの画素が電気的に制御される事で表示領域Eに画像が表示される。
なお、電気泳動表示装置10を備えた電子機器100として、図1に示す、電子ペーパー(EPD:Electronic Paper Display)の他、ウォッチ、リスタブル機器、スマートフォン、タブレット端末、テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、電子新聞、ワードプロセッサ、パーソナルコンピュータ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネル等に適用することができる。
<電気泳動表示装置>
次に、かかる電子機器100が備える電気泳動表示装置10について説明する。
図2は、本発明の電気泳動表示装置の電気的な構成の実施形態を示す等価回路図、図3は、本発明の電気泳動表示装置の構造の実施形態を示す模式平面図、図4は、図3に示す電気泳動表示装置のA−A’線断面図、図5は、図3に示す電気泳動表示装置のうち封止層、およびシール部周辺の構造を示す模式平面図、図6は、図5に示す電気泳動表示装置のB−B’線断面図、図7は、図5に示す電気泳動表示装置のC部を拡大して示す拡大平面図、図8は、図6に示す電気泳動表示装置のF部を拡大して示す拡大断面図である。なお、図5〜図8においては、絶縁層や配線、電極等の図示は省略する。
図2に示すように、電気泳動表示装置10は、複数のデータ線12と、複数の走査線13とを有し、データ線12と走査線13とが交差する部分に画素11が配置される。具体的には、電気泳動表示装置10は、データ線12と走査線13とに沿ってマトリクス状に配置された複数の画素11を有している。各画素11は、画素電極21と共通電極22との間に配置された電気泳動粒子を含む分散媒15を有する。
画素電極21は、トランジスター16(TFT16)を介してデータ線12に接続されている。また、TFT16のゲート電極は、走査線13に接続されている。なお、図2は、例示であり、必要に応じて保持容量等の他の素子が組み込まれてもよい。
また、図3および図4に示すように、電気泳動表示装置10は、素子基板(第1基板)51と、対向基板(第2基板)52と、電気泳動層33とを有する。
素子基板51が備える、例えば、透光性を有するガラス基板からなる第1基材31上には、各画素11に対応して画素電極21が配置されている。
詳述すると、図3および図4に示すように、画素11(画素電極21)は、例えば、平面視でマトリクス状に形成されている。画素電極21の材料としては、例えば、ITO(錫を添加した酸化インジウム:Indium Tin Oxide)等の光透過性材料が用いられる。
第1基材31と画素電極21との間には、図示しない回路部が設けられており、回路部の中にTFT16等が形成されている。TFT16は、図示しないコンタクト部を介して、各画素電極21と電気的に接続されている。なお、図示しないが、回路部の中には、TFT16の他、各種配線(例えば、データ線12や走査線13等)や素子(例えば、容量素子)等が配置されている。画素電極21上を含む第1基材31上の全面には、第1絶縁層32が形成されている。なお、第1絶縁層32を設けない構成でもよい。
対向基板52が備える、例えば、透光性を有するガラス基板からなる第2基材41上(図4における分散媒15側)には、複数の画素11に対応して共通に設けられた共通電極22が形成されている。共通電極22としては、例えば、ITO等の光透過性材料が用いられる。
また、共通電極22上には、第1封止層42aが形成されている。第1封止層42aの上には、第2封止層42bが形成されている。なお、第1封止層42aと第2封止層42bとを合せて封止層42と称する。なお、この封止層42については、後に詳述する。
第1絶縁層32と封止層42との間には、電気泳動層33が設けられている。
電気泳動層33は、少なくとも1以上の電気泳動粒子34と、電気泳動粒子34が分散された分散媒15とを含む電気泳動分散液で構成され、この電気泳動分散液(分散媒15および電気泳動粒子34)は、第1絶縁層32と、第2封止層42bと、第1基材31上に設けられた隔壁35(リブ)と、により仕切られた(分割された)空間(領域)に充填されている。
隔壁35は、図3に示すように、碁盤目状に形成されている。なお、隔壁35は、透光性材料(アクリルやエポキシ樹脂等)であることが好ましい。また、隔壁35の幅は、例えば、5μmである。
なお、本実施形態では、各画素11に画素電極21が配置され、各画素電極21に前記隔壁35(リブ)が配置されている構成としたが、これに限定されず、複数の画素毎(例えば2〜20画素毎)に、隔壁(リブ)が形成されても良い。
また、素子基板51と対向基板52とを貼り合せた際、隔壁35の上部が対向基板52(具体的には、封止層42)に接触することにより、隔壁35の高さ(実際には、図6に示す額縁隔壁61)を基準に素子基板51と対向基板52との間のセルギャップを決めることができる。
なお、以下では、隔壁35によって囲まれた領域をセル36と言う。一つのセル36は、画素電極21と、共通電極22と、電気泳動層33とを含む。
さらに、隔壁35の高さは、この隔壁35により区画される電気泳動層33の厚さとほぼ等しくなり、例えば、10μm以上150μm以下であることが好ましく、20μm以上100μm以下であることがより好ましく、特に好ましくは30μm程度に設定される。これにより、電気泳動粒子34の移動による白表示と黒表示とを優れたコントラストで表示することが可能となる。
本実施形態では、図4に示すように、電気泳動粒子34として、白色粒子と黒色粒子とを示している。
例えば、画素電極21と共通電極22との間に電圧を印加すると、これらの間に生じる電界にしたがって、電気泳動粒子34は、いずれかの電極(画素電極21、共通電極22)に向かって電気泳動する。例えば、白色粒子が正荷電を有する場合、画素電極21を負電位とすると、白色粒子は、画素電極21側(下側)に移動して集まり、黒表示となる。逆に、画素電極21を正電位とすると、白色粒子は、共通電極22側(上側)に移動して集まり、白表示となる。このように、表示側の電極に集合する白色粒子の有無や数等に応じて、所望の情報(画像)が表示される。なお、ここでは、電気泳動粒子34として白色粒子や黒色粒子を用いたが、他の有色粒子を用いてもよい。
また、電気泳動粒子34としては、無機顔料系の粒子、有機顔料系の粒子または高分子微粒子等を用いることができ、各種粒子を2種以上混合して用いてもよい。また、電気泳動粒子34の平均粒子径は、例えば、0.05μm以上10μm以下程度のものが用いられ、好ましくは、0.2μm以上2μm以下程度のものが用いられる。
また、白色粒子の含有量は、分散媒15、白色粒子および黒色粒子の全重量、すなわち電気泳動分散液に対して30%以内であり、黒色粒子の含有量は、分散媒15、白色粒子、黒色粒子の全重量、すなわち電気泳動分散液に対して10%以内である。このように配分することにより、反射率が40%以上、および黒色反射率が2%以下になり、表示性能を高くすることができる。
また、本実施形態では、分散媒15として、−30℃程度の温度でも電気泳動粒子34の移動が可能なシリコーンオイルを用いる。シリコーンオイルの粘度は、例えば、10cP以下である。シリコーンオイルは、低粘度溶媒であるので、例えば、−30℃程度の低温でも、電気泳動粒子は500ms以下の速度で電極間を泳動することができる。
なお、分散媒15としては、シリコーンオイルの他、例えば、ブタノールやグリセリン等のアルコール類、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類、酢酸ブチル等のエステル類、ジブチルケトン等のケトン類、ペンタン等の脂肪族炭化水素類(流動パラフィン)、アセトニトリル等のニトリル類を用いることもできる。
また、図5および図6に示すように、電気泳動表示装置10は、表示領域Eと、この表示領域Eを囲む額縁領域E1とを有する。この額縁領域E1には、電気泳動層33のうち表示に寄与しない領域であるダミー画素領域Dと、ダミー画素領域Dの外側に配置された額縁隔壁61と、額縁隔壁61の外側に配置されたシール部14とを含む。
なお、額縁領域E1の幅は、例えば、1mm程度である。また、ダミー画素領域Dの幅は、例えば、80μmである。ダミー画素領域Dの表示領域E側には、表示領域Eに配置された隔壁35と同じ形状で形成された隔壁35aが設けられている隔壁のリブ幅(頂部35’の幅)は、3μm以上10μm以下程度であり、本実施形態では、5μmである。また、隣り合う隔壁と隔壁との距離は、例えば、150μmである。
ダミー画素領域Dの外側には、額縁隔壁61が設けられている。額縁隔壁61は、分散媒15が外側に流れ出ないように堰き止めることができると共に、セルギャップを調整するために用いられており、ダミー画素領域Dを囲むように配置されている。なお、額縁隔壁61は、通常、表示領域Eの隔壁35と同じ材料で構成されている。
額縁隔壁61の幅W1は、例えば、100μmである。また、額縁隔壁61の厚みは、例えば、10μm〜50μmの範囲であり、本実施形態では33μmである。
なお、額縁隔壁61は、隣接して配置される第1シール材14aが表示領域Eにはみ出さないようにするためにも用いられる。
シール部14は、本実施形態では、図6に示すように、第1シール材14aと、第2シール材14bとを有する。第1シール材14aは、素子基板51と対向基板52とを貼り合わせる際に接着するために用いられ、額縁隔壁61を囲むように設けられている。
第1シール材14aの幅W2は、例えば、400μmである。また、第1シール材14aの粘度は、例えば、30万Pa・s以上100万Pa・s以下であり、好ましくは、40万Pa・s程度である。このような粘度の第1シール材14aを用いることにより、素子基板51と対向基板52との貼り合せの際に、素子基板51と対向基板52との接触面積を大きく保つことができる。
また、第2シール材14bは、素子基板51と対向基板52との間を封止するために用いられ、第1シール材14aを囲むように配置されている。
第2シール材14bの幅W3は、例えば、400μmである。また、第2シール材14bの粘度は、例えば、100Pa・s以上500Pa・s以下であり、好ましくは、400Pa・s程度である。このような粘度の第2シール材14bを用いることにより、第1シール材14aの周囲の素子基板51と対向基板52との間に、第2シール部材を入り込ませることが可能となる。そのため、第2シール材14bの接着強度を向上させることができる。また、外部から第2シール材14bおよび第1シール材14aを介して内部に水分が侵入することを抑えることが可能となり、信頼性の高いシール構造を得ることができる。
なお、シール部14は、第1シール材14aと、第2シール材14bとのように別体として設ける場合の他、第2シール材14bの構成材料によっては、第1シール材14aを省略して、第2シール材14bの単体で構成されるものであってもよい。
図6および図8に示すように、表示領域Eにおいて、隔壁35の頂部35’と対向基板52との間には、封止層42が設けられている。
これにより、封止層42と、第1絶縁層32と、隔壁35(リブ)とにより区画された空間(閉空間)が形成され、この空間に分散媒15と電気泳動粒子34とを含む電気泳動分散液が充填されることで、分散媒15および電気泳動粒子34が隣接するセル36とセル36との間で、行き来できないようになっている。
この封止層42は、本発明では、その室温(25℃)における弾性率が1MPa以上100MPa以下となっている。
ここで、前述の通り、電気泳動表示装置において、電気泳動分散液は、環境の温度変化により体積膨張収縮が起こるが、特に、低温時において、空間の封止性を高めたとしても、電気泳動分散液の体積が収縮し、これに起因して気泡が発生することがあった。
この気泡は、電気泳動分散液の体積収縮による真空気泡が、電気泳動分散液を構成する構造材料からのガス成分を引き抜いて起こる。そのため、温度を低温から室温(25℃)に戻したとしても、電気泳動分散液の内部に気泡が残存し、その結果、電気泳動表示装置の表示特性が著しく低下するという問題があった。
これに対して、本発明では、封止層42の室温(25℃)における弾性率が1MPa以上100MPa以下となっており、封止層42が優れた柔軟性を備えるものとなっている。そのため、低温(例えば、−30℃程度)の環境下に電気泳動表示装置10が晒されることに起因して、電気泳動層33(電気泳動分散液)が体積収縮したとしても、この体積収縮に対応して封止層42が変形して追従することができる。したがって、この体積収縮による電気泳動分散液からの気泡の発生を的確に抑制または防止することができることから、電気泳動表示装置10を、長期に亘って、優れた表示特性を維持するものとすることができる。
ただし、封止層42の25℃における弾性率は、1MPa以上100MPa以下となっていればよいが、5MPa以上40MPa以下であることが好ましく、5MPa以上15MPa以下であることがより好ましい。これにより、前記効果をより顕著に発揮させることができる。
また、封止層42の平均膜厚t1は、電気泳動層33の平均膜厚に対して1/5以上の厚さを有していることが好ましく、1/5以上1/2以下の厚さを有していることがより好ましい。封止層42の平均膜厚が前記下限値未満であると、封止層42の弾性率によっては、封止層42が変形して追従したとしても、封止層42の厚さが薄過ぎるために、電気泳動層33の体積収縮に対応して、封止層42が十分に追従することができず、電気泳動層33に気泡が発生するおそれがある。封止層42の平均膜厚が前記上限値を超えると、さらに、封止層42の膜厚を厚くしたとしても、封止層42の追従性のさらなる向上性を期待することができないばかりか、膜厚の厚い封止層42が画素電極21と共通電極22との間に介在することに起因して、封止層42における抵抗値が大きくなり過ぎ、電気泳動層33中における電気泳動粒子34の移動度が低下するおそれがある。
具体的には、封止層42の平均膜厚t1は、例えば、2.5μm以上30μm以下程度であることが好ましく、2.5μm以上10μm以下程度であることがより好ましい。本実施形態では、5μmである。
さらに、封止層42は、その体積抵抗率が電気泳動分散液の体積抵抗率よりも低いことが好ましい。これにより、画素電極21と共通電極22との間に封止層42が介在したとしても、封止層42における抵抗値が大きくなり過ぎることに起因して、電気泳動層33中において、電気泳動粒子34の移動度が低下するのを的確に抑制または防止することができる。具体的には、封止層42の体積抵抗率は、1×107Ω・cm以上1×1012Ω・cm以下であることが好ましく、1×10Ω・cm以上1×1010Ω・cm以下であることがより好ましい。
ここで、図6、図8に示すように、封止層42と電気泳動層33との接触面(第1封止層42aと第2封止層42bとの接触面)のうち、隔壁35と平面視で重なる部分は、隔壁35と平面視で重ならない部分よりも断面視において第2基材41(対向基板52)側に位置しており、これにより、隔壁35は、その頂部35’が封止層42に食い込んでいる。このように、頂部35’を封止層42に食い込ませることで、封止層42と、第1絶縁層32と、隔壁35とにより区画された閉空間に充填された電気泳動分散液が、隣接するセル36同士の間で、行き来するのをより的確に抑制または防止することができる。
さらに、本実施形態では、第1封止層42aと第2封止層42bとの接触面のうち頂部35’が食い込んでいない部分(隔壁35と平面視で重ならない部分)と頂部35’とを比較した際、図8に示すように頂部35’の方が第2基材41側に位置している。そして、隔壁35の封止層42への食い込み量t2、すなわち第2封止層42bの電気泳動層33側の面のうち、頂部35’が食い込んでいない部分と頂部35’との間の距離は、例えば、1μm〜5μmであることが好ましく、本実施形態では2μmである。これにより、頂部35’を封止層42に食い込ませることにより得られる効果を、より顕著に発揮させることができる。
このような封止層42は、本実施形態では、図4でも説明したように、対向基板52側から第1封止層42aと第2封止層42bとが、この順に積層された積層体で構成されている。
このような積層体において、第1封止層42aの弾性率は、5MPa以上40MPa以下であることが好ましい。なお、本実施形態では、室温(25℃)における弾性率が20MPaとなっている。また、第2封止層42bの弾性率は、50MPa以上10GPa以下であることが好ましい。第1封止層42aと、第2封止層42bとを、上記のような弾性率を有するものとすることにより、積層体、すなわち、封止層42全体としての弾性率を、1MPa以上100MPa以下の範囲内に容易に設定することができるとともに、隔壁35の頂部35’が折れ曲がったり、第2封止層42bが破損することなく、隔壁35の頂部35’を封止層42に食い込ませる(隔壁35の頂部35’により封止層42を変形させる)ことができる。
さらに、第1封止層42aの厚みは、2.5μm以上20μm以下であることが好ましく、第2封止層42bの厚みは、0.05μm以上1.0μm以下であることが好ましい。また、本実施形態において、第1封止層42aの厚みは4.5μmであり、第2封止層42bの厚みは0.5μmである。これにより、第1封止層42aと、第2封止層42bとの積層体、すなわち、封止層42全体としての弾性率を、1MPa以上100MPa以下の範囲内に容易に設定することができる。なお、第2封止層42bの厚みが0.5μm以下のように薄いものである場合には、第2封止層42bの弾性率が10GPa程度のように高く、第2封止層42bが硬いものであったとしても、封止層42全体としての弾性率には影響を与えないことがある。
なお、第1封止層42aと第2封止層42bとの膜厚が上記のように設定される場合には、第1封止層42aは、第2封止層42bよりも柔らかい(弾性率の低い)材料を用いて形成されていること、すなわち、第1封止層42aの弾性率は、第2封止層42bの弾性率よりも低いことが好ましい。これにより、隔壁35の頂部35’の幅を3μm〜10μmの範囲内のように細くしたとしても、頂部35’が折れ曲がったり、第2封止層42bが破損したり(頂部35’によって第2封止層42bが破られたり)することなく、隔壁35の頂部35’を封止層42に食い込ませる(隔壁35の頂部35’により封止層42を変形させる)ことができる。
また、第1封止層42aの体積抵抗率は、1×107Ω・cm以上5×1010Ω・cm以下であることが好ましく、第2封止層42bの体積抵抗率は1×107Ω・cm以上2×1011Ω・cm以下であることが好ましい。第1封止層42aと、第2封止層42bとを、上記のような体積抵抗率を有するものとすることにより、積層体、すなわち、封止層42全体としての体積抵抗率を、1×107Ω・cm以上1×1012Ω・cm以下の範囲内に容易に設定することができることから、画素電極21と共通電極22との間に封止層42が介在することに起因して、電気泳動粒子34の移動度が低下するのを的確に抑制または防止することができる。
以上のような封止層42(積層体)において、第1封止層42aは、第2封止層42bよりも柔軟であり隔壁35の頂部35’が、より食い込みやすい材料が好ましく用いられ、具体的には、第1封止層42aの構成材料としては、例えば、NBR(アクリロニトリル・ブタジエンゴム)、ウレタンゴム、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、スチレン・ブタジエンゴム、ヒドリンゴム、ニトリルゴム等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。中でも、NBRまたはヒドリンゴムであることが好ましい。NBRおよびヒドリンゴムによれば、その加硫条件の変更、および、第1封止層42aへのフィラーの添加により、第1封止層42aの弾性率を容易に調整することができる。したがって、頂部35’を封止層42に食い込ませることができるとともに、封止層42の弾性率を1MPa以上100MPa以下の範囲内により確実に設定することができる。
なお、第1封止層42aに添加するフィラーとしては、例えば、シリカ、マイカ、アルミナ、酸化チタン、窒化珪素等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
また、第2封止層42bは、例えば、第1封止層42aが分散媒15に溶出しないようにするための封止層として機能し得るように第2封止層42bの構成材料が選択され、具体的には、第2封止層42bの構成材料としては、例えば、PVA(ポリビニルアルコール)の他、ポリエチレン、ポリプロピレンのような非極性ポリマー等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。中でも、PVAであることが好ましい。これらの材料(特に、PVA)は、分散媒15に溶出するおそれが少ないことから、電気泳動表示装置10の不具合を好適に軽減することができる。また、PVAは、接着性が低い材料であるため、第2封止層42bに電気泳動粒子34が固着することを防止することができる。
なお、第2封止層42bには、第2封止層42bの材料を柔らかくする(第2封止層42bの弾性率を低下させる)ための添加剤が含まれていてもよい。この添加剤としては、例えば、グリセリンが挙げられる。添加剤は、PVAの固形分に対して5wt%以上50wt%以下程度添加されることが好ましい。これにより、第2封止層42bの材料として弾性率が600MPa以上の材料を選択したとしても、第2封止層42bとして好適に用いることができる。本実施形態では、第2封止層42bの材料として、室温(25℃)における弾性率が692MpaのPVAにグリセリンを添加し、室温における弾性率が75MPaとしたものが用いられている。
また、添加剤は、グリセリンに限定されず、例えば、ポリエチレングリコール、グリセリン、尿素、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレングリコールから選択される1種または2種以上を混合したものを用いてもよい。
なお、封止層42の光線透過率は、PVAが99%であり、NBRが99%である。
なお、封止層42は、第1封止層42aと、第2封止層42bとの積層体として設ける場合の他、第2封止層42bの構成材料によっては、第1封止層42aを省略して、第2封止層42bの単層で構成されるものであってもよいし、さらには、3層以上の積層体で構成されていてもよい。
さらに、図6および図7に示すように、封止層42の端部は、例えば、表示領域Eの最外周の隔壁35aと額縁隔壁61との間、つまり、ダミー画素領域Dの範囲に配置されている。封止層42は、表示領域Eより一回り大きく、大きさにばらつきが生じたとしても、表示領域Eに端部が入り込まないような大きさになっている。
また、封止層42を形成する材料として接着剤を用いた場合、接着層に含まれる接着剤(例えば、完全に硬化しない反応性モノマー等の不純物)が分散液の中に溶出することにより、この接着剤が電気泳動分散液に含まれる電気泳動粒子34に付着して、電気泳動粒子34の泳動性に影響を与えるおそれがある。しかしながら、本実施形態においては、封止層42を、第1封止層42aと第2封止層42bとを有するものとし、電気泳動粒子34と接触する部分に第2封止層42bを配置している。そのため、このような不具合も軽減することができる。
また、封止層42を、弾性率の高い(固い)材料のみで形成した場合、隔壁35の頂部35’の幅が狭すぎると、頂部35’が封止層42に食い込まず、折れ曲がるおそれがある。そうすると、隔壁35の頂部35’と封止層42との間には隙間が生じ、電気泳動粒子34が隣合うセル36間を移動してしまうことが考えられる。しかしながら、本実施形態のように、封止層42を第1封止層42aと第2封止層42bとで形成し、それぞれの弾性率や膜厚を好適な範囲に設定することで、このような不具合も抑制することができる。
以下、かかる構成の電気泳動表示装置10を製造するための製造方法を説明する。
<電気泳動表示装置の製造方法>
次に、上述した電気泳動表示装置10を製造するための製造方法について説明する。
図9は、電気泳動表示装置の製造方法を工程順に示すフローチャートである。図10〜図17は、図3に示す電気泳動表示装置の製造方法を説明するための模式断面図である。 以下、電気泳動表示装置の製造方法を、図9〜図17を参照しながら説明する。
[1]まず、図9を参照しながら、素子基板51の製造方法を説明する。
[1−1]まず、ガラス等の透光性材料からなる第1基材31上に、TFT16や、ITO等の光透過性材料からなる画素電極21等を形成する(ステップS11)。
具体的には、周知の成膜技術、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術を用いて、第1基材31上にTFT16および画素電極21等を形成する。なお、以降の断面図を用いた説明においては、TFT16や画素電極21等の説明および図示を省略する。
[1−2]次いで、第1基材31上に第1絶縁層32を形成する(ステップS12)。
第1絶縁層32の製造方法としては、特に限定されず、例えば、第1基材31上に絶縁性材料を、スピンコート法等を用いて塗布し、その後、絶縁性材料を乾燥させることにより形成することができる。
[1−3]次いで、図10に示すように、第1基材31(具体的には、第1絶縁層32)上に隔壁35を形成する(ステップS13)。
より具体的には、表示領域Eの隔壁35と、表示領域Eの最外周の隔壁35aと、その外側に設ける額縁隔壁61と、を同時に形成する。
隔壁35,35a、額縁隔壁61は、例えば、周知の成膜技術、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術を用いて形成することができる。
このように、隔壁35,35a、額縁隔壁61を、同じ材料で同時に形成することにより、効率よく製造することができる。
以上により、素子基板51が完成する。
なお、隔壁35は、分散媒15に溶解しない材質からなり、その材質は有機物か無機物かは問われない。具体的に、有機物材料の例としては、ウレタン樹脂、ウレア樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、アクリルシリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレンアクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ブチラール樹脂、塩化ビニリデン樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスルフォン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂等を挙げられる。これらの樹脂単体または二種類以上の複合剤を使用する。
[2]次に、対向基板52の製造方法を説明する。
[2−1]まず、第2基材41上に共通電極22を形成する(ステップS21)。
具体的には、ガラス基板等の透光性材料からなる第2基材41上の全面に、周知の成膜技術を用いて共通電極22を形成する。
[2−2]次いで、共通電極22上に封止層42(第1封止層42aおよび第2封止層42b)を形成する(ステップS22、ステップS23)。
第1封止層42aおよび第2封止層42bの形成方法としては、図11に示すように、例えば、対向基板52上にNBR(アクリロニトリル ブタジエン ゴム)をスピンコート等の塗布法で成膜し、その後、PVA(ポリビニルアルコール)を同様に塗布法で成膜する。PVAには、上記したように、グリセリン等の添加剤が添加されている。
さらに、エッチング法を用いて、形成すべき第1封止層42aおよび第2封止層42bの形状に対応して、PVAおよびNBRをパターニングすることで、第1封止層42aおよび第2封止層42bを得る。なお、塗布法に限定されず、印刷法を用いて形成するようにしてもよい。
以上により、対向基板52が完成する。
[3]次に、図9〜図17を参照しながら、素子基板51と対向基板52とを貼り合わせる方法を説明する。
[3−1]まず、図12に示すように、大気中において、額縁隔壁61の外周に第1シール材14aを塗布する(ステップS31)。
第1シール材14aの材料は、例えば、比較的粘度の高い液性エポキシ樹脂であるカヤトロンである。第1シール材14aの粘度は、例えば、30万Pa・s〜100万Pa・sであり、好ましくは40万Pa・sである。塗布したときの第1シール材14aの幅は、真空に耐えられる程度の幅であり、例えば、400μmである。
[3−2]次いで、図13に示すように、素子基板51上の表示領域Eに電気泳動粒子34(白色粒子、黒色粒子)と、シリコーンオイルからなる分散媒15とを含有する電気泳動分散液を塗布する(ステップS32)。
塗布方法としては、例えば、ディスペンサーを用いる。また、ダイコーター等も適用することができる。なお、シリコーンオイルの粘度は、例えば、10cP以下である。分散媒15の量としては、素子基板51と対向基板52とを貼り合せたときに、額縁隔壁61で囲まれた中を満たすような液量である。本実施形態において額縁隔壁61の高さは、例えば、33μmである。
なお、額縁隔壁61が形成されていることにより、第1シール材14aが表示領域E側に入り込む(広がる)ことを防ぐことができる。また、第1シール材14aの幅が所定の幅より広がらないように規制することができる。これにより、第1シール材14aの強度を十分に確保することができる。
[3−3]次いで、図14に示すように、素子基板51と対向基板52との貼り合わせを開始する(ステップS33)。
なお、セル36内に気泡が混入することを防ぐため、この貼り合わせは、真空負圧環境下で押圧する。しかしながら、シリコーンオイルは揮発性が高いので、大気圧より低い低真空の状態にする。この圧力は、具体的には、例えば、500Paである。
[3−4]次いで、図15に示すように、素子基板51と対向基板52との間に分散媒15(電気泳動分散液)を封止する(第1封止;ステップS34)。
すなわち、低真空の状態において、第1シール材14aを介して、素子基板51と対向基板52とを貼り合わせる。
このとき、封止層42に隔壁35の頂部35’が食い込むまで、換言すれば第1封止層42aと第2封止層42bとの接触面のうち、隔壁35と平面視で重なる部分と、隔壁35と平面視で重ならない部分とを断面視で比較した際に、隔壁35と平面視で重なる部分がそうでない部分よりも第2基材41側に位置するまで、素子基板51に対向基板52を押圧していく。
このとき、額縁隔壁61が素子基板51と対向基板52との間のセルギャップを規定するスペーサーとしても機能する。
素子基板51に対向基板52を押圧していくと、第1シール材14aが潰されると共に、分散媒15が額縁隔壁61および第1シール材14a側に押され充填される。このとき、表示領域Eに設けられた隔壁35の頂部35’は、対向基板52側に設けられた封止層42に食い込むことにより、隣接するセル36間で分散媒15が移動することを防ぐことができる。
その後、図16に示すように、第1シール材14aが紫外線硬化型樹脂であれば紫外線を照射して、第1シール材14aを硬化させる。また、熱硬化型樹脂であれば、加熱することにより硬化させる。
素子基板51と対向基板52とを貼り合せたときのセルギャップは、20μm以上50μm以下程度であり、本実施形態では33μmである。また、潰された第1シール材14aの幅は、例えば、200μm以上500μm以下であり、本実施形態では400μmである。
[3−5]次いで、図17に示すように、大気中において、第1シール材14aの外周に第2シール材14bを形成して接着する(第2封止;ステップS35)。
具体的には、第2シール材14bは、水分が入らず比較的低い粘度であり、隙間に入り込むことが重要であり、例えば、アクリルやエポキシ樹脂等である。なお、第2シール材14bの粘度は、第1シール材14aの粘度よりも低く、例えば、100Pa・s以上500Pa・s以下であり、好ましくは、400Pa・sである。第2シール材14bの幅は、例えば、400μmである。
第2シール材14bを塗布する方法としては、例えば、ディスペンサーやダイコーター等が用いられる。以上により、図17に示すように、素子基板51と対向基板52とによって挟持された空間が封止される。その後、必要に応じて、製品の形状に切断する。
以上のような工程を経ることで、電気泳動表示装置10が得られる。
以上、本発明の電気泳動表示装置および電子機器を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これに限定されるものではなく、各部の構成は、同様の機能を有する任意の構成のものに置換することができる。また、本発明に他の任意の構成物が付加されていてもよい。また、前述した各実施形態を適宜組み合わせてもよい。
また、前述した実施形態では、隔壁35が格子状をなしていたが、隔壁35の構成(平面視形状)としては、特に限定されない。例えば、ハニカム状、多角形状、丸形状、三角形状等に構成されていてもよい。
また、素子基板51側に隔壁35や額縁隔壁61を配置することに限定されず、対向基板52側に隔壁35や額縁隔壁61を配置するようにしてもよい。
さらに、隔壁35を、フォトリソグラフィ法を用いて形成することに限定されず、例えば、ナノインプリント法やスクリーン印刷法、凸版印刷法、グラビア印刷法等の印刷プロセスで形成するようにしてもよい。
また、第1基材31および第2基材41は、表示側に光透過性を有する材料を用いればよく、ガラス基板の他、プラスチック基板を用いるようにしてもよい。
さらに、額縁隔壁61をスペーサーとして利用することに限定されない。素子基板51と対向基板52との間のセルギャップを規定するために、例えば別の部材をスペーサーとして設ける場合は、額縁隔壁61の高さは隔壁35の高さと等しくてもよい。
次に、本発明の具体的実施例について説明する。
1.評価用サンプルの製造
(サンプルNo.1A)
<1>まず、平均厚さ0.5mmのガラス基板を、第1基材31として用意した。次に、この第1基材31上に、ウレタン樹脂で構成される樹脂層(31μm)を形成した後、この樹脂層をエッチングすることにより、幅5μm・高さ31μmの隔壁35を形成した。
<2>次いで、平均厚さ0.5平均厚さ0.5mmのガラス基板を、第2基材41として用意した。次に、この第2基材41上に、第1封止層42aおよび第2封止層42bを成膜することで封止層42を形成した。
なお、第1封止層42aおよび第2封止層42bの成膜は、第2基材41上にNBRをスピンコート法で成膜し、その後、PVAをスピンコート法で成膜することにより行った。なお、この際に得られた、第1封止層42aおよび第2封止層42bの膜厚は、それぞれ、2μmおよび0.3μmであった。また、第1封止層42aの25℃における弾性率は、15MPaであった。
<3>次いで、第1基材31上の隔壁35の外周に、液性エポキシ樹脂であるカヤトロンを第1シール材14aとして塗布した。その後、第1基材31と隔壁35とで形成された凹部内に電気泳動粒子34と、分散媒15(シリコーンオイル、粘度:2cps)とを含有する電気泳動分散液を塗布することで充填した。
<4>次いで、前記工程<3>において、凹部内に電気泳動分散液が充填された第1基材31に対して、前記工程<2>において、封止層42が形成された第2基材41を貼り合わせた。なお、この貼り合わせは、500Paの真空負圧環境下で、封止層42に隔壁35の頂部35’が食い込むまで、素子基板51に対向基板52を押圧した後に、第1シール材14aに紫外線を照射して硬化させることにより行った。なお、封止層42に隔壁35の頂部35’が食い込むことで形成された電気泳動層33の膜厚は、30μmであった。
以上のような工程を経ることで、サンプルNo.1Aの評価用サンプルを製造した。
なお、第2封止層42bの厚みが0.3μmであり、第1封止層42aに対して第2封止層42bが薄いことから、本実施例では、第2封止層42bの弾性率の考慮は省略して、第1封止層42aの弾性率を、封止層42全体としての弾性率として取り扱うこととする。
(サンプルNo.1B)
第1封止層42aを、NBRに代えて、ヒドリンゴムを用いて形成したこと以外は、前記サンプルNo.1Aと同様にしてサンプルNo.1Bの評価用サンプルを製造した。なお、サンプルNo.1Bの評価用サンプルにおける、第1封止層42aの25℃における弾性率は、5MPaであった。
(サンプルNo.1C)
第1封止層42aを、サンプルNo.1Bで用いたヒドリンゴムとは加硫条件が異なるものを用いて形成したこと以外は、前記サンプルNo.1Bと同様にしてサンプルNo.1Cの評価用サンプルを製造した。なお、サンプルNo.1Cの評価用サンプルにおける、第1封止層42aの25℃における弾性率は、40MPaであった。
(サンプルNo.2A〜15A)
第1封止層42aの膜厚を、表1に示すように変更したこと以外は、前記サンプルNo.1Aと同様にしてサンプルNo.2A〜15Aの評価用サンプルを製造した。
(サンプルNo.2B〜15B)
第1封止層42aの膜厚を、表1に示すように変更したこと以外は、前記サンプルNo.1Bと同様にしてサンプルNo.2B〜15Bの評価用サンプルを製造した。
(サンプルNo.2C〜15C)
第1封止層42aの膜厚を、表1に示すように変更したこと以外は、前記サンプルNo.1Cと同様にしてサンプルNo.2C〜15Cの評価用サンプルを製造した。
2.評価
2−1.応答速度の評価
サンプルNo.5A、10A、15Aの評価用サンプルについて、それぞれ、第1基材31と第2基材41との間に15Vの電圧を印加し、白反射率が45%となるまでの応答時間(Tr)を測定した。
その結果、サンプルNo.5A、10Aおよび15Aの評価用サンプルにおいて、応答時間(Tr)は、それぞれ、180、195および205msecとなっており、第1封止層42aの膜厚が30μmにおいても、使用に耐え得る応答速度を示した。
したがって、第1封止層42aの膜厚が厚くなることに起因して封止層42の電気抵抗値が大きくなる限界値は30μmであると推察された。
2−2.気泡発生の評価
各サンプルNo.の評価用サンプルについて、それぞれ、25℃の室温から、−30℃の低温に温度を下げた後の電気泳動層における気泡の発生の有無について確認を行い、気泡の発生が認められた場合を×、気泡の発生が認められなかった場合を○として評価を行った。
これらの測定結果を表1および図18に示す。
Figure 2017032666
表1および図18から明らかなように、第1封止層42aの膜厚を厚くすることで、弾性率が高くなったとしても、気泡の発生を防止し得ることが判った。この気泡発生の有無と第1封止層42aの弾性率および膜厚の関係について、図18に示したグラフに基づいて推察を行ったところ、気泡発生が防止される気泡限界は、図18中に示した二次曲線で表されると考えられた。
したがって、上述した応答速度の評価から封止層42の電気抵抗値限界値は30μmであることから、封止層42の弾性率1MPa以上100MPa以下の範囲内において、封止層42の膜厚を適切な範囲内に設定することで、電気泳動層における気泡の発生を的確に防止し得ることが明らかとなった。
10…電気泳動表示装置、11…画素、12…データ線、13…走査線、14…シール部、14a…第1シール材、14b…第2シール材、15…分散媒、16…トランジスター、21…画素電極、22…共通電極、31…第1基材、32…第1絶縁層、33…電気泳動層、34…電気泳動粒子、35…隔壁、35a…隔壁、35'…頂部、36…セル、41…第2基材、42…封止層、42a…第1封止層、42b…第2封止層、51…素子基板、52…対向基板、61…額縁隔壁、100…電子機器、110…操作部、D…ダミー画素領域、E…表示領域、E1…額縁領域、t1…平均膜厚、t2…食い込み量、W1…幅、W2…幅、W3…幅

Claims (12)

  1. 第1基板と、
    前記第1基板と対向して配置された第2基板と、
    前記第1基板と前記第2基板との間に配置された、電気泳動粒子と分散媒とを含有する分散液を有する電気泳動層と、
    前記電気泳動層を複数のセルに区切るために配置された隔壁と、
    前記隔壁と前記第2基板との間に配置された封止層とを有し、
    前記封止層は、25℃における弾性率が1MPa以上100MPa以下であることを特徴とする電気泳動表示装置。
  2. 前記封止層は、平均膜厚が前記電気泳動層の平均膜厚に対して1/5以上の厚さを有している請求項1に記載の電気泳動表示装置。
  3. 前記封止層は、体積抵抗率が前記分散液の体積抵抗率よりも低い請求項1または2に記載の電気泳動表示装置。
  4. 前記封止層と前記電気泳動層との接触面のうち、前記隔壁と平面視で重なる部分は、前記隔壁と平面視で重ならない部分よりも断面視において前記第2基板側に位置しており、これにより、前記隔壁は、頂部が前記封止層に食い込む請求項1ないし3のいずれか1項に記載の電気泳動表示装置。
  5. 前記封止層は、前記第2基板側に位置する第1封止層と、前記電気泳動層側に位置する第2封止層とを有する積層体である請求項1ないし4のいずれか1項に記載の電気泳動表示装置。
  6. 前記第1封止層は、25℃における弾性率が5MPa以上40MPa以下である請求項5に記載の電気泳動表示装置。
  7. 前記第2封止層は、25℃における弾性率が50MPa以上10GPa以下である請求項5または6に記載の電気泳動表示装置。
  8. 前記第1封止層は、平均膜厚が2.5μm以上20μm以下である請求項5ないし7のいずれか1項に記載の電気泳動表示装置。
  9. 前記第2封止層は、平均膜厚が0.05μm以上1.0μm以下である請求項5ないし8のいずれか1項に記載の電気泳動表示装置。
  10. 前記第1封止層は、体積抵抗率が1×107Ω・cm以上5×1010Ω・cm以下である請求項5ないし9のいずれか1項に記載の電気泳動表示装置。
  11. 前記第2封止層は、体積抵抗率が1×107Ω・cm以上2×1011Ω・cm以下である請求項5ないし10のいずれか1項に記載の電気泳動表示装置。
  12. 請求項1ないし11のいずれか1項に記載の電気泳動表示装置を備えることを特徴とする電子機器。
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