JP2017017194A - 炭酸ガスレーザ増幅器、炭酸ガスレーザ発振器および炭酸ガスレーザ発振−増幅システム - Google Patents

炭酸ガスレーザ増幅器、炭酸ガスレーザ発振器および炭酸ガスレーザ発振−増幅システム Download PDF

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康成 松本
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順一 西前
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Masato Matsubara
真人 松原
正史 成瀬
Masashi Naruse
正史 成瀬
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【課題】この発明による炭酸ガスレーザ増幅器および炭酸ガスレーザ発振器は、励起空間(放電領域)を挟んだ部品の表面反射で自励発振が起きないようにすることを目的とする。【解決手段】励起空間から一直線でたどり着くことができる面にアルマイト処理を施すことで、レーザ光が吸収されるようにする。また、この面にレーザ光の波長と同程度の大きさの凹凸を付けることで、レーザ光が乱反射されるようにする。また、この面のうち、励起空間(放電領域)を挟んで対向している2面に対して、平行とならないように角度を付ける。また、この面のうち、隣り合った2面がコーナを作り出している部分に対して、2面のなす角度が90°にならないように角度を付ける。【選択図】 図12

Description

本発明は、炭酸ガスレーザ増幅器および炭酸ガスレーザ発振器における自励発振防止構造に関するものである。
図13は従来の炭酸ガスレーザ発振器の概略構成の一例を示すものである。真空容器1には、各構成部品が取り付けられていると共に、中にはレーザ媒質2が30〜300Torr程度の圧力で入っている。レーザ媒質2はブロア3によって矢印のように整流ダクト4から電極5へと循環する。電極5には電源ユニット6から高電圧が供給され、それによって放電7が発生する。放電7によるエネルギーがレーザ媒質2に与えられることで、炭酸ガスが励起し、遷移の際に放出される光子をレーザ媒質2を挟んで対向して配置された光共振器ミラー(部分反射鏡8と全反射鏡9)で増幅させ、その一部が部分反射鏡8からレーザ光10として出射される。出射されたレーザ光10は、両端にフランジの付いた円筒状のビームダクト11の中を通って外部へ伝搬されることで、人間が誤ってレーザ光10に触れてしまうことを防いでいる。なお、ビームダクト11は、真空容器1に近い側の内側ビームダクト11aと真空容器から遠い側の外側ビームダクト11bから構成され、それぞれの一部が入れ子状になっており、外側ビームダクト11bの一部が内側ビームダクト11aの内部に挿入されている。放電7によってエネルギーを与えられたレーザ媒質2は温度が上昇しているため、熱交換器12によって冷却される。電極5と光共振器ミラー(部分反射鏡8と全反射鏡9)の間には中央にレーザ光10が通過する穴の空いたドーナツ状のアパーチャ13が配置され、横モード次数の決定、回折光、散乱光のカットといった役割を担っている。アパーチャ13と電極5の間には、レーザ媒質2の光軸方向の流れを整えるための一方にフランジの付いた円筒状の内部ダクト14が配置されている。真空容器1のリーク(外部からの大気混入)や構成部品の劣化によるアウトガスの発生のため、レーザ媒質2には徐々に不純物が混入してくるため、定期的に真空ポンプ15によって排気し、新しいレーザ媒質2との入れ替えを行う。熱交換器12や冷却が必要な部品には、冷却装置16から冷却水が供給されている(図示省略)。一連の動作は制御装置17によって制御される。炭酸ガスレーザ発振器の範囲は、一点鎖線18で囲まれた部分である。
このような炭酸ガスレーザ発振器の構成は、例えば特許文献1、特許文献2(特にビームダクト11部分)に記載されている。
図14は従来の炭酸ガスレーザ増幅器の概略構成の一例を示すものである。図13と同一部分は同一符号を付して説明は省略する。炭酸ガスレーザ増幅器の範囲は、一点鎖線19で囲まれた部分である。
レーザ発振器は自分自身でレーザ光を作り出す(発振させる)ことができるが、レーザ増幅器は、レーザ光を増幅させる装置であるので、増幅させる元となるレーザ光を装置に入射する必要がある。レーザ発振器20から出たレーザ光21は入射側ウィンドー22を通って励起空間(放電7の領域)へと入り、そこで放電7によるエネルギーを受けることで、レーザ光出力が増幅される。増幅されたレーザ光24は出射側ウィンドー23を通って外部へ出射される。
このような炭酸ガスレーザ発振器の構成は、例えば特許文献3に記載されている。
図13と図14を比べてわかるように、レーザ増幅器における入射側ウィンドー22と出射側ウィンドー23を、全反射鏡9と部分反射鏡8に置き換えたものがレーザ発振器であり、両者の基本的構造は同じである。
従って、以降の段落では、炭酸ガスレーザ増幅器について、「発明の概要」、「発明が解決しようとする課題」、「課題を解決するための手段」、「発明の効果」、「発明を実施するための形態」を述べるが(炭酸ガスレーザ発振器についての説明は省略するが)、全く同様のことが、炭酸ガスレーザ発振器についても言えるものとする。すなわち、本願発明は、炭酸ガスレーザ増幅器および炭酸ガスレーザ発振器についてのものである。
炭酸ガスレーザ増幅器における従来の自励発振防止構造としては、励起空間内へ導くように設置された折り返しミラーを互いに非平行に設置する(特許文献4)、励起空間内へ導くように設置された折り返しミラーの少なくとも1枚に凸面鏡を用いる(特許文献5)、といった技術が存在する。
特開平7−94810号公報 特開平10−294508号公報 特開2011−155193号公報 特開2011−159932号公報 特開平11−87807号公報
図15は従来の炭酸ガスレーザ増幅器における自励発振の説明図である。図14と同一部分は同一符号を付して説明は省略する。図15では、内部ミラー25、26を用いることで、励起空間(放電7の領域)をレーザ光が通過する距離を長くし、増幅効果を高める構成としている。
レーザ発振器20から出たレーザ光21が入射側ウィンドー22を通って励起空間(放電7の領域)へと入り、増幅されたのち、出射側ウィンドー23を通って外部へ出射されるという本来の光軸21、24(意図したレーザ光軸)以外に、内部ミラー25と内部ミラー26の間で反射を繰り返すことで自励発振光27が発生している。これにより、本来は入射したレーザ光21の増幅に使われるべき励起エネルギーが、自励発振光27を作り出すために使われてしまい、増幅性能が低下してしまう。
また、図15を見てわかる通り、自励発振光27は本来の光軸21、24とは異なる方向、すなわち、設計的に意図していない方向に照射されるため、自励発振光27によって、レーザ増幅器内部の部品が損傷したり、レーザ増幅器外部に出射されればレーザ増幅器の周囲に損傷等の影響をもたらしたりする恐れがある。
これらの問題点を解決するための従来の方法が、前述した特許文献4、特許文献5の方法である。
これまでのレーザ増幅器では、励起エネルギーが比較的小さかったため、ミラーのような高い反射率を持つ表面同士でしか自励発振は起こらず、前述した特許文献4、特許文献5での対策で十分であった。しかしながら、例えば本願発明者らが現在取り組んでいるEUV光源用のレーザ増幅器では、必要とされる20kW以上のレーザ光出力を得るために、増幅器1台あたり100kWもの励起エネルギーを投入している。このような高い励起エネルギーがレーザ媒質に与えられる場合には、反射率がミラーのように高くない通常の金属表面(アルミ、ステンレス、鉄、黄銅、亜鉛など)での反射であったとしても、反射率が高くないことによる光学的損失よりも励起エネルギーにより与えられる利得が勝ることになり、自励発振が起こることになる。この様子を図16から図21にて説明する。これまでの図と同一部分は同一符号を付して説明は省略する。
図16は、励起空間の両側に配置された各内部ダクト14間での表面反射で、自励発振光27aが起きている様子を示す。
図17は、励起空間の両側に配置された各アパーチャ13間での表面反射で、自励発振光27bが起きている様子を示す。
図18は、励起空間の両側に配置された各内部ミラー押さえ28間での表面反射で、自励発振光27cが起きている様子を示す。内部ミラー25、26を内部ミラー押さえ28で保持し、内部ミラー25、26の裏面を冷却体29で冷却する構造となっている。
図19は、励起空間の両側に配置された各内部ミラー25、26と各内部ミラー押さえ28間での表面反射で、自励発振光27dが起きている様子を示す。なお、図19(a)は全体図で、図19(b)は内部ミラー25と内部ミラー押え28での反射を拡大した図である。内部ミラー押さえ28の反射は、内部ミラー25の表面と接している面28dでの反射である。
図20は、励起空間の両側に配置された各ビームダクト11と電極5間での表面反射で、自励発振光27eが起きている様子を示す。ビームダクト11での反射は、内側ビームダクト11aの内面と、外側ビームダクト11bの端面との二面による反射である。
また、図20とはビームダクト11の入れ子の状態が入れ替わった場合には、図20のような反射は起きない。しかし、特許文献3の図8、図9で示されているようにレーザ増幅器は直列に何台も連結して使用する場合もある。この場合、図21に示したように、隣の増幅器のビームダクト11の外側ビームダクト11bの内面と内側ビームダクト11aの端面による表面反射で自励発振光27fが発生する可能性がある。
本発明は、上述したような、励起空間(放電7の領域)を挟んだ物体の表面反射で自励発振が起きないようにすることを目的とする。
本発明は、励起空間(放電7の領域)から一直線でたどり着くことができる面、別の言い方をすれば、励起空間(放電7の領域)内から励起空間外を見たときに見える面(視野に入る面)を発明の対象とする。以降では、この対象とする面を“発明対象面”と記載する。
図22および図23は発明対象面の説明図である。レーザ増幅器19aの各部品に、一点鎖線および二点鎖線で発明対象面を記載した。一点鎖線は自分自身の増幅器(図22におけるレーザ増幅器19a)の励起空間から一直線でたどり着くことができる面、二点鎖線は隣の増幅器(図22におけるレーザ増幅器19b)の励起空間から一直線でたどり着くことができる面であり、両者ともに本発明の発明対象面である。なお、図22(a)は全体図で、図22(b)はレーザ増幅器19aの左側のビームダクト11から内部ダクト14までの拡大図で、図22(c)はレーザ増幅器19aの右側のビームダクト11から内部ダクト14までの拡大図である。
また、図22および図23は、レーザ増幅器内の全ての部品が記載されているわけではない。図22および図23に記載されていない部品であっても、その部品の面が、励起空間から一直線でたどり着くことができるのであれば、その面もまた、本発明の発明対象面とする。
手段1:発明対象面でレーザ光が吸収されるようにする。
自励発振は反射を繰り返し、何回も励起空間を通過する(すなわち、その経路で意図しない共振器が形成される)ことで起こるので、反射しなければ(すなわち吸収すれば)自励発振は起こらない。具体的には、発明対象面の素材をアルミニウムとし、表面にアルマイト処理を施すことでレーザ光が吸収されるようにする。アルマイト層の膜厚は5μmでおよそ90%の吸収率(垂直入射の場合)となるため5μmあれば十分安心できる。
しかし、実際に自励発振が起こるかどうかは、励起空間に与えるエネルギーの大きさ、発明対象面への光の入射角度、反射の回数に左右されるため、膜厚が5μmより小さくても自励発振を防止できる場合が多い。5μmは十分安心できる一つの目安として示す値である。
手段2:発明対象面でレーザ光が乱反射されるようにする。
乱反射によりレーザ光強度[W/m2]は極端に小さくなるため、自励発振は起こらなくなる。具体的には、発明対象面にレーザ光の波長(λ=10.6μm)と同程度の微小な凹凸を付ける。物理的な方法としては、ブラスト処理を施す、ペーパー掛けする、ヘアブラシで傷つける、などがあり、化学的な方法としては、アルカリや酸などでエッチングする、などがある。
手段3:発明対象面のうち、励起空間(放電7の領域)を挟んで対向している面に対して、平行とならないように角度を付ける。
励起空間を挟んで対向している面とは、例えば、図16で自励発振光27aが発生している内部ダクト14の表面同士や、図17で自励発振光27bが発生しているアパーチャ13の表面同士や、図18で自励発振光27cが発生している内部ミラー押さえ28の表面同士のことである。平行とならないように角度を付けることで、反射した光の方向が変わり、何回も反射を繰り返すことが無くなり(意図しない共振器が形成されなくなる)、自励発振が起こらなくなる。
平行からずらす角度は1°以上が望ましい。これは、1°未満の場合、部品の加工精度や組立精度が1°程度は存在する場合があり、それ以上に平行から角度をずらす必要があるためである。
手段4:隣り合った発明対象面同士でコーナを作り出している部分に対して、発明対象面同士のなす角度が90°にならないように角度を付ける。
隣り合った面でコーナを作り出している部分とは、例えば、図19で自励発振光27dが反射している内部ミラー25、26の表面と、内部ミラー押さえ28の内部ミラー25,26の表面と接している面28dが作り出すコーナや、図20で自励発振光27eが反射している内側ビームダクト11aの内面と外側ビームダクト11bの端面が作り出すコーナのことである。
図19、図20、図21でのコーナ部分での自励発振光の反射の様子を見てわかる通り(特に図19(b)が明確である)、コーナ部分が90°の場合、コーナをなす2つの面により2回反射されると、入射した光と全く同じ方向に出射した光が反射される。すなわち、反射が繰り返されることになり(意図しない共振器が形成される)、自励発振が起こる。発明対象面同士のなす角度が90°にならないように角度を付けることで、入射した光とは別の方向に出射した光が反射されることになり、反射を繰り返すことが無くなる。すなわち、自励発振が起こらなくなる。
90°からずらす角度は1°以上が望ましい。これは、1°未満の場合、部品の加工精度や組立精度の合計が1°程度は存在する場合があり、それ以上に90°から角度をずらす必要があるためである。
上記、手段1から手段4を単独、もしくは組み合わせて適用することで、自励発振を防止する。
上述した本発明の手段により、自励発振を防止することができる。これにより、自励発振の発生による増幅性能の低下を防止し、装置が持つ最大の増幅性能を引き出すことが可能となる。また、上述したような、自励発振光によるレーザ発振器内部の部品の損傷や、レーザ発振器の周囲への損傷等の影響をもたらす恐れがなくなり、安全な装置を提供することが可能となる。
本発明の実施の形態1を示す構造図である。 本発明の実施の形態2を示す構造図である。 本発明の実施の形態3を示す構造図である。 本発明の実施の形態5を示す構造図である。 本発明の実施の形態6を示す構造図である。 本発明の実施の形態7を示す構造図である。 本発明の実施の形態8を示す構造図である。 本発明の実施の形態9を示す構造図である。 本発明の実施の形態10を示す構造図である。 本発明の実施の形態12を示す構造図である。 本発明の実施の形態13を示す構造図である。 本発明の実施の形態14を示す構造図である。 従来の炭酸ガスレーザ発振器を示す構造図である。 従来の炭酸ガスレーザ増幅器を示す構造図である。 従来の炭酸ガスレーザ増幅器における自励発振の説明図である。 本発明が解決しようとする課題を示す説明図である。 本発明が解決しようとする課題を示す説明図である。 本発明が解決しようとする課題を示す説明図である。 本発明が解決しようとする課題を示す説明図である。 本発明が解決しようとする課題を示す説明図である。 本発明が解決しようとする課題を示す説明図である。 本発明の発明対象面の説明図である。 本発明の発明対象面の説明図である。
実施の形態1.
図1は本発明の実施の形態1を示すものであり、段落「発明が解決しようとする課題」で述べた内部ダクト14の表面反射による自励発振光27aの発生という課題(図16)を、段落「課題を解決するための手段」で述べた手段1によって解決する、具体的実施例である。
図1では、内部ダクト14の素材をアルミニウムとし、表面にアルマイト層14aを形成するアルマイト処理を施している。アルマイト層14aの膜厚は5μmとしたが、実機試験で自励発振が起きないことが確認できれば、これより薄くても良い。また、効果を得るには少なくとも発明対象面のみをアルマイト処理すれば良い。しかし、部品の製作において、部品の一部の面のみをアルマイト処理するのは手間がかかるので(例えば、アルマイト処理しない面にマスキング処理が必要)、図1においては、内部ダクト14の全面をアルマイト処理した例を示した。
これにより、内部ダクト14の表面に入射したレーザ光は吸収されるため、自励発振を防止することができる。
実施の形態2.
図2は本発明の実施の形態2を示すものであり、段落「発明が解決しようとする課題」で述べた内部ダクト14の表面反射による自励発振光27aの発生という課題(図16)を、段落「課題を解決するための手段」で述べた手段2によって解決する、具体的実施例である。
図2では、内部ダクト14の表面にブラスト処理によってレーザ光の波長(λ=10.6μm)と同程度の微小な凹凸14bを付けている。同様の微小な凹凸を付ける方法は、ブラスト処理以外にも、ペーパー掛けする、ヘアブラシで傷つける、アルカリや酸でエッチングするなどがあり、これらの方法を用いても良い。また、効果を得るには少なくとも発明対象面のみをブラスト処理すれば良い。しかし、部品の製作において、部品の一部の面のみをブラスト処理するのは手間がかかるので(例えば、ブラスト処理しない面にマスキング処理が必要)、図2においては、内部ダクト14の全面をブラスト処理した例を示した。
これにより、内部ダクト14の表面に入射したレーザ光は乱反射されるため、自励発振を防止することができる。
実施の形態3.
図3は本発明の実施の形態3を示すものであり、段落「発明が解決しようとする課題」で述べた内部ダクト14の表面反射による自励発振光27aの発生という課題(図16)を、段落「課題を解決するための手段」で述べた手段3によって解決する、具体的実施例である。
図3では、励起空間(放電7の領域)を挟んで対向している内部ダクト14の励起空間側の端面14cに、平行の状態から5°の角度を付けている。なお、平行からずらす角度は5°に限定するものではなく、対象とする部品の加工精度と組立精度の合計以上(おおむね1°以上)にずれていれば良い。
これにより、内部ダクト14の端面14cに入射したレーザ光は、入射した方向とは別方向に反射されるため、反射を繰り返すことがなくなり(意図しない共振器が形成されなくなる)、自励発振を防止することができる。
実施の形態4.
実施の形態4は、前述した実施の形態1から実施の形態3の複数を組み合わせて適用した内部ダクト14である。図示は省略する。
これにより、実施の形態1から実施の形態3を単独で用いるよりも、さらに自励発振を防止する効果を高めることができる。
実施の形態5.
図4は本発明の実施の形態5を示すものであり、段落「発明が解決しようとする課題」で述べたアパーチャ13の表面反射による自励発振光27bの発生という課題(図17)を、段落「課題を解決するための手段」で述べた手段1によって解決する、具体的実施例である。
図4では、アパーチャ13の素材はアルミニウムとし、表面にアルマイト層13aを形成するアルマイト処理を施している。アルマイト層13aの膜厚は10μmとした。手段1の記載においては、アルマイト層の膜厚は5μmで十分と述べたが、アパーチャはレーザ光の本来の光軸に最も近い位置にありレーザ光のパワーが非常に大きく、90%程度の吸収率では自励発振が十分に防止出来ない恐れがある。よって、95%以上の吸収率を得るため、膜厚を10μmとした。ただし、実機試験で自励発振が起きないことが確認できれば、これより小さくても良い。また、効果を得るには、少なくとも発明対象面のみをアルマイト処理すれば良い。しかし、部品の製作において、部品の一部の面のみをアルマイト処理するのは手間がかかるので(例えば、アルマイト処理しない面にマスキング処理が必要)、図4においては、アパーチャ13の全面をアルマイト処理した例を示した。また、アパーチャ13は本来の光軸に非常に近い場所に配置される部品であるため、吸収したレーザ光による入熱量が大きい。そのため、部品内部に環状に水路13bを設け、そこに冷却水を流す冷却構造とした。13cは、アパーチャ13に冷却水を供給するための継手である。継手13cと環状の水路13bは水路で接続されている。
これにより、アパーチャ13の表面に入射したレーザ光は吸収されるため、自励発振を防止することができる。
実施の形態6.
図5は本発明の実施の形態6を示すものであり、段落「発明が解決しようとする課題」で述べたアパーチャ13の表面反射による自励発振光27bの発生という課題(図17)を、段落「課題を解決するための手段」で述べた手段1と手段3の組み合わせによって解決する、具体的実施例である。
前述したように、アパーチャ13は本来の光軸に非常に近い場所に配置される部品であるため、自励発振を生じさせる原因場所となる可能性が非常に高い。そのため、実施の形態5のみでは自励発振を完全に防止できない可能性がある。そのため、図5では、励起空間(放電7の領域)を挟んで対向しているアパーチャ13の面13dは、アルミにアルマイト処理を10μm施したレーザ光吸収面(アルマイト層が13a)であると共に、平行な状態から2°の角度を付けている。なお、平行からずらす角度は2°に限定するものではなく、対象とする部品の加工精度と組立精度の合計以上(おおむね1°以上)にずれていれば良い。また、図5においては、アパーチャ13のアルマイト処理を全面に施した図となっているが、発明対象面のみにアルマイト処理を行っても同様の効果を得られる。
これにより、アパーチャ13の面13dに入射したレーザ光は、大部分が吸収されるばかりでなく、残ったわずかな反射光も入射した方向とは別方向に反射されるため、自励発振を防止する非常に高い効果を得ることができる。
実施の形態7.
図6は本発明の実施の形態7を示すものであり、段落「発明が解決しようとする課題」で述べた内部ミラー押さえ28の表面反射による自励発振光27cの発生という課題(図18)を、段落「課題を解決するための手段」で述べた手段1によって解決する、具体的実施例である。
図6では、内部ミラー押さえ28の素材はアルミニウムとし、表面にアルマイト層28aを形成するアルマイト処理を施している。アルマイト層28aの膜厚は5μmとしたが、実機試験で自励発振が起きないことが確認できれば、これより小さくても良い。また、効果を得るには、少なくとも発明対象面のみをアルマイト処理すれば良い。しかし、部品の製作において、部品の一部の面のみをアルマイト処理するのは手間がかかるので(例えば、アルマイト処理しない面にマスキング処理が必要)、図6においては、内部ミラー押さえ28の全面をアルマイト処理した例を示した。
これにより、内部ミラー押さえ28の表面に入射したレーザ光は吸収されるため、自励発振を防止することができる。
実施の形態8.
図7は本発明の実施の形態8を示すものであり、段落「発明が解決しようとする課題」で述べた内部ミラー押さえ28の表面反射による自励発振光27cの発生という課題(図18)を、段落「課題を解決するための手段」で述べた手段2によって解決する、具体的実施例である。
図7では、内部ミラー押さえ28の表面にブラスト処理によってレーザ光の波長(λ=10.6μm)と同程度の微小な凹凸28bを付けている。同様の微小な凹凸を付ける方法は、ブラスト処理以外にも、ペーパー掛けする、ヘアブラシで傷つける、アルカリや酸でエッチングするなどがあり、これらの方法を用いても良い。図7においては、内部ミラー押さえ28の全面をブラスト処理すると、内部ミラー25との接触面まで凹凸面となってしまうため、発明対象面のみをブラスト処理した。
これにより、内部ミラー押さえ28の表面に入射したレーザ光は乱反射されるため、自励発振を防止することができる。
実施の形態9.
図8は本発明の実施の形態9を示すものであり、段落「発明が解決しようとする課題」で述べた内部ミラー押さえ28の表面反射による自励発振光27cの発生という課題(図18)を、段落「課題を解決するための手段」で述べた手段3によって解決する、具体的実施例である。
図8では、励起空間(放電7の領域)を挟んで対向している内部ミラー押さえ28の面28cに、平行な状態から10°の角度を付けている。なお、平行からずらす角度は10°に限定するものではなく、対象とする部品の加工精度と組立精度の合計以上(おおむね1°以上)にずれていれば良い。
これにより、内部ミラー押さえ28の面28cに入射したレーザ光は、入射した方向とは別方向に反射されるため、反射を繰り返すことがなくなり(意図しない共振器が形成されなくなる)、自励発振を防止することができる。
実施の形態10.
図9は本発明の実施の形態10を示すものであり、段落「発明が解決しようとする課題」で述べた内部ミラー25、26と内部ミラー押さえ28の表面反射で、自励発振光27dが発生するという課題(図19)を、段落「課題を解決するための手段」で述べた手段4によって解決する、具体的実施例である。
図9では、内部ミラー押さえ28の内部ミラー25の表面と接している面28dに、内部ミラー25の表面25aと直行する角度から2°の角度を付けることで、面28dと面25aのなす角度が90°ではなく、88°になるようにしている。なお、90°からずらす角度は2°に限定するものではなく、対象とする部品の加工精度と組立精度の合計以上(おおむね1°以上)にずれていれば良い。
これにより、内部ミラー25に入射したレーザ光は内部ミラー押さえ28の面28dにて更に反射され、入射方向とは別方向に反射されるため、反射を繰り返すことがなくなり(意図しない共振器が形成されなくなる)、自励発振を防止することができる。
実施の形態11.
実施の形態11は、前述した実施の形態7から実施の形態10の複数を組み合わせて適用した内部ミラー押さえ28である。図示は省略する。
これにより、実施の形態7から実施の形態10を単独で用いるよりも、さらに自励発振を防止する効果を高めることができる。
実施の形態12.
図10は本発明の実施の形態12を示すものであり、段落「発明が解決しようとする課題」で述べたビームダクト11と電極5の表面反射による自励発振光27eの発生という課題(図20)を、段落「課題を解決するための手段」で述べた手段1によって解決する、具体的実施例である。
図10では、ビームダクト11の素材はアルミニウムとし、表面にアルマイト層11cを形成するアルマイト処理を施している。アルマイト層11cの膜厚は5μmとしたが、実機試験で自励発振が起きないことが確認できれば、これより小さくても良い。また、効果を得るには、少なくとも発明対象面のみをアルマイト処理すれば良い。しかし、部品の製作において、部品の一部の面のみをアルマイト処理するのは手間がかかるので(例えば、アルマイト処理しない面にマスキング処理が必要)、図10においては、内部ダクト11の全面をアルマイト処理した例を示した。また、図10では外側ビームダクト11bの表面のみにアルマイト処理を施しているが、内側ビームダクト11aの表面のみ、又は、外側ビームダクト11bと内側ビームダクト11aの両方にアルマイト処理を施しても良い。
これにより、内部ダクト11の表面に入射したレーザ光は吸収されるため、自励発振を防止することができる。
実施の形態13.
図11は本発明の実施の形態13を示すものであり、段落「発明が解決しようとする課題」で述べたビームダクト11と電極5の表面反射による自励発振光27eの発生という課題(図20)を、段落「課題を解決するための手段」で述べた手段2によって解決する、具体的実施例である。
図11では、ビームダクト11の表面にブラスト処理によってレーザ光の波長(λ=10.6μm)と同程度の微小な凹凸11dを付けている。同様の微小な凹凸を付ける方法は、ブラスト処理以外にも、ペーパー掛けする、ヘアブラシで傷つける、アルカリや酸でエッチングするなどがあり、これらの方法を用いても良い。また、効果を得るには、少なくとも発明対象面のみをブラスト処理すれば良い。しかし、部品の製作において、部品の一部の面のみをブラスト処理するのは手間がかかるので(例えば、ブラスト処理しない面にマスキング処理が必要)、図11においては、外側ビームダクト11bの全面をブラスト処理した例を示した。また、図11では外側ビームダクト11bの表面のみにブラスト処理を施しているが、内側ビームダクト11aの表面のみ、又は、外側ビームダクト11bと内側ビームダクト11aの両方にブラスト処理を施しても良い。
これにより、ビームダクト11の表面に入射したレーザ光は乱反射されるため、自励発振を防止することができる。
実施の形態14.
図12は本発明の実施の形態14を示すものであり、段落「発明が解決しようとする課題」で述べたビームダクト11と電極5の表面反射で、自励発振光27eが発生するという課題(図20)を、段落「課題を解決するための手段」で述べた手段4によって解決する、具体的実施例である。
図12では、外側ビームダクト11bの端面11eに内側ダクト11aの内面11fと直行する角度から20°の角度を付けることで、面11eと面11fとのなす角度が90°ではなく、110°になるようにしている。なお、90°からずらす角度は20°に限定するものではなく、対象とする部品の加工精度と組立精度の合計以上(おおむね1°以上)にずれていれば良い。また、図12では外側ビームダクト11bの端面11eにのみ角度を付けているが、内側ビームダクト11aの内面11fのみ、又は、面11eと面11fの両方に角度を付けても良い。
これにより、ビームダクト11に入射したレーザ光は、2回反射後に入射方向とは別方向に反射されるため、反射を繰り返すことがなくなり(意図しない共振器が形成されなくなる)、自励発振を防止することができる。
実施の形態15.
実施の形態15は、前述した実施の形態12から実施の形態14の複数を組み合わせて適用したビームダクト11である。図示は省略する。
これにより、実施の形態12から実施の形態14を単独で用いるよりも、さらに自励発振を防止する効果を高めることができる。
その他の実施の形態
上述した実施の形態1から実施の形態15は、内部ダクト14、アパーチャ13、内部ミラー押さえ28、ビームダクト11の4つの部品について記載したものであるが、実際のレーザ増幅器およびレーザ発振器においては、発明対象面を有する部品は上記4つのみではない。つまり、上記4つ以外の部品であっても、発明対象面に段落「課題を解決するための手段」で記載した手段1から手段4を適用したものであれば、これもまた、本発明の実施の形態である。
1 真空容器
2 レーザ媒質
3 ブロア
4 整流ダクト
5 電極
6 電源ユニット
7 放電
8 部分反射鏡
9 全反射鏡
10 レーザ光
11 ビームダクト
12 熱交換器
13 アパーチャ
14 内部ダクト
15 真空ポンプ
16 冷却装置
17 制御装置
18 炭酸ガスレーザ発振器
19 炭酸ガスレーザ増幅器
20 レーザ発振器
21 レーザ光(増幅前)
22 入射側ウィンドー
23 出射側ウィンドー
24 レーザ光(増幅後)
25 内部ミラー
26 内部ミラー
27 自励発振光
28 内部ミラー押さえ
29 冷却体

Claims (59)

  1. 真空容器の内部を循環するレーザ媒質を放電によるエネルギーによって励起し、ウィンドーを通ってその励起空間に入射したレーザ光を増幅してウィンドーから外部へ出射する炭酸ガスレーザ増幅器において、
    励起空間から一直線でたどり着くことができる面に対し、この面でレーザ光が吸収されるようにしたことを特徴とする炭酸ガスレーザ増幅器。
  2. 前記レーザ光が吸収されるようにした面は、この面を有する部品の素材をアルミニウムとし、その表面にアルマイト層を形成した面である請求項1に記載の炭酸ガスレーザ増幅器。
  3. 前記アルマイト層の膜厚は5μm以上である請求項2に記載の炭酸ガスレーザ増幅器。
  4. 真空容器の内部を循環するレーザ媒質を放電によるエネルギーによって励起し、ウィンドーを通ってその励起空間に入射したレーザ光を増幅してウィンドーから外部へ出射する炭酸ガスレーザ増幅器において、
    励起空間から一直線でたどり着くことができる面に対し、この面でレーザ光が乱反射されるようにしたことを特徴とする炭酸ガスレーザ増幅器。
  5. 前記レーザ光が乱反射されるようにした面とは、この面を有する部品の表面にレーザ光の波長と同程度の大きさの凹凸を付けた面である請求項4に記載の炭酸ガスレーザ増幅器。
  6. 前記レーザ光の波長と同程度の大きさの凹凸を付ける方法は、ブラスト処理、ペーパー掛け、ブラシによる傷つけ、アルカリ・酸でのエッチングのいずれか、または複数の組合せである請求項5に記載の炭酸ガスレーザ増幅器。
  7. 真空容器の内部を循環するレーザ媒質を放電によるエネルギーによって励起し、ウィンドーを通ってその励起空間に入射したレーザ光を増幅してウィンドーから外部へ出射する炭酸ガスレーザ増幅器において、
    励起空間から一直線でたどり着くことができる面が、その励起空間を挟んで対向する2面である場合、この2面が平行とならないように角度を付けたことを特徴とする炭酸ガスレーザ増幅器。
  8. 前記2面を平行からずらす角度は1°以上である請求項7に記載の炭酸ガスレーザ増幅器。
  9. 真空容器の内部を循環するレーザ媒質を放電によるエネルギーによって励起し、ウィンドーを通ってその励起空間に入射したレーザ光を増幅してウィンドーから外部へ出射する炭酸ガスレーザ増幅器において、
    励起空間から一直線でたどり着くことができる面が、隣り合った2面である場合、この2面がなす角度が90°とならないように角度を付けたことを特徴とする炭酸ガスレーザ増幅器。
  10. 前記2面がなす角度は90°から1°以上ずらした角度である請求項9に記載の炭酸ガスレーザ増幅器。
  11. 請求項1から請求項10のいずれかに記載の構成と、請求項1から請求項10のいずれかの他の請求項に記載の構成とを組み合せて適用した炭酸ガスレーザ増幅器。
  12. 前記レーザ光が吸収されるようにした面は、励起空間とアパーチャとの間に配置された内部ダクトの表面である請求項1から請求項3のいずれかに記載の炭酸ガスレーザ増幅器。
  13. 前記レーザ光が乱反射されるようにした面は、励起空間とアパーチャとの間に配置された内部ダクトの表面である請求項4から請求項6のいずれかに記載の炭酸ガスレーザ増幅器。
  14. 前記対向する2面は、励起空間の両側で励起空間とアパーチャとの間に配置された内部ダクトの表面である請求項7から請求項8のいずれかに記載の炭酸ガスレーザ増幅器。
  15. 請求項12から請求項14のいずれかに記載の構成と、請求項12から請求項14のいずれかの他の請求項に記載の構成とを組み合せて適用した炭酸ガスレーザ増幅器。
  16. 前記レーザ光が吸収されるようにした面は、アパーチャの表面である請求項1から請求項3のいずれかに記載の炭酸ガスレーザ増幅器。
  17. 前記アパーチャの内部に水路を設け、冷却水をこの水路に流す構造である請求項16に記載の炭酸ガスレーザ増幅器。
  18. 前記対向する2面は、励起空間の両側に配置されたアパーチャの表面である請求項7から請求項8のいずれかに記載の炭酸ガスレーザ増幅器。
  19. 請求項16から請求項18のいずれかに記載の構成と、請求項16から請求項18のいずれかの他の請求項に記載の構成とを組み合せて適用した炭酸ガスレーザ増幅器。
  20. 前記レーザ光が吸収されるようにした面は、内部ミラー押さえの表面である請求項1から請求項3のいずれかに記載の炭酸ガスレーザ増幅器。
  21. 前記レーザ光が乱反射されるようにした面は、内部ミラー押さえの表面である請求項4から請求項6のいずれかに記載の炭酸ガスレーザ増幅器。
  22. 前記対向する2面は、励起空間の両側に配置された内部ミラー押さえの表面である請求項7から請求項8のいずれかに記載の炭酸ガスレーザ増幅器。
  23. 前記隣り合った2面は、内部ミラーの表面と内部ミラー押さえの面である請求項9から請求項10のいずれかに記載の炭酸ガスレーザ増幅器。
  24. 請求項20から請求項23のいずれかに記載の構成と、請求項20から請求項23のいずれかの他の請求項に記載の構成とを組み合せて適用した炭酸ガスレーザ増幅器。
  25. 前記レーザ光が吸収されるようにした面は、ウィンドーと炭酸ガスレーザ増幅器の外部との間に配置されたビームダクトの表面である請求項1から請求項3のいずれかに記載の炭酸ガスレーザ増幅器。
  26. 前記レーザ光が乱反射されるようにした面は、ウィンドーと炭酸ガスレーザ増幅器の外部との間に配置されたビームダクトの表面である請求項4から請求項6のいずれかに記載の炭酸ガスレーザ増幅器。
  27. 前記隣り合った2面は、ウィンドーと炭酸ガスレーザ増幅器の外部との間に配置された入れ子状となったビームダクトの、内側のビームダクトの端面と外側のビームダクトの内面である請求項9から請求項10のいずれかに記載の炭酸ガスレーザ増幅器。
  28. 請求項25から請求項27のいずれかに記載の構成と、請求項25から請求項27のいずれかの他の請求項に記載の構成とを組み合せて適用した炭酸ガスレーザ増幅器。
  29. 請求項12から請求項28のいずれかに記載の構成と、請求項12から請求項28のいずれかの他の請求項に記載の構成とを組み合せて適用した炭酸ガスレーザ増幅器。
  30. 真空容器の内部を循環するレーザ媒質を放電によるエネルギーによって励起し、遷移の際に放出される光子を前記レーザ媒質を挟んで対向して配置された光共振器ミラーで増幅させ、その一部を部分反射鏡からレーザ光として外部へ取り出す炭酸ガスレーザ発振器において、
    励起空間から一直線でたどり着くことができる面に対し、この面でレーザ光が吸収されるようにしたことを特徴とする炭酸ガスレーザ発振器。
  31. 前記レーザ光を吸収されるようにした面は、この面を有する部品の素材をアルミニウムとし、その表面にアルマイト層を形成した面である請求項30に記載の炭酸ガスレーザ発振器。
  32. 前記アルマイト層の膜厚は5μm以上である請求項31に記載の炭酸ガスレーザ発振器。
  33. 真空容器の内部を循環するレーザ媒質を放電によるエネルギーによって励起し、遷移の際に放出される光子を前記レーザ媒質を挟んで対向して配置された光共振器ミラーで増幅させ、その一部を部分反射鏡からレーザ光として外部へ取り出す炭酸ガスレーザ発振器において、
    励起空間から一直線でたどり着くことができる面に対して、この面でレーザ光が乱反射されるようにしたことを特徴とする炭酸ガスレーザ発振器。
  34. 前記レーザ光が乱反射されるようにした面とは、この面を有する部品の表面にレーザ光の波長と同程度の大きさの凹凸を付けた面である請求項33に記載の炭酸ガスレーザ発振器。
  35. 前記レーザ光の波長と同程度の大きさの凹凸を付ける方法は、ブラスト処理、ペーパー掛け、ブラシによる傷つけ、アルカリ・酸でのエッチングのいずれか、または複数の組合せである請求項34に記載の炭酸ガスレーザ発振器。
  36. 真空容器の内部を循環するレーザ媒質を放電によるエネルギーによって励起し、遷移の際に放出される光子を前記レーザ媒質を挟んで対向して配置された光共振器ミラーで増幅させ、その一部を部分反射鏡からレーザ光として外部へ取り出す炭酸ガスレーザ発振器において、
    励起空間から一直線でたどり着くことができる面が、その励起空間を挟んで対向する2面である場合、この2面が平行とならないように角度を付けたことを特徴とする炭酸ガスレーザ発振器。
  37. 前記2面を平行からずらす角度は1°以上である請求項36に記載の炭酸ガスレーザ発振器。
  38. 真空容器の内部を循環するレーザ媒質を放電によるエネルギーによって励起し、遷移の際に放出される光子を前記レーザ媒質を挟んで対向して配置された光共振器ミラーで増幅させ、その一部を部分反射鏡からレーザ光として外部へ取り出す炭酸ガスレーザ発振器において、
    励起空間から一直線でたどり着くことができる面が、隣り合った2面である場合、この2面がなす角度が90°とならないように角度を付けたことを特徴とする炭酸ガスレーザ発振器。
  39. 前記2面がなす角度は90°から1°以上ずらした角度である請求項38に記載の炭酸ガスレーザ発振器。
  40. 請求項30から請求項39のいずれかに記載の構成と、請求項30から請求項39のいずれかの他の請求項に記載の構成と複数を組み合せて適用した炭酸ガスレーザ発振器。
  41. 前記レーザ光が吸収されるようにした面は、励起空間とアパーチャとの間に配置された内部ダクトの表面である請求項30から請求項32のいずれかに記載の炭酸ガスレーザ発振器。
  42. 前記レーザ光が乱反射されるようにした面は、励起空間とアパーチャとの間に配置された内部ダクトの表面である請求項33から請求項35のいずれかに記載の炭酸ガスレーザ発振器。
  43. 前記対向する2面は、励起空間の両側で励起空間とアパーチャの間に配置された内部ダクトの表面である請求項36から請求項37のいずれかに記載の炭酸ガスレーザ発振器。
  44. 請求項41から請求項43のいずれかに記載の構成と、請求項41から請求項43のいずれかの他の請求項に記載の構成と複数を組み合せて適用した炭酸ガスレーザ発振器。
  45. 前記レーザ光が吸収されるようにした面は、アパーチャの表面である請求項30から請求項32のいずれかに記載の炭酸ガスレーザ発振器。
  46. 前記アパーチャの内部に水路を設け、冷却水をこの水路に流す構造である請求項45に記載の炭酸ガスレーザ発振器。
  47. 前記対向する2面は、励起空間の両側に配置されたアパーチャの表面である請求項36から請求項37のいずれかに記載の炭酸ガスレーザ発振器。
  48. 請求項45から請求項47のいずれかに記載の構成と、請求項45から請求項47のいずれかの他の請求項に記載の構成と複数を組み合せて適用した炭酸ガスレーザ発振器。
  49. 前記レーザ光が吸収されるようにした面は、内部ミラー押さえの表面である請求項30から請求項32のいずれかに記載の炭酸ガスレーザ発振器。
  50. 前記レーザ光が乱反射されるようにした面は、内部ミラー押さえの表面である請求項33から請求項35のいずれかに記載の炭酸ガスレーザ発振器。
  51. 前記対向する2面は、励起空間の両側に配置された内部ミラー押さえの表面である請求項36から請求項37のいずれかに記載の炭酸ガスレーザ発振器。
  52. 前記隣り合った2面は、内部ミラーの表面と内部ミラー押さえの面である請求項38から請求項39のいずれかに記載の炭酸ガスレーザ発振器。
  53. 請求項49から請求項52のいずれかに記載の構成と、請求項49から請求項52のいずれかの他の請求項に記載の構成と複数を組み合せて適用した炭酸ガスレーザ発振器。
  54. 前記レーザ光が吸収されるようにした面は、部分反射鏡と炭酸ガスレーザ発振器の外部との間に配置されたビームダクトの表面である請求項30から請求項32のいずれかに記載の炭酸ガスレーザ発振器。
  55. 前記レーザ光が乱反射されるようにした面は、部分反射鏡と炭酸ガスレーザ発振器の外部との間に配置されたビームダクトの表面である請求項33から請求項35のいずれかに記載の炭酸ガスレーザ発振器。
  56. 前記隣り合った2面は、部分反射鏡と炭酸ガスレーザ発振器の外部との間に配置された入れ子状となったビームダクトの、内側のビームダクトの端面と外側のビームダクトの内面である請求項38から請求項39のいずれかに記載の炭酸ガスレーザ発振器。
  57. 請求項54から請求項56のいずれかに記載の構成と、請求項54から請求項56のいずれかの他の請求項に記載の構成とを組み合せて適用した炭酸ガスレーザ発振器。
  58. 請求項41から請求項57のいずれかに記載の構成と、請求項41から請求項57のいずれかの他の請求項に記載の構成とを組み合せて適用した炭酸ガスレーザ発振器。
  59. 請求項30から請求項58のいずれかに記載の炭酸ガスレーザ発振器を発振器として用い、そこから発振したレーザ光を、請求項1から請求項29のいずれかに記載の炭酸ガスレーザ増幅器を用いて増幅する、炭酸ガスレーザ発振−増幅システム。
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Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6175579A (ja) * 1984-09-20 1986-04-17 Nec Corp レ−ザ増幅器
US4656639A (en) * 1985-10-17 1987-04-07 Westinghouse Electric Corp. Laser generating apparatus utilizing frequency agile unstable resonator low pressure gain cell and tuning means
JPH04276671A (ja) * 1991-03-05 1992-10-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd ガスレーザー発振装置
JPH0537058A (ja) * 1991-07-29 1993-02-12 Toshiba Corp レーザ発振器
JPH08139390A (ja) * 1994-11-09 1996-05-31 Toshiba Corp ガスレーザ装置
JPH09260752A (ja) * 1996-03-25 1997-10-03 Mitsubishi Electric Corp レーザ装置およびレーザ加工装置
JPH10294508A (ja) * 1997-04-22 1998-11-04 Mitsubishi Electric Corp レーザ装置
JP2001203416A (ja) * 1999-11-23 2001-07-27 Lambda Physik Ag レーザシステム
JP2002252396A (ja) * 2001-02-22 2002-09-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd レーザ発振装置
JP2008042048A (ja) * 2006-08-09 2008-02-21 Komatsu Ltd 極端紫外光源装置用ドライバーレーザ
JP2008085292A (ja) * 2006-08-29 2008-04-10 Komatsu Ltd 極端紫外光源装置用ドライバーレーザ
JP2009026854A (ja) * 2007-07-18 2009-02-05 Komatsu Ltd 極端紫外光源用ドライバレーザ
JP2010021236A (ja) * 2008-07-09 2010-01-28 Mitsubishi Electric Corp ガスレーザ発振器
WO2014045889A1 (ja) * 2012-09-18 2014-03-27 ギガフォトン株式会社 スラブ型増幅器、それを含むレーザ装置および極短紫外光生成装置

Patent Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6175579A (ja) * 1984-09-20 1986-04-17 Nec Corp レ−ザ増幅器
US4656639A (en) * 1985-10-17 1987-04-07 Westinghouse Electric Corp. Laser generating apparatus utilizing frequency agile unstable resonator low pressure gain cell and tuning means
JPH04276671A (ja) * 1991-03-05 1992-10-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd ガスレーザー発振装置
JPH0537058A (ja) * 1991-07-29 1993-02-12 Toshiba Corp レーザ発振器
JPH08139390A (ja) * 1994-11-09 1996-05-31 Toshiba Corp ガスレーザ装置
JPH09260752A (ja) * 1996-03-25 1997-10-03 Mitsubishi Electric Corp レーザ装置およびレーザ加工装置
JPH10294508A (ja) * 1997-04-22 1998-11-04 Mitsubishi Electric Corp レーザ装置
JP2001203416A (ja) * 1999-11-23 2001-07-27 Lambda Physik Ag レーザシステム
JP2002252396A (ja) * 2001-02-22 2002-09-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd レーザ発振装置
JP2008042048A (ja) * 2006-08-09 2008-02-21 Komatsu Ltd 極端紫外光源装置用ドライバーレーザ
JP2008085292A (ja) * 2006-08-29 2008-04-10 Komatsu Ltd 極端紫外光源装置用ドライバーレーザ
JP2009026854A (ja) * 2007-07-18 2009-02-05 Komatsu Ltd 極端紫外光源用ドライバレーザ
JP2010021236A (ja) * 2008-07-09 2010-01-28 Mitsubishi Electric Corp ガスレーザ発振器
WO2014045889A1 (ja) * 2012-09-18 2014-03-27 ギガフォトン株式会社 スラブ型増幅器、それを含むレーザ装置および極短紫外光生成装置

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