JP2017003849A - 表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】光透過領域Mを有する表示装置100において、透過性を向上することを目的とする。
【解決手段】 複数の画素と、第1方向に延びる複数の第1配線と、第2方向に延びる複数の第2配線とを有し、前記複数の画素の各々は発光領域と光透過領域とを有し、前記光透過領域は、前記発光領域と前記第1方向に隣り合う第1の光透過領域と、前記発光領域と前記第2方向に隣り合う第2の光透過領域とを含み、前記光透過領域は前記複数の第1配線及び前記複数の第2配線のうち少なくとも1つの配線によって、複数の領域に区画され、前記複数の領域は前記第1方向及び前記第2方向の少なくとも一方の方向における幅が互いに異なる第1の領域と第2の領域とを含む。
【選択図】図4
【解決手段】 複数の画素と、第1方向に延びる複数の第1配線と、第2方向に延びる複数の第2配線とを有し、前記複数の画素の各々は発光領域と光透過領域とを有し、前記光透過領域は、前記発光領域と前記第1方向に隣り合う第1の光透過領域と、前記発光領域と前記第2方向に隣り合う第2の光透過領域とを含み、前記光透過領域は前記複数の第1配線及び前記複数の第2配線のうち少なくとも1つの配線によって、複数の領域に区画され、前記複数の領域は前記第1方向及び前記第2方向の少なくとも一方の方向における幅が互いに異なる第1の領域と第2の領域とを含む。
【選択図】図4
Description
本発明は、表示装置に関する。
従来、表示部に画像を表示しつつ、その表示部の向こう側が透けて見える構造である、いわゆる透明表示装置が知られている。例えば、特許文献1には、白色発光の有機発光ダイオード素子と、有機発光ダイオード素子の光取り出し側に配置されるカラーフィルターとを備え、カラーフィルターがアノードとカソードの交差部にのみ形成され、カラーフィルター間の隙間が透明な光透過領域となる透明有機EL(Electro Luminescence)表示装置が開示されている。また、特許文献2には、複数の副画素に隣接する一つの領域に透明領域(光透過領域)を有する透明表示装置が開示されている(特許文献2の図14(b)参照)。
本発明は、光透過領域を有する表示装置において、透過性を向上することを目的とする。
(1)本発明の一態様は、第1方向と前記第1方向に交差する第2方向とのそれぞれに配列されている複数の画素と、前記第1方向に延びる複数の第1配線と、前記第2方向に延びる複数の第2配線と、を有し、前記複数の画素の各々は、発光領域と光透過領域とを有し、前記光透過領域は、前記発光領域と前記第1方向に隣り合う第1の光透過領域と、前記発光領域と前記第2方向に隣り合う第2の光透過領域とを含み、前記光透過領域は、前記複数の第1配線及び前記複数の第2配線のうち少なくとも1つの配線によって、複数の領域に区画され、前記複数の領域は、前記第1方向及び前記第2方向の少なくとも一方の方向における幅が互いに異なる第1の領域と第2の領域とを含むことを特徴としたものである。
(2)本発明の他の一態様は、第1方向と前記第1方向に交差する第2方向とのそれぞれに配列されている複数の画素を有し、前記複数の画素の各々は、発光領域と光透過領域とを有し、前記光透過領域は、前記発光領域と前記第1方向に隣り合う第1の光透過領域と、前記発光領域と前記第2方向に隣り合う第2の光透過領域とを含み、前記第1の光透過領域と前記第2の光透過領域とは、互いに前記第1方向に隣り合う部分を含み、前記光透過領域の形状は、前記第1の光透過領域と前記第2の光透過領域とから成るL字型であることを特徴としたものである。
以下に、本発明の各実施形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。
まず、図1〜図3を参照して、本発明の第1〜第3実施形態(以下、本実施形態という)に係る表示装置の全体構成について説明する。
図1は、本実施形態に係る表示装置のスイッチング素子付近の構成を模式的に示す模式断面図である。本実施形態に係る表示装置100は、表示部A(図2参照)に画像を表示しつつ、その表示部Aの向こう側が透けて見える構造である、いわゆる透明表示装置である。また、表示装置100は、有機発光ダイオード30から、基板10とは反対方向(図1中矢印R方向)から光を取り出す、いわゆるトップエミッション型であって、アクティブ駆動型のOLED(Organic Light Emitting Diode)表示装置である。
表示装置100は、主な構成として、基板10と、スイッチング素子20と、有機発光ダイオード30と、封止材40と、充填材50と、透明基板60とを有し、それらを積層した構造となっている。なお、本実施形態においては、発光素子として有機発光ダイオードを用いる構成としたが、これに限られるものではなく、例えばいわゆる量子ドットを用いた構成としてもよい。
スイッチング素子20は、ポリシリコン薄膜トランジスタを有する。ポリシリコン薄膜トランジスタは、ソースドレイン領域21、22、チャネルポリシリコン層などを含むポリシリコン層23を有する。また、ポリシリコン層23上には、第1層間絶縁膜24、ゲート線層25、ソースドレイン電極27、第2層間絶縁膜28が形成される。
基板10とスイッチング素子20の間には、基板10からポリシリコン層23及びゲート線層25へのナトリウムやカリウムなどのイオンの混入を防ぐため、SiNxなどからなる第1下地膜70が設けられる。また、第1下地膜70とポリシリコン層23の間には、SiOxなどからなる第2下地膜71が設けられる。また、第2下地膜71上には絶縁膜80が設けられる。
なお、本実施形態においては、基板10としてガラスを用いたが、それに限られるものではなく、絶縁性を有するものであれば樹脂などでもよい。
有機発光ダイオード30は、有機膜31と、下部電極32と、上部電極33とを有する。これら下部電極32と上部電極33は一方が陽極として機能し、他方が陰極として機能する。
下部電極32は、発光領域となる部分を覆うように形成され、第2層間絶縁膜28を貫通する孔を通じてソースドレイン電極27の一方に接続される。また、下部電極32の周縁部と、ポリシリコン層23、ゲート線層25などが設けられる非発光領域上には第3層間絶縁膜(以下、バンクという)90が形成される。有機膜31は、下部電極32を覆うように形成されるが、非発光領域では、バンク90によって下部電極32と隔離される。上部電極33は、有機膜31を覆うように形成される。
ここで、有機膜31の構成について説明するが、有機膜31の構成は周知技術であるため、図1においては簡略化して図示する。有機膜31は、陰極側から陽極側に向けて順に、電子輸送層、発光層、ホール輸送層を積層配置して構成される。また、陽極とホール輸送層の間に陽極バッファ層やホール注入層を配置してもよい。また、複数層から構成される有機膜31は、無機材料による層が含まれていてもよい。また、陰極と電子輸送層の間に電子注入層を設けてもよい。なお、発光層と電子輸送層は、それらの機能を兼用できる材料からなる一つの層としてもよい。
下部電極32と上部電極33とに直流電圧が印加されると、陽極側から注入されたホールがホール輸送層を経由し、一方、陰極側から注入された電子が電子輸送層を経由して、それぞれ発光層に到達し、電子とホールが再結合をする。このような電子とホールの再結合により、有機発光ダイオード30は、所定の波長の発光を行う。なお、発光層から放射した光の利用効率向上のため、下部電極32は光の反射率が高い材料から構成されることが好ましい。或いは、下部電極32は例えばITO(Indium Tin Oxide)から成る透明導電膜と、例えば銀から成る反射膜との積層構造にしてもよい。
封止材40は、上部電極33を覆うように形成される。封止材40は、水分等が有機発光ダイオード30に侵入しないようにするためガスバリア性が高く可視光に対して透明であることが好ましい。例えば、封止材40としては、窒化シリコンのような緻密な無機層や、無機層と有機層による積層膜を用いるとよい。
透明基板60は、高分子材料からなる透明の充填材50を介して、封止材40上に形成される。
図2は、本実施形態に係る表示装置の全体構成を模式的に示す模式図である。図2中の基板10上における二点鎖線に囲まれた領域は画像を表示する表示部Aを示す。図2に示すように、表示部Aの周辺には、データ線Dに対して画像信号を出力するデータ駆動回路110と、ゲート線Gに対して走査信号を出力する走査駆動回路120が配置される。
また、表示部Aには、電位配線Eがデータ線Dと同じ方向に延在して配置される。電位配線Eは、電流供給線S1、S2にスイッチ160(図3参照)を介して接続される。
図3は、本実施形態に係る表示装置の表示部を構成するアクティブマトリクスの等価回路図である。本実施形態においては、基板10上に、複数のゲート線Gと、ゲート線Gが延びる方向(第1方向X)に対して交差する方向(第2方向Y)に延びる複数のデータ線Dが設けられており、図3に示すように、m本のゲート線Gと、n本のデータ線Dとの交差するところにマトリクス状に画素Pが配置される。各画素Pは、スイッチング素子20と、有機発光ダイオード30と、蓄積容量130と、画素容量131と、ドライバ素子132とで構成される。有機発光ダイオード30の一の電極は、全画素共通の電流供給線S1、S2に接続されて所定の電位に保たれる。
図4は、本発明の第1実施形態に係る表示装置の1画素中の配線構造を模式的に示す模式図である。表示装置100は、表示部A上に、第1方向X及び第1方向Xに交差(第1実施形態においては直交)する第2方向Yにそれぞれ配列され、画像を表示するための複数の画素Pを有しており、図4は複数配列される画素Pの1つを示している。
それぞれの画素Pは、輝度が制御されるように発光する発光領域L(図4中の破線内の領域)を有する。また、それぞれの画素Pは、発光領域Lに第1方向X及び第2方向Yに隣り合う形状の光透過領域M(図4中の破線内の領域)を有する。具体的には、光透過領域Mは、第1方向Xに発光領域Lと隣り合い、且つ発光領域Lよりも第2方向Yへ延びて位置する第1の光透過領域M1と、第2方向Yに発光領域Lと隣り合う第2の光透過領域M2とから成る形状(図4においてL字形状を左右反転させたような形状、所謂L字型)となっている。換言すれば、発光領域Lと第2の光透過領域M2との両方と、第1の光透過領域M1は第1方向Xに隣接しており、光透過領域Mは第1の光透過領域M1と第2の光透過領域M2とから成るL字型の形状をしている。
また、それぞれの画素Pは、発光領域Lに複数の副画素を有する。第1実施形態においては、画素Pは、発光色が赤色の副画素P1、発光色が緑色の副画素P2、発光色が青色の副画素P3の3種類の副画素を有する。そして、発光領域Lは、複数の副画素それぞれで輝度が制御されるように発光する複数の副発光領域L1、L2、L3からなる。副発光領域L1は、発光色が赤色の副画素P1により発光する領域であり、副発光領域L2は、発光色が緑色の副画素P2により発光する領域であり、副発光領域L3は、発光色が青色の副画素P3により発光する領域である。
さらに、表示装置100は、図2、図3を参照して説明したようにゲート線Gやデータ線Dを含む複数の配線を画素中に有し、これら配線は光透過領域Mにも位置している。配線は所定の幅を有しており、光透過領域Mに位置する配線は透過領域Mを透過する光の一部を遮光する。
ここで、第1実施形態に係る表示装置100は、光透過領域Mを遮光する配線の配置に特徴を有するものであり、図4に示す1画素中に配置される配線がゲート線Gかデータ線Dのいずれの配線であるか等、配線の種類は問わないため、以下の説明において、第1方向Xに延びる配線を第1配線140、第2方向Yに延びる配線を第2配線150と称することとする。
図4に示すように、第1実施形態においては、第1配線140a、第1配線140b、第2配線150a、及び第2配線150gに囲まれた領域を1画素とする。そして、第1配線140aと第2配線150aとが交差する位置付近に、3種類の副画素P1、P2、P3が第1方向Xに並んで配置される。
また、副画素P1を挟むように、第2配線150a及び第2配線150bが配列される。また、副画素P2を挟むように、第2配線150c及び第2配線150dが配列される。また、副画素P3を挟むように、第2配線150e及び第2配線150fが配列される。
すなわち、発光色が赤色の副画素P1と発光色が緑色の副画素P2の間を通るように2本の第2配線150b、150cが配列される。同様に、発光色が緑色の副画素P2と発光色が青色の副画素P3の間を通るように2本の第2配線150d、150eが配列される。このような配列をとることにより、光透過領域Mの第2の光透過領域M2は、複数の副画素にそれぞれ隣り合う複数の隣接領域と、隣同士の隣接領域の間に挟まれる介在領域と、に区画される。なお、各副画素を挟むように配列される2本の第2配線はデータ線と電流供給線である。
図4に示すように、光透過領域Mのうち、副画素P1に対し、第2方向Yに隣り合う領域を隣接領域M21、副画素P2に対し、第2方向Yに隣り合う領域を隣接領域M22、副画素P3に対し、第2方向Yに隣り合う領域を隣接領域M23とする。また、隣接領域M21と隣接領域M22の間に挟まれる領域を介在領域M24、隣接領域M22と隣接領域M23の間に挟まれる領域を介在領域M25とする。
以上説明したように、第1実施形態においては、発光領域Lの第1方向X及び第2方向Yに隣り合う形状の光透過領域Mを有することで、1画素中における光透過領域Mが占める領域を大きく確保することができ、透過性が向上する。
また、第1実施形態においては、光透過領域Mは、第1方向Xの幅がa1,a2,a3である隣接領域M21、M22、M23と、第1方向Xの幅がb1,b2である介在領域M24、M25と、第1方向Xの幅がcである第1の光領域M1と、の第1方向Xの幅がそれぞれ異なる3種類の領域に区画される(c>a1,a2,a3>b1,b2)。
ここで、光透過領域Mにおいては各配線のエッジの影響により光の回折が生じる場合があり、エッジとなる部分が多いほど回折が生じやすい。また、配線により区画される領域の間隔が等間隔である場合、つまり、周期構造がある場合に光の回折は強くなる。第1実施形態においては、光透過領域Mが第2配線150(150a〜150g)によって幅の異なる領域に区画され、複数の異なる周期が混在するため、周期構造により回折が強まることを抑制できる。
なお、第1実施形態においては、第1方向Xにおける隣接領域M21、M22、M23の幅a1、幅a2、幅a3を略同じとする構成としたが、さらに回折が強まることを抑制するために、幅a1と、幅a2と、幅a3をそれぞれ異なるように構成してもよい。同様に、さらに回折が強まることを抑制するために、第1方向Xにおける介在領域M24、M25の幅b1と幅b2を異なるように構成してもよい。
なお、第1実施形態においては、光透過領域Mを、隣接領域M21、M22、M23と、介在領域M24、M25と、第1の光透過領域M1との、6つの領域に区画したが、これに限られるものではなく、少なくとも1つの配線により、光透過領域Mが第1方向X及び第2方向Yの少なくとも一方の幅が異なるように複数の領域に区画されていればよい。
図5は、第1実施形態の変形例に係る表示装置の1画素中の配線構造を示す模式図である。第1実施形態の変形例に係る表示装置は、ブラックマトリクスBMが配線を覆って設けられる点を除いて、図4で示した第1実施形態の構成と、配線の配置等、基本的な構造は同様であるため、その説明の詳細は省略する。
第1実施形態の変形例に係る表示装置においては、ブラックマトリクスBMが、第1配線140及び第2配線150を覆って設けられる。そして、図4を参照して説明した介在領域はブラックマトリクスBMによって埋められている。このように介在領域が埋められている分、配線又はブラックマトリクスのエッジとなる部分が少なくなるため(区画された領域数が少なくなるため)、回折が生じにくくなる。
また、各種配線を含む金属から成る反射性を有する構成要素をブラックマトリクスBMで覆う構造にすることで、当該構成要素における外光(例えば太陽光)の反射を大幅に抑制することができる。従って、光透過領域Mの透過率を下げることなく外光反射を大幅に抑制できる、即ち高い透過率で且つ明るい環境下でも観やすい透明表示装置を実現できる。
ここで、図6を参照して、透明表示装置における課題である回折の発生と、その抑制について説明する。配線やブラックマトリクスのエッジとなる部分近辺の透過率が急激に変化すると回折は生じやすい。この透過率の変化を一定とすることにより回折が強まることを抑制することができる。第1実施形態の変形例においては、透過率の変化を一定にして回折の発生を抑制するためブラックマトリクスBMのエッジ構造を図6(a)で示すような形状とした。
図6は、ブラックマトリクスのエッジ構造について説明する図である。図6(a)はブラックマトリクスのエッジを示す断面図であり、図6(b)はブックマトリクスの厚さと位置の関係を示すグラフであり、図6(c)はブラックマトリクスの透過率と位置の関係を示すグラフである。
ブラックマトリクスBMは、表面及び裏面を貫通する開口(光透過領域M)に臨む端面BMbを有する端部(エッジ)BMaを有する。この端面BMbは、図6(a)に示すように、表面及び裏面の一方から他方がオーバーハングするように傾斜し、表面及び裏面の一方に対する勾配が90°を超えない曲面とした。尚、図6(a)において、ブラックマトリクスBMは基板10に配置された配線(図6(a)では第2配線150)の上に直接形成している。しかしながら、ブラックマトリクスBMは、基板10に対向する透明基板60の配線と重畳する位置に形成してもよい。
さらに、回折が強まることを抑制するブラックマトリクスBMのエッジ構造として理想的な構成について説明する。端部BMaの厚さをH、端部BMaの突出方向の長さをJとすると、J≧1.0μmであることが望ましい。これは可視光に対して所望の光学的機能を発揮するには、可視光の波長より大きなサイズにすることが望ましいからである。
さらに、図6(a)中の位置(0,0)を原点としたときの突出方向の位置をj、BMの厚さ方向の位置をhとした場合に、h=−Cln(j)+Dを満たすことが望ましい(C及びDは定数)。図6(b)は、C=0.141、D=0とした場合における、BMの位置hと位置jとの関係を示すグラフである。また、図6(c)は、C=0.141、D=0とした場合における、透過率と位置jとの関係を示すグラフである。
端部BMaの厚さ方向の位置hと、端部BMaの突出方向の位置jの関係を、図6(b)に示すような対数関数的にすることにより、図6(c)に示すように透過率が突出方向の位置に従い線形的に変化するブラックマトリクスが得られる。ブラックマトリクスのエッジをこのような構造にすることにより、回折が強まることが抑制されて、透過光の色分離が抑制され、透明性の高い表示装置を実現できる。
なお、第1実施形態の変形例のブラックマトリクスBMの端部(エッジ)の形状を、第1実施形態の第1配線140、第2配線150のエッジの形状に適用しても同様の効果を得ることができる。
図7は、第2実施形態に係る表示装置の1画素中の配線構造を模式的に示す模式図である。第2実施形態に係る表示装置は、第1実施形態に係る表示装置と、1画素中の配線構造が異なることを除いて、基本的な構造は同様である。
図7に示すように、第2実施形態においては、第1配線140a、第1配線140b、第2配線150a、及び第2配線150dに囲まれた領域を1画素とする。そして、第1配線140aと第2配線150aとが交差する位置付近に、3種類の副画素P1、P2、P3が第1方向Xに並んで配置される。
また、副画素P1を挟むように、第2配線150a及び第2配線150bが配列される。また、副画素P2を挟むように、第2配線150b及び第2配線150cが配列される。
そして、第2配線150b(第3配線)及び第2配線150c(第4配線)は、副発光領域L2、L3から、第1の光透過領域M1から遠ざかり、第2配線150aに接近するように屈曲して、画素の端部まで延びている。
以上のような配線構造により、光透過領域Mは、第2配線150aと第2配線150bの間に挟まれる介在領域M24と、第2配線150bと第2配線150cの間に挟まれる介在領域M25と、それ以外の領域との3つの領域に区画される。
そして、第2実施形態においては、図7に示すように、光透過領域Mにおいて、第1の光透過領域M1を通る第1方向Xの幅c1よりも、第1の光透領域M1及び第2の光透過領域M2を通る第1方向Xの幅c2が大きい。また、光透過領域Mにおいて、第2の光透過領域M2を通る第2方向Yの幅d1よりも、第1の光透過領域M1を通る第2方向Yの幅d2の方が大きい。
以上説明したように、第2実施形態においては、発光領域Lの第1方向X及び第2方向Yに隣り合う形状の光透過領域Mを有することで、1画素中における光透過領域Mが占める領域を大きく確保することができ、透過性が向上する。
また、第2実施形態においては、光透過領域Mは、第1方向Xの幅がb1、b2である領域を含む介在領域M24、M25と、第1方向Xの幅がc1である領域を含む第1の光透過領域M1と、第1方向Xの幅がc2である領域を含む第1の光透過領域M1と第2の光透過領域M2とを含む領域と、の第1方向Xの幅がそれぞれ異なる領域を含む領域に区画される(c2>c1>b1,b2)。また、光透過領域Mは、第2方向Yの幅がd1である領域を含む第2の光透過領域M2と、第2方向Yの幅がd2である領域を含む第1の光透過領域M1と、の第2方向Yの幅がそれぞれ異なる領域を含む領域に区画されているともいえる。このように光透過領域Mが、幅の異なる領域を含む複数の領域に区画されていることにより、回折が強まることが抑制される。また、第2実施形態においては光透過領域Mが3つの領域に区画されており、6つの領域に区画された第1実施形態と比較して、光透過領域Mが区画された領域数が少ないため、その分回折が強まりにくい。
また、第2実施形態においては、第2配線150a、150b、150cの長さがそれぞれ異なっている。長さが異なる配線に同じ材料を用いると、配線によって配線抵抗が異なり、表示特性に問題が生ずる。そのため、長さが異なる配線に、互いに単位長さあたりの抵抗率が異なる材料を用いることが好ましい。具体的には、最も短い第2配線150aの単位長さ当たりの抵抗率を他の配線よりも単位長さ当たりの抵抗率よりも高くし、次に短い第2配線150b(第3配線)の単位長さ当たりの抵抗率を第2配線150aよりも低くし、最も長い第2配線150c(第4配線)の単位長さ当たりの抵抗率を他の配線よりも低くすることが好ましい。
図8は、第2実施形態の変形例に係る表示装置の1画素中の配線構造を示す模式図である。第2実施形態の変形例に係る表示装置は、ブラックマトリクスBMが配線を覆って設けられる点を除いて、図7で示した第2実施形態の構成と、配線の配置など、基本的な構造は同様であるため、その説明の詳細は省略する。
第2実施形態の変形例に係る表示装置においては、ブラックマトリクスBMが、第1配線140、第2配線150を覆って設けられる。そして、図7を参照して説明した介在領域がブラックマトリクスBMによって埋められている分、光透過領域Mの区画数が少なく、回折が強まりにくい構成となっている。なお、ここでは説明を省略するが、第2実施形態の変形例においても、ブラックマトリクスBMのエッジ構造は、図6を用いて説明した構成であることが好ましい。
図9は、第3実施形態に係る表示装置を説明する図である。図9(a)は第3実施形態に係る表示装置の1画素中の配線構造を模式的に示す模式図であって、図9(b)は図9(a)のA−A断面図である。第3実施形態に係る表示装置は、第2実施形態に係る表示装置と、1画素中の配線構造が異なることを除いて、基本的な構造は同様である。
第3実施形態においては、複数の第2配線150が所定の間隔を空けて配置される構成を採用した第2実施形態と異なり、画素の端部で複数の第2配線150が厚み方向に重ねて(平面的に見て互いに重畳して)、画素の端部に沿って設けられている。具体的には、第2配線150b及び第2配線150cが、副発光領域L1、L2から、第2配線150aに厚み方向に重なるように、屈曲して延びている。このように、第3実施形態においては、第2の光透過領域M2が配線により区画されない構成となっており、光透過領域Mは一つの領域からなるため、第1実施形態と第2実施形態と比較して、配線のエッジ部分が少なく、回折が強まりにくい。
また、図9(b)に示すように、複数の第2配線は、長さの短い配線ほど、厚みを薄くした。すなわち、最も短い第2配線150aの厚みを最も薄くすることにより、他の配線よりも単位長さ当たりの抵抗率を大きくした。そして、第2配線150b、第2配線150cの順で、厚みを厚くし、単位長さ当たりの抵抗率を小さくした。尚、上述の第2実施形態における複数の第2配線においても、第3実施形態で説明した長さの短い配線ほど厚みを薄くする構造を適用してもよい。
なお、図示は省略するが、第3実施形態においても、第1実施形態の変形例及び第2実施形態の変形例で示したのと同様に、配線を覆うようにブラックマトリクスBMを設ける構成を採用してもよい。
10 基板、20 スイッチング素子、21,22 ソースドレイン領域、23 ポリシリコン層、24 第1層間絶縁膜、25 ゲート線層、27 ソースドレイン電極、28 第2層間絶縁膜、30 有機発光ダイオード、31 有機膜、32 下部電極、33 上部電極、40 封止材、50 充填材、60 透明基板、70 第1下地膜、71 第2下地膜、80 絶縁膜、90 第3層間絶縁膜、110 データ駆動回路、120 走査駆動回路、132 ドライバ素子、140 第1配線、150 第2配線、160 スイッチ。
Claims (14)
- 第1方向と前記第1方向に交差する第2方向とのそれぞれに配列されている複数の画素と、
前記第1方向に延びる複数の第1配線と、
前記第2方向に延びる複数の第2配線と、
を有し、
前記複数の画素の各々は、発光領域と光透過領域とを有し、
前記光透過領域は、前記発光領域と前記第1方向に隣り合う第1の光透過領域と、前記発光領域と前記第2方向に隣り合う第2の光透過領域とを含み、
前記光透過領域は、前記複数の第1配線及び前記複数の第2配線のうち少なくとも1つの配線によって、複数の領域に区画され、
前記複数の領域は、前記第1方向及び前記第2方向の少なくとも一方の方向における幅が互いに異なる第1の領域と第2の領域とを含むことを特徴とする表示装置。 - 請求項1に記載した表示装置において、
前記第1の光透過領域と前記第2の光透過領域とは、互いに前記第1方向に隣り合う部分を含み、
前記光透過領域の形状は、前記第1の光透過領域と前記第2の光透過領域とから成るL字型であることを特徴とする表示装置。 - 請求項1又は2に記載した表示装置において、
前記画素は、複数の副画素を有し、
前記複数の副画素の各々は、副発光領域を有し、
前記発光領域は、複数の前記副発光領域からなり、
2本の前記第2配線が、隣同士の前記副画素の間を通るように配列されると共に、前記第2の光透過領域へ延び、
前記第2の光透過領域は、複数の隣接領域と、前記複数の隣接領域の間に挟まれる介在領域と、を含む前記複数の領域に区画され、
前記複数の隣接領域の各々は、前記隣同士の前記副画素の各々と前記第2方向に隣接し、
介在領域は、前記2本の前記第2配線の間の領域であることを特徴とする表示装置。 - 請求項3に記載した表示装置において、
前記2本の前記第2配線は、データ線と電流供給線であることを特徴とする表示装置。 - 請求項1から4のいずれか1項に記載した表示装置において、
前記複数の第1配線及び前記複数の第2配線を覆うブラックマトリクスをさらに有することを特徴とする表示装置。 - 請求項5に記載した表示装置において、
前記ブラックマトリクスは、表面及び裏面を貫通する開口に臨む端面を有し、
前記端面は、前記表面及び前記裏面の一方から他方がオーバーハングするように傾斜し、前記表面及び前記裏面の前記一方に対する勾配が90°を超えない曲面であることを特徴とする表示装置。 - 第1方向と前記第1方向に交差する第2方向とのそれぞれに配列されている複数の画素を有し、
前記複数の画素の各々は、発光領域と光透過領域とを有し、
前記光透過領域は、前記発光領域と前記第1方向に隣り合う第1の光透過領域と、前記発光領域と前記第2方向に隣り合う第2の光透過領域とを含み、
前記第1の光透過領域と前記第2の光透過領域とは、互いに前記第1方向に隣り合う部分を含み、
前記光透過領域の形状は、前記第1の光透過領域と前記第2の光透過領域とから成るL字型であることを特徴とする表示装置。 - 請求項7に記載した表示装置において、
前記画素は、第1方向に配列する複数の副画素を有し、
前記複数の副画素の各々は、副発光領域を有し、
前記発光領域は、複数の前記副発光領域からなり、
前記複数の前記副画素の間には、前記第1方向と交差する第2方向に延びる第2配線が配置され、
前記配線は、前記第2の光透過領域の側で、前記第1の光透過領域から遠ざかるように屈曲し、且つ前記第1方向へ前記画素の端部まで延びていることを特徴とする表示装置。 - 請求項8に記載した表示装置において、
前記第2配線は複数本配置され、
前記複数の第2配線は、前記画素の前記端部で、前記発光領域から遠ざかるように屈曲し、前記端部に沿って、互いに隣接して前記第2方向へ延びていることを特徴とする表示装置。 - 請求項8に記載した表示装置において、
前記第2配線は複数本配置され、
前記複数の第2配線は、前記画素の前記端部で、前記発光領域から遠ざかるように屈曲し、前記端部に沿って、平面的に見て互いに重畳して前記第2方向へ延びていることを特徴とする表示装置。 - 請求項9又は請求項10に記載した表示装置において、
前記複数の第2配線は、第3配線と、前記副画素の間では前記第3配線よりも前記第1の光透過領域の近くに位置する第4配線とを含み、
前記第4配線は、前記第3配線よりも単位長さ当たりの抵抗値が小さいことを特徴とする表示装置。 - 請求項9又は請求項10に記載した表示装置において、
前記複数の第2配線は、第3配線と、前記副画素の間では前記第3配線よりも前記第1の光透過領域の近くに位置する第4配線とを含み、
前記第4配線の厚さは、前記第3配線の厚さよりも大きいことを特徴とする表示装置。 - 請求項8から12のいずれか1項に記載した表示装置において、
前記第2配線を覆うブラックマトリクスをさらに有することを特徴とする表示装置。 - 請求項13に記載した表示装置において、
前記ブラックマトリクスは、表面及び裏面を貫通する開口に臨む端面を有し、
前記端面は、前記表面及び前記裏面の一方から他方がオーバーハングするように傾斜し、前記表面及び前記裏面の前記一方に対する勾配が90°を超えない曲面であることを特徴とする表示装置。
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