JP2016534380A - 負の光学分散度を有する光学素子製造用組成物およびこれから製造された光学異方体 - Google Patents

Abstract

本発明は、負の光学分散度を有する光学素子製造用組成物およびこれから製造された光学異方体に関する。本発明によれば、前記光学素子用組成物を用いて安定した逆波長分散を示す光学異方体をより単純化された方法で製造することができ、これを薄層の広帯域λ／４波長板などの液晶表示装置用光学フィルムに適用可能である。

Description

本発明は、負の光学分散度を有する光学素子製造用組成物およびこれから製造された光学異方体に関する。

位相遅延器（ｐｈａｓｅ ｒｅｔａｒｄｅｒ）は、例えば、液晶表示装置の光視野角化などを実現するために用いられる光学フィルムである。位相遅延器の位相差値は波長に依存するが、その位相差値の波長分散は、次のように大きく三つに区分される。つまり、位相差値の波長分散は、位相差値が短波長側であるほど大きい波長分散を有する正分散、位相差値が短波長側から長波長側にわたってほとんど変わらないフラット分散、位相差値が短波長側であるほど小さい波長分散を有する逆分散に区分される。位相遅延器の場合、逆分散を示すことが好ましいが、広い波長帯域で所定の位相差（λ／２またはλ／４など）を有するからである。

しかし、通常の樹脂フィルムで形成される位相遅延器はほとんど正波長分散を示すため、逆波長分散を提供できる多様な種類の液晶組成物が提案されている。通常、液晶組成物は、棒状液晶物質と、該液晶物質の長軸に対して垂直に配向する非液晶性物質とを含む。しかし、非液晶性物質の混合比が低い場合、逆波長分散が誘導されず、その混合比が高い場合、液晶組成物が液晶特性を失うようになる。また、逆波長分散性と複屈折は相補的な特性を有していて、逆波長分散性を高めるために、非液晶性物質の含有量を高めると、複屈折は相対的に減少する。

したがって、強い逆波長分散を誘導できる物質の開発と、非液晶性物質の含有量が低いながらも逆波長分散を誘導できる光学素子用組成物の開発が要求されている。

そこで、本発明は、より強くて安定した逆波長分散の提供を可能にする光学素子製造用組成物を提供する。

また、本発明は、前記組成物を用いて形成された光学異方体を提供する。

本発明によれば、下記化学式１で表される逆波長分散性化合物；および少なくとも１つの重合可能な官能基を有する反応性メソジェニック化合物を含む光学素子用組成物が提供される：

前記化学式１において、
Ａは、炭素数５〜８の非芳香族の炭素環式もしくはヘテロ環式基、または炭素数６〜２０の芳香族もしくはヘテロ芳香族基であり；
Ｅ^１、Ｅ^２、Ｄ^１およびＤ^２は、それぞれ独立に、単結合または２価の連結基であり；
Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に、−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＣＮ、−ＮＣ、−ＮＣＯ、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^１Ｒ^２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^１、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^１、−ＮＨ_２、−ＳＨ、−ＳＲ^１、−ＳＯ_３Ｈ、−ＳＯ_２Ｒ^１、−ＯＨ、−ＮＯ_２、−ＣＦ_３、−ＳＦ_３、置換もしくは非置換のシリル、置換もしくは非置換の炭素数１〜４０のカルビルまたはヒドロカルビル、または−Ｓ_ｐ−Ｐであって、前記Ｌ^１およびＬ^２のうちの少なくとも１つは、−Ｓ_ｐ−Ｐであり、前記Ｐは、重合性基であり、前記Ｓ_ｐは、スペーサー基または単結合であり、前記Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、−Ｈまたは炭素数１〜１２のアルキルであり；
ｍおよびｎは、それぞれ独立に、１〜５の整数であって；前記ｍまたはｎが２以上であれば、２以上繰り返される−（Ｄ^１−Ｇ^１）−または−（Ｇ^２−Ｄ^２）−の各繰り返し単位は、互いに同一であっても異なっていてもよく；
Ｇ^１およびＧ^２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の非芳香族の炭素環式もしくはヘテロ環式基、または炭素数６〜２０の芳香族もしくはヘテロ芳香族基であって、前記Ｇ^１およびＧ^２のうちの少なくとも１つは、前記炭素環式もしくはヘテロ環式基であり、前記炭素環式もしくはヘテロ環式基に含まれているいずれか１つの水素は、下記化学式２で表される基で置換されている：

前記化学式２において、
ｐは、１〜１０の整数であって、ｐが２以上であれば、２以上繰り返される−（Ｑ^１）−の各繰り返し単位は、互いに同一であっても異なっていてもよく、
Ｑ^１は、それぞれ独立に、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＹ^１＝ＣＹ^２−、および炭素数６〜２０の置換もしくは非置換の芳香族基、またはヘテロ芳香族基からなる群より選択された２価基であって、前記Ｙ^１およびＹ^２は、それぞれ独立に、−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−ＣＮ、または−Ｒ^１であり、
Ｂ^１は、−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＣＮ、−ＮＣ、−ＮＣＯ、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^１Ｒ^２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^１、−ＮＨ_２、−ＳＨ、−ＳＲ^１、−ＳＯ_３Ｈ、−ＳＯ_２Ｒ^１、−ＯＨ、−ＮＯ_２、−ＣＦ_３、−ＳＦ_３、重合性基（前記化学式１で定義されたＰ）、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数２〜４のアシル基、末端に炭素数２〜４のアシル基が結合した炭素数２〜６のアルキニレン基、炭素数１〜５のアルコール基、または炭素数１〜１２のアルコキシ基であり、前記Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、−Ｈまたは炭素数１〜１２のアルキルである。

また、本発明によれば、前記組成物から得られ、下記式Ｉおよび式ＩＩを満足する光学異方体が提供される：
（式Ｉ）
△ｎ_{（４５０ｎｍ）}／△ｎ_{（５５０ｎｍ）}＜１．０
（式ＩＩ）
△ｎ_{（６５０ｎｍ）}／△ｎ_{（５５０ｎｍ）}＞１．０
上記式Ｉおよび式ＩＩにおいて、△ｎ（λ）は、波長λでの比複屈折率を意味する。

以下、本発明の実施形態に係る光学素子用組成物およびこれを用いて形成された光学異方体について説明する。

それに先立ち、本明細書全体において明示的な言及がない限り、専門用語は単に特定の実施形態を言及するためのものであり、本発明を限定することを意図しない。そして、ここで使われる単数形態は、文言がこれと明確に反対の意味を示さない限り、複数形態も含む。

また、明細書で使われる「含む」の意味は、特定の特性、領域、整数、段階、動作、要素または成分を具体化し、他の特定の特性、領域、整数、段階、動作、要素または成分の付加を除外させるものではない。

一方、「逆波長分散性化合物」は、それ自体で液晶性と逆波長分散性を示すか、またはそれ自体で液晶性を示さないものの、任意の液晶性化合物と重合または架橋されて前記液晶性化合物が逆波長分散性を示すようにする化合物を意味する。具体的には、前記逆波長分散性化合物、または前記逆波長分散性化合物および液晶性化合物（例えば、液晶性を有する反応性メソジェニック化合物）を含有する組成物を液晶状態で配向させた後、その状態で紫外線などの活性エネルギー線を照射すると、液晶分子の配向構造を固定化した重合物を得ることができる。こうして得られた重合物は、屈折率、誘電率、磁化率、弾性率、熱膨張率などの物理的性質の異方性を有するため、例えば、位相差板、偏光板、偏光プリズム、輝度向上フィルム、光繊維の被覆材などの光学異方体として応用可能である。

そして、「比複屈折率」（ｓｐｅｃｉｆｉｃ ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｔ ｉｎｄｅｘ）とは、光学フィルムを透過する透過光の波長（λ）における位相差値を意味するもので、△ｎ（λ）で表される。

また、「メソジェニック基」は、液晶相挙動を誘導できる能力を有する基（Ｇｒｏｕｐ）を意味する。

そして、「スペーサー基」は、本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者に公知であり、例えば、文献［Ｃ．Ｔｓｃｈｉｅｒｓｋｅ，Ｇ．Ｐｅｌｚｌ，Ｓ．Ｄｉｅｌｅ，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．２００４，１１６，６３４０−６３６８］に記述されている。前記スペーサー基は、メソジェニック基と重合性基とを連結する可撓性有機基（ｆｌｅｘｉｂｅ ｏｒｇａｎｉｃ ｇｒｏｕｐ）を称する。

そして、「カルビル基」は、任意の非炭素原子がない１つ以上の炭素原子（例えば、−Ｃ≡Ｃ−）を含むか、または選択的に１つ以上の非炭素原子（例えば、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｐ、Ｓｉ）と組み合わされた１つ以上の炭素原子（例えば、カルボニル）を含む任意の１価または多価の有機ラジカル残基を意味する。「ヒドロカルビル基」は、追加的に１つ以上のＨ原子を含有し、選択的に１つ以上のヘテロ原子（例えば、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｐ、Ｓｉ）を含有するカルビル基を意味する。

Ｉ．光学素子用組成物
発明の実施形態によれば、
下記化学式１で表される逆波長分散性化合物；および
少なくとも１つの重合可能な官能基を有する反応性メソジェニック化合物を含む光学素子用組成物が提供される：

前記化学式１において、
Ａは、炭素数５〜８の非芳香族の炭素環式もしくはヘテロ環式基、または炭素数６〜２０の芳香族もしくはヘテロ芳香族基であり；
Ｅ^１、Ｅ^２、Ｄ^１およびＤ^２は、それぞれ独立に、単結合または２価の連結基であり；
Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に、−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＣＮ、−ＮＣ、−ＮＣＯ、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^１Ｒ^２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^１、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^１、−ＮＨ_２、−ＳＨ、−ＳＲ^１、−ＳＯ_３Ｈ、−ＳＯ_２Ｒ^１、−ＯＨ、−ＮＯ_２、−ＣＦ_３、−ＳＦ_３、置換もしくは非置換のシリル、置換もしくは非置換の炭素数１〜４０のカルビルまたはヒドロカルビル、または−Ｓ_ｐ−Ｐであって、前記Ｌ^１およびＬ^２のうちの少なくとも１つは、−Ｓ_ｐ−Ｐであり、前記Ｐは、重合性基であり、前記Ｓ_ｐは、スペーサー基または単結合であり、前記Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、−Ｈまたは炭素数１〜１２のアルキルであり；
ｍおよびｎは、それぞれ独立に、１〜５の整数であって；前記ｍまたはｎが２以上であれば、２以上繰り返される−（Ｄ^１−Ｇ^１）−または−（Ｇ^２−Ｄ^２）−の各繰り返し単位は、互いに同一であっても異なっていてもよく；
Ｇ^１およびＧ^２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の非芳香族の炭素環式もしくはヘテロ環式基、または炭素数６〜２０の芳香族もしくはヘテロ芳香族基であって、前記Ｇ^１およびＧ^２のうちの少なくとも１つは、前記炭素環式もしくはヘテロ環式基であり、前記炭素環式もしくはヘテロ環式基に含まれているいずれか１つの水素は、下記化学式２で表される基で置換されている：

前記化学式２において、
ｐは、１〜１０の整数であって、ｐが２以上であれば、２以上繰り返される−（Ｑ^１）−の各繰り返し単位は、互いに同一であっても異なっていてもよく、
Ｑ^１は、それぞれ独立に、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＹ^１＝ＣＹ^２−、および炭素数６〜２０の置換もしくは非置換の芳香族基、またはヘテロ芳香族基からなる群より選択された２価基であって、前記Ｙ^１およびＹ^２は、それぞれ独立に、−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−ＣＮ、または−Ｒ^１であり、
Ｂ^１は、−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＣＮ、−ＮＣ、−ＮＣＯ、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^１Ｒ^２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^１、−ＮＨ_２、−ＳＨ、−ＳＲ^１、−ＳＯ_３Ｈ、−ＳＯ_２Ｒ^１、−ＯＨ、−ＮＯ_２、−ＣＦ_３、−ＳＦ_３、重合性基（前記化学式１で定義されたＰ）、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数２〜４のアシル基、末端に炭素数２〜４のアシル基が結合した炭素数２〜６のアルキニレン基、炭素数１〜５のアルコール基、または炭素数１〜１２のアルコキシ基であり、前記Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、−Ｈまたは炭素数１〜１２のアルキルである。

本発明者らの継続的な実験の結果、驚くべきことに、前記化学式１のようなＴ字状構造を有する逆波長分散性化合物と、少なくとも１つの重合可能な官能基を有する反応性メソジェニック化合物とを含む組成物は、安定した逆波長分散を示す光学異方体を提供できることを確認した。

以下、発明の実施形態に係る光学素子用組成物に含まれる成分について説明する。

（逆波長分散性化合物）
前記化学式１で表される化合物は、メソジェニック基（特に、Ｌ^１−（Ｄ^１−Ｇ^１）_ｍ−基および−（Ｇ^２−Ｄ^２）_ｎ−Ｌ^２基）のいずれかに、分極率が高い共役構造のブリッジング基（−［Ｑ^１］_ｐ−Ｂ^１）が垂直方向（軸方向）に連結されたＴ字状の構造を有する。つまり、２つの棒状メソジェニック化合物がブリッジング基によって対称に連結されたＨ字状の対称型化合物とは異なり、発明の実施形態に係る逆波長分散性化合物は、Ｔ字状の非対称構造を有する。それによって、前記化学式１の化合物は、垂直に高い分極率を有するブリッジング基によって安定した逆波長分散性と、Ｔ字状の非対称メソジェニック基による優れた配向性を同時に示すことができる。

前記化学式１において、Ａは、炭素数５〜８の非芳香族の炭素環式もしくはヘテロ環式基、または炭素数６〜２０の芳香族もしくはヘテロ芳香族基である。

前記Ａにおいて、前記炭素環式もしくはヘテロ環式基は、５員環（例えば、シクロペンタン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロチオフラン、ピロリジン；６員環（例えば、シクロヘキサン、シリナン、シクロヘキセン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロチオピラン、１，３−ジオキサン、１，３−ジチアン、ピペリジン）；７員環（例えば、シクロヘプタン）；または融合された基（例えば、テトラヒドロナフタレン、デカヒドロナフタレン、インダン、ビシクロ［１．１．１］ペンタン−１，３−ジイル、ビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル、スピロ［３．３］ヘプタン−２，６−ジイル、オクタヒドロ−４，７−メタノ−インダン−２，５−ジイル）などであってもよい。

前記Ａにおいて、芳香族基は、ベンゼン、ビフェニレン、トリフェニレン、ナフタレン、アントラセン、ビナフタレン、フェナントレン、ピレン、ジヒドロピレン、クリセン、ペリレン、テトラセン、ペンタセン、ベンズピレン、フルオレン、インデン、インデノフルオレン、スピロビフルオレンなどであってもよい。そして、前記Ａ、Ｇ^１およびＧ^２において、ヘテロ芳香族基は、５員環（例えば、ピロール、ピラゾール、イミダゾール、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、テトラゾール、フラン、チオフェン、セレノフェン、オキサゾール、イソキサゾール、１，２−チアゾール、１，３−チアゾール、１，２，３−オキサジアゾール、１，２，４−オキサジアゾール、１，２，５−オキサジアゾール、１，３，４−オキサジアゾール、１，２，３−チアジアゾール、１，２，４−チアジアゾール、１，２，５−チアジアゾール、１，３，４−チアジアゾール）；６員環（例えば、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、１，３，５−トリアジン、１，２，４−トリアジン、１，２，３−トリアジン、１，２，４，５−テトラジン、１，２，３，４−テトラジン、１，２，３，５−テトラジン）；または融合された基（例えば、カルバゾール、インドール、イソインドール、インドリジン、インダゾール、ベンズイミダゾール、ベンゾトリアゾール、プリン、ナフトイミダゾール、フェナントルイミダゾール、ピリドイミダゾール、ピラジンイミダゾール、キノキサリンイミダゾール、ベンズオキサゾール、ナフトオキサゾール、アントルオキサゾール、フェナントルオキサゾール、イソキサゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾフラン、イソベンゾフラン、ジベンゾフラン、キノリン、イソキノリン、プテリジン、ベンゾ−５，６−キノリン、ベンゾ−６，７−キノリン、ベンゾ−７，８−キノリン、ベンゾイソキノリン、アクリジン、フェノチアジン、フェノキサジン、ベンゾピリダジン、ベンゾピリミジン、キノキサリン、フェナジン、ナフチリジン、アザカルバゾール、ベンゾカルボリン、フェナントリジン、フェナントロリン、チエノ［２，３−ｂ］チオフェン、チエノ［３，２−ｂ］チオフェン、ジチエノチオフェン、ジチエノピリジン、イソベンゾチオフェン、ジベンゾチオフェン、ベンゾチアジアゾチオフェン）などであってもよい。

好ましくは、前記Ａは、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環、ベンゼン環、ナフタレン環、またはフェナントレン環であってもよい。より好ましくは、前記Ａは、トランス−１，４−シクロへキシレン、１，４−フェニレン、１，５−ナフチレン、および２，６−ナフチレンからなる群より選択されてもよい。

そして、発明の実施形態によれば、前記Ａに含まれている少なくとも１つの水素は、必要に応じて選択的に、分子間相互作用を可能にする官能基で置換されていてもよい。前記分子間相互作用を可能にする官能基は、他の分子との相互作用を通してより向上した配向安定性を示すようにする。前記分子間相互作用を可能にする官能基の種類は特に制限はないが、好ましくは−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＣＮ、−ＮＣ、−ＮＣＯ、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^１Ｒ^２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^１、−ＮＨ_２、−ＳＨ、−ＳＲ^１、−ＳＯ_３Ｈ、−ＳＯ_２Ｒ^１、−ＯＨ、−ＮＯ_２、−ＣＦ_３、−ＳＦ_３、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数２〜４のアシル基、末端に炭素数２〜４のアシル基が結合した炭素数２〜６のアルキニレン基、炭素数１〜５のアルコール基、または炭素数１〜１２のアルコキシ基であってもよい。ここで、前記Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、−Ｈまたは炭素数１〜１２のアルキルである。

一方、前記化学式１において、Ｅ^１、Ｅ^２、Ｄ^１およびＤ^２は、それぞれ独立に、単結合または２価の連結基である。

具体的には、前記Ｅ^１、Ｅ^２、Ｄ^１およびＤ^２は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、−ＣＯ−ＮＲ^１−、−ＮＲ^１−ＣＯ−、−ＮＲ^１−ＣＯ−ＮＲ^１−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−（ＣＨ_２)_３−、−（ＣＨ_２)_４−、−ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＹ^１＝ＣＹ^２−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝ＣＲ^１−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、または−ＣＲ^１Ｒ^２−であってもよい。ここで、前記Ｙ^１およびＹ^２は、それぞれ独立に、−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−ＣＮ、または−Ｒ^１であり、前記Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、−Ｈまたは炭素数１〜１２のアルキルである。

そして、前記化学式１において、Ｌ^１およびＬ^２は、メソジェニック基の末端であって、それぞれ独立に、−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＣＮ、−ＮＣ、−ＮＣＯ、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^１Ｒ^２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^１、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^１、−ＮＨ_２、−ＳＨ、−ＳＲ^１、−ＳＯ_３Ｈ、−ＳＯ_２Ｒ^１、−ＯＨ、−ＮＯ_２、−ＣＦ_３、−ＳＦ_３、置換もしくは非置換のシリル、置換もしくは非置換の炭素数１〜４０のカルビルまたはヒドロカルビル、または−Ｓ_ｐ−Ｐであり、前記Ｌ^１およびＬ^２のうちの少なくとも１つは、−Ｓ_ｐ−Ｐである。ここで、前記Ｐは、重合性基であり、前記Ｓ_ｐは、スペーサー基または単結合であり、前記Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、−Ｈまたは炭素数１〜１２のアルキルである。

非制限的な例として、前記Ｌ^１およびＬ^２は、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、またはＣＮで１置換または多置換の、もしくは置換されていない炭素数１〜２５の直鎖、分枝鎖または環状アルキル基から選択されてもよく；この時、１つ以上の隣接しないＣＨ_２基は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ^１−、ＳｉＲ^１Ｒ^２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＳＯ_２−、−ＣＯ−ＮＲ^１−、−ＮＲ^１−ＣＯ−、−ＮＲ^１−ＣＯ−ＮＲ^１−、−ＣＹ^１＝ＣＹ^２−、または−Ｃ≡Ｃ−で代替されていてもよい。ここで、前記Ｙ^１およびＹ^２は、それぞれ独立に、−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−ＣＮ、または−Ｒ^１であり、前記Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、−Ｈまたは炭素数１〜１２のアルキルである。

また、前記Ｌ^１およびＬ^２は、炭素数１〜２０のアルキル、炭素数１〜２０のオキサアルキル、炭素数１〜２０のアルコキシ、炭素数２〜２０のアルケニル、炭素数２〜２０のアルキニル、炭素数１〜２０のシリル、炭素数１〜２０のエステル、炭素数１〜２０のアミノ、および炭素数１〜２０のフルオロアルキルから選択されてもよい。

さらに、前記Ｌ^１およびＬ^２の一例の−Ｓ_ｐ−Ｐにおいて、前記Ｐは、重合性基であって、好ましくは、ＣＨ_２＝ＣＺ^１−ＣＯＯ−、ＣＨ_２＝ＣＺ^１−ＣＯ−、ＣＨ_２＝ＣＺ^２−（Ｏ）_ａ−、ＣＨ_３−ＣＨ＝ＣＨ−Ｏ−、（ＣＨ_２＝ＣＨ）_２ＣＨ−ＯＣＯ−、（ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＨ_２）_２ＣＨ−ＯＣＯ−、（ＣＨ_２＝ＣＨ）_２ＣＨ−Ｏ−、（ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＨ_２）_２Ｎ−、（ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＨ_２）_２Ｎ−ＣＯ−、ＨＯ−ＣＺ^１Ｚ^２−、ＨＳ−ＣＺ^１Ｚ^２−、ＨＺ^１Ｎ−、ＨＯ−ＣＺ^１Ｚ^２−ＮＨ−、ＣＨ_２＝ＣＺ^１−ＣＯ−ＮＨ−、ＣＨ_２＝ＣＨ−（ＣＯＯ）_ａ−Ｐｈｅ−（Ｏ）_ｂ−、ＣＨ_２＝ＣＨ−（ＣＯ）_ａ−Ｐｈｅ−（Ｏ）_ｂ−、Ｐｈｅ−ＣＨ＝ＣＨ−、ＨＯＯＣ−、ＯＣＮ−、Ｚ^１Ｚ^２Ｚ^３Ｓｉ−、

、または

であってもよい。ここで、前記Ｚ^１〜Ｚ^３は、それぞれ独立に、−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−ＣＮ、−ＣＦ_３、フェニル、または炭素数１〜５のアルキルであり、前記Ｐｈｅは、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＣＮ、−ＮＣ、−ＮＣＯ、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^１Ｒ^２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^１、−ＮＨ_２、−ＳＨ、−ＳＲ^１、−ＳＯ_３Ｈ、−ＳＯ_２Ｒ^１、−ＯＨ、−ＮＯ_２、−ＣＦ_３、または−ＳＦ_３によって置換もしくは非置換の１，４−フェニレンであり、前記ａおよびｂは、それぞれ独立に、０または１である。

そして、前記Ｌ^１およびＬ^２の一例の−Ｓ_ｐ−Ｐにおいて、前記Ｓ_ｐは、−Ｓ_ｐ−Ｐが−Ｘ’−Ｓ_ｐ’−Ｐとなるようにする化学式−Ｘ’−Ｓ_ｐ’から選択される。前記Ｓ_ｐ’は、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、または−ＣＮで１置換または多重置換の炭素数１〜２０のアルキレンであり、前記アルキレンにおいて、１つ以上の−ＣＨ_２−基は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ^１−、ＳｉＲ^１Ｒ^２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＮＲ^１−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ^１−、−ＮＲ^１−ＣＯ−ＮＲ^１−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−で代替されていてもよい。そして、前記Ｘ’は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、−ＣＯ−ＮＲ^１−、−ＮＲ^１−ＣＯ−、−ＮＲ^１−ＣＯ−ＮＲ^１−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＳＣＦ_２−、−ＳＦ_２Ｏ−、−ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝ＣＲ^１−、−ＣＹ^１＝ＣＹ^２−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、または単結合である。ここで、前記Ｙ^１およびＹ^２は、それぞれ独立に、−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−ＣＮ、または−Ｒ^１であり、前記Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、−Ｈまたは炭素数１〜１２のアルキルである。

そして、前記化学式１において、ｍおよびｎは、互いに同一または異なる値を有してもよいし、それぞれ独立に、１〜５の整数であってよい。ここで、前記ｍまたはｎが２以上であれば、２以上繰り返される−（Ｄ^１−Ｇ^１）−または−（Ｇ^２−Ｄ^２）−の各繰り返し単位は、互いに同一であっても異なっていてもよく。例えば、前記ｍが２の場合、−（Ｄ^１−Ｇ^１）−（Ｄ^１−Ｇ^１）−の各繰り返し単位に含まれるＤ^１またはＧ^１は、それぞれ前述した範囲において互いに同一であっても異なっていてもよい。

一方、前記化学式１において、Ｇ^１およびＧ^２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の非芳香族の炭素環式もしくはヘテロ環式基、または炭素数６〜２０の芳香族もしくはヘテロ芳香族基であって、前記Ｇ^１およびＧ^２のうちの少なくとも１つは、前記炭素環式もしくはヘテロ環式基である。

前記Ｇ^１およびＧ^２において、カルボサイクリック基、ヘテロサイクリック基、芳香族基、およびヘテロ芳香族基については、前記Ａに関する定義内容に切り替える。

特に、発明の実施形態によれば、前記Ｇ^１およびＧ^２のうちの少なくとも１つは、前記炭素環式もしくはヘテロ環式基であって、前記炭素環式もしくはヘテロ環式基に含まれているいずれか１つの水素は、下記化学式２で表される基で置換されている：

前記化学式２において、
ｐは、１〜１０の整数であって、ｐが２以上であれば、２以上繰り返される−（Ｑ^１）−の各繰り返し単位は、互いに同一であっても異なっていてもよく、
Ｑ^１は、それぞれ独立に、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＹ^１＝ＣＹ^２−、および炭素数６〜２０の置換もしくは非置換の芳香族基、またはヘテロ芳香族基からなる群より選択された２価基であって、前記Ｙ^１およびＹ^２は、それぞれ独立に、−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−ＣＮ、または−Ｒ^１であり、
Ｂ^１は、−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＣＮ、−ＮＣ、−ＮＣＯ、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^１Ｒ^２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^１、−ＮＨ_２、−ＳＨ、−ＳＲ^１、−ＳＯ_３Ｈ、−ＳＯ_２Ｒ^１、−ＯＨ、−ＮＯ_２、−ＣＦ_３、−ＳＦ_３、重合性基（前記化学式１で定義されたＰ）、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数２〜４のアシル基、末端に炭素数２〜４のアシル基が結合した炭素数２〜６のアルキニレン基、炭素数１〜５のアルコール基、または炭素数１〜１２のアルコキシ基であり、前記Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、−Ｈまたは炭素数１〜１２のアルキルである。

前記化学式２において、−［Ｑ^１］_ｐ−は、パイ共役の線状基、芳香族基、およびヘテロ芳香族基からなる群より選択された１つ以上の下位基Ｑ^１からなっていてもよい。例えば、前記−［Ｑ^１］_ｐ−は、１２０度以上、好ましくは１８０度の結合角を有する基より選択された１つ以上の下位基Ｑ^１からなっていてもよい。ここで、前記ｐは、１〜１０の整数であって、ｐが２以上であれば、２以上繰り返される−（Ｑ^１）−の各繰り返し単位は、互いに同一であっても異なっていてもよい。

非制限的な例として、このような下位基Ｑ^１は、パラ位の隣接した基に連結された２価の芳香族基（例えば、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、インダン−２，６−ジイル、チエノ［３，２−ｂ］チオフェン−２，５−ジイル）、またはｓｐ−混成の炭素原子（例えば、−Ｃ≡Ｃ−）を含む基であってもよい。さらに、前記下位基Ｑ^１は、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＹ^１＝ＣＹ^２−、および−ＣＨ＝ＣＲ^１−を含んでいてもよい。ここで、前記Ｙ^１およびＹ^２は、それぞれ独立に、−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−ＣＮ、または−Ｒ^１であり、前記Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、−Ｈまたは炭素数１〜１２のアルキルである。

また、前記−［Ｑ^１］_ｐ−は、−Ｃ≡Ｃ−、置換もしくは非置換の１，４−フェニレン、および置換もしくは非置換の９Ｈ−フルオレン−２，７−ジイルからなる群より選択された１つ以上の基を含んでいてもよい。この時、フルオレン基において、９−位置にあるＨ原子は、カルビルまたはヒドロカルビル基で代替されていてもよい。

好ましくは、前記−［Ｑ^１］_ｐ−は、

からなる群より選択されてもよい。

ここで、前記ｒは、０、１、２、３または４であり、前記Ｄは、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＣＮ、−ＮＯ_２、−ＮＣＯ、−ＮＣＳ、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^１Ｒ^２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^１、−ＮＲ^１Ｒ^２、−ＯＨ、−ＳＦ_５、置換もしくは非置換のシリル、炭素数６〜１２のアリール、炭素数１〜１２の直鎖または分枝鎖アルキル、アルコキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、またはアルコキシカルボニルオキシである。

そして、前記化学式２において、Ｂ^１は、−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＣＮ、−ＮＣ、−ＮＣＯ、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^１Ｒ^２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^１、−ＮＨ_２、−ＳＨ、−ＳＲ^１、−ＳＯ_３Ｈ、−ＳＯ_２Ｒ^１、−ＯＨ、−ＮＯ_２、−ＣＦ_３、−ＳＦ_３、重合性基（前記化学式１で定義されたＰ）、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数２〜４のアシル基、末端に炭素数２〜４のアシル基が結合した炭素数２〜６のアルキニレン基、炭素数１〜５のアルコール基、または炭素数１〜１２のアルコキシ基であり、前記Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、−Ｈまたは炭素数１〜１２のアルキルである。

特に、発明の実施形態によれば、前記Ｂ^１は、前述した例示基中において、前記化学式２のブリッジング基が共役構造を有するようにするパイ共役の線状基、芳香族基、およびヘテロ芳香族基からなる群より選択された１つ以上の基（例えば、前記Ｑ^１に対応する基）であることが好ましいことがある。

非制限的な例として、前記化学式１の逆波長分散性化合物としては、後述する実施例によるＲＤ−０１〜ＲＤ−４２で表される化合物を挙げることができる。ただし、前記逆波長分散性化合物がＲＤ−０１〜ＲＤ−４２の化合物にのみ限定されるものではなく、前述した範囲において多様な組み合わせで実現できる。

そして、前記化学式１で表される逆波長分散性化合物は、公知の反応を応用して合成可能であり、より詳細な合成方法は実施例を用いて述べる。

（反応性メソジェニック化合物）
一方、発明の実施形態に係る光学素子用組成物には、少なくとも１つの重合可能な官能基を有する反応性メソジェニック化合物が含まれる。

前記反応性メソジェニック化合物は、本発明の属する技術分野における通常のものであってもよいが、好ましくは、下記化学式３で表される化合物であってもよい：

前記化学式３において、
Ｐは、重合性基であり、
Ｓ_ｐは、スペーサー基または単結合であり、
Ｘは、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、または単結合であり、
ｎは、０または１であり、
ＭＧは、メソジェニック基であり、
Ｒは、炭素数１〜２５のアルキルラジカル、ハロゲン、シアノ、または前記Ｐ−（Ｓ_ｐ−Ｘ）_ｎ−に与えられた意味を有するものであり、前記アルキルラジカルにおいて、１つ以上の隣接しないＣＨ_２基は、互いにそれぞれ独立に、酸素原子が互いに直接連結されない方式で−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ_３）−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、または−Ｃ≡Ｃ−によって代替されていてもよい。

前記化学式３において、Ｐは、重合性基であって、化学式１の化合物における定義による。前記化学式３において、好ましくは、Ｐは、ビニル基、アクリレート基、メタクリレート基、プロペニルエーテル基、またはエポキシ基であってもよい。

そして、前記化学式３において、Ｓ_ｐは、スペーサー基であって、化学式１の化合物における定義による。前記化学式３において、好ましくは、Ｓ_ｐは、炭素数１〜２０の線状または分枝されたアルキレン基であってもよく、前記アルキレン基において、１つ以上の隣接しないＣＨ基は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ）−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨＦ−、−ＣＨＣｌ−、−ＣＨ（ＣＮ）−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−によって代替されていてもよい。

一方、前記化学式３において、ＭＧは、メソジェニック基であって、好ましくは、下記化学式４で表される基であってもよい：

前記化学式４において、
Ｙ^ａ、Ｙ^ｂおよびＹ^ｃは、それぞれ独立に、１つ以上のＣＨ基がＮによって置換もしくは非置換の１，４−フェニレン；１つまたは２つの隣接しないＣＨ_２基がＯ、ＳまたはＯとＳによって置換もしくは非置換の１，４−シクロへキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、またはナフタレン−２，６−ジイルであり；前記全ての基は、ハロゲン、シアノ、ニトロ基、または１つ以上の水素原子がＦまたはＣｌによって置換されていてもよい炭素数１〜７のアルキル、アルコキシまたはアルカノイル基で１置換または多置換されていてもよく、
Ｚ^ａおよびＺ^ｂは、それぞれ独立に、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、または単結合であり、
ｎは、０、１または２である。

ここで、前記化学式４のＹ^ａ、Ｙ^ｂおよびＹ^ｃは、それぞれ独立に、１，４−フェニレン（Ｐｈｅ）、１つ以上の基Ｌによって置換された１，４−フェニレン（ＰｈｅＬ）、または１，４−シクロへキシレン（Ｃｙｃ）であり、前記基Ｌは、Ｆ、Ｃｌ、ＣＮ、ＮＯ_２、ＣＨ_３、Ｃ_２Ｈ_５、ＯＣＨ_３、ＯＣ_２Ｈ_５、ＣＯＣＨ_３、ＣＯＣ_２Ｈ_５、ＣＦ_３、ＯＣＦ_３、ＯＣＨＦ_３、またはＯＣＨ_２Ｆ_５である。そして、前記Ｚ^ａおよびＺ^ｂは、それぞれ独立に、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−であってもよい。

非制限的な例として、前記化学式４で表される基は、−Ｐｈｅ−Ｚ^ｂ−Ｐｈｅ−、−Ｐｈｅ−Ｚ^ｂ−Ｃｙｃ−、−ＰｈｅＬ−Ｚ^ｂ−Ｐｈｅ−、−ＰｈｅＬ−Ｚ^ｂ−Ｃｙｃ−、−Ｐｈｅ−Ｚ^ｂ−ＰｈｅＬ−、−Ｐｈｅ−Ｚ^ａ−Ｐｈｅ−Ｐｈｅ−、−Ｐｈｅ−Ｚ^ａ−Ｐｈｅ−Ｃｙｃ−、−Ｐｈｅ−Ｚ^ａ−Ｐｈｅ−Ｚ^ｂ−Ｐｈｅ−、−Ｐｈｅ−Ｚ^ａ−Ｐｈｅ−Ｚ^ｂ−Ｃｙｃ−、−Ｐｈｅ−Ｚ^ａ−Ｃｙｃ−Ｚ^ｂ−Ｐｈｅ−、−Ｐｈｅ−Ｚ^ａ−Ｃｙｃ−Ｚ^ｂ−Ｃｙｃ−、−Ｐｈｅ−Ｚ^ａ−ＰｈｅＬ−Ｚ^ｂ−Ｐｈｅ−、−Ｐｈｅ−Ｚ^ａ−Ｐｈｅ−Ｚ^ｂ−ＰｈｅＬ−、−ＰｈｅＬ−Ｚ^ａ−Ｐｈｅ−Ｚ^ｂ−ＰｈｅＬ−、−ＰｈｅＬ−Ｚ^ａ−ＰｈｅＬ−Ｚ^ｂ−Ｐｈｅ−、または−ＰｈｅＬ−Ｚ^ａ−ＰｈｅＬ−Ｚ^ｂ−ＰｈｅＬ−などであってもよい。

このような反応性メソジェニック化合物は、下記化学式５ａ〜５ｇで表される群より選択される１種以上の化合物で代表されていてもよい：

前記化学式５ａ〜５ｇにおいて、
ｘおよびｙは、それぞれ独立に、１〜１２の整数であり、
Ａは、１，４−フェニレンまたは１，４−シクロへキシレン基であり、
Ｒ^１は、ハロゲン、シアノ、または炭素数１〜１２のアルキルまたはアルコキシ基であり、
Ｑ^１およびＱ^２は、それぞれ独立に、Ｈ、ハロゲン、ＣＮ、炭素数１〜７のアルキル、アルコキシまたはアルカノイル基である。

一方、発明の実施形態によれば、前記光学素子用組成物は、前記逆波長分散性化合物１００重量部に対して、前記反応性メソジェニック化合物１００〜３００重量部、または１００〜２５０重量部、または１２０〜２５０重量部を含んでいてもよい。つまり、本発明で要求される逆波長分散性が十分に誘導できるようにするために、前記反応性メソジェニック化合物は、逆波長分散性化合物１００重量部に対して、３００重量部以下で含まれることが有利である。ただし、前記反応性メソジェニック化合物の含有量が低すぎる場合、組成物の液晶特性が低下することがある。したがって、前記反応性メソジェニック化合物は、逆波長分散性化合物１００重量部に対して、１００重量部以上で含まれることが有利である。

そして、発明の実施形態によれば、前記光学素子用組成物には、前述した化学式１の逆波長分散性化合物および前記反応性メソジェニック化合物のほか、重合開始剤および溶媒がさらに含まれていてもよい。

ここで、前記重合開始剤および溶媒としては、本発明の属する技術分野における通常のものが特別な制限なく適用可能である。そして、前記重合開始剤の含有量は、重合反応を十分に誘導できながらも過剰添加による組成物の物性の低下を防止する通常の範囲内で決定可能であり、好ましくは、前記逆波長分散性化合物１００重量部に対して、０．０１〜５重量部であってもよい。また、前記溶媒の含有量は、組成物に適切な粘度を付与し、適切な重合反応が誘導できる通常の範囲内で決定できる。非制限的な例として、前記溶媒は、前記組成物に含まれる固形分（前記逆波長分散性化合物、反応性メソジェニック化合物、および重合開始剤など）の含有量が１５〜４０重量％、または１５〜３５重量％、または２０〜３０重量％となるように含まれていてもよい。あるいは、前記溶媒は、前記逆波長分散性化合物１００重量部に対して、１００〜１５００重量部、または５００〜１５００重量部含まれていてもよい。

そして、非制限的な例として、前記溶媒は、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン（ｍｅｓｉｔｙｌｅｎｅ）、ｎ−ブチルベンゼン、ジエチルベンゼン、テトラリン（ｔｅｔｒａｌｉｎ）、メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、ｔ−ブチルアルコール、ジアセトンアルコール、グリセリン、モノアセチン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、へキシレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、またはこれらの混合物であってもよい。これらの溶剤の中でも、沸点が６０〜２５０℃のものが、組成物の塗布時に均一な膜厚を形成するのに有利であり、溶媒の残留や配向性の低下を最小化するのに有利である。

そして、前記光学素子用組成物には、必要に応じて選択的に、少なくとも２つの重合可能な官能基を有する非メソジェニック化合物がさらに含まれていてもよい。前記非メソジェニック化合物は、重合体の架橋結合を増加させるための目的で含まれるものであって、好ましくは、炭素数１〜２０のアルキルアクリレート、および炭素数１〜２０のアルキルジメタクリレートからなる群より選択される１種以上の化合物であってもよく、より好ましくは、トリメチルプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートなどであってもよい。

また、前記光学素子用組成物は、必要に応じて選択的に、４級アンモニウム塩、アルキルアミンオキシド、ポリアミン誘導体、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン縮合物、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸アンモニウム、アルキル置換芳香族スルホン酸塩、アルキルリン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩などの界面活性剤；ヒドロキノン、ヒドロキノンモノアルキルエーテル類、ピロガロール類、チオフェノール類、２−ナフチルアミン類、２−ヒドロキシナフタレン類などの保存安定剤；２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、トリフェニルホスファイトなどの酸化防止剤；サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などの紫外線吸収剤がさらに含まれていてもよい。

そして、前記一実施形態の光学素子用組成物には、必要に応じて選択的に、光学異方性を調節したり、重合膜の強度を向上させるための微粒子化物がさらに含まれていてもよい。前記微粒子化物は、ヘクトライト、モンモリロナイト、カオリナイト、ＺｎＯ、ＴｉＯ_２、ＣｅＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｆｅ_２Ｏ_３、ＺｒＯ_２、ＭｇＦ_２、ＳｉＯ_２、ＳｒＣＯ_３、Ｂａ（ＯＨ）_２、Ｃａ（ＯＨ）_２、Ｇａ（ＯＨ）_３、Ａｌ（ＯＨ）_３、Ｍｇ（ＯＨ）_２、Ｚｒ（ＯＨ）_４などの無機微粒子化物；カーボンナノチューブ、フラーレン、デンドリマー、ポリビニルアルコール、ポリメタクリレート、ポリイミドなどの有機微粒子化物であってもよい。

ＩＩ．光学異方体
一方、発明の他の実施形態によれば、前記光学素子用組成物を用いて形成された光学異方体が提供される。

前記光学異方体は、前記化学式１の逆波長分散性化合物の末端重合性基と前記メソジェニック化合物の末端重合性基の少なくとも一部とが付加重合または架橋されている硬化物または重合体を含むものであってもよい。特に、前記光学異方体は、前記化学式１の逆波長分散性化合物を含む組成物から形成されることによって、下記式Ｉおよび式ＩＩを満足する逆波長分散性を示すことができる：
（式Ｉ）
△ｎ_{（４５０ｎｍ）}／△ｎ_{（５５０ｎｍ）}＜１．０
（式ＩＩ）
△ｎ_{（６５０ｎｍ）}／△ｎ_{（５５０ｎｍ）}＞１．０
上記式Ｉおよび式ＩＩにおいて、△ｎ（λ）は、液晶相内の波長λでの比複屈折率を意味する。

前記光学異方体は、前記光学素子用組成物を支持基板に塗布し、前記組成物中の液晶化合物を配向させた状態で脱溶媒し、次に、エネルギー線を照射して重合させることによって製造できる。

ここで、前記支持基板は特に限定されず、非制限的な例として、ガラス板、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリイミドフィルム、ポリアミドフィルム、ポリメタクリル酸メチルフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリテトラフルオロエチレンフィルム、セルロース系フィルム、シリコンフィルムなどが用いられる。そして、前記支持基板上にポリイミド配向膜またはポリビニルアルコール配向膜を施したものが好ましく用いられる。

前記支持基板に組成物を塗布する方法としては、公知の方法が使用可能であり、例えば、ロールコーティング法、スピンコーティング法、バーコーティング法、ディップコーティング法、スプレーコーティング法などが適用可能である。そして、前記組成物によって形成される膜の厚さは、用途に応じて異なっていてもよいが、好ましくは０．０１〜１００μｍの範囲で選択できる。

一方、前記液晶化合物を配向させる方法としては、非制限的な例として、支持基板上に事前配向処理を実施する方法が挙げられる。配向処理を実施する方法としては、各種ポリイミド系配向膜またはポリビニルアルコール系配向膜を含む液晶配向層を支持基板上に形成し、ラビングなどの処理を行う方法が挙げられる。また、支持基板上の組成物に磁場または電場などを印加する方法なども挙げられる。

そして、前記逆波長分散性組成物を重合させる方法は、光、熱または電磁波を利用する公知の方法であってもよい。

そして、前記光学異方体は、液晶ディスプレイまたはＯＬＥＤ方式のディスプレイの位相差フィルム、偏光素子、反射防止フィルム、選択反射膜、視野角補償膜などに使用できる。特に、前記組成物を用いて形成された光学異方体をＯＬＥＤ方式のディスプレイに適用する場合、外部光による干渉が最小化され、より完璧な黒色の実現が可能である。

本発明に係る光学素子用組成物は、より強くて安定した逆波長分散を示すことができる光学異方体の提供を可能にする。前記組成物を用いて形成された光学異方体は、液晶またはＯＬＥＤタイプの表示装置に薄層の広帯域波長板などに適用可能である。

本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキーム（Ｓｃｈｅｍｅ）を示す。 本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。 本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。 本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。 本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。 本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。 本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。 本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。 本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。 本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。 本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。 本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。 本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。 本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。 本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。 本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。 本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。 本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。 本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。 本発明の一実施形態に係る逆波長分散性化合物の合成に関するスキームを示す。

以下、具体的な実施例を用いて、発明の作用および効果をより詳細に述べる。ただし、これらの実施例は発明の例として提示されたものに過ぎず、これらによって発明の権利範囲が定められるものではない。

実施例１：化合物ＲＤ−０１の合成

図１Ａ〜図１Ｃに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−０１を合成した。

（化合物２の合成）
約１００ｇの化合物１（（１’ｓ，４’ｒ）−４’−ｐｅｎｔｙｌ−［１，１’−ｂｉ（ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎ）］−４−ｏｎｅ）と約６０ｇのテトラメチレンジアミン（ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉａｍｉｎｅ）を、テトラヒドロフラン（ｔｅｔｒａｈｙｄｒｏｆｕｒａｎ）に溶かした後、約−７８℃下、約３００ｍｌのｎ−ブチルリチウム（ｎ−ｂｕｔｙｌ ｌｉｔｈｉｕｍ）をゆっくり滴加した。これを約２時間撹拌した後、これにエチニルトリメチルシラン（ｅｔｈｙｎｙｌｔｒｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌａｎｅ）を入れて、約１時間追加的に撹拌した。そして、前記反応物をジクロロメタン（ｄｉｃｈｌｏｒｏｍｅｔｈａｎｅ）と水で抽出し、有機層を化学的に乾燥した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、約１２０ｇの化合物２を得た。

（化合物３の合成）
約１２０ｇの前記化合物２と約１００ｇのＫ_２ＣＯ_３（ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｃａｒｂｏｎａｔｅ）を、メタノールに溶かした後、常温で約２４時間撹拌した。これをフィルタリングして余分なＫ_２ＣＯ_３を除去した後、ジクロロメタンと水で抽出した。抽出された有機層を化学的に乾燥した後、溶媒を除去し、カラムクロマトグラフィーで精製して、約１１０ｇの化合物３を得た。

（化合物５の合成）
約１００ｇの化合物４（１，４−ｄｉｅｔｈｙｎｙｌｂｅｎｚｅｎｅ）をテトラヒドロフランに溶かした後、約−７８℃下、約２０分間撹拌した。これに約５００ｍｌのｎ−ｂｕｔｙｌ ｌｉｔｈｉｕｍ ｉｎ ２．５Ｍ ｈｅｘａｎｅを約２時間かけてゆっくり滴加した。これを約４時間撹拌した後、これに約１００ｍｌのクロロトリメチルシラン（ｃｈｌｏｒｏｔｒｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌａｎｅ）を入れて、約２４時間撹拌した。そして、前記反応物をエチルアセテートと水で抽出し、有機層を化学的に乾燥した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、約６０ｇの化合物５を得た。

（化合物６の合成）
約２００ｇの１，４−ｄｉｉｏｄｏｂｅｎｚｅｎｅ、約３ｇのＰｄ（ＰＰｈ_３）_２Ｃｌ_２（Ｂｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（ＩＩ） ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ）、約５ｇのＣｕＩ（ｃｏｐｐｅｒ ｉｏｄｉｄｅ）、および約２００ｍｌのＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（Ｎ，Ｎ−ｄｉｉｓｏｐｒｏｐｙｌｅｔｈｙｌａｍｉｎｅ）を、テトラヒドロフランに溶かした後、これに約５０ｇの前記化合物５を溶かしたテトラヒドロフランをゆっくり滴加した。これを約２４時間還流撹拌した後、生成された塩をフィルタリングして除去し、ジクロロメタンと水で抽出した。抽出された有機層を化学的に乾燥した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、約７０ｇの化合物６を得た。

（化合物８の合成）
約１００ｇの化合物７（４−ｈｙｄｒｏｘｙ−３−ｉｏｄｏｂｅｎｚｏｉｃ ａｃｉｄ）と約４００ｇのＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（Ｎ，Ｎ−ｄｉｉｓｏｐｒｏｐｙｌｅｔｈｙｌａｍｉｎｅ）を、ジクロロメタンに溶かした後、約０℃下、約２００ｇのメチルクロロメチルエーテル（ｍｅｔｈｙｌ ｃｈｌｏｒｏｍｅｔｈｙｌ ｅｔｈｅｒ）をゆっくり滴加した。これを約２４時間撹拌した後、約５００ｍｌのアンモニウムクロライド（ａｍｍｏｎｉｕｍ ｃｈｌｏｒｉｄｅ）で洗浄し、ジクロロメタンと水で抽出した。そして、抽出された有機層を化学的に乾燥した後、溶媒を除去した。これによって得られた物質と水酸化カリウム（ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｈｙｄｒｏｘｉｄｅ）水溶液をメタノールに入れて、約３時間還流撹拌した。これに６Ｎの塩酸（ｈｙｄｒｏｃｈｌｏｒｉｃ ａｃｉｄ）を入れて析出させた後、フィルタリングして溶媒を除去した。そして、ヘキサンを用いて余分な異物を除去した後、約４８時間乾燥して、約１１０ｇの化合物８を得た。

（化合物９の合成）
約１００ｇの前記化合物８、約１００ｇの前記化合物３、そして約７０ｇの４−（ジメチルアミノ）ピリジン（４−（ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏ）ｐｙｒｉｄｉｎｅ））を、ジクロロメタンに溶かした後、約３０分間撹拌した。これに約８０ｇの１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド（１−ｅｔｈｙｌ−３−（３−ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌ）ｃａｒｂｏｄｉｉｍｉｄｅ）を添加して、約２４時間撹拌した後、ジクロロメタンと水で抽出した。抽出された有機層を化学的に乾燥した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、約１５０ｇの化合物９を得た。

（化合物１０の合成）
約１００ｇの前記化合物９と約３００ｍｌの６Ｎ塩酸を、テトラヒドロフランに溶かした後、約４０℃下、約２４時間撹拌した。そして、ジクロロメタンと水で抽出した後、抽出された有機層を化学的に乾燥し、カラムクロマトグラフィーで精製して、約８０ｇの化合物１０を得た。

（化合物１２−１の合成）
約８０ｇの前記化合物１０、約５０ｇの化合物１１−１（（１ｒ，４ｒ）−４−（（４−（ａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙ）ｂｕｔｏｘｙ）ｃａｒｂｏｎｙｌ）ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ ａｃｉｄ）、約５ｇの４−（ジメチルアミノ）ピリジン（４−（ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏ）ｐｙｒｉｄｉｎｅ））、および約５０ｇのＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（Ｎ，Ｎ−ｄｉｉｓｏｐｒｏｐｙｌｅｔｈｙｌａｍｉｎｅ）を、ジクロロメタンに溶かした後、約３０分間撹拌した。これに、約８０ｇの１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド（１−ｅｔｈｙｌ−３−（３−ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌ）ｃａｒｂｏｄｉｉｍｉｄｅ）、および約５０ｇのエチニルトリメチルシラン（ｅｔｈｙｎｙｌｔｒｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌａｎｅ）を添加して、約２４時間撹拌した後、ジクロロメタンと水で抽出した。抽出された有機層を化学的に乾燥した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、約１００ｇの化合物１２−１を得た。

（化合物１３−１の合成）
約８０ｇの前記化合物１２−１、約２０ｇのエチニルトリメチルシラン（ｅｔｈｙｎｙｌｔｒｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌａｎｅ）、約３ｇのＰｄ（ＰＰｈ_３）_２Ｃｌ_２（Ｂｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（ＩＩ） ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ）、および約５ｇのＣｕＩ（ｃｏｐｐｅｒ ｉｏｄｉｄｅ）を、テトラヒドロフランに溶かした後、約２４時間還流撹拌した。生成された塩をフィルタリングして除去し、ジクロロメタンと水で抽出した。抽出された有機層を化学的に乾燥した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、約７０ｇの化合物１３−１を得た。

（化合物１４−１の合成）
約７０ｇの前記化合物１３−１と約６ｇのＡｇＮＯ_３（ｓｉｌｖｅｒ ｎｉｔｒａｔｅ）を、混合溶媒（水：ジクロロメタン：エタノール＝１：６：３）に溶かして、約２４時間撹拌した後、ジクロロメタンと水で抽出した。抽出された有機層を化学的に乾燥した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、約５０ｇの化合物１４−１を得た。

（化合物１５−１の合成）
約５０ｇの前記化合物１４−１、約２０ｇの前記化合物６、約３ｇのＰｄ（ＰＰｈ_３）_２Ｃｌ_２（Ｂｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（ＩＩ） ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ）、および約５ｇのＣｕＩ（ｃｏｐｐｅｒ ｉｏｄｉｄｅ）を、テトラヒドロフランに溶かした後、約２４時間還流撹拌した。生成された塩をフィルタリングして除去し、ジクロロメタンと水で抽出した。抽出された有機層を化学的に乾燥した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、約３０ｇの化合物１５−１を得た。

（化合物ＲＤ−０１の合成）
約３０ｇの前記化合物１５−１と約６ｇのＡｇＮＯ_３（ｓｉｌｖｅｒ ｎｉｔｒａｔｅ）を、混合溶媒（水：ジクロロメタン：エタノール＝１：６：３）に溶かして、約２４時間撹拌した後、ジクロロメタンと水で抽出した。抽出された有機層を化学的に乾燥した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、約２０ｇの化合物ＲＤ−０１を得た。

得られた化合物ＲＤ−０１に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｄ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），６．２７（１Ｈ，ｄ），６．０５（１Ｈ，ｄｄ），５．５９（１Ｈ，ｄ），４．１３（２Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｔ），３．５２（１Ｈ，ｓ），１．６０−１．１２（４８Ｈ，ｍ）

実施例２：化合物ＲＤ−０２の合成

図１Ａ〜図１Ｃに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−０２を合成した。

（化合物１２−２の合成）
前記化合物１１−１の代わりに約５５ｇの化合物１１−２（（１ｒ，４ｒ）−４−（（（６−（ａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙ）ｈｅｘｙｌ）ｏｘｙ）ｃａｒｂｏｎｙｌ）ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ ａｃｉｄ）を用いたことを除き、実施例１の化合物１２−１の合成と同様の方法で、約１００ｇの化合物１２−２を得た。

（化合物１３−２の合成）
前記化合物１２−１の代わりに前記化合物１２−２を用いたことを除き、実施例１の化合物１３−１の合成と同様の方法で、約７０ｇの化合物１３−２を得た。

（化合物１４−２の合成）
前記化合物１３−１の代わりに前記化合物１３−２を用いたことを除き、実施例１の化合物１４−１の合成と同様の方法で、約７０ｇの化合物１４−２を得た。

（化合物１５−２の合成）
前記化合物１４−１の代わりに前記化合物１４−２を用いたことを除き、実施例１の化合物１５−１の合成と同様の方法で、約７０ｇの化合物１５−２を得た。

（化合物ＲＤ−０２の合成）
前記化合物１５−１の代わりに前記化合物１５−２を用いたことを除き、実施例１の化合物ＲＤ−１の合成と同様の方法で、約５０ｇの化合物ＲＤ−０２を得た。

得られた化合物ＲＤ−２に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｄ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），６．２７（１Ｈ，ｄ），６．０５（１Ｈ，ｄｄ），５．５９（１Ｈ，ｄ），４．１３（２Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｔ），３．５２（１Ｈ，ｓ），１．６０−１．１２（５２Ｈ，ｍ）

実施例３：化合物ＲＤ−０３の合成

図１Ａ〜図１Ｃに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−０３を合成した。

（化合物１２−３の合成）
前記化合物１１−１の代わりに約６０ｇの化合物１１−３（（１ｒ，４ｒ）−４−（（（８−（ａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙ）ｏｃｔｙｌ）ｏｘｙ）ｃａｒｂｏｎｙｌ）ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ ａｃｉｄ）を用いたことを除き、実施例１の化合物１２−１の合成と同様の方法で、約１００ｇの化合物１２−３を得た。

（化合物１３−３の合成）
前記化合物１２−１の代わりに前記化合物１２−３を用いたことを除き、実施例１の化合物１３−１の合成と同様の方法で、約７０ｇの化合物１３−３を得た。

（化合物１４−３の合成）
前記化合物１３−１の代わりに前記化合物１３−３を用いたことを除き、実施例１の化合物１４−１の合成と同様の方法で、約７０ｇの化合物１４−３を得た。

（化合物１５−３の合成）
前記化合物１４−１の代わりに前記化合物１４−３を用いたことを除き、実施例１の化合物１５−１の合成と同様の方法で、約７０ｇの化合物１５−３を得た。

（化合物ＲＤ−０３の合成）
前記化合物１５−１の代わりに前記化合物１５−３を用いたことを除き、実施例１の化合物ＲＤ−１の合成と同様の方法で、約５０ｇの化合物ＲＤ−０３を得た。

得られた化合物ＲＤ−３に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｄ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），６．２７（１Ｈ，ｄ），６．０５（１Ｈ，ｄｄ），５．５９（１Ｈ，ｄ），４．１３（２Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｔ），３．５２（１Ｈ，ｓ），１．６０−１．１２（５６Ｈ，ｍ）

実施例４：化合物ＲＤ−０４の合成

図２Ａおよび図２Ｂに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−０４を合成した。

（化合物１７の合成）
約１００ｇの化合物１６（４−（４−ｈｙｄｒｏｘｙｐｈｅｎｙｌ）ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｏｎｅ）と約１２０ｇのＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（Ｎ，Ｎ−ｄｉｉｓｏｐｒｏｐｙｌｅｔｈｙｌａｍｉｎｅ）を、ジクロロメタンに溶かした後、常温下、約５０ｇのメチルクロロメチルエーテル（ｍｅｔｈｙｌ ｃｈｌｏｒｏｍｅｔｈｙｌ ｅｔｈｅｒ）をゆっくり滴加した。これを約２時間撹拌した後、ジクロロメタンと水で抽出した。そして、抽出された有機層を化学的に乾燥した後、溶媒を除去し、カラムクロマトグラフィーで精製して、約１２０ｇの化合物１７を得た。

（化合物１８の合成）
約１２０ｇの化合物１７と約１００ｇのＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン（Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉａｍｉｎｅ）を、テトラヒドロフラン（ｔｅｔｒａｈｙｄｒｏｆｕｒａｎ）に溶かした後、約−７８℃下、２０分間撹拌した。これに約５００ｍｌのｎ−ｂｕｔｙｌ ｌｉｔｈｉｕｍ ｉｎ ２．５Ｍ ｈｅｘａｎｅを２時間かけてゆっくり滴加した。これを約４時間撹拌した後、これにエチニルトリメチルシラン（ｅｔｈｙｎｙｌｔｒｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌａｎｅ）を入れて、約２４時間追加的に撹拌した。そして、前記反応物をエチルアセテートと水で抽出した後、有機層を化学的に乾燥し、カラムクロマトグラフィーで精製して、約１００ｇの化合物１８を得た。

（化合物１９の合成）
約１００ｇの化合物１８と約１０ｇのテトラブチルアンモニウムフルオライドハイドレート（ｔｅｔｒａｂｕｔｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ ｆｌｕｏｒｉｄｅ ｈｙｄｒａｔｅ）を、テトラヒドロフランに溶かした後、約２時間撹拌した。そして、前記反応物をエチルアセテートと水で抽出した後、有機層を化学的に乾燥し、カラムクロマトグラフィーで精製して、約８０ｇの化合物１９を得た。

（化合物２１の合成）
約７０ｇの化合物１９、約７０ｇの化合物２０［４−（ｍｅｔｈｏｘｙｍｅｔｈｏｘｙ）ｂｅｎｚｏｉｃ ａｃｉｄ］、そして約５０ｇの４−（ジメチルアミノ）ピリジン［４−（ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏ）ｐｙｒｉｄｉｎｅ）］を、ジクロロメタンに溶かした後、約３０分間撹拌した。これに約８０ｇの１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド（１−ｅｔｈｙｌ−３−（３−ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌ）ｃａｒｂｏｄｉｉｍｉｄｅ）を添加して、約２４時間撹拌した後、ジクロロメタンと水で抽出した。抽出された有機層を化学的に乾燥した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、約８０ｇの化合物２１を得た。

（化合物２２の合成）
約８０ｇの化合物２１と約３００ｍｌの６Ｎ塩酸を、テトラヒドロフランに溶かした後、約４０℃下、約２４時間撹拌した。そして、ジクロロメタンと水で抽出した後、抽出された有機層を化学的に乾燥し、カラムクロマトグラフィーで精製して、約６０ｇの化合物２２を得た。

（化合物２３−１の合成）
約６０ｇの化合物２２、約５０ｇの化合物１１−１（（１ｒ，４ｒ）−４−（（４−（ａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙ）ｂｕｔｏｘｙ）ｃａｒｂｏｎｙｌ）ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ ａｃｉｄ）、約５ｇの４−（ジメチルアミノ）ピリジン（４−（ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏ）ｐｙｒｉｄｉｎｅ））、および約５０ｇのＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（Ｎ，Ｎ−ｄｉｉｓｏｐｒｏｐｙｌｅｔｈｙｌａｍｉｎｅ）を、ジクロロメタンに溶かした後、約３０分間撹拌した。これに、約８０ｇの１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド（１−ｅｔｈｙｌ−３−（３−ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌ）ｃａｒｂｏｄｉｉｍｉｄｅ）、および約５０ｇのエチニルトリメチルシラン（ｅｔｈｙｎｙｌｔｒｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌａｎｅ）を添加して、約２４時間撹拌した後、ジクロロメタンと水で抽出した。抽出された有機層を化学的に乾燥した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、約８０ｇの化合物２３−１を得た。

（化合物２４−１の合成）
約８０ｇの前記化合物２３−１、実施例１による約３０ｇの前記化合物６、約３ｇのＰｄ（ＰＰｈ_３）_２Ｃｌ_２（Ｂｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（ＩＩ） ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ）、および約５ｇのＣｕＩ（ｃｏｐｐｅｒ ｉｏｄｉｄｅ）を、テトラヒドロフランに溶かした後、約２４時間還流撹拌した。生成された塩をフィルタリングして除去し、ジクロロメタンと水で抽出した。抽出された有機層を化学的に乾燥した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、約７０ｇの化合物２４−１を得た。

（化合物ＲＤ−０４の合成）
約５０ｇの化合物２４−１と約１０ｇのＡｇＮＯ_３（ｓｉｌｖｅｒ ｎｉｔｒａｔｅ）を、混合溶媒（水：ジクロロメタン：エタノール＝１：６：３）に溶かして、約２４時間撹拌した後、ジクロロメタンと水で抽出した。抽出された有機層を化学的に乾燥した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、約３０ｇの化合物ＲＤ−０４を得た。

得られた化合物ＲＤ−０４に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｄ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４７（２Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），７．２１（２Ｈ，ｄ），６．２７（２Ｈ，ｄｄ），６．０５（２Ｈ，ｄｄ），５．５９（２Ｈ，ｄｄ），４．１３（４Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（４Ｈ，ｔ），２．５０（１Ｈ，ｓ），１．６０−１．１２（２３Ｈ，ｍ）

実施例５：化合物ＲＤ−０５の合成

図２Ａおよび図２Ｂに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−０５を合成した。

（化合物２３−２の合成）
化合物１１−１の代わりに化合物１１−２（（１ｒ，４ｒ）−４−（（（６−（ａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙ）ｈｅｘｙｌ）ｏｘｙ）ｃａｒｂｏｎｙｌ）ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ ａｃｉｄ）を用いたことを除き、実施例４の化合物２３−１の合成と同様の方法で、約１００ｇの化合物２３−２を得た。

（化合物２４−２の合成）
化合物２３−１の代わりに前記化合物２３−２を用いたことを除き、実施例４の化合物２４−１の合成と同様の方法で、約７０ｇの化合物２４−２を得た。

（化合物ＲＤ−０５の合成）
化合物２４−１の代わりに前記化合物２４−２を用いたことを除き、実施例４の化合物ＲＤ−０４の合成と同様の方法で、約５０ｇの化合物ＲＤ−０５を得た。

得られた化合物ＲＤ−０５に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｄ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４７（２Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），７．２１（２Ｈ，ｄ），６．２７（２Ｈ，ｄｄ），６．０５（２Ｈ，ｄｄ），５．５９（２Ｈ，ｄｄ），４．１３（４Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（４Ｈ，ｔ），２．５０（１Ｈ，ｓ），１．６０−１．１２（３１Ｈ，ｍ）

実施例６：化合物ＲＤ−０６の合成

図２Ａおよび図２Ｂに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−０６を合成した。

（化合物２３−３の合成）
化合物１１−１の代わりに化合物１１−３（（１ｒ，４ｒ）−４−（（（８−（ａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙ）ｏｃｔｙｌ）ｏｘｙ）ｃａｒｂｏｎｙｌ）ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ ａｃｉｄ）を用いたことを除き、実施例４の化合物２３−１の合成と同様の方法で、約１００ｇの化合物２３−３を得た。

（化合物２４−３の合成）
化合物２３−１の代わりに前記化合物２３−３を用いたことを除き、実施例４の化合物２４−１の合成と同様の方法で、約７０ｇの化合物２４−３を得た。

（化合物ＲＤ−０６の合成）
化合物２４−１の代わりに前記化合物２４−３を用いたことを除き、実施例４の化合物ＲＤ−０４の合成と同様の方法で、約５０ｇの化合物ＲＤ−０６を得た。

得られた化合物ＲＤ−０６に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｄ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４７（２Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），７．２１（２Ｈ，ｄ），６．２７（２Ｈ，ｄｄ），６．０５（２Ｈ，ｄｄ），５．５９（２Ｈ，ｄｄ），４．１３（４Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（４Ｈ，ｔ），２．５０（１Ｈ，ｓ），１．６０−１．１２（３９Ｈ，ｍ）

実施例７：化合物ＲＤ−０７の合成

図３Ａおよび図３Ｂに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−０７を合成した。

（化合物２６の合成）
約１００ｇの化合物２５（４−ｈｙｄｒｏｘｙｂｅｎｚｏｉｃ ａｃｉｄ）、約１００ｇのＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（Ｎ，Ｎ’−ｄｉｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌｃａｒｂｏｄｉｉｍｉｄｅ）、約１０ｇの４−（ジメチルアミノ）ピリジン（４−（ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏ）ｐｙｒｉｄｉｎｅ））、および約２０ｇのｔｅｒｔ−ブタノール（ｔｅｒｔ−ｂｕｔａｎｏｌ）を、テトラヒドロフランに溶かした後、約２４時間撹拌した。そして、ジクロロメタンと水で抽出した後、抽出された有機層を化学的に乾燥し、カラムクロマトグラフィーで精製して、約８０ｇの化合物２６を得た。

（化合物２８−１の合成）
約６０ｇの化合物２６、約５０ｇの化合物２７−１［（１ｒ，４ｒ）−４−（ｂｕｔｏｘｙｃａｒｂｏｎｙｌ）ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ ａｃｉｄ］、約５ｇの４−（ジメチルアミノ）ピリジン（４−（ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏ）ｐｙｒｉｄｉｎｅ））、および約５０ｇのＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（Ｎ，Ｎ−ｄｉｉｓｏｐｒｏｐｙｌｅｔｈｙｌａｍｉｎｅ）を、ジクロロメタンに溶かした後、約３０分間撹拌した。これに、約８０ｇの１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド（１−ｅｔｈｙｌ−３−（３−ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌ）ｃａｒｂｏｄｉｉｍｉｄｅ）、および約５０ｇのエチニルトリメチルシラン（ｅｔｈｙｎｙｌｔｒｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌａｎｅ）を添加して、約２４時間撹拌した後、ジクロロメタンと水で抽出した。抽出された有機層を化学的に乾燥した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、約８０ｇの化合物２８−１を得た。

（化合物２９−１の合成）
約８０ｇの化合物２８−１と約５０ｇのテトラフルオロ酢酸（ｔｅｔｒａｆｌｕｏｒｏａｃｅｔｉｃ ａｃｉｄ）を、ジクロロメタンに溶かした後、約２４時間撹拌した。そして、ジクロロメタンと水で抽出した後、抽出された有機層を化学的に乾燥し、カラムクロマトグラフィーで精製して、約６０ｇの化合物２９−１を得た。

（化合物３０−１の合成）
約６０ｇの化合物２９−１、実施例４による約５０ｇの化合物１９、そして約５０ｇの４−（ジメチルアミノ）ピリジン（４−（ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏ）ｐｙｒｉｄｉｎｅ））を、ジクロロメタンに溶かした後、約３０分間撹拌した。これに約８０ｇの１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド（１−ｅｔｈｙｌ−３−（３−ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌ）ｃａｒｂｏｄｉｉｍｉｄｅ）を添加して、約２４時間撹拌した後、ジクロロメタンと水で抽出した。抽出された有機層を化学的に乾燥した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、約８０ｇの化合物３０−１を得た。

（化合物３１−１の合成）
約８０ｇの化合物３０−１と約３００ｍｌの６Ｎ塩酸を、テトラヒドロフランに溶かした後、約４０℃下、約２４時間撹拌した。そして、ジクロロメタンと水で抽出した後、抽出された有機層を化学的に乾燥し、カラムクロマトグラフィーで精製して、約６０ｇの化合物３１−１（ｍ＝３）を得た。

（化合物３２−１の合成）
化合物１０の代わりに前記化合物３１−１（ｍ＝３）を用いたことを除き、実施例１の化合物１２−１の合成と同様の方法で、約８０ｇの化合物３２−１を得た。

（化合物３３−１の合成）
化合物１４−１の代わりに前記化合物３２−１を用いたことを除き、実施例１の化合物１５−１の合成と同様の方法で、約７０ｇの化合物３３−１を得た。

（化合物ＲＤ−０７の合成）
化合物１５−１の代わりに前記化合物３３−１を用いたことを除き、実施例１の化合物ＲＤ−０１の合成と同様の方法で、約３０ｇの化合物ＲＤ−０７を得た。

得られた化合物ＲＤ−０７に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｓ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４７（２Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），７．２１（２Ｈ，ｄ），６．２７（１Ｈ，ｄｄ），６．０５（１Ｈ，ｄｄ），５．５９（１Ｈ，ｄｄ），４．１３（４Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｔ），２．５０（１Ｈ，ｔ），１．６０−０．９０（２５Ｈ，ｍ）

実施例８：化合物ＲＤ−０８の合成

図３Ａおよび図３Ｂに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−０８を合成した。

（化合物２８−２の合成）
化合物２７−１の代わりに化合物２７−２［（１ｒ，４ｒ）−４−（（ｈｅｘｙｌｏｘｙ）ｃａｒｂｏｎｙｌ）ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ ａｃｉｄ］を用いたことを除き、実施例７の化合物２８−１の合成と同様の方法で、約１００ｇの化合物２８−２を得た。

（化合物２９−２の合成）
化合物２８−１の代わりに前記化合物２８−２を用いたことを除き、実施例７の化合物２９−１の合成と同様の方法で、約７０ｇの化合物２９−２を得た。

（化合物３０−２の合成）
化合物２９−１の代わりに前記化合物２９−２を用いたことを除き、実施例７の化合物３０−１の合成と同様の方法で、約９０ｇの化合物３０−２を得た。

（化合物３１−２の合成）
化合物３０−１の代わりに前記化合物３０−２を用いたことを除き、実施例７の化合物３１−１の合成と同様の方法で、約７０ｇの化合物３１−２（ｍ＝５）を得た。

（化合物３２−２の合成）
化合物１０の代わりに前記化合物３１−２（ｍ＝５）を用いたことを除き、実施例１の化合物１２−１の合成と同様の方法で、約８０ｇの化合物３２−２を得た。

（化合物３３−２の合成）
化合物１４−１の代わりに前記化合物３２−２を用いたことを除き、実施例１の化合物１５−１の合成と同様の方法で、約７０ｇの化合物３３−２を得た。

（化合物ＲＤ−０８の合成）
化合物１５−１の代わりに前記化合物３３−２を用いたことを除き、実施例１の化合物ＲＤ−０１の合成と同様の方法で、約３０ｇの化合物ＲＤ−０８を得た。

得られた化合物ＲＤ−０８に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｓ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４７（２Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），７．２１（２Ｈ，ｄ），６．２７（１Ｈ，ｄｄ），６．０５（１Ｈ，ｄｄ），５．５９（１Ｈ，ｄｄ），４．１３（４Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｔ），２．５０（１Ｈ，ｔ），１．６０−０．９０（２９Ｈ，ｍ）

実施例９：化合物ＲＤ−０９の合成

図３Ａおよび図３Ｂに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−０９を合成した。

（化合物２８−３の合成）
化合物２７−１の代わりに化合物２７−３［（１ｒ，４ｒ）−４−（（ｏｃｔｙｌｏｘｙ）ｃａｒｂｏｎｙｌ）ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ ａｃｉｄ］を用いたことを除き、実施例７の化合物２８−１の合成と同様の方法で、約１００ｇの化合物２８−３を得た。

（化合物２９−３の合成）
化合物２８−１の代わりに前記化合物２８−３を用いたことを除き、実施例７の化合物２９−１の合成と同様の方法で、約７０ｇの化合物２９−３を得た。

（化合物３０−３の合成）
化合物２９−１の代わりに前記化合物２９−３を用いたことを除き、実施例７の化合物３０−１の合成と同様の方法で、約９０ｇの化合物３０−３を得た。

（化合物３１−３の合成）
化合物３０−１の代わりに前記化合物３０−３を用いたことを除き、実施例７の化合物３１−１の合成と同様の方法で、約７０ｇの化合物３１−３（ｍ＝７）を得た。

（化合物３２−３の合成）
化合物１０の代わりに前記化合物３１−３（ｍ＝７）を用いたことを除き、実施例１の化合物１２−１の合成と同様の方法で、約８０ｇの化合物３２−３を得た。

（化合物３３−３の合成）
化合物１４−１の代わりに前記化合物３２−３を用いたことを除き、実施例１の化合物１５−１の合成と同様の方法で、約７０ｇの化合物３３−３を得た。

（化合物ＲＤ−０９の合成）
化合物１５−１の代わりに前記化合物３３−３を用いたことを除き、実施例１の化合物ＲＤ−０１の合成と同様の方法で、約３０ｇの化合物ＲＤ−０９を得た。

得られた化合物ＲＤ−０９に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｓ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４７（２Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），７．２１（２Ｈ，ｄ），６．２７（１Ｈ，ｄｄ），６．０５（１Ｈ，ｄｄ），５．５９（１Ｈ，ｄｄ），４．１３（４Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｔ），２．５０（１Ｈ，ｔ），１．６０−０．９０（３３Ｈ，ｍ）

実施例１０：化合物ＲＤ−１０の合成

図３Ａおよび図３Ｂに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−１０を合成した。

（化合物３２−４の合成）
化合物１０の代わりに前記化合物３１−１（ｍ＝３）を用い、化合物１１−１の代わりに化合物１１−２（ｎ＝６）［（１ｒ，４ｒ）−４−（（（６−（ａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙ）ｈｅｘｙｌ）ｏｘｙ）ｃａｒｂｏｎｙｌ）ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ ａｃｉｄ］を用いたことを除き、実施例１の化合物１２−１の合成と同様の方法で、約８０ｇの化合物３２−４を得た。

（化合物３３−４の合成）
化合物１４−１の代わりに前記化合物３２−４を用いたことを除き、実施例１の化合物１５−１の合成と同様の方法で、約６０ｇの化合物３３−４を得た。

（化合物ＲＤ−１０の合成）
化合物１５−１の代わりに前記化合物３３−４を用いたことを除き、実施例１の化合物ＲＤ−０１の合成と同様の方法で、約５０ｇの化合物ＲＤ−１０を得た。

得られた化合物ＲＤ−１０に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｓ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４７（２Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），７．２１（２Ｈ，ｄ），６．２７（１Ｈ，ｄｄ），６．０５（１Ｈ，ｄｄ），５．５９（１Ｈ，ｄｄ），４．１３（４Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｔ），２．５０（１Ｈ，ｔ），１．６０−０．９０（２９Ｈ，ｍ）

実施例１１：化合物ＲＤ−１１の合成

図３Ａおよび図３Ｂに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−１１を合成した。

（化合物３２−５の合成）
化合物１０の代わりに前記化合物３１−２（ｍ＝５）を用い、化合物１１−１の代わりに化合物１１−２（ｎ＝６）［（１ｒ，４ｒ）−４−（（（６−（ａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙ）ｈｅｘｙｌ）ｏｘｙ）ｃａｒｂｏｎｙｌ）ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ ａｃｉｄ］を用いたことを除き、実施例１の化合物１２−１の合成と同様の方法で、約８０ｇの化合物３２−５を得た。

（化合物３３−５の合成）
化合物１４−１の代わりに前記化合物３２−５を用いたことを除き、実施例１の化合物１５−１の合成と同様の方法で、約６０ｇの化合物３３−５を得た。

（化合物ＲＤ−１１の合成）
化合物１５−１の代わりに前記化合物３３−５を用いたことを除き、実施例１の化合物ＲＤ−０１の合成と同様の方法で、約５０ｇの化合物ＲＤ−１１を得た。

得られた化合物ＲＤ−１１に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｓ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４７（２Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），７．２１（２Ｈ，ｄ），６．２７（１Ｈ，ｄｄ），６．０５（１Ｈ，ｄｄ），５．５９（１Ｈ，ｄｄ），４．１３（４Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｔ），２．５０（１Ｈ，ｔ），１．６０−０．９０（３３Ｈ，ｍ）

実施例１２：化合物ＲＤ−１２の合成

図３Ａおよび図３Ｂに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−１２を合成した。

（化合物３２−６の合成）
化合物１０の代わりに前記化合物３１−３（ｍ＝７）を用い、化合物１１−１の代わりに化合物１１−２（ｎ＝６）［（１ｒ，４ｒ）−４−（（（６−（ａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙ）ｈｅｘｙｌ）ｏｘｙ）ｃａｒｂｏｎｙｌ）ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ ａｃｉｄ］を用いたことを除き、実施例１の化合物１２−１の合成と同様の方法で、約８０ｇの化合物３２−６を得た。

（化合物３３−６の合成）
化合物１４−１の代わりに前記化合物３２−６を用いたことを除き、実施例１の化合物１５−１の合成と同様の方法で、約６０ｇの化合物３３−６を得た。

（化合物ＲＤ−１２の合成）
化合物１５−１の代わりに前記化合物３３−６を用いたことを除き、実施例１の化合物ＲＤ−０１の合成と同様の方法で、約５０ｇの化合物ＲＤ−１２を得た。

得られた化合物ＲＤ−１２に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｓ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４７（２Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），７．２１（２Ｈ，ｄ），６．２７（１Ｈ，ｄｄ），６．０５（１Ｈ，ｄｄ），５．５９（１Ｈ，ｄｄ），４．１３（４Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｔ），２．５０（１Ｈ，ｔ），１．６０−０．９０（３７Ｈ，ｍ）

実施例１３：化合物ＲＤ−１３の合成

図３Ａおよび図３Ｂに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−１３を合成した。

（化合物３２−７の合成）
化合物１０の代わりに前記化合物３１−１（ｍ＝３）を用い、化合物１１−１の代わりに化合物１１−３（ｎ＝８）［（１ｒ，４ｒ）−４−（（（８−（ａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙ）ｏｃｔｙｌ）ｏｘｙ）ｃａｒｂｏｎｙｌ）ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ ａｃｉｄ］を用いたことを除き、実施例１の化合物１２−１の合成と同様の方法で、約８０ｇの化合物３２−７を得た。

（化合物３３−７の合成）
化合物１４−１の代わりに前記化合物３２−７を用いたことを除き、実施例１の化合物１５−１の合成と同様の方法で、約６０ｇの化合物３３−７を得た。

（化合物ＲＤ−１３の合成）
化合物１５−１の代わりに前記化合物３３−７を用いたことを除き、実施例１の化合物ＲＤ−０１の合成と同様の方法で、約５０ｇの化合物ＲＤ−１３を得た。

得られた化合物ＲＤ−１３に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｓ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４７（２Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），７．２１（２Ｈ，ｄ），６．２７（１Ｈ，ｄｄ），６．０５（１Ｈ，ｄｄ），５．５９（１Ｈ，ｄｄ），４．１３（４Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｔ），２．５０（１Ｈ，ｔ），１．６０−０．９０（３３Ｈ，ｍ）

実施例１４：化合物ＲＤ−１４の合成

図３Ａおよび図３Ｂに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−１４を合成した。

（化合物３２−８の合成）
化合物１０の代わりに前記化合物３１−２（ｍ＝５）を用い、化合物１１−１の代わりに化合物１１−３（ｎ＝８）［（１ｒ，４ｒ）−４−（（（８−（ａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙ）ｏｃｔｙｌ）ｏｘｙ）ｃａｒｂｏｎｙｌ）ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ ａｃｉｄ］を用いたことを除き、実施例１の化合物１２−１の合成と同様の方法で、約８０ｇの化合物３２−８を得た。

（化合物３３−８の合成）
化合物１４−１の代わりに前記化合物３２−８を用いたことを除き、実施例１の化合物１５−１の合成と同様の方法で、約６０ｇの化合物３３−８を得た。

（化合物ＲＤ−１４の合成）
化合物１５−１の代わりに前記化合物３３−８を用いたことを除き、実施例１の化合物ＲＤ−０１の合成と同様の方法で、約５０ｇの化合物ＲＤ−１４を得た。

得られた化合物ＲＤ−１４に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｓ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４７（２Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），７．２１（２Ｈ，ｄ），６．２７（１Ｈ，ｄｄ），６．０５（１Ｈ，ｄｄ），５．５９（１Ｈ，ｄｄ），４．１３（４Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｔ），２．５０（１Ｈ，ｔ），１．６０−０．９０（３７Ｈ，ｍ）

実施例１５：化合物ＲＤ−１５の合成

図３Ａおよび図３Ｂに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−１５を合成した。

（化合物３２−９の合成）
化合物１０の代わりに前記化合物３１−３（ｍ＝７）を用い、化合物１１−１の代わりに化合物１１−３（ｎ＝８）［（１ｒ，４ｒ）−４−（（（８−（ａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙ）ｏｃｔｙｌ）ｏｘｙ）ｃａｒｂｏｎｙｌ）ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ ａｃｉｄ］を用いたことを除き、実施例１の化合物１２−１の合成と同様の方法で、約８０ｇの化合物３２−９を得た。

（化合物３３−９の合成）
化合物１４−１の代わりに前記化合物３２−９を用いたことを除き、実施例１の化合物１５−１の合成と同様の方法で、約６０ｇの化合物３３−９を得た。

（化合物ＲＤ−１５の合成）
化合物１５−１の代わりに前記化合物３３−９を用いたことを除き、実施例１の化合物ＲＤ−０１の合成と同様の方法で、約５０ｇの化合物ＲＤ−１５を得た。

得られた化合物ＲＤ−１５に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｓ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４７（２Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），７．２１（２Ｈ，ｄ），６．２７（１Ｈ，ｄｄ），６．０５（１Ｈ，ｄｄ），５．５９（１Ｈ，ｄｄ），４．１３（４Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｔ），２．５０（１Ｈ，ｔ），１．６０−０．９０（４１Ｈ，ｍ）

実施例１６：化合物ＲＤ−１６の合成

図４Ａおよび図４Ｂに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−１６を合成した。

（化合物３４の合成）
約２００ｇの１，４−ｄｉｉｏｄｏｂｅｎｚｅｎｅ、約３ｇのＰｄ（ＰＰｈ_３）_２Ｃｌ_２（Ｂｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｐａｌｌａｄｉｕｍ（ＩＩ） ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ）、約５ｇのＣｕＩ（ｃｏｐｐｅｒ ｉｏｄｉｄｅ）、および約２００ｍｌのＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（Ｎ，Ｎ−ｄｉｉｓｏｐｒｏｐｙｌｅｔｈｙｌａｍｉｎｅ）を、テトラヒドロフランに溶かした後、これに約５０ｇの化合物４（１，４−ｄｉｅｔｈｙｎｙｌｂｅｎｚｅｎｅ）を溶かしたテトラヒドロフランをゆっくり滴加した。これを約２４時間還流撹拌した後、生成された塩をフィルタリングして除去し、ジクロロメタンと水で抽出した。抽出された有機層を化学的に乾燥した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、約１００ｇの化合物３４を得た。

（化合物３５の合成）
約１００ｇの化合物３４をテトラヒドロフランに溶かした後、約−７８℃下、約２０分間撹拌した。これに約５００ｍｌのｎ−ｂｕｔｙｌ ｌｉｔｈｉｕｍ ｉｎ ２．５Ｍ ｈｅｘａｎｅを約２時間かけてゆっくり滴加した。これを約４時間撹拌した後、これに約１００ｍｌのクロロトリメチルシラン（ｃｈｌｏｒｏｔｒｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌａｎｅ）を入れて、約２４時間撹拌した。そして、前記反応物をエチルアセテートと水で抽出し、有機層を化学的に乾燥した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、約６０ｇの化合物３５を得た。

（化合物３６の合成）
約１００ｇの化合物２５（４−ｈｙｄｒｏｘｙｂｅｎｚｏｉｃ ａｃｉｄ）と約４００ｇのＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（Ｎ，Ｎ−ｄｉｉｓｏｐｒｏｐｙｌｅｔｈｙｌａｍｉｎｅ）を、ジクロロメタンに溶かした後、約０℃下、約２００ｇのメチルクロロメチルエーテル（ｍｅｔｈｙｌ ｃｈｌｏｒｏｍｅｔｈｙｌ ｅｔｈｅｒ）をゆっくり滴加した。これを約２４時間撹拌した後、約５００ｍｌのアンモニウムクロライド（ａｍｍｏｎｉｕｍ ｃｈｌｏｒｉｄｅ）で洗浄し、ジクロロメタンと水で抽出した。そして、抽出された有機層を化学的に乾燥した後、溶媒を除去した。こうして得られた物質と水酸化カリウム（ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｈｙｄｒｏｘｉｄｅ）水溶液をメタノールに入れて、約３時間還流撹拌した。これに６Ｎの塩酸（ｈｙｄｒｏｃｈｌｏｒｉｃ ａｃｉｄ）を入れて析出させた後、フィルタリングして溶媒を除去した。そして、ヘキサンを用いて余分な異物を除去した後、約４８時間乾燥して、約１１０ｇの化合物３６を得た。

（化合物３７の合成）
約１００ｇの化合物３６、実施例１による約１００ｇの前記化合物３、そして約７０ｇの４−（ジメチルアミノ）ピリジン（４−（ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏ）ｐｙｒｉｄｉｎｅ））を、ジクロロメタンに溶かした後、約３０分間撹拌した。これに約８０ｇの１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド（１−ｅｔｈｙｌ−３−（３−ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌ）ｃａｒｂｏｄｉｉｍｉｄｅ）を添加して、約２４時間撹拌した後、ジクロロメタンと水で抽出した。抽出された有機層を化学的に乾燥した後、カラムクロマトグラフィーで精製して、約１５０ｇの化合物３７を得た。

（化合物３８の合成）
約１００ｇの化合物３７と約３００ｍｌの６Ｎ塩酸を、テトラヒドロフランに溶かした後、約４０℃下、約２４時間撹拌した。そして、ジクロロメタンと水で抽出した後、抽出された有機層を化学的に乾燥し、カラムクロマトグラフィーで精製して、約８０ｇの化合物３８を得た。

（化合物３９−１の合成）
化合物１０の代わりに前記化合物３８を用いたことを除き、実施例１の化合物１２−１の合成と同様の方法で、約１００ｇの化合物３９−１を得た。

（化合物４０−１の合成）
化合物１４−１の代わりに前記化合物３９−１を用い、化合物６の代わりに前記化合物３５を用いたことを除き、実施例１の化合物１５−１の合成と同様の方法で、約３０ｇの化合物４０−１を得た。

（化合物ＲＤ−１６の合成）
化合物１５−１の代わりに前記化合物４０−１を用いたことを除き、実施例１の化合物ＲＤ−０１の合成と同様の方法で、約２０ｇの化合物ＲＤ−１６を得た。

得られた化合物ＲＤ−１６に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｄ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５５（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），６．２７（１Ｈ，ｄ），６．０５（１Ｈ，ｄｄ），５．５９（１Ｈ，ｄ），４．１３（２Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｔ），３．５２（１Ｈ，ｓ），１．６０−１．１２（４８Ｈ，ｍ）

実施例１７：化合物ＲＤ−１７の合成

図４Ａおよび図４Ｂに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−１７を合成した。

（化合物３９−２の合成）
化合物１０の代わりに前記化合物３８を用い、化合物１１−１の代わりに化合物１１−２（ｎ＝６）［（１ｒ，４ｒ）−４−（（（６−（ａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙ）ｈｅｘｙｌ）ｏｘｙ）ｃａｒｂｏｎｙｌ）ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ ａｃｉｄ］を用いたことを除き、実施例１の化合物１２−１の合成と同様の方法で、約１００ｇの化合物３９−２を得た。

（化合物４０−２の合成）
化合物１４−１の代わりに前記化合物３９−２を用い、化合物６の代わりに前記化合物３５を用いたことを除き、実施例１の化合物１５−１の合成と同様の方法で、約７０ｇの化合物４０−２を得た。

（化合物ＲＤ−１７の合成）
化合物１５−１の代わりに前記化合物４０−２を用いたことを除き、実施例１の化合物ＲＤ−０１の合成と同様の方法で、約５０ｇの化合物ＲＤ−１７を得た。

得られた化合物ＲＤ−１７に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｄ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５５（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），６．２７（１Ｈ，ｄ），６．０５（１Ｈ，ｄｄ），５．５９（１Ｈ，ｄ），４．１３（２Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｔ），３．５２（１Ｈ，ｓ），１．６０−１．１２（５２Ｈ，ｍ）

実施例１８：化合物ＲＤ−１８の合成

図４Ａおよび図４Ｂに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−１８を合成した。

（化合物３９−３の合成）
化合物１０の代わりに前記化合物３８を用い、化合物１１−１の代わりに化合物１１−３（ｎ＝８）［（１ｒ，４ｒ）−４−（（（８−（ａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙ）ｏｃｔｙｌ）ｏｘｙ）ｃａｒｂｏｎｙｌ）ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ ａｃｉｄ］を用いたことを除き、実施例１の化合物１２−１の合成と同様の方法で、約１００ｇの化合物３９−３を得た。

（化合物４０−３の合成）
化合物１４−１の代わりに前記化合物３９−３を用い、化合物６の代わりに前記化合物３５を用いたことを除き、実施例１の化合物１５−１の合成と同様の方法で、約７０ｇの化合物４０−３を得た。

（化合物ＲＤ−１８の合成）
化合物１５−１の代わりに前記化合物４０−３を用いたことを除き、実施例１の化合物ＲＤ−０１の合成と同様の方法で、約５０ｇの化合物ＲＤ−１８を得た。

得られた化合物ＲＤ−１８に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｄ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５５（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），６．２７（１Ｈ，ｄ），６．０５（１Ｈ，ｄｄ），５．５９（１Ｈ，ｄ），４．１３（２Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｔ），３．５２（１Ｈ，ｓ），１．６０−１．１２（５６Ｈ，ｍ）

実施例１９：化合物ＲＤ−１９の合成

図５Ａおよび図５Ｂに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−１９を合成した。

（化合物４１−１の合成）
化合物６の代わりに実施例１６による化合物３５を用いたことを除き、実施例４の化合物２４−１の合成と同様の方法で、約７０ｇの化合物４１−１を得た。

（化合物ＲＤ−１９の合成）
化合物２４−１の代わりに前記化合物４１−１を用いたことを除き、実施例４の化合物ＲＤ−０４の合成と同様の方法で、約３０ｇの化合物ＲＤ−１９を得た。

得られた化合物ＲＤ−１９に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｄ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５５（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４７（２Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），７．２１（２Ｈ，ｄ），６．２７（２Ｈ，ｄｄ），６．０５（２Ｈ，ｄｄ），５．５９（２Ｈ，ｄｄ），４．１３（４Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（４Ｈ，ｔ），２．５０（１Ｈ，ｔ），１．６０−１．１２（２３Ｈ，ｍ）

実施例２０：化合物ＲＤ−２０の合成

図５Ａおよび図５Ｂに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−２０を合成した。

（化合物４１−２の合成）
化合物２３−１の代わりに実施例５による化合物２３−２を用い、化合物６の代わりに実施例１６による化合物３５を用いたことを除き、実施例４の化合物２４−１の合成と同様の方法で、約７０ｇの化合物４１−２を得た。

（化合物ＲＤ−２０の合成）
化合物２４−１の代わりに前記化合物４１−２を用いたことを除き、実施例４の化合物ＲＤ−０４の合成と同様の方法で、約５０ｇの化合物ＲＤ−２０を得た。

得られた化合物ＲＤ−２０に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｄ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５５（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４７（２Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），７．２１（２Ｈ，ｄ），６．２７（２Ｈ，ｄｄ），６．０５（２Ｈ，ｄｄ），５．５９（２Ｈ，ｄｄ），４．１３（４Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（４Ｈ，ｔ），２．５０（１Ｈ，ｔ），１．６０−１．１２（３１Ｈ，ｍ）

実施例２１：化合物ＲＤ−２１の合成

図５Ａおよび図５Ｂに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−２１を合成した。

（化合物４１−３の合成）
化合物２３−１の代わりに実施例６による化合物２３−３を用い、化合物６の代わりに実施例１６による化合物３５を用いたことを除き、実施例４の化合物２４−１の合成と同様の方法で、約７０ｇの化合物４１−３を得た。

（化合物ＲＤ−２１の合成）
化合物２４−１の代わりに前記化合物４１−３を用いたことを除き、実施例４の化合物ＲＤ−０４の合成と同様の方法で、約５０ｇの化合物ＲＤ−２１を得た。

得られた化合物ＲＤ−２１に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｄ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５５（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４７（２Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），７．２１（２Ｈ，ｄ），６．２７（２Ｈ，ｄｄ），６．０５（２Ｈ，ｄｄ），５．５９（２Ｈ，ｄｄ），４．１３（４Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（４Ｈ，ｔ），２．５０（１Ｈ，ｔ），１．６０−１．１２（３９Ｈ，ｍ）

実施例２２：化合物ＲＤ−２２の合成

図６Ａおよび図６Ｂに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−２２を合成した。

（化合物４２−１の合成）
化合物１４−１の代わりに実施例７による化合物３２−１（ｎ＝４、ｍ＝３）を用い、化合物６の代わりに実施例１６による化合物３５を用いたことを除き、実施例１の化合物１５−１の合成と同様の方法で、約７０ｇの化合物４２−１を得た。

（化合物ＲＤ−２２の合成）
化合物１５−１の代わりに前記化合物４２−１を用いたことを除き、実施例１の化合物ＲＤ−０１の合成と同様の方法で、約３０ｇの化合物ＲＤ−２２を得た。

得られた化合物ＲＤ−２２に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｄ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５５（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４７（２Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），７．２１（２Ｈ，ｄ），６．２７（１Ｈ，ｄｄ），６．０５（１Ｈ，ｄｄ），５．５９（１Ｈ，ｄｄ），４．１３（４Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｔ），２．５０（１Ｈ，ｔ），１．６０−０．９０（２５Ｈ，ｍ）

実施例２３：化合物ＲＤ−２３の合成

図６Ａおよび図６Ｂに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−２３を合成した。

（化合物４２−２の合成）
化合物１４−１の代わりに実施例８による化合物３２−２（ｎ＝４、ｍ＝５）を用い、化合物６の代わりに実施例１６による化合物３５を用いたことを除き、実施例１の化合物１５−１の合成と同様の方法で、約６０ｇの化合物４２−２を得た。

（化合物ＲＤ−２３の合成）
化合物１５−１の代わりに前記化合物４２−２を用いたことを除き、実施例１の化合物ＲＤ−０１の合成と同様の方法で、約５０ｇの化合物ＲＤ−２３を得た。

得られた化合物ＲＤ−２３に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｄ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５５（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４７（２Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），７．２１（２Ｈ，ｄ），６．２７（１Ｈ，ｄｄ），６．０５（１Ｈ，ｄｄ），５．５９（１Ｈ，ｄｄ），４．１３（４Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｔ），２．５０（１Ｈ，ｔ），１．６０−０．９０（２９Ｈ，ｍ）

実施例２４：化合物ＲＤ−２４の合成

図６Ａおよび図６Ｂに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−２４を合成した。

（化合物４２−３の合成）
化合物１４−１の代わりに実施例９による化合物３２−３（ｎ＝４、ｍ＝７）を用い、化合物６の代わりに実施例１６による化合物３５を用いたことを除き、実施例１の化合物１５−１の合成と同様の方法で、約６０ｇの化合物４２−３を得た。

（化合物ＲＤ−２４の合成）
化合物１５−１の代わりに前記化合物４２−３を用いたことを除き、実施例１の化合物ＲＤ−０１の合成と同様の方法で、約５０ｇの化合物ＲＤ−２４を得た。

得られた化合物ＲＤ−２４に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｄ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５５（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４７（２Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），７．２１（２Ｈ，ｄ），６．２７（１Ｈ，ｄｄ），６．０５（１Ｈ，ｄｄ），５．５９（１Ｈ，ｄｄ），４．１３（４Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｔ），２．５０（１Ｈ，ｔ），１．６０−０．９０（３３Ｈ，ｍ）

実施例２５：化合物ＲＤ−２５の合成

図６Ａおよび図６Ｂに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−２５を合成した。

（化合物４２−４の合成）
化合物１４−１の代わりに実施例１０による化合物３２−４（ｎ＝６、ｍ＝３）を用い、化合物６の代わりに実施例１６による化合物３５を用いたことを除き、実施例１の化合物１５−１の合成と同様の方法で、約６０ｇの化合物４２−４を得た。

（化合物ＲＤ−２５の合成）
化合物１５−１の代わりに前記化合物４２−４を用いたことを除き、実施例１の化合物ＲＤ−０１の合成と同様の方法で、約５０ｇの化合物ＲＤ−２５を得た。

得られた化合物ＲＤ−２５に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｄ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５５（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４７（２Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），７．２１（２Ｈ，ｄ），６．２７（１Ｈ，ｄｄ），６．０５（１Ｈ，ｄｄ），５．５９（１Ｈ，ｄｄ），４．１３（４Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｔ），２．５０（１Ｈ，ｔ），１．６０−０．９０（２９Ｈ，ｍ）

実施例２６：化合物ＲＤ−２６の合成

図６Ａおよび図６Ｂに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−２６を合成した。

（化合物４２−５の合成）
化合物１４−１の代わりに実施例１１による化合物３２−５（ｎ＝６、ｍ＝５）を用い、化合物６の代わりに実施例１６による化合物３５を用いたことを除き、実施例１の化合物１５−１の合成と同様の方法で、約６０ｇの化合物４２−５を得た。

（化合物ＲＤ−２６の合成）
化合物１５−１の代わりに前記化合物４２−５を用いたことを除き、実施例１の化合物ＲＤ−０１の合成と同様の方法で、約５０ｇの化合物ＲＤ−２６を得た。

得られた化合物ＲＤ−２６に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｄ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５５（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４７（２Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），７．２１（２Ｈ，ｄ），６．２７（１Ｈ，ｄｄ），６．０５（１Ｈ，ｄｄ），５．５９（１Ｈ，ｄｄ），４．１３（４Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｔ），２．５０（１Ｈ，ｔ），１．６０−０．９０（３３Ｈ，ｍ）

実施例２７：化合物ＲＤ−２７の合成

図６Ａおよび図６Ｂに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−２７を合成した。

（化合物４２−６の合成）
化合物１４−１の代わりに実施例１２による化合物３２−６（ｎ＝６、ｍ＝７）を用い、化合物６の代わりに実施例１６による化合物３５を用いたことを除き、実施例１の化合物１５−１の合成と同様の方法で、約６０ｇの化合物４２−６を得た。

（化合物ＲＤ−２７の合成）
化合物１５−１の代わりに前記化合物４２−６を用いたことを除き、実施例１の化合物ＲＤ−０１の合成と同様の方法で、約５０ｇの化合物ＲＤ−２７を得た。

得られた化合物ＲＤ−２７に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｄ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５５（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４７（２Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），７．２１（２Ｈ，ｄ），６．２７（１Ｈ，ｄｄ），６．０５（１Ｈ，ｄｄ），５．５９（１Ｈ，ｄｄ），４．１３（４Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｔ），２．５０（１Ｈ，ｔ），１．６０−０．９０（３７Ｈ，ｍ）

実施例２８：化合物ＲＤ−２８の合成

図６Ａおよび図６Ｂに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−２８を合成した。

（化合物４２−７の合成）
化合物１４−１の代わりに実施例１３による化合物３２−７（ｎ＝８、ｍ＝３）を用い、化合物６の代わりに実施例１６による化合物３５を用いたことを除き、実施例１の化合物１５−１の合成と同様の方法で、約６０ｇの化合物４２−７を得た。

（化合物ＲＤ−２８の合成）
化合物１５−１の代わりに前記化合物４２−７を用いたことを除き、実施例１の化合物ＲＤ−０１の合成と同様の方法で、約５０ｇの化合物ＲＤ−２８を得た。

得られた化合物ＲＤ−２８に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｄ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５５（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４７（２Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），７．２１（２Ｈ，ｄ），６．２７（１Ｈ，ｄｄ），６．０５（１Ｈ，ｄｄ），５．５９（１Ｈ，ｄｄ），４．１３（４Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｔ），２．５０（１Ｈ，ｔ），１．６０−０．９０（３３Ｈ，ｍ）

実施例２９：化合物ＲＤ−２９の合成

図６Ａおよび図６Ｂに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−２９を合成した。

（化合物４２−８の合成）
化合物１４−１の代わりに実施例１４による化合物３２−８（ｎ＝８、ｍ＝５）を用い、化合物６の代わりに実施例１６による化合物３５を用いたことを除き、実施例１の化合物１５−１の合成と同様の方法で、約６０ｇの化合物４２−８を得た。

（化合物ＲＤ−２９の合成）
化合物１５−１の代わりに前記化合物４２−８を用いたことを除き、実施例１の化合物ＲＤ−０１の合成と同様の方法で、約５０ｇの化合物ＲＤ−２９を得た。

得られた化合物ＲＤ−２９に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｄ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５５（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４７（２Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），７．２１（２Ｈ，ｄ），６．２７（１Ｈ，ｄｄ），６．０５（１Ｈ，ｄｄ），５．５９（１Ｈ，ｄｄ），４．１３（４Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｔ），２．５０（１Ｈ，ｔ），１．６０−０．９０（３７Ｈ，ｍ）

実施例３０：化合物ＲＤ−３０の合成

図６Ａおよび図６Ｂに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−３０を合成した。

（化合物４２−９の合成）
化合物１４−１の代わりに実施例１５による化合物３２−９（ｎ＝８、ｍ＝７）を用い、化合物６の代わりに実施例１６による化合物３５を用いたことを除き、実施例１の化合物１５−１の合成と同様の方法で、約６０ｇの化合物４２−９を得た。

（化合物ＲＤ−３０の合成）
化合物１５−１の代わりに前記化合物４２−９を用いたことを除き、実施例１の化合物ＲＤ−０１の合成と同様の方法で、約５０ｇの化合物ＲＤ−３０を得た。

得られた化合物ＲＤ−３０に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｄ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５５（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４７（２Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），７．２１（２Ｈ，ｄ），６．２７（１Ｈ，ｄｄ），６．０５（１Ｈ，ｄｄ），５．５９（１Ｈ，ｄｄ），４．１３（４Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｔ），２．５０（１Ｈ，ｔ），１．６０−０．９０（４１Ｈ，ｍ）

実施例３１：化合物ＲＤ−３１の合成

図７Ａおよび図７Ｂに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−３１を合成した。

（化合物４４−１の合成）
化合物１０の代わりに実施例１６による化合物３８を用い、化合物１１−１の代わりに化合物４３−１［（１ｒ，４ｒ）−４−（（４−（ｍｅｔｈａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙ）ｂｕｔｏｘｙ）ｃａｒｂｏｎｙｌ）ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ ａｃｉｄ］を用いたことを除き、実施例１の化合物１２−１の合成と同様の方法で、約１００ｇの化合物４４−１を得た。

（化合物４５−１の合成）
化合物１４−１の代わりに前記化合物４４−１を用いたことを除き、実施例１の化合物１５−１の合成と同様の方法で、約３０ｇの化合物４５−１を得た。

（化合物ＲＤ−３１の合成）
化合物１５−１の代わりに前記化合物４５−１を用いたことを除き、実施例１の化合物ＲＤ−０１の合成と同様の方法で、約２０ｇの化合物ＲＤ−３１を得た。

得られた化合物ＲＤ−３１に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｄ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），６．４８（１Ｈ，ｄ），６．４０（１Ｈ，ｄ），５．５９（１Ｈ，ｄ），４．１３（２Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｔ），３．５２（１Ｈ，ｓ），２．０１（３Ｈ，ｓ），１．６０−１．１２（４８Ｈ，ｍ）

実施例３２：化合物ＲＤ−３２の合成

図７Ａおよび図７Ｂに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−３２を合成した。

（化合物４４−２の合成）
化合物１０の代わりに実施例１６による化合物３８を用い、化合物１１−１の代わりに化合物４３−２［（１ｒ，４ｒ）−４−（（（６−（ｍｅｔｈａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙ）ｈｅｘｙｌ）ｏｘｙ）ｃａｒｂｏｎｙｌ）ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ ａｃｉｄ］を用いたことを除き、実施例１の化合物１２−１の合成と同様の方法で、約１００ｇの化合物４４−２を得た。

（化合物４５−２の合成）
化合物１４−１の代わりに前記化合物４４−２を用いたことを除き、実施例１の化合物１５−１の合成と同様の方法で、約７０ｇの化合物４５−２を得た。

（化合物ＲＤ−３２の合成）
化合物１５−１の代わりに前記化合物４５−２を用いたことを除き、実施例１の化合物ＲＤ−０１の合成と同様の方法で、約５０ｇの化合物ＲＤ−３２を得た。

得られた化合物ＲＤ−３２に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｄ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），６．４８（１Ｈ，ｄ），６．４０（１Ｈ，ｄ），５．５９（１Ｈ，ｄ），４．１３（２Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｔ），３．５２（１Ｈ，ｓ），２．０１（３Ｈ，ｓ），１．６０−１．１２（５２Ｈ，ｍ）

実施例３３：化合物ＲＤ−３３の合成

図７Ａおよび図７Ｂに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−３３を合成した。

（化合物４４−３の合成）
化合物１０の代わりに実施例１６による化合物３８を用い、化合物１１−１の代わりに化合物４３−３［（１ｒ，４ｒ）−４−（（（８−（ｍｅｔｈａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙ）ｏｃｔｙｌ）ｏｘｙ）ｃａｒｂｏｎｙｌ）ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ ａｃｉｄ］を用いたことを除き、実施例１の化合物１２−１の合成と同様の方法で、約１００ｇの化合物４４−３を得た。

（化合物４５−３の合成）
化合物１４−１の代わりに前記化合物４４−３を用いたことを除き、実施例１の化合物１５−１の合成と同様の方法で、約７０ｇの化合物４５−３を得た。

（化合物ＲＤ−３３の合成）
化合物１５−１の代わりに前記化合物４５−３を用いたことを除き、実施例１の化合物ＲＤ−０１の合成と同様の方法で、約５０ｇの化合物ＲＤ−３３を得た。

得られた化合物ＲＤ−３３に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｄ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），６．４８（１Ｈ，ｄ），６．４０（１Ｈ，ｄ），５．５９（１Ｈ，ｄ），４．１３（２Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｔ），３．５２（１Ｈ，ｓ），２．０１（３Ｈ，ｓ），１．６０−１．１２（５６Ｈ，ｍ）

実施例３４：化合物ＲＤ−３４の合成

図８Ａおよび図８Ｂに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−３４を合成した。

（化合物４７−１の合成）
化合物１０の代わりに実施例１６による化合物３８を用い、化合物１１−１の代わりに化合物４６−１［（１ｒ，４ｒ）−４−（（４−（ｃｉｎｎａｍｏｙｌｏｘｙ）ｂｕｔｏｘｙ）ｃａｒｂｏｎｙｌ）ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ ａｃｉｄ］を用いたことを除き、実施例１の化合物１２−１の合成と同様の方法で、約１００ｇの化合物４７−１を得た。

（化合物４８−１の合成）
化合物１４−１の代わりに前記化合物４７−１を用いたことを除き、実施例１の化合物１５−１の合成と同様の方法で、約３０ｇの化合物４８−１を得た。

（化合物ＲＤ−３４の合成）
化合物１５−１の代わりに前記化合物４８−１を用いたことを除き、実施例１の化合物ＲＤ−０１の合成と同様の方法で、約２０ｇの化合物ＲＤ−３４を得た。

得られた化合物ＲＤ−３４に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｄ），７．６０（２Ｈ，ｄ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４８（１Ｈ，ｄ），７．４０（４Ｈ，ｄ），７．３３（１Ｈ，ｔ），６．３１（１Ｈ，ｄ），４．１３（２Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｔ），３．５２（１Ｈ，ｓ），１．６０−１．１２（４８Ｈ，ｍ）

実施例３５：化合物ＲＤ−３５の合成

図８Ａおよび図８Ｂに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−３５を合成した。

（化合物４７−２の合成）
化合物１０の代わりに実施例１６による化合物３８を用い、化合物１１−１の代わりに化合物４６−２［（１ｒ，４ｒ）−４−（（（６−（ｃｉｎｎａｍｏｙｌｏｘｙ）ｈｅｘｙｌ）ｏｘｙ）ｃａｒｂｏｎｙｌ）ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ ａｃｉｄ］を用いたことを除き、実施例１の化合物１２−１の合成と同様の方法で、約１００ｇの化合物４７−２を得た。

（化合物４８−２の合成）
化合物１４−１の代わりに前記化合物４７−２を用いたことを除き、実施例１の化合物１５−１の合成と同様の方法で、約７０ｇの化合物４８−２を得た。

（化合物ＲＤ−３５の合成）
化合物１５−１の代わりに前記化合物４８−２を用いたことを除き、実施例１の化合物ＲＤ−０１の合成と同様の方法で、約５０ｇの化合物ＲＤ−３５を得た。

得られた化合物ＲＤ−３５に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｄ），７．６０（２Ｈ，ｄ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４８（１Ｈ，ｄ），７．４０（４Ｈ，ｄ），７．３３（１Ｈ，ｔ），６．３１（１Ｈ，ｄ），４．１３（２Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｔ），３．５２（１Ｈ，ｓ），１．６０−１．１２（５２Ｈ，ｍ）

実施例３６：化合物ＲＤ−３６の合成

図８Ａおよび図８Ｂに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−３６を合成した。

（化合物４７−３の合成）
化合物１０の代わりに実施例１６による化合物３８を用い、化合物１１−１の代わりに化合物４６−３［（１ｒ，４ｒ）−４−（（（８−（ｃｉｎｎａｍｏｙｌｏｘｙ）ｏｃｔｙｌ）ｏｘｙ）ｃａｒｂｏｎｙｌ）ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ ａｃｉｄ］を用いたことを除き、実施例１の化合物１２−１の合成と同様の方法で、約１００ｇの化合物４７−３を得た。

（化合物４８−３の合成）
化合物１４−１の代わりに前記化合物４７−３を用いたことを除き、実施例１の化合物１５−１の合成と同様の方法で、約７０ｇの化合物４８−３を得た。

（化合物ＲＤ−３６の合成）
化合物１５−１の代わりに前記化合物４８−３を用いたことを除き、実施例１の化合物ＲＤ−０１の合成と同様の方法で、約５０ｇの化合物ＲＤ−３６を得た。

得られた化合物ＲＤ−３６に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｄ），７．６０（２Ｈ，ｄ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４８（１Ｈ，ｄ），７．４０（４Ｈ，ｄ），７．３３（１Ｈ，ｔ），６．３１（１Ｈ，ｄ），４．１３（２Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｔ），３．５２（１Ｈ，ｓ），１．６０−１．１２（５６Ｈ，ｍ）

実施例３７：化合物ＲＤ−３７の合成

図９Ａおよび図９Ｂに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−３７を合成した。

（化合物５０の合成）
化合物７の代わりに化合物４９（６−ｈｙｄｒｏｘｙ−２−ｎａｐｈｔｈｏｉｃ ａｃｉｄ）を用いたことを除き、実施例１の化合物８の合成と同様の方法で、約１１０ｇの化合物５０を得た。

（化合物５１の合成）
化合物８の代わりに前記化合物５０を用いたことを除き、実施例１の化合物９の合成と同様の方法で、約１５０ｇの化合物５１を得た。

（化合物５２の合成）
化合物９の代わりに前記化合物５１を用いたことを除き、実施例１の化合物１０の合成と同様の方法で、約８０ｇの化合物５２を得た。

（化合物５３−１の合成）
化合物１０の代わりに前記化合物５２を用いたことを除き、実施例１の化合物１２−１の合成と同様の方法で、約１００ｇの化合物５３−１を得た。

（化合物５４−１の合成）
化合物１４−１の代わりに前記化合物５３−１を用いたことを除き、実施例１の化合物１５−１の合成と同様の方法で、約３０ｇの化合物５４−１を得た。

（化合物ＲＤ−３７の合成）
化合物１５−１の代わりに前記化合物５４−１を用いたことを除き、実施例１の化合物ＲＤ−０１の合成と同様の方法で、約２０ｇの化合物ＲＤ−３７を得た。

得られた化合物ＲＤ−３７に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．６８（１Ｈ，ｓ），８．２１（１Ｈ，ｄ），８．１８（１Ｈ，ｄ），７．９８（１Ｈ，ｓ），７．９７（１Ｈ，ｄ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４８（１Ｈ，ｄ），６．２７（１Ｈ，ｄ），６．０５（１Ｈ，ｄｄ），５．５９（１Ｈ，ｄ），４．１３（２Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｔ），３．５２（１Ｈ，ｓ），１．６０−１．１２（４８Ｈ，ｍ）

実施例３８：化合物ＲＤ−３８の合成

図９Ａおよび図９Ｂに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−３８を合成した。

（化合物５３−２の合成）
化合物１０の代わりに前記化合物５２を用い、化合物１１−１の代わりに化合物１１−２［（１ｒ，４ｒ）−４−（（（６−（ａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙ）ｈｅｘｙｌ）ｏｘｙ）ｃａｒｂｏｎｙｌ）ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ ａｃｉｄ］を用いたことを除き、実施例１の化合物１２−１の合成と同様の方法で、約１００ｇの化合物５３−２を得た。

（化合物５４−２の合成）
化合物１４−１の代わりに前記化合物５３−２を用いたことを除き、実施例１の化合物１５−１の合成と同様の方法で、約７０ｇの化合物５４−２を得た。

（化合物ＲＤ−３８の合成）
化合物１５−１の代わりに前記化合物５４−２を用いたことを除き、実施例１の化合物ＲＤ−０１の合成と同様の方法で、約５０ｇの化合物ＲＤ−３８を得た。

得られた化合物ＲＤ−３８に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．６８（１Ｈ，ｓ），８．２１（１Ｈ，ｄ），８．１８（１Ｈ，ｄ），７．９８（１Ｈ，ｓ），７．９７（１Ｈ，ｄ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４８（１Ｈ，ｄ），６．２７（１Ｈ，ｄ），６．０５（１Ｈ，ｄｄ），５．５９（１Ｈ，ｄ），４．１３（２Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｔ），３．５２（１Ｈ，ｓ），１．６０−１．１２（５２Ｈ，ｍ）

実施例３９：化合物ＲＤ−３９の合成

図９Ａおよび図９Ｂに示すスキームにより前記化合物ＲＤ−３９を合成した。

（化合物５３−３の合成）
化合物１０の代わりに前記化合物５２を用い、化合物１１−１の代わりに化合物１１−３［（１ｒ，４ｒ）−４−（（（８−（ａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙ）ｏｃｔｙｌ）ｏｘｙ）ｃａｒｂｏｎｙｌ）ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ ａｃｉｄ］を用いたことを除き、実施例１の化合物１２−１の合成と同様の方法で、約１００ｇの化合物５３−３を得た。

（化合物５４−３の合成）
化合物１４−１の代わりに前記化合物５３−３を用いたことを除き、実施例１の化合物１５−１の合成と同様の方法で、約７０ｇの化合物５４−３を得た。

（化合物ＲＤ−３９の合成）
化合物１５−１の代わりに前記化合物５４−３を用いたことを除き、実施例１の化合物ＲＤ−０１の合成と同様の方法で、約５０ｇの化合物ＲＤ−３９を得た。

得られた化合物ＲＤ−３９に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．６８（１Ｈ，ｓ），８．２１（１Ｈ，ｄ），８．１８（１Ｈ，ｄ），７．９８（１Ｈ，ｓ），７．９７（１Ｈ，ｄ），７．５６（４Ｈ，ｄ），７．５１（４Ｈ，ｄ），７．４８（１Ｈ，ｄ），６．２７（１Ｈ，ｄ），６．０５（１Ｈ，ｄｄ），５．５９（１Ｈ，ｄ），４．１３（２Ｈ，ｔ），４．０５（１Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｔ），３．５２（１Ｈ，ｓ），１．６０−１．１２（５６Ｈ，ｍ）

実施例４０：化合物ＲＤ−４０の合成

図１０に示すスキームにより前記化合物ＲＤ−４０を合成した。

つまり、化合物１４−１の代わりに実施例１６による化合物３９−１を用い、化合物６の代わりに約１０ｇのヨードベンゼン（ｉｏｄｏｂｅｎｚｅｎｅ）を用いたことを除き、実施例１の化合物１５−１の合成と同様の方法で、約３０ｇの化合物ＲＤ−４０を得た。

得られた化合物ＲＤ−４０に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｄ），７．５５（２Ｈ，ｄ），７．４３（２Ｈ，ｄ），７．４３（２Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），６．２７（１Ｈ，ｄ），６．０５（１Ｈ，ｄｄ），５．５９（１Ｈ，ｄ），４．１３（２Ｈ，ｔ），３．９７（２Ｈ，ｔ），１．６０−１．１２（４８Ｈ，ｍ）

実施例４１：化合物ＲＤ−４１の合成

図１０に示すスキームにより前記化合物ＲＤ−４１を合成した。

つまり、化合物１４−１の代わりに実施例１７による化合物３９−２を用い、化合物６の代わりに約１０ｇのヨードベンゼン（ｉｏｄｏｂｅｎｚｅｎｅ）を用いたことを除き、実施例１の化合物１５−１の合成と同様の方法で、約５０ｇの化合物ＲＤ−４１を得た。

得られた化合物ＲＤ−４１に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｄ），７．５５（２Ｈ，ｄ），７．４３（２Ｈ，ｄ），７．４３（２Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），６．２７（１Ｈ，ｄ），６．０５（１Ｈ，ｄｄ），５．５９（１Ｈ，ｄ），４．１３（２Ｈ，ｔ），３．９７（２Ｈ，ｔ），１．６０−１．１２（５２Ｈ，ｍ）

実施例４２：化合物ＲＤ−４２の合成

図１０に示すスキームにより前記化合物ＲＤ−４２を合成した。

つまり、化合物１４−１の代わりに実施例１８による化合物３９−３を用い、化合物６の代わりに約１０ｇのヨードベンゼン（ｉｏｄｏｂｅｎｚｅｎｅ）を用いたことを除き、実施例１の化合物１５−１の合成と同様の方法で、約５０ｇの化合物ＲＤ−４２を得た。

得られた化合物ＲＤ−４２に対するＮＭＲスペクトルは、次の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，標準物質ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０４（２Ｈ，ｄ），７．５５（２Ｈ，ｄ），７．４３（２Ｈ，ｄ），７．４３（２Ｈ，ｄ），７．４０（２Ｈ，ｄ），６．２７（１Ｈ，ｄ），６．０５（１Ｈ，ｄｄ），５．５９（１Ｈ，ｄ），４．１３（２Ｈ，ｔ），３．９７（２Ｈ，ｔ），１．６０−１．１２（５６Ｈ，ｍ）

製造例１
（光学素子用組成物の製造）
実施例１８によるＲＤ−１８化合物１００重量部に対して、下記化学式ａで表されるメソジェニック化合物約１１２．５重量部、下記化学式ｂで表されるメソジェニック化合物約３７．５重量部、開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ社）約１２．５重量部、酸化防止剤（Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６、Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ社）約０．２７重量部、フッ素系界面活性剤（ＦＣ−１７１、３Ｍ社）約３．３３重量部、およびトルエン約１０００重量部を混合して、光学素子用組成物（固形分含有量約２１重量％）を準備した。

（位相差フィルムの製造）
前記組成物を、ロールコーティング方法によって、ノルボルネン系光配向物質がコーティングされたＴＡＣフィルム上にコーティングした後、約８０℃下、２分間乾燥して液晶分子が配向されるようにした。その後、前記フィルムに２００ｍＷ／ｃｍ^２の高圧水銀灯を光源とする非偏光ＵＶを照射して液晶の配向状態を固定化させる方法で位相差フィルムを製造した。

製造された位相差フィルムの定量的な位相差値はＡｘｏｓｃａｎ（Ａｘｏｍａｔｒｉｘ社製）を用いて測定し、この時、独立に厚さを測定し、得られた値から位相差値（△ｎ・ｄ）を求めた。その結果、△ｎ・ｄ（４５０ｎｍ）、△ｎ・ｄ（５５０ｎｍ）、および△ｎ・ｄ（６５０ｎｍ）がそれぞれ１０３、１１０、および１１４と測定された。したがって、△ｎ（４５０ｎｍ）／△ｎ（５５０ｎｍ）値は０．９４であり、△ｎ（６５０ｎｍ）／△ｎ（５５０ｎｍ）値は１．０４であって、上記式Ｉおよび式ＩＩによる条件を満足することが確認された。

製造例２
（光学素子用組成物の製造）
実施例１８によるＲＤ−１８化合物７５重量部に対して、前記化学式ａで表されるメソジェニック化合物約１１２．５重量部、前記化学式ｂで表されるメソジェニック化合物約６２．５重量部、開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ社）約１２．５重量部、酸化防止剤（Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６、Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ社）約０．２７重量部、フッ素系界面活性剤（ＦＣ−１７１、３Ｍ社）約３．３３重量部、およびトルエン約１０００重量部を混合して、光学素子用組成物（固形分含有量約２１重量％）を準備した。

（位相差フィルムの製造）
前記組成物を、ロールコーティング方法によって、ノルボルネン系光配向物質がコーティングされたＴＡＣフィルム上にコーティングした後、約８０℃下、２分間乾燥して液晶分子が配向されるようにした。その後、前記フィルムに２００ｍＷ／ｃｍ^２の高圧水銀灯を光源とする非偏光ＵＶを照射して液晶の配向状態を固定化させる方法で位相差フィルムを製造した。

製造された位相差フィルムの定量的な位相差値はＡｘｏｓｃａｎ（Ａｘｏｍａｔｒｉｘ社製）を用いて測定し、この時、独立に厚さを測定し、得られた値から位相差値（△ｎ・ｄ）を求めた。その結果、△ｎ・ｄ（４５０ｎｍ）、△ｎ・ｄ（５５０ｎｍ）、および△ｎ・ｄ（６５０ｎｍ）がそれぞれ１１５、１２０、および１２４と測定された。したがって、△ｎ（４５０ｎｍ）／△ｎ（５５０ｎｍ）値は０．９６であり、△ｎ（６５０ｎｍ）／△ｎ（５５０ｎｍ）値は１．０３であって、上記式Ｉおよび式ＩＩによる条件を満足することが確認された。

製造例３
（光学素子用組成物の製造）
実施例４０によるＲＤ−４０化合物１００重量部に対して、前記化学式ａで表されるメソジェニック化合物約１１２．５重量部、前記化学式ｂで表されるメソジェニック化合物約３７．５重量部、開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ社）約１２．５重量部、酸化防止剤（Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６、Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ社）約０．２７重量部、フッ素系界面活性剤（ＦＣ−１７１、３Ｍ社）約３．３３重量部、およびトルエン約１０００重量部を混合して、光学素子用組成物（固形分含有量約２１重量％）を準備した。

（位相差フィルムの製造）
前記組成物を、ロールコーティング方法によって、ノルボルネン系光配向物質がコーティングされたＴＡＣフィルム上にコーティングした後、約８０℃下、２分間乾燥して液晶分子が配向されるようにした。その後、前記フィルムに２００ｍＷ／ｃｍ^２の高圧水銀灯を光源とする非偏光ＵＶを照射して液晶の配向状態を固定化させる方法で位相差フィルムを製造した。

製造された位相差フィルムの定量的な位相差値はＡｘｏｓｃａｎ（Ａｘｏｍａｔｒｉｘ社製）を用いて測定し、この時、独立に厚さを測定し、得られた値から位相差値（△ｎ・ｄ）を求めた。その結果、△ｎ・ｄ（４５０ｎｍ）、△ｎ・ｄ（５５０ｎｍ）、および△ｎ・ｄ（６５０ｎｍ）がそれぞれ１１０、１１３、および１１５と測定された。したがって、△ｎ（４５０ｎｍ）／△ｎ（５５０ｎｍ）値は０．９７であり、△ｎ（６５０ｎｍ）／△ｎ（５５０ｎｍ）値は１．０２であって、上記式Ｉおよび式ＩＩによる条件を満足することが確認された。

製造例４
（光学素子用組成物の製造）
実施例４０によるＲＤ−４０化合物７５重量部に対して、前記化学式ａで表されるメソジェニック化合物約１１２．５重量部、前記化学式ｂで表されるメソジェニック化合物約６２．５重量部、開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ社）約１２．５重量部、酸化防止剤（Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６、Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ社）約０．２７重量部、フッ素系界面活性剤（ＦＣ−１７１、３Ｍ社）約３．３３重量部、およびトルエン約１０００重量部を混合して、光学素子用組成物（固形分含有量約２１重量％）を準備した。

（位相差フィルムの製造）
前記組成物を、ロールコーティング方法によって、ノルボルネン系光配向物質がコーティングされたＴＡＣフィルム上にコーティングした後、約８０℃下、２分間乾燥して液晶分子が配向されるようにした。その後、前記フィルムに２００ｍＷ／ｃｍ^２の高圧水銀灯を光源とする非偏光ＵＶを照射して液晶の配向状態を固定化させる方法で位相差フィルムを製造した。

製造された位相差フィルムの定量的な位相差値はＡｘｏｓｃａｎ（Ａｘｏｍａｔｒｉｘ社製）を用いて測定し、この時、独立に厚さを測定し、得られた値から位相差値（△ｎ・ｄ）を求めた。その結果、△ｎ・ｄ（４５０ｎｍ）、△ｎ・ｄ（５５０ｎｍ）、および△ｎ・ｄ（６５０ｎｍ）がそれぞれ１２５、１２６、および１２７と測定された。したがって、△ｎ（４５０ｎｍ）／△ｎ（５５０ｎｍ）値は０．９９であり、△ｎ（６５０ｎｍ）／△ｎ（５５０ｎｍ）値は１．０１であって、上記式Ｉおよび式ＩＩによる条件を満足することが確認された。

比較製造例１
（光学素子用組成物の製造）
前記化学式ａで表されるメソジェニック化合物１００重量部に対して、前記化学式ｂで表されるメソジェニック化合物約５６．２５重量部、開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ社）約７．８重量部、酸化防止剤（Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６、Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ社）約０．１７重量部、フッ素系界面活性剤（ＦＣ−１７１、３Ｍ社）約２．０８重量部、およびトルエン約６２５重量部を混合して、光学素子用組成物（固形分含有量約２１重量％）を準備した。

（位相差フィルムの製造）
前記組成物を、ロールコーティング方法によって、ノルボルネン系光配向物質がコーティングされたＴＡＣフィルム上にコーティングした後、約８０℃下、２分間乾燥して液晶分子が配向されるようにした。その後、前記フィルムに２００ｍＷ／ｃｍ^２の高圧水銀灯を光源とする非偏光ＵＶを照射して液晶の配向状態を固定化させる方法で位相差フィルムを製造した。

製造された位相差フィルムの定量的な位相差値はＡｘｏｓｃａｎ（Ａｘｏｍａｔｒｉｘ社製）を用いて測定し、この時、独立に厚さを測定し、得られた値から位相差値（△ｎ・ｄ）を求めた。その結果、△ｎ・ｄ（４５０ｎｍ）、△ｎ・ｄ（５５０ｎｍ）、および△ｎ・ｄ（６５０ｎｍ）がそれぞれ２２５、２１０、および２０３と測定された。したがって、△ｎ（４５０ｎｍ）／△ｎ（５５０ｎｍ）値は１．０７であり、△ｎ（６５０ｎｍ）／△ｎ（５５０ｎｍ）値は０．９６であって、上記式Ｉおよび式ＩＩによる条件を満足しない正波長分散を示すことが確認された。

Claims (14)

1. 下記化学式１で表される逆波長分散性化合物；および
   少なくとも１つの重合可能な官能基を有する反応性メソジェニック化合物を含む光学素子用組成物：
   

   

   前記化学式１において、
   Ａは、炭素数５〜８の非芳香族の炭素環式もしくはヘテロ環式基、または炭素数６〜２０の芳香族もしくはヘテロ芳香族基であり；
   Ｅ^１、Ｅ^２、Ｄ^１およびＤ^２は、それぞれ独立に、単結合または２価の連結基であり；
   Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に、−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＣＮ、−ＮＣ、−ＮＣＯ、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^１Ｒ^２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^１、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^１、−ＮＨ_２、−ＳＨ、−ＳＲ^１、−ＳＯ_３Ｈ、−ＳＯ_２Ｒ^１、−ＯＨ、−ＮＯ_２、−ＣＦ_３、−ＳＦ_３、置換もしくは非置換のシリル、置換もしくは非置換の炭素数１〜４０のカルビルまたはヒドロカルビル、または−Ｓ_ｐ−Ｐであって、前記Ｌ^１およびＬ^２のうちの少なくとも１つは、−Ｓ_ｐ−Ｐであり、前記Ｐは、重合性基であり、前記Ｓ_ｐは、スペーサー基または単結合であり、前記Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、−Ｈまたは炭素数１〜１２のアルキルであり；
   ｍおよびｎは、それぞれ独立に、１〜５の整数であって；前記ｍまたはｎが２以上であれば、２以上繰り返される−（Ｄ^１−Ｇ^１）−または−（Ｇ^２−Ｄ^２）−の各繰り返し単位は、互いに同一であっても異なっていてもよく；
   Ｇ^１およびＧ^２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の非芳香族の炭素環式もしくはヘテロ環式基、または炭素数６〜２０の芳香族もしくはヘテロ芳香族基であって、前記Ｇ^１およびＧ^２のうちの少なくとも１つは、前記炭素環式もしくはヘテロ環式基であり、前記炭素環式もしくはヘテロ環式基に含まれているいずれか１つの水素は、下記化学式２で表される基で置換されている：
   

   

   前記化学式２において、
   ｐは、１〜１０の整数であって、ｐが２以上であれば、２以上繰り返される−（Ｑ^１）−の各繰り返し単位は、互いに同一であっても異なっていてもよく、
   Ｑ^１は、それぞれ独立に、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＹ^１＝ＣＹ^２−、および炭素数６〜２０の置換もしくは非置換の芳香族基、またはヘテロ芳香族基からなる群より選択された２価基であって、前記Ｙ^１およびＹ^２は、それぞれ独立に、−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−ＣＮ、または−Ｒ^１であり、
   Ｂ^１は、−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＣＮ、−ＮＣ、−ＮＣＯ、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^１Ｒ^２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^１、−ＮＨ_２、−ＳＨ、−ＳＲ^１、−ＳＯ_３Ｈ、−ＳＯ_２Ｒ^１、−ＯＨ、−ＮＯ_２、−ＣＦ_３、−ＳＦ_３、重合性基、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数２〜４のアシル基、末端に炭素数２〜４のアシル基が結合した炭素数２〜６のアルキニレン基、炭素数１〜５のアルコール基、または炭素数１〜１２のアルコキシ基であり、前記Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、−Ｈまたは炭素数１〜１２のアルキルである。
2. 前記化学式１のＡ、Ｇ^１およびＧ^２は、それぞれ独立に、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環、ベンゼン環、ナフタレン環、またはフェナントレン環であり；
   前記Ｇ^１およびＧ^２のうちの少なくとも１つは、シクロヘキサン環またはシクロヘキセン環である、請求項１に記載の光学素子用組成物。
3. 前記化学式１のＡに含まれている少なくとも１つの水素は、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＣＮ、−ＮＣ、−ＮＣＯ、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^１Ｒ^２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^１、−ＮＨ_２、−ＳＨ、−ＳＲ^１、−ＳＯ_３Ｈ、−ＳＯ_２Ｒ^１、−ＯＨ、−ＮＯ_２、−ＣＦ_３、−ＳＦ_３、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数２〜４のアシル基、末端に炭素数２〜４のアシル基が結合した炭素数２〜６のアルキニレン基、炭素数１〜５のアルコール基、または炭素数１〜１２のアルコキシ基で置換されており、前記Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、−Ｈまたは炭素数１〜１２のアルキルである、請求項１に記載の光学素子用組成物。
4. 前記化学式１のＥ^１、Ｅ^２、Ｄ^１およびＤ^２は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、−ＣＯ−ＮＲ^１−、−ＮＲ^１−ＣＯ−、−ＮＲ^１−ＣＯ−ＮＲ^１−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−（ＣＨ_２)_３−、−（ＣＨ_２)_４−、−ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＹ^１＝ＣＹ^２−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝ＣＲ^１−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、または−ＣＲ^１Ｒ^２−であって、前記Ｙ^１およびＹ^２は、それぞれ独立に、−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−ＣＮ、または−Ｒ^１であり、前記Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、−Ｈまたは炭素数１〜１２のアルキルである、請求項１に記載の光学素子用組成物。
5. 前記化学式１のＰは、ＣＨ_２＝ＣＺ^１−ＣＯＯ−、ＣＨ_２＝ＣＺ^１−ＣＯ−、ＣＨ_２＝ＣＺ^２−（Ｏ）_ａ−、ＣＨ_３−ＣＨ＝ＣＨ−Ｏ−、（ＣＨ_２＝ＣＨ）_２ＣＨ−ＯＣＯ−、（ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＨ_２）_２ＣＨ−ＯＣＯ−、（ＣＨ_２＝ＣＨ）_２ＣＨ−Ｏ−、（ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＨ_２）_２Ｎ−、（ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＨ_２）_２Ｎ−ＣＯ−、ＨＯ−ＣＺ^１Ｚ^２−、ＨＳ−ＣＺ^１Ｚ^２−、ＨＺ^１Ｎ−、ＨＯ−ＣＺ^１Ｚ^２−ＮＨ−、ＣＨ_２＝ＣＺ^１−ＣＯ−ＮＨ−、ＣＨ_２＝ＣＨ−（ＣＯＯ）_ａ−Ｐｈｅ−（Ｏ）_ｂ−、ＣＨ_２＝ＣＨ−（ＣＯ）_ａ−Ｐｈｅ−（Ｏ）_ｂ−、Ｐｈｅ−ＣＨ＝ＣＨ−、ＨＯＯＣ−、ＯＣＮ−、Ｚ^１Ｚ^２Ｚ^３Ｓｉ−、
   

   

   、または
   

   

   であり、
   前記Ｚ^１〜Ｚ^３は、それぞれ独立に、−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−ＣＮ、−ＣＦ_３、フェニル、または炭素数１〜５のアルキルであり、
   前記Ｐｈｅは、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＣＮ、−ＮＣ、−ＮＣＯ、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^１Ｒ^２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^１、−ＮＨ_２、−ＳＨ、−ＳＲ^１、−ＳＯ_３Ｈ、−ＳＯ_２Ｒ^１、−ＯＨ、−ＮＯ_２、−ＣＦ_３、または−ＳＦ_３によって置換もしくは非置換の１，４−フェニレンであり、
   前記ａおよびｂは、それぞれ独立に、０または１である、請求項１に記載の光学素子用組成物。
6. 前記化学式１のＳ_ｐは、−Ｓ_ｐ−Ｐが−Ｘ’−Ｓ_ｐ’−Ｐとなるようにする化学式−Ｘ’−Ｓ_ｐ’から選択され、
   前記Ｓ_ｐ’は、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、または−ＣＮで１置換または多重置換の炭素数１〜２０のアルキレンであり、前記アルキレンにおいて、１つ以上の−ＣＨ_２−基は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ^１−、ＳｉＲ^１Ｒ^２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＮＲ^１−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ^１−、−ＮＲ^１−ＣＯ−ＮＲ^１−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−で代替されていてもよく、
   前記Ｘ’は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、−ＣＯ−ＮＲ^１−、−ＮＲ^１−ＣＯ−、−ＮＲ^１−ＣＯ−ＮＲ^１−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＳＣＦ_２−、−ＳＦ_２Ｏ−、−ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝ＣＲ^１−、−ＣＹ^１＝ＣＹ^２−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、または単結合であり、
   前記Ｙ^１およびＹ^２は、それぞれ独立に、−Ｈ、−Ｆ、−Ｃｌ、−ＣＮ、または−Ｒ^１であり、
   前記Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、−Ｈまたは炭素数１〜１２のアルキルである、請求項１に記載の光学素子用組成物。
7. 前記−［Ｑ^１］_ｐ−は、
   

   

   からなる群より選択され、
   前記ｒは、０、１、２、３または４であり、
   前記Ｄは、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＣＮ、−ＮＯ_２、−ＮＣＯ、−ＮＣＳ、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^１Ｒ^２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^１、−ＮＲ^１Ｒ^２、−ＯＨ、−ＳＦ_５、置換もしくは非置換のシリル、炭素数６〜１２のアリール、炭素数１〜１２の直鎖または分枝鎖アルキル、アルコキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、またはアルコキシカルボニルオキシであり、前記Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、−Ｈまたは炭素数１〜１２のアルキルである、請求項１に記載の光学素子用組成物。
8. 前記反応性メソジェニック化合物は、下記化学式３で表される化合物である、請求項１に記載の光学素子用組成物：
   

   

   前記化学式３において、
   Ｐは、重合性基であり、
   Ｓ_ｐは、スペーサー基または単結合であり、
   Ｘは、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、または単結合であり、
   ｎは、０または１であり、
   ＭＧは、メソジェニック基であり、
   Ｒは、炭素数１〜２５のアルキルラジカル、ハロゲン、シアノ、または前記Ｐ−（Ｓ_ｐ−Ｘ）_ｎ−に与えられた意味を有するものであり、前記アルキルラジカルにおいて、１つ以上の隣接しないＣＨ_２基は、互いにそれぞれ独立に、酸素原子が互いに直接連結されない方式で−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ_３）−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、または−Ｃ≡Ｃ−によって代替されていてもよい。
9. 前記化学式３のＰは、ビニル基、アクリレート基、メタクリレート基、プロペニルエーテル基、またはエポキシ基である、請求項８に記載の光学素子用組成物。
10. 前記化学式３のＳ_ｐは、炭素数１〜２０の線状または分枝されたアルキレン基であり；前記アルキレン基において、１つ以上の隣接しないＣＨ基は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ）−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨＦ−、−ＣＨＣｌ−、−ＣＨ（ＣＮ）−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−によって代替できる、請求項８に記載の光学素子用組成物。
11. 前記化学式３のＭＧは、下記化学式４で表される基である、請求項８に記載の光学素子用組成物：
    

    

    前記化学式４において、
    Ｙ^ａ、Ｙ^ｂおよびＹ^ｃは、それぞれ独立に、１つ以上のＣＨ基がＮによって置換もしくは非置換の１，４−フェニレン；１つまたは２つの隣接しないＣＨ_２基がＯ、ＳまたはＯとＳによって置換もしくは非置換の１，４−シクロへキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、またはナフタレン−２，６−ジイルであり；前記基はいずれも、ハロゲン、シアノ、ニトロ基、または１つ以上の水素原子がＦまたはＣｌによって置換されていてもよい炭素数１〜７のアルキル、アルコキシまたはアルカノイル基で１置換または多置換されていてもよく、
    Ｚ^ａおよびＺ^ｂは、それぞれ独立に、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、または単結合であり、
    ｎは、０、１または２である。
12. 前記Ｙ^ａ、Ｙ^ｂおよびＹ^ｃは、それぞれ独立に、１，４−フェニレン（Ｐｈｅ）、１つ以上の基Ｌによって置換された１，４−フェニレン（ＰｈｅＬ）、または１，４−シクロへキシレン（Ｃｙｃ）であり、前記基Ｌは、Ｆ、Ｃｌ、ＣＮ、ＮＯ_２、ＣＨ_３、Ｃ_２Ｈ_５、ＯＣＨ_３、ＯＣ_２Ｈ_５、ＣＯＣＨ_３、ＣＯＣ_２Ｈ_５、ＣＦ_３、ＯＣＦ_３、ＯＣＨＦ_３、またはＯＣＨ_２Ｆ_５であり；
    前記Ｚ^ａおよびＺ^ｂは、それぞれ独立に、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−である、請求項１１に記載の光学素子用組成物。
13. 前記反応性メソジェニック化合物は、下記化学式５ａ〜５ｇで表される群より選択される１種以上の化合物である、請求項８に記載の光学素子用組成物：
    

    

    前記化学式５ａ〜５ｇにおいて、
    ｘおよびｙは、それぞれ独立に、１〜１２の整数であり、
    Ａは、１，４−フェニレンまたは１，４−シクロへキシレン基であり、
    Ｒ^１は、ハロゲン、シアノ、または炭素数１〜１２のアルキルまたはアルコキシ基であり、
    Ｑ^１およびＱ^２は、それぞれ独立に、Ｈ、ハロゲン、ＣＮ、炭素数１〜７のアルキル、アルコキシまたはアルカノイル基である。
14. 請求項１に記載の光学素子用組成物から得られ、下記式Ｉおよび式ＩＩを満足する光学異方体：
    （式Ｉ）
    △ｎ_{（４５０ｎｍ）}／△ｎ_{（５５０ｎｍ）}＜１．０
    （式ＩＩ）
    △ｎ_{（６５０ｎｍ）}／△ｎ_{（５５０ｎｍ）}＞１．０
    上記式Ｉおよび式ＩＩにおいて、△ｎ（λ）は、液晶相内の波長λでの比複屈折率を意味する。

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