TW201529554A - 用於製造具有負光學色散的光學元件之組成物及其所製造之光學各向異性體 - Google Patents

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Abstract

本發明係關於用於製造具有負光學色散的光學元件的組成物及由該組成物製備的光學各向異性體。依據本發明，呈現穩定逆波長色散的光學各向異性體可以更簡單地使用該用於光學元件的組成物來製備，而且將該光學各向異性體應用於液晶顯示裝置作為諸如薄層寬帶λ/4片的光學膜是有可能的。

Description

用於製造具有負光學色散的光學元件之組成物及其所製造之光學各向異性體
本發明係關於用於製造具有負光學色散的光學元件之組成物及由該組成物所製造之光學各向異性體。
相位延遲膜是一種用於實現例如廣視角液晶顯示器的光學膜。相位延遲膜的相位延遲值取決於波長，而且相位延遲值的波長色散大致被分為以下三類。即相位延遲值的波長色散可被分類為相位延遲值在較短波長側具有較大波長色散的正常色散、相位延遲從短波長側到長波長側幾乎不改變的平坦色散、以及相位延遲值在較短波長側具有較小波長色散的逆色散。在相位延遲膜的情況下，較佳的是表現出逆色散，因為其在寬波帶中具有一定的相位差(λ/2、λ/4等)。
然而，由於大多數由常見樹脂膜製成的相位延遲膜表現出正常色散，故可以提供逆波長色散的各種液晶組成物正被提出。通常，液晶組成物包括棒型液晶材料和垂直於液晶材料配向的非液晶材料。然而，當非液晶材料的混合比例低時不會引發逆波長色散，而且當非液晶材料的混合比例高時液晶組成物會失去液晶的特性。此外，當增加非液晶材料的 含量以提高逆波長色散時，因為逆波長色散和雙折射具有互補的特性，雙折射會相對減少。
因此，需要開發可以引發強的逆波長色散的材料及用於光學元件、可以引發逆波長色散且具有低的非液晶材料含量的組成物。
因此，本發明的一個態樣是提供用於光學元件的組成物，該組成物可以提供更強和穩定的逆波長色散性質。
本發明的另一個態樣是提供使用該組成物形成的光學各向異性體。
依據本發明，提供用於光學元件的組成物，該組成物包括由以下化學式1表示的負光學色散化合物；以及具有至少一可聚合官能基的反應性液晶原化合物：
在化學式1中，A為C5-C8非芳香碳環或雜環基或C6-C20芳香或雜芳香基；E1、E2、D1、及D2分別獨立為單鍵或二價連接基團；L1和L2分別獨立為-H、-F、-Cl、-Br、-I、-CN、-NC、-NCO、-OCN、-SCN、-C(=O)NR1R2、-C(=O)R1、-O-C(=O)R1、-NH2、-SH、-SR1、-SO3H、-SO2R1、-OH、-NO2、-CF3、-SF3、經取代或未經取代的矽基、C1-C40經取代或未經取代的碳基或烴基、或-Sp-P，其中該L1和L2中之至少一者為-Sp-P，該P為可聚合基團，該Sp為間隔基團或單鍵，並且每個 R1和R2係獨立為-H或C1-C12烷基；m和n係獨立為1至5的整數，其中若該m或n為2以上時，每個-(D1-G1)-或-(G2-D2)-重複兩次或更多次的重複單元可以彼此相同或不同；G1和G2係獨立為C5-C8非芳香碳環或雜環基或C6-C20芳香或雜芳香基，其中該G1和G2中之至少一者為碳環或雜環基，而且該碳環或雜環基中包括的任一個氫係被由以下化學式2表示的基團取代：
在化學式2中，p為1至10的整數，其中若該p為2以上時，每個-(Q1)-重複兩次或更多次的重複單元可以彼此相同或不同，Q1係獨立為選自於由-C≡C-、-CY1=CY2-、及C6-C20經取代或未經取代的芳香或雜芳香基所組成之群組的二價基團，並且該Y1和Y2係獨立為-H、-F、-Cl、-CN、或-R1，及B1為-H、-F、-Cl、-Br、-I、-CN、-NC、-NCO、-OCN、-SCN、-C(=O)NR1R2、-C(=O)R1、-NH2、-SH、-SR1、-SO3H、-SO2R1、-OH、-NO2、-CF3、-SF3、可聚合基團(該P定義於化學式1)、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C2-C4醯基、末端與C2-C4醯基連接的C2-C6亞炔基、C1-C5醇基、或C1-C12烷氧基，其中該R1和R2係獨立為-H或C1-C12烷基。
此外，依據本發明，提供了一種從該組成物獲得並滿足以下方程式I和II的光學各向異性體：(方程式I) △n(450nm)/△n(550nm)〈1.0
(方程式II)△n(650nm)/△n(550nm)〉1.0
在方程式I和II中，△n(λ)表示在波長λ的特定雙折射率。
以下說明依據本發明之實施例用於光學元件的組成物及使用該組成物形成的光學各向異性體。
在此之前，本說明書中的技術用語僅用於提及具體的實施例，並無意圖限制本發明，除非沒有特別提及。而且，本文使用的單數表示可以包括複數的表示，除非上下文有不同的表達。
並且，本說明書中使用的用語「包括」之含義體現具體的特徵、區域、整數、步驟、動作、元件、或成分，而且不排除其它具體的特徵、區域、整數、步驟、動作、元件、或成分。
同時，「負光學色散化合物」意指化合物藉由自身或藉由被任意的液晶化合物聚合或交聯而表現出液晶性質和逆波長色散性，雖然自身未表現出液晶性質但使該液晶化合物表現出逆波長色散。具體來說，獲得其中液晶分子的定向結構被固定的聚合化合物是有可能的，該聚合化合物可以藉由將負光學色散化合物或包括該負光學色散化合物和液晶化合物(例如具有液晶性質的反應性液晶原化合物)的組成物配向於液晶態並曝露於活性能量射線(例如紫外線)來得到。像這樣獲得的聚合化合物在諸如雙折射率、電容率、磁化率、模數、熱膨脹係數等物理性質中表現出各向異性，因此可以被應用於光學各向異性體，例如延遲板、偏光板、偏光棱鏡、亮度增強膜、光纖的覆蓋材料等等。
並且，「特定雙折射率」意指在通過光學膜的透射光之波長(λ)的相位差值，並且可以由△n(λ)表示。
並且，「液晶原基團」意指有能力引發液晶行為的基團。
並且，「間隔基團」係本發明所屬技術領域中具有通常知識之人士已經知道的，例如，其被揭示於文獻[C.Tschierske,G.Pelzl,S.Diele,Angew.Chem.2004,116,6340-6368]中。該間隔基團被指定為連接液晶原基團與可聚合基團的撓性有機基團。
並且，「碳基」意指任意的一價或多價有機殘基，該有機殘基包括沒有任意的非碳原子的一個或更多個碳原子(例如-C≡C-)或選擇性地與一個或更多個非碳原子(例如N、O、S、P、Si)結合的一個或更多個碳原子(例如羰基)。「烴基」意指除了一個或更多個H原子還包括一個或更多個選擇性雜原子(例如N、O、S、P、Si)的碳基。
I.用於光學元件的組成物
依據本發明之實施例，提供用於光學元件的組成物，該組成物包括由以下化學式1表示的負光學色散化合物；以及具有至少一可聚合官能基的反應性液晶原化合物：
在化學式1中，A為C5-C8非芳香碳環或雜環基或C6-C20芳香或雜芳香基；E1、E2、D1、及D2係獨立為單鍵或二價連接基團；L1和L2係獨立為-H、-F、-Cl、-Br、-I、-CN、-NC、-NCO、-OCN、-SCN、-C(=O)NR1R2、-C(=O)R1、-O-C(=O)R1、-NH2、-SH、-SR1、 -SO3H、-SO2R1、-OH、-NO2、-CF3、-SF3、經取代或未經取代的矽基、C1-C40經取代或未經取代的碳基或烴基、或-Sp-P，其中該L1和L2中之至少一者為-Sp-P，該P為可聚合基團，該Sp為間隔基團或單鍵，並且每個R1和R2係獨立為-H或C1-C12烷基；m和n係獨立為1至5的整數，其中若該m或n為2以上時，每個-(D1-G1)-或-(G2-D2)-重複兩次或更多次的重複單元可以彼此相同或不同；G1和G2係獨立為C5-C8非芳香碳環或雜環基或C6-C20芳香或雜芳香基，其中該G1和G2中之至少一者為碳環或雜環基，而且該碳環或雜環基中包括的任一個氫係被由以下化學式2表示的基團取代：
在化學式2中，p為1至10的整數，其中若該p為2以上時，每個-(Q1)-重複兩次或更多次的重複單元可以彼此相同或不同，Q1係獨立為選自於由-C≡C-、-CY1=CY2-、及C6-C20經取代或未經取代的芳香或雜芳香基所組成之群組的二價基團，並且該Y1和Y2係獨立為-H、-F、-Cl、-CN、或-R1，以及B1為-H、-F、-Cl、-Br、-I、-CN、-NC、-NCO、-OCN、-SCN、-C(=O)NR1R2、-C(=O)R1、-NH2、-SH、-SR1、-SO3H、-SO2R1、-OH、-NO2、-CF3、-SF3、可聚合基團(該P定義於化學式1)、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C2-C4醯基、末端與C2-C4醯基連接的C2-C6亞炔基、C1-C5醇基、或C1-C12烷氧基，其中該R1和R2係獨立為-H或C1-C12烷基。
由於本發明人的持續實驗而認定的是，包括具有像化學式1的T形結構的負光學色散化合物和具有至少一可聚合官能基的反應性液晶原化合物之組成物可以提供一種呈現穩定的逆波長色散的光學各向異性體。
以下說明依據本發明之實施例用於光學元件的組成物中可以包括的成分。
(負光學色散化合物)
化學式1表示的化合物具有T形結構，其中具有高極化性的共軛結構之橋接基團連接液晶原基團的任一個部分(特別是L1-(D1-G1)m-基團和-(G2-D2)n-L2基團)。即，依據本發明之實施例的負光學色散化合物具有不對稱的T形結構，與其中兩個棒型液晶原化合物藉由橋接基團對稱連接的對稱H形化合物不同。因此，由於具有高極化性的垂直橋接基團，化學式1的化合物可以表現出穩定的逆波長色散性，同時由於不對稱的T形液晶原基團，化學式1的化合物可以表現出優異的定向性。
化學式1中的A為C5-C8非芳香碳環或雜環基或C6-C20芳香或雜芳香基；該A中的碳環或雜環基可以是5元環(例如環戊烷、四氫呋喃、四氫噻吩、吡咯啶)；6元環(例如環己烷、甲矽烷(silinane)、環己烯、四氫吡喃、四氫噻喃、1,3-二噁烷、1,3-二噻環己烷、哌啶)；7- 元環(例如環庚烷)；或稠合基團(例如四氫萘、十氫萘、二氫茚、雙環[1.1.1]戊烷-1,3-二基、雙環[2.2.2]辛烷-1,4-二基、螺[3.3]庚烷-2,6-二基、八氫-4,7-甲醯-二氫茚-2,5-二基(octahydro-4,7-methano-indane-2,5-diyl))。
該A中的芳香基可以是苯、聯伸二苯、聯伸三苯、萘、蒽、聯萘、菲、芘、二氫芘、、苝、稠四苯、稠五苯、苯併芘、芴、茚、茚併芴、螺二芴等等。並且該A中的雜芳香基G1和G2可以是5元環(例如吡咯、吡唑、咪唑、1,2,3-三唑、1,2,4-三唑、四唑、呋喃、噻吩、硒吩、噁唑、異噁唑、1,2-噻唑、1,3-噻唑、1,2,3-噁二唑、1,2,4-噁二唑、1,2,5-噁二唑、1,3,4-噁二唑、1,2,3-噻二唑、1,2,4-噻二唑、1,2,5-噻二唑、1,3,4-噻二唑)；6元環(例如吡啶、嗒嗪、嘧啶、吡嗪、1,3,5-三嗪、1,2,4-三嗪、1,2,3-三嗪、1,2,4,5-四嗪、1,2,3,4-四嗪、1,2,3,5-四嗪)；或稠合基團(例如咔唑、吲哚、異吲哚、吲哚嗪、吲唑、苯併咪唑、苯併三唑、嘌呤、萘咪唑(naphthimidazole)、菲咪唑(phenanthrimidazole)、吡啶咪唑(pyridimidazole)、吡嗪咪唑(pyrazineimidazole)、喹噁啉咪唑(quinoxalineimidazole)、苯併噁唑、萘噁唑(naphthoxazole)、蒽噁唑(anthroxazole)、菲噁唑(phenanthroxazole)、異噁唑、苯併噻唑、苯併呋喃、異苯併呋喃、二苯併呋喃、喹啉、異喹啉、喋啶、苯併-5,6-喹啉、苯併-6,7-喹啉、苯併-7,8-喹啉、苯併異喹啉、吖啶、吩噻嗪、吩噁嗪、苯併嗒嗪、苯併嘧啶、喹噁啉、吩嗪、萘啶、吖咔唑(azacarbazole)、苯併咔啉(benzocarboline)、菲啶、菲咯啉、噻吩併[2,3-b]噻吩、噻吩併[3,2-b]噻吩、二噻吩併噻吩(dithienothiophene)、二噻吩併吡啶(dithienopyridine)、異苯併噻吩(isobenzothiophene)、二苯併噻吩、苯併噻二唑噻吩(benzothiadiazothiophene))。
較佳的是，該A可以是環己烷環、環己烯環、苯環、萘 環、或菲環。更佳的是，該A可以選自於由反式-1,4-環亞己基、1,4-亞苯基、1,5-亞萘基、及2,6-亞萘基所組成之群組。
並且，依據本發明的實施例，該A中包括的至少一個氫可以選擇性地被其它能夠使分子之間進行必要的相互作用的官能基取代。使分子之間進行相互作用的官能基使得透過與其它分子的相互作用來展現更加改良的定向穩定性是有可能。使分子之間進行相互作用的那種官能基並沒有特別的限制，但較佳可以是-F、-Cl、-Br、-I、-CN、-NC、-NCO、-OCN、-SCN、-C(=O)NR1R2、-C(=O)R1、-NH2、-SH、-SR1、-SO3H、-SO2R1、-OH、-NO2、-CF3、-SF3、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C2-C4醯基、末端與C2-C4醯基連接的C2-C6亞炔基、C1-C5醇基、或C1-C12烷氧基。此處，該R1和R2係獨立為-H或C1-C12烷基。
此外，化學式1中的E1、E2、D1、及D2係獨立為單鍵或二價連接基團。
具體而言，E1、E2、D1、及D2可以獨立為單鍵、-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-O-COO-、-CO-NR1-、-NR1-CO-、-NR1-CO-NR1-、-OCH2-、-CH2O-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH2CH2-、-(CH2)3-、-(CH2)4-、-CF2CH2-、-CF2CH2-、-CH=CH-、-CY1=CY2-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-CH=CR1-、-C≡C-、-CH=CH-COO-、-OCO-CH=CH-、或-CR1R2-。此處，該Y1和Y2係獨立為-H、-F、-Cl、-CN、或-R1，並且該R1和R2係獨立為-H或C1-C12烷基。
而且，化學式1中的L1和L2為液晶原基團的末端並且係獨立為-H、-F、-Cl、-Br、-I、-CN、-NC、-NCO、-OCN、-SCN、-C(=O)NR1R2、-C(=O)R1、-O-C(=O)R1、-NH2、-SH、-SR1、-SO3H、-SO2R1、-OH、-NO2、-CF3、-SF3、經取代或未經取代的矽基、C1-C40經取代或未經取代的碳基 或烴基、或-Sp-P，其中該L1和L2中之至少一者為-Sp-P。此處，該P為可聚合基團，該Sp為間隔基團或單鍵，並且R1和R2係獨立為-H或C1-C12烷基。
對於非限制性實施例來說，該L1和L2可以是未經取代的、經F、Cl、Br、I、或CN單取代或多取代的C1-C25直鏈、支鏈、或環狀烷基；這時，一個或更多個非相鄰的CH2基團可以獨立地被-O-、-S-、-NH-、-NR1-、SiR1R2-、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCO-O-、-S-CO-、-CO-S-、-SO2-、-CO-NR1-、-NR1-CO-、-NR1-CO-NR1-、-CY1=CY2-、或-C≡C-取代。此處，該Y1和Y2係獨立為-H、-F、-Cl、-CN、或-R1，並且該R1和R2係獨立為-H或C1-C12烷基。
此外，該L1和L2可以選自C1-C20烷基、C1-C20氧雜烷基、C1-C20烷氧基、C2-C20烯基、C2-C20炔基、C1-C20矽基、C1-C20酯、C1-C20胺基、及C1-C20氟烷基。
而且，在該L1和L2的實例-Sp-P中，該P為可聚合基團並且可以是CH2=CZ1-COO-、CH2=CZ1-CO-、CH2=CZ2-(O)a-、CH3-CH=CH-O-、(CH2=CH)2CH-OCO-、(CH2=CH-CH2)2CH-OCO-、(CH2=CH)2CH-O-、(CH2=CH-CH2)2N-、(CH2=CH-CH2)2N-CO-、HO-CZ1Z2-、HS-CZ1Z2-、HZ1N-、HO-CZ1Z2-NH-、CH2=CZ1-CO-NH-、CH2=CH-(COO)a-Phe-(O)b-、CH2=CH-(CO)a-Phe-(O)b-．Phe-CH=CH-、HOOC-、OCN-、Z1Z2Z3Si-、、或 。此處，該Z1至Z3係獨立為-H、-F、-Cl、-CN、-CF3、苯基、或C1-C5烷基，該Phe為未經取代的或經-F、-Cl、-Br、-I、-CN、-NC、-NCO、-OCN、-SCN、-C(=O)NR1R2、-C(=O)R1、-NH2、-SH、-SR1、-SO3H、-SO2R1、-OH、-NO2、-CF3、或-SF3取代的1,4-亞苯基，而且該a和b係獨立為0或1。
而且，在該L1和L2的實例-Sp-P中，該Sp係選自使-Sp-P變成-X'-Sp'-P的化學式-X'-Sp'。該Sp'為經-F、-Cl、-Br、-I、或-CN單取代或多取代的C1-C20亞烷基，並且該亞烷基中的一個或更多個-CH2-基團可以被-O-、-S-、-NH-、-NR1-、-SiR1R2-、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCO-O-、-S-CO-、-CO-S-、-NR1-CO-O-、-O-CO-NR1-、-NR1-CO-NR1-、-CH=CH-、或-C≡C-取代。而且，該X'為-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-O-COO-、-CO-NR1-、-NR1-CO-、-NR1-CO-NR1-、-OCH2-、-CH2O-、-SCH2-、-CH2S-、-OCF2-、-CF2O-、-SCF2-、-SF2O-、-CF2CH2-、-CF2CF2-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-CH=CR1-、-CY1=CY2-、-C≡C-、-CH=CH-COO-、-OCO-CH=CH-、或單鍵取代。此處，該Y1和Y2係獨立為-H、-F、-Cl、-CN、或-R1，並且該R1和R2係獨立為-H或C1-C12烷基。
並且，化學式1中的m和n可以彼此相同或不同，而且可以獨立為1至5的整數。此處，若該m或n為2以上時，每個-(D1-G1)-或-(G2-D2)-重複兩次或更多次的重複單元可以彼此相同或不同。例如，當m為2時，每個-(D1-G1)-(D1-G1)-的重複單元中包括的D1或G1可以在上面揭示的範圍中彼此相同或不同。
此外，化學式1中的G1和G2係獨立為C5-C8非芳香碳環 或雜環基或C6-C20芳香或雜芳香基，其中該G1和G2中之至少一者為碳環或雜環基。
該G1和G2中的碳環基、雜環基、芳香基、及雜芳香基與該A中定義的相同。
特別的是，依據本發明的實施例，該G1和G2中之至少一者為碳環或雜環基，而且該碳環或雜環基中包括的任一個氫被以下化學式2表示的基團取代：
在化學式2中，p為1至10的整數，其中若該p為2以上時，每個-(Q1)-重複兩次或更多次的重複單元可以彼此相同或不同，Q1係獨立為選自於由-C≡C-、-CY1=CY2-、及C6-C20經取代或未經取代的芳香或雜芳香基團所組成之群組的二價基團，而且該Y1和Y2係獨立為-H、-F、-Cl、-CN、或-R1，以及B1為-H、-F、-Cl、-Br、-I、-CN、-NC、-NCO、-OCN、-SCN、-C(=O)NR1R2、-C(=O)R1、-NH2、-SH、-SR1、-SO3H、-SO2R1、-OH、-NO2、-CF3、-SF3、可聚合基團(該P定義於化學式1)、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C2-C4醯基、末端與C2-C4醯基連接的C2-C6亞炔基、C1-C5醇基、或C1-C12烷氧基，其中該R1和R2獨立為-H或C1-C12烷基。
在化學式2中，-[Q1]p-可以由一個或更多個選自於由π共軛直鏈基團、芳香基團、以及雜芳香基團所組成之群組的子基團Q1所組成。例如，該-[Q1]p-可以由一個或更多個選自具有120度以上、較佳為180 度以上的鍵角的基團之子基團Q1所組成。此處，p為1至10的整數，其中若該p為2以上時，每個-(Q1)-重複兩次或更多次的重複單元可以彼此相同或不同。
對於非限制性實施例來說，這樣的子基團Q1可以是連接到對位的鄰近官能基的二價芳香基團(例如1,4-亞苯基、萘-2,6-二基、二氫茚-2,6-二基、噻吩併[3,2-b]噻吩-2,5-二基)或包括sp混成碳的基團(例如-C≡C-)。此外，該子基團Q1可以包括-CH=CH-、-CY1=CY2-、及-CH=CR1-。此處，該Y1和Y2係獨立為-H、-F、-Cl、-CN、或-R1，並且該R1和R2係獨立為-H或C1-C12烷基。
此外，該-[Q1]p-可以包括一個或更多個選自於由-C≡C-、經取代或未經取代的1,4-亞苯基、及經取代或未經取代的9H-芴-2,7-二基所組成之群組的基團。此時，在芴基中9-位置的H原子可以被碳基或烴基取代。
較佳的是，該-[Q1]p-可以選自於由-C≡C-、-C≡C-C≡C-、-C≡C-C≡C-C≡C-、-C≡C-C≡C-C≡C-C≡C-、 所組成之群組。
此處，該r為0、1、2、3、或4，並且該D可以是-F、-Cl、-Br、-I、-CN、-NO2、-NCO、-NCS、-OCN、-SCN、-C(=O)NR1R2、-C(=O)X、-C(=O)OR1、-NR1R2、-OH、-SF5、經取代或未經取代的矽基、C6-C12芳基、C1-C12直鏈或支鏈烷基、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、烷基羰基氧基、或烷氧基羰基氧基。
而且，在化學式2中的B1為-H、-F、-Cl、-Br、-I、-CN、-NC、-NCO、-OCN、-SCN、-C(=O)NR1R2、-C(=O)R1、-NH2、-SH、-SR1、-SO3H、-SO2R1、-OH、-NO2、-CF3、-SF3、可聚合基團(該P定義於化學式1)、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C2-C4醯基、末端與C2-C4醯基連接的C2-C6亞炔基、C1-C5醇基、或C1-C12烷氧基，其中該R1和R2係獨立為-H或C1-C12烷基。
特別的是，依據本發明的實施例，在該例舉的基團之中，該B1較佳可以是一個或更多個選自於由π共軛直鏈基團、芳香基團、及雜芳香基團所組成之群組的基團、以及使化學式2的橋接基團具有共軛結構的雜芳香基團(例如對應於該Q的基團)。
對於非限制性的實施例來說，依據後述的實施例，化學式1的負光學色散化合物可以是由RD-01至RD-42表示的化合物。然而，該負光學色散化合物並不限於RD-01至RD-42的化合物，而且可以藉由上述範圍中的各種組合來實現。
而且，由化學式1表示的負光學色散化合物可以藉由應用習知的反應來合成，並且更詳細的合成方法將透過實施例進行說明。
(反應性液晶原化合物)
同時，依據本發明用於光學元件的組成物包括具有至少一可聚合官能基的反應性液晶原化合物。
該反應性液晶原化合物可以是本發明所屬技術領域中常見的化合物，而且該反應性液晶原化合物較佳可以是由以下化學式3表示的化合物：
在化學式3中，P為可聚合基團，Sp為間隔基團或單鍵，X為-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCOO-或單鍵， n為0或1，MG為液晶原基團，以及R為C1-C25烷基、鹵素、氰基、或具有給予該P-(S-p-X)n-的含義的基團，而且該烷基中的一個或更多個非相鄰CH2基團可以被-O-、-S-、-NH-、-N(CH3)-、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCO-O-、-S-CO-、-CO-S-、或-C≡C-以氧原子彼此不直接連接的方式獨立取代。
化學式3中的P為可聚合基團並且遵循在化學式1化合物中的定義。在化學式3中較佳的是，P可以是乙烯基、丙烯酸酯基、甲基丙烯酸酯基、丙烯基醚基團、或環氧基團。
而且，化學式3中的SP為間隔基團並且遵循在化學式1化合物中的定義。在化學式3中較佳的是，SP可以是C1-C20直鏈或支鏈亞烷基，而且該亞烷基中的一個或更多個非相鄰CH基團可以被-O-、-S-、-NH-、-N(CH)-、-CO-、-O-CO-、-S-CO-、-O-COO-、-CO-S-、-CO-O-、-CHF-、-CHCl-、-CH(CN)-、-CH=CH-、或-C≡C-取代。
同時，化學式3中的MG為液晶原基團，而且該MG較佳可以是由以下化學式4表示的基團：
在化學式4中，Ya、Yb、及Yc係獨立為其中一個或更多個CH基團未被取代或被N取代的1,4-亞苯基；1,4-環亞己基、1,4-環亞己烯基、或其中一個或更多個CH2基團未被取代或被O、S、或O和S取代的萘-2,6-二基；而且該每個基團可以是被鹵素、氰基、硝基、或C1-C7烷基、烷氧基或烷 醯基單取代或多取代的，該烷醯基之一個或更多個氫原子可以被F或Cl取代。
Za和Zb係獨立為-COO-、-OCO-、-CH2CH2-、-OCH2-、-CH2O-、-CH=CH-、-C≡C-、-CH=CH-COO-、-OCO-CH=CH-、或單鍵，以及n為0、1、或2。
此處，化學式4中的Ya、Yb、及Yc可以獨立為1,4-亞苯基(Phe)、被一個或更多個基團L取代的1,4-亞苯基(PheL)、或1,4-環亞己基(Cyc)，並且該基團L為F、Cl、CN、NO2、CH3、C2H5、OCH3、OC2H5、COCH3、COC2H5、CF3、OCF3、OCHF3、或OCH2F5。而且，該Za和Zb可以獨立為-COO-、-OCO-、-CH2CH2-、或-CH=CH-COO-。
對於非限制性的實施例，由化學式4表示的基團可以為-Phe-Zb-Phe-、-Phe-Zb-Cyc-、-PheL-Zb-Phe-、-PheL-Zb-Cyc-、-Phe-Zb-PheL-、-Phe-Za-Phe-Phe-、-Phe-Za-Phe-Cyc-、-Phe-Za-Phe-Zb-Phe-、-Phe-Za-Phe-Zb-Cyc-、-Phe-Za-Cyc-Zb-Phe-、-Phe-Za-Cyc-Zb-Cyc-、-Phe-Za-PheL-Zb-Phe-、-Phe-Za-Phe-Zb-PheL-、-PheL-Za-Phe-Zb-PheL-、-PheL-Za-PheL-Zb-Phe-、-PheL-Za-PheL-Zb-PheL-等等。
像以上的反應性液晶原化合物可以藉由一種或更多種選自於由以下化學式5a至5g表示之群組的化合物來例示：
[化學式5b]
在化學式5a至5g中，x和y係獨立為1至12的整數，A為1,4-亞苯基或1,4-環亞己基，R1為鹵素、氰基或C1-C12烷基或烷氧基，及Q1和Q2係獨立為H、鹵素、CN、C1-C7烷基、烷氧基或 烷醯基。
同時，依據本發明的實施例，用於光學元件的組成物每100重量份的負光學色散化合物可以包括100至300重量份、100至250重量份、或120至250重量份的反應性液晶原化合物。即較佳的是，該組成物每100重量份的負光學色散化合物包括300重量份或更少的反應性液晶原化合物，以充分地引發本發明所需的逆波長色散性。然而，當反應性液晶原化合物的含量過低時，液晶的特性可能會下降。因此，有利的是該組成物每100重量份的負光學色散化合物包括100重量份或更多的反應性液晶原化合物。
而且，依據本發明的實施例，用於光學元件的組成物除了化學式1的逆波長化合物與反應性液晶原化合物之外可以進一步包括聚合起始劑和溶劑。
此處，本發明所屬技術領域中常見的聚合起始劑和溶劑可被應用於本發明而沒有特別的限制。並且，可將聚合起始劑的含量決定於可以充分引發聚合反應並防止組成物的性質由於過量添加而降低的常見範圍中，而且較佳地，該含量可以是每100重量份的負光學色散化合物為0.01至5重量份。並且，可將該溶劑的含量決定於可以提供組成物適當黏度並可以引發適當聚合反應的常見範圍中。對於非限制性的實施例來說，該溶劑可以被包括在組成物中以使組成物中包括的固體含量(負光學色散化合物、反應性液晶原化合物、聚合起始劑等等)變成15至40wt%、15至35wt%、或20至30wt%。
而且，對於非限制性的實施例來說，該溶劑可以是苯、甲苯、二甲苯、均三甲苯、正丁基苯、二乙基苯、四氫萘、甲氧基苯、1,2-二甲氧基苯、乙二醇二甲醚、二乙二醇二甲醚、丙酮、甲乙酮、甲基異丁 基酮、環戊酮、環己酮、乙酸乙酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、γ-丁內酯、2-吡咯啶酮、N-甲基-2-吡咯啶酮、二甲基甲醯胺、氯仿、二氯甲烷、四氯化碳、二氯乙烷、三氯乙烯、四氯乙烯、氯苯、叔丁醇、二丙酮醇、甘油、單乙酸甘油酯、乙二醇、三甘醇、己二醇、乙二醇單甲醚、乙基賽璐蘇、丁基賽璐蘇、或上述之混合物。而且，在溶劑之中，沸點為60至250℃的溶劑有利於在塗佈組成物時形成一層均勻的厚度並最少化溶劑殘餘物或定向下降。
而且，用於光學元件的組成物可以視需要而選擇性地進一步包括具有至少兩個可聚合官能基的非液晶原化合物。該非液晶原化合物可以為了增加聚合物交聯的目的而被包括在其中，並且較佳的是，該非液晶原化合物可以是一種或更多種選自於由C1-C20烷基丙烯酸酯和C1-C20烷基二甲基丙烯酸酯所組成之群組的化合物，而且更佳的是，該非液晶原化合物可以是三甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、戊丁四醇四丙烯酸酯等等。
而且，用於光學元件的組成物可以視需要而選擇性地進一步包括界面活性劑，例如季銨鹽、烷基胺氧化物、多胺衍生物、聚氧乙烯-聚氧丙烯縮合物、月桂基硫酸鈉、月桂基硫酸銨、烷基取代的芳香磺酸鹽、烷基磷酸鹽、全氟烷基磺酸鹽等等；保存期限穩定劑，例如氫醌、氫醌單烷基醚系化合物、鄰苯三酚系化合物、硫酚系化合物、2-萘基胺系化合物、2-羥基萘系化合物等等；抗氧化劑，例如2,6-二叔丁基對甲酚、亞磷酸三苯酯等等；或紫外線吸收劑，例如水楊酸酯系化合物、苯併苯基系化合物、苯併三唑系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、鎳複合鹽系化合物等等。
而且，用於一個實施例之光學元件的組成物可以視需要而 選擇性地進一步包括用於控制光學各向異性或改良聚合層強度的霧化材料。該霧化材料可以是霧化的無機材料，例如鋰膨潤石、蒙脫石、高嶺石、ZnO、TiO2、CeO2、Al2O3、Fe2O3、ZrO2、MgF2、SiO2、SrCO3、Ba(OH)2、Ca(OH)2、Ga(OH)3、Al(OH)3、Mg(OH)2、Zr(OH)4等等；或霧化的有機材料，例如奈米碳管、富勒烯、樹枝狀聚合物、聚乙烯醇、聚甲基丙烯酸酯、聚醯亞胺等等。
II.光學各向異性體
此外，依據本發明之仍另一個實施例，提供了使用用於光學元件的組成物所形成的光學各向異性體。
該光學各向異性體可以包括固化的材料或聚合物，其中化學式1的負光學色散化合物之末端可聚合基團與液晶原化合物的至少部分末端可聚合基團被加成聚合或交聯。特別的是，該光學各向異性體可以表現出滿足以下方程式I和II的逆波長色散性，因為該光學各向異性體是從包括化學式1的負光學色散化合物的組成物所形成：(方程式I)△n(450nm)/△n(550nm)〈1.0
(方程式II)△n(650nm)/△n(550nm)〉1.0
在方程式I和II中，△n(λ)表示在液晶相中、在波長λ的特定雙折射率。
該光學各向異性體可以藉由將用於光學元件的組成物塗佈於支撐基板上、配向該組成物中的液晶化合物然後從中去除溶劑、並使之曝露於用於聚合的能量射線來得到。
此處，支撐基板並沒有特別的限制，但對於較佳的實施例來說，可以使用玻璃板、聚對苯二甲酸乙二酯膜、聚醯亞胺膜、聚醯胺膜、聚甲基丙烯酸甲酯膜、聚苯乙烯膜、聚氯乙烯膜、聚四氟乙烯膜、以纖維素為基礎的膜、聚矽氧烷膜等等。而且，較佳可以使用上面形成聚醯亞胺配向層或聚乙烯醇配向層的支撐基板。
可以使用任何習知的方法來作為將組成物塗佈在支撐基板上的方法，例如可以應用輥塗法、旋塗法、棒塗法、浸塗法、噴塗法等等。由該組成物形成的層之厚度可以依據用途而變化，而且該厚度較佳可在0.01至100μm的範圍中作選擇。
同時，至於配向液晶化合物的方法，對於非限制性實施例來說，可以使用在支撐基板上進行預配向處理的方法。該配向處理可以藉由在支撐基板上形成包括各種聚醯亞胺配向層或聚乙烯醇系配向層的液晶配向層、及進行諸如磨擦的處理來進行。此外，也可以使用施加磁場或電場於支撐基板上的組成物的方法。
而且，聚合用於光學元件的組成物的方法可以是習知使用光、熱、或電磁波的方法。
而且，該光學各向異性體可被用於液晶顯示器或OLED型顯示器的延遲膜、偏光元件、抗反射層、選擇性的輻射層、視角補償層等等。特別的是，當使用該組成物形成的光學各向異性體被應用於OLED型顯示器時，外部光的干擾可以被最小化，而且實現更完美的黑色是有可能的。
依據本發明用於光學元件的組成物使得提供一種可以表現出更強和穩定的逆波長色散性的光學各向異性體是有可能的。使用該組成物形成的光學各向異性體可作為薄層寬帶波片被應用於LCD或OLED 型顯示裝置。
圖1a至圖10分別例示依據本發明實施例的負光學色散化合物之合成流程。
在下文中，透過具體的實施例來更詳細地說明本發明的功能和效果。然而，這些實施例僅用於理解本發明，而且本發明的範圍並不限於該等實施例或被該等實施例所限制。
實施例1：化合物RD-01的合成
依據圖1a至1c所示的流程來合成化合物RD-01。
(化合物2的合成)
將約100g的化合物1((1's,4'r)-4'-戊基-[1,1'-雙(環己)]-4-酮)和約60g的四亞甲基二胺溶於四氫呋喃之後，在約-78℃下緩慢地逐滴加入約300ml的正丁基鋰。將混合物攪拌約2小時之後，加入乙炔基 三甲基矽烷，並將混合物另外攪拌約1小時。然後，使用二氯甲烷和水萃取反應產物、化學乾燥獲得的有機層、以及使用管柱層析進行精煉而得到約120g的化合物2。
(化合物3的合成)
將約120g的化合物2和約100g的K2CO3(碳酸鉀)溶於甲醇之後，在室溫下將混合物攪拌約24小時。藉由過濾從中去除額外的K2CO3之後，使用二氯甲烷和水萃取得到的產物。然後，將萃取出的有機層進行化學乾燥以從中去除溶劑、並使用管柱層析進行精煉而得到約110g的化合物3。
(化合物5的合成)
將約100g的化合物4(1,4-二乙炔苯)溶於四氫呋喃之後，在約-78℃下將混合物攪拌約20分鐘。逐滴加入約500ml溶於2.5M己烷的正丁基鋰歷時約2小時。攪拌約4小時之後，加入約100ml的氯代三甲基矽烷，並將混合物攪拌約24小時。然後，使用乙酸乙酯和水萃取反應產物、化學乾燥獲得的有機層、以及使用管柱層析進行精煉而得到約60g的化合物5。
(化合物6的合成)
將約200g的1,4-二碘苯、約3g的Pd(PPh3)2Cl2(雙(三苯基膦)鈀(II)二氯化物)、約5g的CuI(碘化銅)、以及約200ml的N,N-二異丙基乙胺溶於四氫呋喃之後，緩慢地逐滴加入約50g溶於四氫呋喃的化合物5。將混合物回流攪拌約24小時之後，過濾並從中去除所產生 的鹽，並使用二氯甲烷和水萃取獲得的產物。將萃取出的有機層進行化學乾燥並使用管柱層析進行精煉而得到約70g的化合物6。
(化合物8的合成)
將100g的化合物7(4-羥基-3-碘苯甲酸)和約400g的N,N-二異丙基乙胺溶於二氯甲烷之後，在約0℃下緩慢地逐滴加入約200g的甲基氯甲醚。將混合物攪拌約24小時之後，使用約500ml的氯化銨洗滌產物，並使用二氯甲烷和水進行萃取。而且，將萃取出的有機層化學乾燥，並從中去除溶劑。將像這樣得到的產物及氫氧化鉀水溶液放入甲醇中，並將溶液回流攪拌約3小時。加入6N的鹽酸來萃取產物，然後藉由過濾從中去除溶劑。之後，使用己烷從中去除多餘的異物及乾燥約48小時而得到約110g的化合物8。
(化合物9的合成)
將約100g的化合物8、約100g的化合物3、及約70g的4-(二甲基胺基)吡啶溶於二氯甲烷之後，將混合物攪拌約30分鐘。加入約80g的1-乙基-3-(3-二甲基胺基丙基)碳二亞胺及攪拌約24小時之後，使用二氯甲烷和水萃取得到的產物。然後，將萃取出的有機層進行化學乾燥並使用管柱層析進行精煉而得到約150g的化合物9。
(化合物10的合成)
將約100g的化合物9和約300ml的6N鹽酸溶於四氫呋喃之後，在約40℃下將混合物攪拌約24小時。使用二氯甲烷和水萃取反應產物。然後，將萃取出的有機層進行化學乾燥並使用管柱層析進行精煉 而得到約80g的化合物10。
(化合物12-1的合成)
將約80g的化合物10、約50g的化合物11-1((1r,4r)-4-((4-(丙烯醯氧基)丁氧基)羰基)環己烷羧酸)、約5g的4-(二甲基胺基)吡啶、及約50g的N,N-二異丙基乙胺溶於二氯甲烷之後，將混合物攪拌約30分鐘。加入約80g的1-乙基-3-(3-二甲基胺基丙基)碳二亞胺和約50g的乙炔基三甲基矽烷並攪拌約24小時之後，使用二氯甲烷和水萃取得到的產物。然後，將萃取出的有機層進行化學乾燥並使用管柱層析進行精煉而得到約100g的化合物12-1。
(化合物13-1的合成)
將約80g的化合物12-1、約20g的乙炔基三甲基矽烷、約3g的Pd(PPh3)2Cl2(雙(三苯基膦)鈀(II)二氯化物)、及約5g的CuI(碘化銅)溶於四氫呋喃之後，將溶液回流攪拌約24小時。過濾並從中去除所產生的鹽，並使用二氯甲烷和水萃取獲得的產物。將萃取出的有機層進行化學乾燥並使用管柱層析進行精煉而得到約70g的化合物13-1。
(化合物14-1的合成)
將約70g的化合物13-1和約6g的AgNO3(硝酸銀)溶於溶劑混合物(水：二氯甲烷：乙醇=1：6：3)之後，攪拌約24小時。將萃取出的有機層進行化學乾燥並使用管柱層析進行精煉而得到約50g的化合物14-1。
(化合物15-1的合成)
將約50g的化合物14-1、約20g的化合物6、約3g的Pd(PPh3)2Cl2(雙(三苯基膦)鈀(II)二氯化物)、及約5g的CuI(碘化銅)溶於四氫呋喃之後，將溶液回流攪拌約24小時。過濾並從中去除所產生的鹽，並使用二氯甲烷和水萃取獲得的產物。將萃取出的有機層進行化學乾燥並使用管柱層析進行精煉而得到約30g的化合物15-1。
(化合物RD-01的合成)
將約30g的化合物15-1和約6g的AgNO3(硝酸銀)溶於溶劑混合物(水：二氯甲烷：乙醇=1：6：3)之後，攪拌約24小時。將萃取出的有機層進行化學乾燥並使用管柱層析進行精煉而得到約20g的化合物RD-01。
得到的化合物RD-01之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.40(2H,d),6.27(1H,d),6.05(1H,dd),5.59(1H,d),4.13(2H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),3.52(1H,s),1.60-1.12(48H,m)
實施例2：化合物RD-02的合成
依據圖1a至1c所示的流程來合成化合物RD-02。
(化合物12-2的合成)
藉由與實施例1中化合物12-1的合成相同的方法得到約100g的化合物12-2，不同之處僅在於使用約55g的化合物11-2((1r,4r)-4-(((6-(丙烯醯氧基)己基)氧基)羰基)環己烷羧酸)取代化合物11-1。
(化合物13-2的合成)
藉由與實施例1中化合物13-1的合成相同的方法得到約70g的化合物13-2，不同之處僅在於使用化合物12-2取代化合物12-1。
(化合物14-2的合成)
藉由與實施例1中化合物14-1的合成相同的方法得到約70g的化合物14-2，不同之處僅在於使用化合物13-2取代化合物13-1。
(化合物15-2的合成)
藉由與實施例1中化合物15-1的合成相同的方法得到約70g的化合物15-2，不同之處僅在於使用化合物14-2取代化合物14-1。
(化合物RD-02的合成)
藉由與實施例1中化合物RD-01的合成相同的方法得到約50g的化合物RD-02，不同之處僅在於使用化合物15-2取代化合物15-1。
得到的化合物RD-02之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.40(2H,d),6.27(1H,d),6.05(1H,dd),5.59(1H,d),4.13(2H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),3.52(1H,s),1.60-1.12(52H,m)
實施例3：化合物RD-03的合成
依據圖1a至1c所示的流程來合成化合物RD-03。
(化合物12-3的合成)
藉由與實施例1中化合物12-1的合成相同的方法得到約 100g的化合物12-3，不同之處僅在於使用約60g的化合物11-3((1r,4r)-4-(((8-(丙烯醯氧基)辛基)氧基)羰基)環己烷羧酸)取代化合物11-1。
(化合物13-3的合成)
藉由與實施例1中化合物13-1的合成相同的方法得到約70g的化合物13-3，不同之處僅在於使用化合物12-3取代化合物12-1。
(化合物14-3的合成)
藉由與實施例1中化合物14-1的合成相同的方法得到約70g的化合物14-3，不同之處僅在於使用化合物13-3取代化合物13-1。
(化合物15-3的合成)
藉由與實施例1中化合物15-1的合成相同的方法得到約70g的化合物15-3，不同之處僅在於使用化合物14-3取代化合物14-1。
(化合物RD-03的合成)
藉由與實施例1中化合物RD-01的合成相同的方法得到約50g的化合物RD-03，不同之處僅在於使用化合物15-3取代化合物15-1。
得到的化合物RD-03之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.40(2H,d),6.27(1H,d),6.05(1H,dd),5.59(1H,d),4.13(2H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),3.52(1H,s),1.60-1.12(56H,m)
實施例4：化合物RD-04的合成
依據圖2a和2b所示的流程來合成化合物RD-04。
(化合物17的合成)
將約100g的化合物16(4-(4-羥基苯基)環己酮)和約120g的N,N-二異丙基乙胺溶於二氯甲烷之後，緩慢地逐滴加入約50g的甲基氯甲醚。將混合物攪拌約2小時之後，使用二氯甲烷和水萃取產物。然後，將萃取出的有機層進行化學乾燥以從中去除溶劑、及使用管柱層析進行精煉而得到約120g的化合物17。
(化合物18的合成)
將約120g的化合物17和約100g的N,N,N',N'-四甲基乙二胺溶於四氫呋喃之後，在約-78℃下將混合物攪拌約20分鐘。逐滴加入約500ml溶於2.5M己烷的正丁基鋰歷時約2小時。攪拌約4小時之後，加入乙炔基三甲基矽烷，並將混合物另外攪拌約24小時。然後，使用乙酸乙酯和水萃取反應產物，並將得到的有機層進行化學乾燥及使用管柱層析進行精煉而得到約100g的化合物18。
(化合物19的合成)
將約100g的化合物18和約10g的四丁基銨氟化物水合物溶於四氫呋喃之後，將混合物攪拌約2小時。使用二氯甲烷和水萃取反應產物，並將萃取出的有機層進行化學乾燥及使用管柱層析進行精煉而得到約80g的化合物19。
(化合物21的合成)
將約70g的化合物19、約70g的化合物20[4-(甲氧基甲氧基)苯甲酸]、及約50g的4-(二甲胺基)吡啶溶於二氯甲烷之後，將混合物攪拌約30分鐘。加入約80g的1-乙基-3-(3-二甲基胺基丙基)碳二亞胺並攪拌約24小時之後，使用二氯甲烷和水萃取得到的產物。然後，將萃取出的有機層進行化學乾燥及使用管柱層析進行精煉而得到約80g的化合物21。
(化合物22的合成)
將約80g的化合物21和約300ml的6N鹽酸溶於四氫呋喃之後，在約40℃下將混合物攪拌約24小時。然後，使用二氯甲烷和水萃取反應產物，並將萃取出的有機層進行化學乾燥及使用管柱層析進行精煉而得到約60g的化合物22。
(化合物23-1的合成)
將約60g的化合物22、約50g的化合物11-1((1r,4r)-4-((4-(丙烯醯氧基)丁氧基)羰基)環己烷羧酸)、約5g的4-(二甲 胺基)吡啶、及約50g的N,N-二異丙基乙胺溶於二氯甲烷之後，將混合物攪拌約30分鐘。加入約80g的1-乙基-3-(3-二甲基胺基丙基)碳二亞胺和約50g的乙炔基三甲基矽烷並攪拌約24小時之後，使用二氯甲烷和水萃取得到的產物。然後，將萃取出的有機層進行化學乾燥及使用管柱層析進行精煉而得到約80g的化合物23-1。
(化合物24-1的合成)
將約80g的化合物23-1、約30g的實施例1化合物6、約3g的Pd(PPh3)2Cl2(雙(三苯基膦)鈀(II)二氯化物)、及約5g的CuI(碘化銅)溶於四氫呋喃之後，將溶液回流攪拌約24小時。過濾並從中去除所產生的鹽，並使用二氯甲烷和水萃取獲得的產物。將萃取出的有機層進行化學乾燥並使用管柱層析進行精煉而得到約70g的化合物24-1。
(化合物RD-04的合成)
將約50g的化合物24-1和約10g的AgNO3(硝酸銀)溶於溶劑混合物(水：二氯甲烷：乙醇=1：6：3)之後，攪拌約24小時。將萃取出的有機層進行化學乾燥並使用管柱層析進行精煉而得到約30g的化合物RD-04。
得到的化合物RD-04之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(2H,dd),6.05(2H,dd),5.59(2H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(4H,t),2.50(1H,s),1.60-1.12(23H,m)
實施例5：化合物RD-05的合成
依據圖2a和2b所示的流程來合成化合物RD-05。
(化合物23-2的合成)
藉由與實施例4中化合物23-1的合成相同的方法得到約100g的化合物23-2，不同之處僅在於使用化合物11-2((1r,4r)-4-(((6-(丙烯醯氧基)己基)氧基)羰基)環己烷羧酸)取代化合物11-1。
(化合物24-2的合成)
藉由與實施例4中化合物24-1的合成相同的方法得到約70g的化合物24-2，不同之處僅在於使用化合物23-2取代化合物23-1。
(化合物RD-05的合成)
藉由與實施例4中化合物RD-04的合成相同的方法得到約50g的化合物RD-05，不同之處僅在於使用化合物24-2取代化合物24-1。
得到的化合物RD-05之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d), 7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(2H,dd),6.05(2H,dd),5.59(2H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(4H,t),2.50(1H,s),1.60-1.12(31H,m)
實施例6：化合物RD-06的合成
依據圖2a和2b所示的流程來合成化合物RD-06。
(化合物23-3的合成)
藉由與實施例4中化合物23-1的合成相同的方法得到約100g的化合物23-3，不同之處僅在於使用化合物11-3((1r,4r)-4-(((8-(丙烯醯氧基)辛基)氧基)羰基)環己烷羧酸)取代化合物11-1。
(化合物24-3的合成)
藉由與實施例4中化合物24-1的合成相同的方法得到約70g的化合物24-3，不同之處僅在於使用化合物23-3取代化合物23-1。
(化合物RD-06的合成)
藉由與實施例4中化合物RD-04的合成相同的方法得到約50g的化合物RD-06，不同之處僅在於使用化合物24-3取代化合物24-1。
得到的化合物RD-06之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(2H,dd),6.05(2H,dd),5.59(2H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(4H,t),2.50(1H,s), 1.60-1.12(39H,m)
實施例7：化合物RD-07的合成
依據圖3a和3b所示的流程來合成化合物RD-07。
(化合物26的合成)
將約100g的化合物25(4-羥基苯甲酸)、約100g的N,N'-二環己基碳二亞胺、約10g的4-(二甲胺基)吡啶、及約20g的叔丁醇溶於四氫呋喃之後，將混合物攪拌約24小時。然後，使用二氯甲烷和水萃取反應產物，而且將萃取出的有機層進行化學乾燥並使用管柱層析進行精煉而得到約80g的化合物26。
(化合物28-1的合成)
將約60g的化合物26、約50g的化合物27-1[(1r,4r)-4-(丁氧羰基)環己烷羧酸]、約5g的4-(二甲胺基)吡啶、及約50g的N,N-二異丙基乙胺溶於二氯甲烷之後，將混合物攪拌約30分鐘。在加入約80g的1-乙基-3-(3-二甲基胺基丙基)碳二亞胺和約50g的乙炔基三甲基矽烷並攪拌24小時之後，使用二氯甲烷和水萃取所得產物。然後，將萃取出的有 機層進行化學乾燥並使用管柱層析進行精煉而得到約80g的化合物28-1。
(化合物29-1的合成)
將約80g的化合物28-1及約50g的四氟乙酸溶於二氯甲烷之後，將混合物攪拌約24小時。然後，使用二氯甲烷和水萃取反應產物，而且將萃取出的有機層進行化學乾燥並使用管柱層析進行精煉而得到約60g的化合物29-1。
(化合物30-1的合成)
將約60g的化合物29-1、約50g的實施例4化合物19、及約50g的4-(二甲胺基)吡啶溶於二氯甲烷之後，將混合物攪拌約30分鐘。加入約80g的1-乙基-3-(3-二甲基胺基丙基)碳二亞胺並攪拌約24小時之後，使用二氯甲烷和水萃取得到的產物。然後，將萃取出的有機層進行化學乾燥及使用管柱層析進行精煉而得到約80g的化合物30-1。
(化合物31-1的合成)
將約80g的化合物30-1和約300ml的6N鹽酸溶於四氫呋喃之後，在約40℃下將混合物攪拌約24小時。然後，使用二氯甲烷和水萃取反應產物，而且將萃取出的有機層進行化學乾燥並使用管柱層析進行精煉而得到約60g的化合物31-1(m=3)。
(化合物32-1的合成)
藉由與實施例1中化合物12-1的合成相同的方法得到約 80g的化合物32-1，不同之處僅在於使用化合物31-1(m=3)取代化合物10。
(化合物33-1的合成)
藉由與實施例1中化合物15-1的合成相同的方法得到約70g的化合物33-1，不同之處僅在於使用化合物32-1取代化合物14-1。
(化合物RD-07的合成)
藉由與實施例1中化合物RD-01的合成相同的方法得到約30g的化合物RD-07，不同之處僅在於使用化合物33-1取代化合物15-1。
得到的化合物RD-07之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,s),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(1H,dd),6.05(1H,dd),5.59(1H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),2.50(1H,t),1.60-0.90(25H,m)
實施例8：化合物RD-08的合成
依據圖3a和3b所示的流程來合成化合物RD-08。
(化合物28-2的合成)
藉由與實施例7中化合物28-1的合成相同的方法得到約100g的化合物28-2，不同之處僅在於使用化合物27-2[(1r,4r)-4-((己基氧基)羰基)環己烷羧酸]取代化合物27-1。
(化合物29-2的合成)
藉由與實施例7中化合物29-1的合成相同的方法得到約70g的化合物29-2，不同之處僅在於使用化合物28-2取代化合物28-1。
(化合物30-2的合成)
藉由與實施例7中化合物30-1的合成相同的方法得到約90g的化合物30-2，不同之處僅在於使用化合物29-2取代化合物29-1。
(化合物31-2的合成)
藉由與實施例7中化合物31-1的合成相同的方法得到約70g的化合物31-2(m=5)，不同之處僅在於使用化合物30-2取代化合物30-1。
(化合物32-2的合成)
藉由與實施例1中化合物12-1的合成相同的方法得到約80g的化合物32-2，不同之處僅在於使用化合物31-2(m=5)取代化合物10。
(化合物33-2的合成)
藉由與實施例1中化合物15-1的合成相同的方法得到約70g的化合物33-2，不同之處僅在於使用化合物32-2取代化合物14-1。
(化合物RD-08的合成)
藉由與實施例1中化合物RD-01的合成相同的方法得到約30g的化合物RD-08，不同之處僅在於使用化合物33-2取代化合物15-1。
得到的化合物RD-08之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,s),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(1H,dd),6.05(1H,dd),5.59(1H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),2.50(1H,t),1.60-0.90(29H,m)
實施例9：化合物RD-09的合成
依據圖3a和3b所示的流程來合成化合物RD-09。
(化合物28-3的合成)
藉由與實施例7中化合物28-1的合成相同的方法得到約100g的化合物28-3，不同之處僅在於使用化合物27-3[(1r,4r)-4-((辛基氧基)羰基)環己烷羧酸]取代化合物27-1。
(化合物29-3的合成)
藉由與實施例7中化合物29-1的合成相同的方法得到約70g的化合物29-3，不同之處僅在於使用化合物28-3取代化合物28-1。
(化合物30-3的合成)
藉由與實施例7中化合物30-1的合成相同的方法得到約90g的化合物30-3，不同之處僅在於使用化合物29-3取代化合物29-1。
(化合物31-3的合成)
藉由與實施例7中化合物31-1的合成相同的方法得到約70g的化合物31-3(m=7)，不同之處僅在於使用化合物30-3取代化合物30-1。
(化合物32-3的合成)
藉由與實施例1中化合物12-1的合成相同的方法得到約80g的化合物32-3，不同之處僅在於使用化合物31-3(m=7)取代化合物10。
(化合物33-3的合成)
藉由與實施例1中化合物15-1的合成相同的方法得到約70g的化合物33-3，不同之處僅在於使用化合物32-3取代化合物14-1。
(化合物RD-09的合成)
藉由與實施例1中化合物RD-01的合成相同的方法得到約30g的化合物RD-09，不同之處僅在於使用化合物33-3取代化合物15-1。
得到的化合物RD-09之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,s),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(1H,dd),6.05(1H,dd),5.59(1H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),2.50(1H,t),1.60-0.90(33H,m)
實施例10：化合物RD-10的合成
依據圖3a和3b所示的流程來合成化合物RD-10。
(化合物32-4的合成)
藉由與實施例1中化合物12-1的合成相同的方法得到約 80g的化合物32-4，不同之處僅在於使用化合物31-1(m=3)取代化合物10及使用化合物11-2(n=6)[(1r,4r)-4-(((6-(丙烯醯氧基)己基)氧基)羰基)環己烷羧酸]取代化合物11-1。
(化合物33-4的合成)
藉由與實施例1中化合物15-1的合成相同的方法得到約60g的化合物33-4，不同之處僅在於使用化合物32-4取代化合物14-1。
(化合物RD-10的合成)
藉由與實施例1中化合物RD-01的合成相同的方法得到約50g的化合物RD-10，不同之處僅在於使用化合物33-4取代化合物15-1。
得到的化合物RD-10之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,s),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(1H,dd),6.05(1H,dd),5.59(1H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),2.50(1H,t),1.60-0.90(29H,m)
實施例11：化合物RD-11的合成
依據圖3a和3b所示的流程來合成化合物RD-11。
(化合物32-5的合成)
藉由與實施例1中化合物12-1的合成相同的方法得到約80g的化合物32-5，不同之處僅在於使用化合物31-2(m=5)取代化合物10及使用化合物11-2(n=6)[(1r,4r)-4-(((6-(丙烯醯氧基)己基)氧基)羰基)環己烷羧酸]取代化合物11-1。
(化合物33-5的合成)
藉由與實施例1中化合物15-1的合成相同的方法得到約60g的化合物33-5，不同之處僅在於使用化合物32-5取代化合物14-1。
(化合物RD-11的合成)
藉由與實施例1中化合物RD-01的合成相同的方法得到約50g的化合物RD-11，不同之處僅在於使用化合物33-5取代化合物15-1。
得到的化合物RD-11之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,s), 7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(1H,dd),6.05(1H,dd),5.59(1H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),2.50(1H,t),1.60-0.90(33H,m)
實施例12：化合物RD-12的合成
依據圖3a和3b所示的流程來合成化合物RD-12。
(化合物32-6的合成)
藉由與實施例1中化合物12-1的合成相同的方法得到約80g的化合物32-6，不同之處僅在於使用化合物31-3(m=7)取代化合物10及使用化合物11-2(n=6)[(1r,4r)-4-(((6-(丙烯醯氧基)己基)氧基)羰基)環己烷羧酸]取代化合物11-1。
(化合物33-6的合成)
藉由與實施例1中化合物15-1的合成相同的方法得到約60g的化合物33-6，不同之處僅在於使用化合物32-6取代化合物14-1。
(化合物RD-12的合成)
藉由與實施例1中化合物RD-01的合成相同的方法得到約50g的化合物RD-12，不同之處僅在於使用化合物33-6取代化合物15-1。
得到的化合物RD-12之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,s),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(1H,dd),6.05(1H,dd),5.59(1H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),2.50(1H,t),1.60-0.90(37H,m)
實施例13：化合物RD-13的合成
依據圖3a和3b所示的流程來合成化合物RD-13。
(化合物32-7的合成)
藉由與實施例1中化合物12-1的合成相同的方法得到約80g的化合物32-7，不同之處僅在於使用化合物31-1(m=3)取代化合物10及使用化合物11-3(n=8)[(1r,4r)-4-(((8-(丙烯醯氧基)辛基)氧基)羰基)環己烷羧酸]取代化合物11-1。
(化合物33-7的合成)
藉由與實施例1中化合物15-1的合成相同的方法得到約60g的化合物33-7，不同之處僅在於使用化合物32-7取代化合物14-1。
(化合物RD-13的合成)
藉由與實施例1中化合物RD-01的合成相同的方法得到約50g的化合物RD-13，不同之處僅在於使用化合物33-7取代化合物15-1。
得到的化合物RD-13之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,s),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(1H,dd),6.05(1H,dd),5.59(1H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),2.50(1H,t),1.60-0.90(33H,m)
實施例14：化合物RD-14的合成
依據圖3a和3b所示的流程來合成化合物RD-14。
(化合物32-8的合成)
藉由與實施例1中化合物12-1的合成相同的方法得到約80g的化合物32-8，不同之處僅在於使用化合物31-2(m=5)取代化合物10及使用化合物11-3(n=8)[(1r,4r)-4-(((8-(丙烯醯氧基)辛基)氧基)羰基)環己烷羧酸]取代化合物11-1。
(化合物33-8的合成)
藉由與實施例1中化合物15-1的合成相同的方法得到約60g的化合物33-8，不同之處僅在於使用化合物32-8取代化合物14-1。
(化合物RD-14的合成)
藉由與實施例1中化合物RD-01的合成相同的方法得到約50g的化合物RD-14，不同之處僅在於使用化合物33-8取代化合物15-1。
得到的化合物RD-14之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,s),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(1H,dd),6.05(1H,dd),5.59(1H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),2.50(1H,t),1.60-0.90(37H,m)
實施例15：化合物RD-15的合成
依據圖3a和3b所示的流程來合成化合物RD-15。
(化合物32-9的合成)
藉由與實施例1中化合物12-1的合成相同的方法得到約80g的化合物32-9，不同之處僅在於使用化合物31-3(m=7)取代化合物10及使用化合物11-3(n=8)[(1r,4r)-4-(((8-(丙烯醯氧基)辛基)氧基)羰基)環己烷羧酸]取代化合物11-1。
(化合物33-9的合成)
藉由與實施例1中化合物15-1的合成相同的方法得到約60g的化合物33-9，不同之處僅在於使用化合物32-9取代化合物14-1。
(化合物RD-15的合成)
藉由與實施例1中化合物RD-01的合成相同的方法得到約50g的化合物RD-15，不同之處僅在於使用化合物33-9取代化合物15-1。
得到的化合物RD-15之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,s), 7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(1H,dd),6.05(1H,dd),5.59(1H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),2.50(1H,t),1.60-0.90(41H,m)
實施例16：化合物RD-16的合成
依據圖4a和4b所示的流程來合成化合物RD-16。
(化合物34的合成)
將約200g的1,4-二碘苯、約3g的Pd(PPh3)2Cl2(雙(三苯基膦)鈀(II)二氯化物)、約5g的CuI(碘化銅)、以及約200ml的N,N-二異丙基乙胺溶於四氫呋喃之後，緩慢地逐滴加入約50g溶於四氫呋喃的化合物4(1,4-二乙炔苯)。將混合物回流攪拌約24小時之後，過濾並從中去除所產生的鹽，並使用二氯甲烷和水萃取獲得的產物。將萃取出的有機層進行化學乾燥並使用管柱層析進行精煉而得到約100g的化合物34。
(化合物35的合成)
將約100g的化合物34溶於四氫呋喃之後，在約-78℃下將混合物攪拌約20分鐘。逐滴加入約500ml溶於2.5M己烷的正丁基鋰歷時約2小時。攪拌約4小時之後，加入100ml的氯三甲基矽烷，並將混合物攪拌約24小時。然後，使用乙酸乙酯和水萃取反應產物，並將得到的有機層進行化學乾燥及使用管柱層析進行精煉而得到約60g的化合物35。
(化合物36的合成)
將100g的化合物25(4-羥基苯甲酸)和約400g的N,N-二異丙基乙胺溶於二氯甲烷之後，在約0℃下緩慢地逐滴加入約200g的甲基氯甲基醚。將混合物攪拌約24小時之後，使用約500ml的氯化銨洗滌產物，並使用二氯甲烷和水進行萃取。而且，將萃取出的有機層化學乾燥，並從中去除溶劑。將像這樣得到的產物及氫氧化鉀水溶液放入甲醇中，並將溶液回流攪拌約3小時。加入6N的鹽酸來萃取產物，然後藉由過濾從中去除溶劑。之後，使用己烷從中去除多餘的異物及乾燥約48小時而得到約110g的化合物36。
(化合物37的合成)
將約100g的化合物36、約100g的實施例1化合物3、及約70g的4-(二甲基胺基)吡啶溶於二氯甲烷之後，將混合物攪拌約30分鐘。加入約80g的1-乙基-3-(3-二甲基胺基丙基)碳二亞胺及攪拌約24小時之後，使用二氯甲烷和水萃取得到的產物。然後，將萃取出的有機層進行化學乾燥並使用管柱層析進行精煉而得到約150g的化合物37。
(化合物38的合成)
將約100g的化合物37和約300ml的6N鹽酸溶於四氫呋喃之後，在約40℃下將混合物攪拌約24小時。然後，使用二氯甲烷和水萃取反應產物，而且將萃取出的有機層進行化學乾燥並使用管柱層析進行精煉而得到約80g的化合物38。
(化合物39-1的合成)
藉由與實施例1中化合物12-1的合成相同的方法得到約100g的化合物39-1，不同之處僅在於使用化合物38取代化合物10。
(化合物40-1的合成)
藉由與實施例1中化合物15-1的合成相同的方法得到約30g的化合物40-1，不同之處僅在於使用化合物39-1取代化合物14-1及使用化合物35取代化合物6。
(化合物RD-16的合成)
藉由與實施例1中化合物RD-01的合成相同的方法得到約20g的化合物RD-16，不同之處僅在於使用化合物40-1取代化合物15-1。
得到的化合物RD-16之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.55(4H,d),7.51(4H,d),7.40(2H,d),6.27(1H,d),6.05(1H,dd),5.59(1H,d),4.13(2H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),3.52(1H,s),1.60-1.12(48H, m)
實施例17：化合物RD-17的合成
依據圖4a和4b所示的流程來合成化合物RD-17。
(化合物39-2的合成)
藉由與實施例1中化合物12-1的合成相同的方法得到約100g的化合物39-2，不同之處僅在於使用化合物38取代化合物10及使用化合物11-2(n=6)[(1r,4r)-4-(((6-(丙烯醯氧基)己基)氧基)羰基)環己烷羧酸]取代化合物11-1。
(化合物40-2的合成)
藉由與實施例1中化合物15-1的合成相同的方法得到約70g的化合物40-2，不同之處僅在於使用化合物39-2取代化合物14-1及使用化合物35取代化合物6。
(化合物RD-17的合成)
藉由與實施例1中化合物RD-01的合成相同的方法得到約50g的化合物RD-17，不同之處僅在於使用化合物40-2取代化合物15-1。
得到的化合物RD-17之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.55(4H,d),7.51(4H,d),7.40(2H,d),6.27(1H,d),6.05(1H,dd),5.59(1H,d),4.13(2H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),3.52(1H,s),1.60-1.12(52H,m)
實施例18：化合物RD-18的合成
依據圖4a和4b所示的流程來合成化合物RD-18。
(化合物39-3的合成)
藉由與實施例1中化合物12-1的合成相同的方法得到約100g的化合物39-3，不同之處僅在於使用化合物38取代化合物10及使 用化合物11-3(n=8)[(1r,4r)-4-(((8-(丙烯醯氧基)辛基)氧基)羰基)環己烷羧酸]取代化合物11-1。
(化合物40-3的合成)
藉由與實施例1中化合物15-1的合成相同的方法得到約70g的化合物40-3，不同之處僅在於使用化合物39-3取代化合物14-1及使用化合物35取代化合物6。
(化合物RD-18的合成)
藉由與實施例1中化合物RD-01的合成相同的方法得到約50g的化合物RD-18，不同之處僅在於使用化合物40-3取代化合物15-1。
得到的化合物RD-18之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.55(4H,d),7.51(4H,d),7.40(2H,d),6.27(1H,d),6.05(1H,dd),5.59(1H,d),4.13(2H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),3.52(1H,s),1.60-1.12(56H,m)
實施例19：化合物RD-19的合成
依據圖5a和5b所示的流程來合成化合物RD-19。
(化合物41-1的合成)
藉由與實施例4中化合物24-1的合成相同的方法得到約70g的化合物41-1，不同之處僅在於使用實施例16的化合物35取代化合物6。
(化合物RD-19的合成)
藉由與實施例4中化合物RD-04的合成相同的方法得到約30g的化合物RD-19，不同之處僅在於使用化合物41-1取代化合物24-1。
得到的化合物RD-19之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.55(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(2H,dd),6.05(2H,dd),5.59(2H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(4H,t),2.50(1H,t),1.60-1.12(23H,m)
實施例20：化合物RD-20的合成
依據圖5a和5b所示的流程來合成化合物RD-20。
(化合物41-2的合成)
藉由與實施例4中化合物24-1的合成相同的方法得到約70g的化合物41-2，不同之處僅在於使用實施例5的化合物23-2取代化合物23-1及使用實施例16的化合物35取代化合物6。
(化合物RD-20的合成)
藉由與實施例4中化合物RD-04的合成相同的方法得到約50g的化合物RD-20，不同之處僅在於使用化合物41-2取代化合物24-1。
得到的化合物RD-20之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.55(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(2H,dd),6.05(2H,dd),5.59(2H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(4H,t),2.50(1H,t),1.60-1.12(31H,m)
實施例21：化合物RD-21的合成
依據圖5a和5b所示的流程來合成化合物RD-21。
(化合物41-3的合成)
藉由與實施例4中化合物24-1的合成相同的方法得到約70g的化合物41-3，不同之處僅在於使用實施例6的化合物23-3取代化合物23-1及使用實施例16的化合物35取代化合物6。
(化合物RD-21的合成)
藉由與實施例4中化合物RD-04的合成相同的方法得到約50g的化合物RD-21，不同之處僅在於使用化合物41-3取代化合物24-1。
得到的化合物RD-21之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.55(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(2H,dd),6.05(2H,dd),5.59(2H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(4H,t), 2.50(1H,t),1.60-1.12(39H,m)
實施例22：化合物RD-22的合成
依據圖6a和6b所示的流程來合成化合物RD-22。
(化合物42-1的合成)
藉由與實施例1中化合物15-1的合成相同的方法得到約70g的化合物42-1，不同之處僅在於使用實施例7的化合物32-1(n=4，m=3)取代化合物14-1及使用實施例16的化合物35取代化合物6。
(化合物RD-22的合成)
藉由與實施例1中化合物RD-01的合成相同的方法得到約30g的化合物RD-22，不同之處僅在於使用化合物42-1取代化合物15-1。
得到的化合物RD-22之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d), 7.56(4H,d),7.55(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(1H,dd),6.05(1H,dd),5.59(1H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),2.50(1H,t),1.60-0.90(25H,m)
實施例23：化合物RD-23的合成
依據圖6a和6b所示的流程來合成化合物RD-23。
(化合物42-2的合成)
藉由與實施例1中化合物15-1的合成相同的方法得到約60g的化合物42-2，不同之處僅在於使用實施例8的化合物32-2(n=4，m=5)取代化合物14-1及使用實施例16的化合物35取代化合物6。
(化合物RD-23的合成)
藉由與實施例1中化合物RD-01的合成相同的方法得到約50g的化合物RD-23，不同之處僅在於使用化合物42-2取代化合物15-1。
得到的化合物RD-23之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.55(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(1H,dd),6.05(1H,dd),5.59(1H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),2.50(1H,t),1.60-0.90(29H,m)
實施例24：化合物RD-24的合成
依據圖6a和6b所示的流程來合成化合物RD-24。
(化合物42-3的合成)
藉由與實施例1中化合物15-1的合成相同的方法得到約60g的化合物42-3，不同之處僅在於使用實施例9的化合物32-3(n=4，m=7)取代化合物14-1及使用實施例16的化合物35取代化合物6。
(化合物RD-24的合成)
藉由與實施例1中化合物RD-01的合成相同的方法得到 約50g的化合物RD-24，不同之處僅在於使用化合物42-3取代化合物15-1。
得到的化合物RD-24之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.55(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(1H,dd),6.05(1H,dd),5.59(1H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),2.50(1H,t),1.60-0.90(33H,m)
實施例25：化合物RD-25的合成
依據圖6a和6b所示的流程來合成化合物RD-25。
(化合物42-4的合成)
藉由與實施例1中化合物15-1的合成相同的方法得到約60g的化合物42-4，不同之處僅在於使用實施例10的化合物32-4(n=6，m=3)取代化合物14-1及使用實施例16的化合物35取代化合物6。
(化合物RD-25的合成)
藉由與實施例1中化合物RD-01的合成相同的方法得到約50g的化合物RD-25，不同之處僅在於使用化合物42-4取代化合物15-1。
得到的化合物RD-25之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.55(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(1H,dd),6.05(1H,dd),5.59(1H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),2.50(1H,t),1.60-0.90(29H,m)
實施例26：化合物RD-26的合成
依據圖6a和6b所示的流程來合成化合物RD-26。
(化合物42-5的合成)
藉由與實施例1中化合物15-1的合成相同的方法得到約60g的化合物42-5，不同之處僅在於使用實施例11的化合物32-5(n=6， m=5)取代化合物14-1及使用實施例16的化合物35取代化合物6。
(化合物RD-26的合成)
藉由與實施例1中化合物RD-01的合成相同的方法得到約50g的化合物RD-26，不同之處僅在於使用化合物42-5取代化合物15-1。
得到的化合物RD-26之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.55(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(1H,dd),6.05(1H,dd),5.59(1H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),2.50(1H,t),1.60-0.90(33H,m)
實施例27：化合物RD-27的合成
依據圖6a和6b所示的流程來合成化合物RD-27。
(化合物42-6的合成)
藉由與實施例1中化合物15-1的合成相同的方法得到約60g的化合物42-6，不同之處僅在於使用實施例12的化合物32-6(n=6，m=7)取代化合物14-1及使用實施例16的化合物35取代化合物6。
(化合物RD-27的合成)
藉由與實施例1中化合物RD-01的合成相同的方法得到約50g的化合物RD-27，不同之處僅在於使用化合物42-6取代化合物15-1。
得到的化合物RD-27之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.55(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(1H,dd),6.05(1H,dd),5.59(1H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),2.50(1H,t),1.60-0.90(37H,m)
實施例28：化合物RD-28的合成
依據圖6a和6b所示的流程來合成化合物RD-28。
(化合物42-7的合成)
藉由與實施例1中化合物15-1的合成相同的方法得到約60g的化合物42-7，不同之處僅在於使用實施例13的化合物32-7(n=8，m=3)取代化合物14-1及使用實施例16的化合物35取代化合物6。
(化合物RD-28的合成)
藉由與實施例1中化合物RD-01的合成相同的方法得到約50g的化合物RD-28，不同之處僅在於使用化合物42-7取代化合物15-1。
得到的化合物RD-28之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.55(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(1H,dd),6.05(1H,dd),5.59(1H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),2.50(1H,t),1.60-0.90(33H,m)
實施例29：化合物RD-29的合成
依據圖6a和6b所示的流程來合成化合物RD-29。
(化合物42-8的合成)
藉由與實施例1中化合物15-1的合成相同的方法得到約60g的化合物42-8，不同之處僅在於使用實施例14的化合物32-8(n=8，m=5)取代化合物14-1及使用實施例16的化合物35取代化合物6。
(化合物RD-29的合成)
藉由與實施例1中化合物RD-01的合成相同的方法得到約50g的化合物RD-29，不同之處僅在於使用化合物42-8取代化合物15-1。
得到的化合物RD-29之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.55(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d),6.27(1H,dd),6.05(1H,dd),5.59(1H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),2.50(1H,t),1.60-0.90(37H,m)
實施例30：化合物RD-30的合成
依據圖6a和6b所示的流程來合成化合物RD-30。
(化合物42-9的合成)
藉由與實施例1中化合物15-1的合成相同的方法得到約60g的化合物42-9，不同之處僅在於使用實施例15的化合物32-9(n=8，m=7)取代化合物14-1及使用實施例16的化合物35取代化合物6。
(化合物RD-30的合成)
藉由與實施例1中化合物RD-01的合成相同的方法得到約50g的化合物RD-30，不同之處僅在於使用化合物42-9取代化合物15-1。
得到的化合物RD-30之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.55(4H,d),7.51(4H,d),7.47(2H,d),7.40(2H,d),7.21(2H,d), 6.27(1H,dd),6.05(1H,dd),5.59(1H,dd),4.13(4H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),2.50(1H,t),1.60-0.90(41H,m)
實施例31：化合物RD-31的合成
依據圖7a和7b所示的流程來合成化合物RD-31。
(化合物44-1的合成)
藉由與實施例1中化合物12-1的合成相同的方法得到約100g的化合物44-1，不同之處僅在於使用實施例16的化合物38取代化合物10及使用化合物43-1[(1r,4r)-4-((4-(甲基丙烯醯氧基)丁氧基)羰基)環己烷羧酸]取代化合物11-1。
(化合物45-1的合成)
藉由與實施例1中化合物15-1的合成相同的方法得到約30g的化合物45-1，不同之處僅在於使用化合物44-1取代化合物14-1。
(化合物RD-31的合成)
藉由與實施例1中化合物RD-01的合成相同的方法得到約20g的化合物RD-31，不同之處僅在於使用化合物45-1取代化合物15-1。
得到的化合物RD-31之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.40(2H,d),6.48(1H,d),6.40(1H,d),5.59(1H,d),4.13(2H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),3.52(1H,s),2.01(3H,s),1.60-1.12(48H,m)
實施例32：化合物RD-32的合成
依據圖7a和7b所示的流程來合成化合物RD-32。
(化合物44-2的合成)
藉由與實施例1中化合物12-1的合成相同的方法得到約100g的化合物44-2，不同之處僅在於使用實施例16的化合物38取代化合物10及使用化合物43-2[(1r,4r)-4-(((6-(甲基丙烯醯氧基)己基)氧基)羰基)環己烷羧酸]取代化合物11-1。
(化合物45-2的合成)
藉由與實施例1中化合物15-1的合成相同的方法得到約70g的化合物45-2，不同之處僅在於使用化合物44-2取代化合物14-1。
(化合物RD-32的合成)
藉由與實施例1中化合物RD-01的合成相同的方法得到約50g的化合物RD-32，不同之處僅在於使用化合物45-2取代化合物15-1。
得到的化合物RD-32之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.40(2H,d),6.48(1H,d),6.40(1H,d),5.59(1H,d),4.13(2H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),3.52(1H,s),2.01(3H,s),1.60-1.12(52H,m)
實施例33：化合物RD-33的合成
依據圖7a和7b所示的流程來合成化合物RD-33。
(化合物44-3的合成)
藉由與實施例1中化合物12-1的合成相同的方法得到約100g的化合物44-3，不同之處僅在於使用實施例16的化合物38取代化合物10及使用化合物43-3[(1r,4r)-4-(((8-(甲基丙烯醯氧基)辛基)氧基)羰基)環己烷羧酸]取代化合物11-1。
(化合物45-3的合成)
藉由與實施例1中化合物15-1的合成相同的方法得到約70g的化合物45-3，不同之處僅在於使用化合物44-3取代化合物14-1。
(化合物RD-33的合成)
藉由與實施例1中化合物RD-01的合成相同的方法得到約50g的化合物RD-33，不同之處僅在於使用化合物45-3取代化合物15-1。
得到的化合物RD-33之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.40(2H,d),6.48(1H,d),6.40(1H,d),5.59(1H,d),4.13(2H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),3.52(1H,s),2.01(3H,s),1.60-1.12(56H,m)
實施例34：化合物RD-34的合成
依據圖8a和8b所示的流程來合成化合物RD-34。
(化合物47-1的合成)
藉由與實施例1中化合物12-1的合成相同的方法得到約100g的化合物47-1，不同之處僅在於使用實施例16的化合物38取代化合物10及使用化合物46-1[(1r,4r)-4-((4-(桂皮醯氧基)丁氧基)羰基)環己烷羧酸]取代化合物11-1。
(化合物48-1的合成)
藉由與實施例1中化合物15-1的合成相同的方法得到約30g的化合物48-1，不同之處僅在於使用化合物47-1取代化合物14-1。
(化合物RD-34的合成)
藉由與實施例1中化合物RD-01的合成相同的方法得到約20g的化合物RD-34，不同之處僅在於使用化合物48-1取代化合物15-1。
得到的化合物RD-34之NMR光譜如下： 1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d),7.60(2H,d),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.48(1H,d),7.40(4H,d),7.33(1H,t),6.31(1H,d),4.13(2H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),3.52(1H,s),1.60-1.12(48H,m)
實施例35：化合物RD-35的合成
依據圖8a和8b所示的流程來合成化合物RD-35。
(化合物47-2的合成)
藉由與實施例1中化合物12-1的合成相同的方法得到約100g的化合物47-2，不同之處僅在於使用實施例16的化合物38取代化合物10及使用化合物46-2[(1r,4r)-4-(((6-(桂皮醯氧基)己基)氧基)羰基)環己烷羧酸]取代化合物11-1。
(化合物48-2的合成)
藉由與實施例1中化合物15-1的合成相同的方法得到約70g的化合物48-2，不同之處僅在於使用化合物47-2取代化合物14-1。
(化合物RD-35的合成)
藉由與實施例1中化合物RD-01的合成相同的方法得到約50g的化合物RD-35，不同之處僅在於使用化合物48-2取代化合物15-1。
得到的化合物RD-35之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d),7.60(2H,d),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.48(1H,d),7.40(4H,d),7.33(1H,t),6.31(1H,d),4.13(2H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),3.52(1H,s),1.60-1.12(52H,m)
實施例36：化合物RD-36的合成
依據圖8a和8b所示的流程來合成化合物RD-36。
(化合物47-3的合成)
藉由與實施例1中化合物12-1的合成相同的方法得到約100g的化合物47-3，不同之處僅在於使用實施例16的化合物38取代化 合物10及使用化合物46-3[(1r,4r)-4-(((8-(桂皮醯氧基)辛基)氧基)羰基)環己烷羧酸]取代化合物11-1。
(化合物48-3的合成)
藉由與實施例1中化合物15-1的合成相同的方法得到約70g的化合物48-3，不同之處僅在於使用化合物47-3取代化合物14-1。
(化合物RD-36的合成)
藉由與實施例1中化合物RD-01的合成相同的方法得到約50g的化合物RD-36，不同之處僅在於使用化合物48-3取代化合物15-1。
得到的化合物RD-36之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d),7.60(2H,d),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.48(1H,d),7.40(4H,d),7.33(1H,t),6.31(1H,d),4.13(2H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),3.52(1H,s),1.60-1.12(56H,m)
實施例37：化合物RD-37的合成
依據圖9a和9b所示的流程來合成化合物RD-37。
(化合物50的合成)
藉由與實施例1中化合物8的合成相同的方法得到約110g的化合物50，不同之處僅在於使用化合物49(6-羥基-2-萘甲酸)取代化合物7。
(化合物51的合成)
藉由與實施例1中化合物9的合成相同的方法得到約150g的化合物51，不同之處僅在於使用化合物50取代化合物8。
(化合物52的合成)
藉由與實施例1中化合物10的合成相同的方法得到約80g的化合物52，不同之處僅在於使用化合物51取代化合物9。
(化合物53-1的合成)
藉由與實施例1中化合物12-1的合成相同的方法得到約 100g的化合物53-1，不同之處僅在於使用化合物52取代化合物10。
(化合物54-1的合成)
藉由與實施例1中化合物15-1的合成相同的方法得到約30g的化合物54-1，不同之處僅在於使用化合物53-1取代化合物14-1。
(化合物RD-37的合成)
藉由與實施例1中化合物RD-01的合成相同的方法得到約20g的化合物RD-37，不同之處僅在於使用化合物54-1取代化合物15-1。
得到的化合物RD-37之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.68(1H,s),8.21(1H,d),8.18(1H,d),7.98(1H,s),7.97(1H,d),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.48(1H,d),6.27(1H,d),6.05(1H,dd),5.59(1H,d),4.13(2H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),3.52(1H,s),1.60-1.12(48H,m)
實施例38：化合物RD-38的合成
依據圖9a和9b所示的流程來合成化合物RD-38。
(化合物53-2的合成)
藉由與實施例1中化合物12-1的合成相同的方法得到約100g的化合物53-2，不同之處僅在於使用化合物52取代化合物10及使用化合物11-2[(1r,4r)-4-(((6-(丙烯醯氧基)己基)氧基)羰基)環己烷羧酸]取代化合物11-1。
(化合物54-2的合成)
藉由與實施例1中化合物15-1的合成相同的方法得到約70g的化合物54-2，不同之處僅在於使用化合物53-2取代化合物14-1。
(化合物RD-38的合成)
藉由與實施例1中化合物RD-01的合成相同的方法得到約50g的化合物RD-38，不同之處僅在於使用化合物54-2取代化合物15-1。
得到的化合物RD-38之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.68(1H,s),8.21(1H,d),8.18(1H,d),7.98(1H,s),7.97(1H,d),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.48(1H,d),6.27(1H,d),6.05(1H,dd),5.59(1H,d),4.13(2H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),3.52(1H,s),1.60-1.12(52H,m)
實施例39：化合物RD-39的合成
依據圖9a和9b所示的流程來合成化合物RD-39。
(化合物53-3的合成)
藉由與實施例1中化合物12-1的合成相同的方法得到約100g的化合物53-3，不同之處僅在於使用化合物52取代化合物10及使用化合物11-3[(1r,4r)-4-(((8-(丙烯醯氧基)辛基)氧基)羰基)環己烷羧酸]取代化合物11-1。
(化合物54-3的合成)
藉由與實施例1中化合物15-1的合成相同的方法得到約70g的化合物54-3，不同之處僅在於使用化合物53-3取代化合物14-1。
(化合物RD-39的合成)
藉由與實施例1中化合物RD-01的合成相同的方法得到約50g的化合物RD-39，不同之處僅在於使用化合物54-3取代化合物15-1。
得到的化合物RD-39之NMR光譜如下： 1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.68(1H,s),8.21(1H,d),8.18(1H,d),7.98(1H,s),7.97(1H,d),7.56(4H,d),7.51(4H,d),7.48(1H,d),6.27(1H,d),6.05(1H,dd),5.59(1H,d),4.13(2H,t),4.05(1H,s),3.97(2H,t),3.52(1H,s),1.60-1.12(56H,m)
實施例40：化合物RD-40的合成
依據圖10所示的流程來合成化合物RD-40。
也就是說，藉由與實施例1中化合物15-1的合成相同的方法得到約30g的化合物RD-40，不同之處僅在於使用實施例16的化合物39-1取代化合物14-1及使用約10g的碘苯取代化合物6。
得到的化合物RD-40之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d),7.55(2H,d),7.43(2H,d),7.43(2H,d),7.40(2H,d),6.27(1H,d),6.05(1H,dd),5.59(1H,d),4.13(2H,t),3.97(2H,t),1.60-1.12(48H,m)
實施例41：化合物RD-41的合成
依據圖10所示的流程來合成化合物RD-41。
也就是說，藉由與實施例1中化合物15-1的合成相同的方法得到約50g的化合物RD-41，不同之處僅在於使用實施例17的化合物39-2取代化合物14-1及使用約10g的碘苯取代化合物6。
得到的化合物RD-41之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d),7.55(2H,d),7.43(2H,d),7.43(2H,d),7.40(2H,d),6.27(1H,d),6.05(1H,dd),5.59(1H,d),4.13(2H,t),3.97(2H,t),1.60-1.12(52H,m)
實施例42：化合物RD-42的合成
依據圖10所示的流程來合成化合物RD-42。
也就是說，藉由與實施例1中化合物15-1的合成相同的方法得到約50g的化合物RD-42，不同之處僅在於使用實施例18的化合物39-3取代化合物14-1及使用約10g的碘苯取代化合物6。
得到的化合物RD-42之NMR光譜如下：1H NMR(CDCl3，標準材料TMS)δ(ppm)：8.04(2H,d),7.55(2H,d),7.43(2H,d),7.43(2H,d),7.40(2H,d),6.27(1H,d),6.05(1H,dd),5.59(1H,d),4.13(2H,t),3.97(2H,t),1.60-1.12(56H,m)
製備例1 (用於光學元件的組成物之製備)
將約112.5重量份由以下化學式a表示的液晶原化合物、約37.5重量份由以下化學式b表示的液晶原化合物、約12.5重量份的起始劑(Irgacure 907,Ciba-Geigy Co.)、約0.27重量份的抗氧化劑(Irganox 1076,Ciba-Geigy Co.)、約3.33重量份的氟系界面活性劑(FC-171,3M Co.)、以及約1000重量份的甲苯與100重量份的實施例18化合物RD-18混合，以製備用於光學元件的組成物(固體含量：約21wt%)：
(延遲膜的製備)
藉由輥塗法將該組成物塗佈在上面已經塗佈降冰片烯系光配向材料的TAC膜上，並在約80℃下乾燥2分鐘，以配向液晶分子。隨後，藉由使延遲膜曝露於源自200mW/cm2高壓汞燈的非偏光紫外線的方法來製備延遲膜，以固定液晶的配向狀態。
使用Axoscan(Axomatrix Co.的產品)量測所製備的延遲膜之量化延遲值。此時，獨立量測膜的厚度並從得到的值獲得延遲值(△n．d)。結果，△n．d(450nm)、△n．d(550nm)、及△n．d(650nm)分別經 量測為103、110、及114。因此，△n(450nm)/△n(550nm)的值為0.94，並且△n(650nm)/△n(550nm)的值為1.04，因此，認定的是該膜滿足依據以上揭示的方程式I和II之條件。
製備例2 (用於光學元件的組成物之製備)
將約112.5重量份由化學式a表示的液晶原化合物、約62.5重量份由化學式b表示的液晶原化合物、約12.5重量份的起始劑(Irgacure 907,Ciba-Geigy Co.)、約0.27重量份的抗氧化劑(Irganox 1076,Ciba-Geigy Co.)、約3.33重量份的氟系界面活性劑(FC-171,3M Co.)、以及約1000重量份的甲苯與75重量份的實施例18化合物RD-18混合，以製備用於光學元件的組成物(固體含量：約21wt%)。
(延遲膜的製備)
藉由輥塗法將該組成物塗佈在上面已經塗佈降冰片烯系光配向材料的TAC膜上，並在約80℃下乾燥2分鐘，以配向液晶分子。隨後，藉由使延遲膜曝露於源自200mW/cm2高壓汞燈的非偏光紫外線的方法來製備延遲膜，以固定液晶的配向狀態。
使用Axoscan(Axomatrix Co.的產品)量測所製備的延遲膜之量化延遲值。此時，獨立量測膜的厚度並從得到的值獲得延遲值(△n．d)。結果，△n．d(450nm)、△n．d(550nm)、及△n．d(650nm)分別經量測為115、120、及124。因此，△n(450nm)/△n(550nm)的值為0.96，並且△n(650nm)/△n(550nm)的值為1.03，因此，認定的是該膜滿足依據以上揭示的方程式I和II之條件。
製備例3 (用於光學元件的組成物之製備)
將約112.5重量份由化學式a表示的液晶原化合物、約37.5重量份由化學式b表示的液晶原化合物、約12.5重量份的起始劑(Irgacure 907,Ciba-Geigy Co.)、約0.27重量份的抗氧化劑(Irganox 1076,Ciba-Geigy Co.)、約3.33重量份的氟系界面活性劑(FC-171,3M Co.)、以及約1000重量份的甲苯與100重量份的實施例40化合物RD-40混合，以製備用於光學元件的組成物(固體含量：約21wt%)。
(延遲膜的製備)
藉由輥塗法將該組成物塗佈在上面已經塗佈降冰片烯系光配向材料的TAC膜上，並在約80℃下乾燥2分鐘，以配向液晶分子。隨後，藉由使延遲膜曝露於源自200mW/cm2高壓汞燈的非偏光紫外線的方法來製備延遲膜，以固定液晶的配向狀態。
使用Axoscan(Axomatrix Co.的產品)量測所製備的延遲膜之量化延遲值。此時，獨立量測膜的厚度並從得到的值獲得延遲值(△n．d)。結果，△n．d(450nm)、△n．d(550nm)、及△n．d(650nm)分別經量測為110、113、及115。因此，△n(450nm)/△n(550nm)的值為0.97，並且△n(650nm)/△n(550nm)的值為1.02，因此，認定的是該膜滿足依據以上揭示的方程式I和II之條件。
製備例4 (用於光學元件的組成物之製備)
將約112.5重量份由化學式a表示的液晶原化合物、約62.5重量份由化學式b表示的液晶原化合物、約12.5重量份的起始劑(Irgacure 907,Ciba-Geigy Co.)、約0.27重量份的抗氧化劑(Irganox 1076,Ciba-Geigy Co.)、約3.33重量份的氟系界面活性劑(FC-171,3M Co.)、以及約1000重量份的甲苯與75重量份的實施例40化合物RD-40混合，以製備用於光學元件的組成物(固體含量：約21wt%)。
(延遲膜的製備)
藉由輥塗法將該組成物塗佈在上面已經塗佈降冰片烯系光配向材料的TAC膜上，並在約80℃下乾燥2分鐘，以配向液晶分子。隨後，藉由使延遲膜曝露於源自200mW/cm2高壓汞燈的非偏光紫外線的方法來製備延遲膜，以固定液晶的配向狀態。
使用Axoscan(Axomatrix Co.的產品)量測所製備的延遲膜之量化延遲值。此時，獨立量測膜的厚度並從得到的值獲得延遲值(△n．d)。結果，△n．d(450nm)、△n．d(550nm)、及△n．d(650nm)分別經量測為125、126、及127。因此，△n(450nm)/△n(550nm)的值為0.99，並且△n(650nm)/△n(550nm)的值為1.01，因此，認定的是該膜滿足依據以上揭示的方程式I和II之條件。
比較製備例1 (用於光學元件的組成物之製備)
將約56.25重量份由化學式b表示的液晶原化合物、約7.8重量份的起始劑(Irgacure 907,Ciba-Geigy Co.)、約0.17重量份的抗氧化劑(Irganox 1076,Ciba-Geigy Co.)、約2.08重量份的氟系界面活性劑(FC-171,3M Co.)、以及約625重量份的甲苯與約100重量份由化學式a表示的液晶原化合物混合，以製備用於光學元件的組成物(固體含量：約21wt%)。
(延遲膜的製備)
藉由輥塗法將該組成物塗佈在上面已經塗佈降冰片烯系光配向材料的TAC膜上，並在約80℃下乾燥2分鐘，以配向液晶分子。隨後，藉由使延遲膜曝露於源自200mW/cm2高壓汞燈的非偏光紫外線的方法來製備延遲膜，以固定液晶的配向狀態。
使用Axoscan(Axomatrix Co.的產品)量測所製備的延遲膜之量化延遲值。此時，獨立量測膜的厚度並從得到的值獲得延遲值(△n．d)。結果，△n．d(450nm)、△n．d(550nm)、及△n．d(650nm)分別經量測為225、210、及203。因此，△n(450nm)/△n(550nm)的值為1.07，並且△n(650nm)/△n(550nm)的值為0.96，因此，認定的是該膜不滿足依據以上揭示的方程式I和II之條件。

Claims (14)

  1. 一種用於光學元件的組成物，包括一由以下化學式1表示的負光學色散化合物；以及一具有至少一可聚合官能基的反應性液晶原化合物： 在化學式1中，A為一C5-C8非芳香碳環或雜環基或一C6-C20芳香或雜芳香基；E1、E2、D1、及D2係獨立為一單鍵或一二價連接基團；L1和L2係獨立為-H、-F、-Cl、-Br、-I、-CN、-NC、-NCO、-OCN、-SCN、-C(=O)NR1R2、-C(=O)R1、-O-C(=O)R1、-NH2、-SH、-SR1、-SO3H、-SO2R1、-OH、-NO2、-CF3、-SF3、一經取代或未經取代的矽基、一C1-C40經取代或未經取代的碳基或烴基、或-Sp-P，其中該L1和L2中之至少一者為-Sp-P，該P為一可聚合基團，該Sp為一間隔基團或一單鍵，並且每個R1和R2係獨立為-H或一C1-C12烷基；m和n係獨立為一1至5的整數，其中若該m或n為2以上時，每個-(D1-G1)-或-(G2-D2)-重複兩次或更多次的重複單元可以彼此相同或不同；G1和G2係獨立為一C5-C8非芳香碳環或雜環基或一C6-C20芳香或雜芳香基，其中該G1和G2中之至少一者為碳環 或雜環基，而且該碳環或雜環基中包括的任一個氫係被由以下化學式2表示的基團取代： 在化學式2中，p為一1至10的整數，其中若該p為2以上時，每個-(Q1)-重複兩次或更多次的重複單元可以彼此相同或不同，Q1係獨立為一選自於由-C≡C-、-CY1=CY2-、及一C6-C20經取代或未經取代的芳香或雜芳香基所組成之群組的二價基團，並且該Y1和Y2係獨立為-H、-F、-Cl、-CN、或-R1，及B1為-H、-F、-Cl、-Br、-I、-CN、-NC、-NCO、-OCN、-SCN、-C(=O)NR1R2、-C(=O)R1、-NH2、-SH、-SR1、-SO3H、-SO2R1、-OH、-NO2、-CF3、-SF3、一可聚合基團、一C2-C6烯基、一C2-C6炔基、一C2-C4醯基、末端與一C2-C4醯基連接的一C2-C6亞炔基、一C1-C5醇基、或一C1-C12烷氧基，其中該R1和R2係獨立為-H或一C1-C12烷基。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之用於光學元件的組成物，其中化學式1之A、G1、及G2係獨立為環己烷環、環己烯環、苯環、萘環、或菲環；以及該G1和G2中之至少一者為環己烷環或環己烯環。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之用於光學元件的組成物，其中該A中包括的至少一個氫係被-F、-Cl、-Br、-I、-CN、-NC、-NCO、-OCN、-SCN、-C(=O)NR1R2、-C(=O)R1、-NH2、-SH、-SR1、-SO3H、-SO2R1、-OH、-NO2、-CF3、-SF3、一C2-C6烯基、一C2-C6炔基、一C2-C4醯基、末端與一C2-C4醯基連接的一C2-C6亞炔基、一C1-C5醇基、或一C1-C12烷氧基取代，並且該R1和R2係獨立為-H或一C1-C12烷基。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之用於光學元件的組成物，其中化學式1之E1、E2、D1、及D2係獨立為一單鍵、-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-O-COO-、-CO-NR1-、-NR1-CO-、-NR1-CO-NR1-、-OCH2-、-CH2O-、-SCH2-、-CH2S-、-CF2O-、-OCF2-、-CF2S-、-SCF2-、-CH2CH2-、-(CH2)3-、-(CH2)4-、-CF2CH2-、-CF2CH2-、-CH=CH-、-CY1=CY2-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-CH=CR1-、-C≡C-、-CH=CH-COO-、-OCO-CH=CH-、或-CR1R2-，而且該Y1和Y2係獨立為-H、-F、-Cl、-CN、或-R1，並且該R1和R2係獨立為-H或一C1-C12烷基。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之用於光學元件的組成物，其中化學式1之P為CH2=CZ1-COO-、CH2=CZ1-CO-、CH2=CZ2-(O)a-、CH3-CH=CH-O-、(CH2=CH)2CH-OCO-、 (CH2=CH-CH2)2CH-OCO-、(CH2=CH)2CH-O-、(CH2=CH-CH2)2N-、(CH2=CH-CH2)2N-CO-、HO-CZ1Z2-、HS-CZ1Z2-、HZ1N-、HO-CZ1Z2-NH-、CH2=CZ1-CO-NH-、CH2=CH-(COO)a-Phe-(O)b-、CH2=CH-(CO)a-Phe-(O)b-、Phe-CH=CH-、HOOC-、OCN-、Z1Z2Z3Si-、 該Z1至Z3係獨立為-H、-F、-Cl、-CN、-CF3、苯基、或一C1-C5烷基，該Phe為未經取代的或經-F、-Cl、-Br、-I、-CN、-NC、-NCO、-OCN、-SCN、-C(=O)NR1R2、-C(=O)R1、-NH2、-SH、-SR1、-SO3H、-SO2R1、-OH、-NO2、-CF3、或-SF3取代的1,4-亞苯基，以及該a和b係獨立為0或1。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之用於光學元件的組成物，其中化學式1之該Sp係選自使-Sp-P變成-X'-Sp'-P的化學式-X'-Sp'，該Sp'為一經-F、-Cl、-Br、-I、或-CN單取代或多取代的C1-C20亞烷基，並且該亞烷基中的一個或更多個-CH2-基團可以被-O-、-S-、-NH-、-NR1-、-SiR1R2-、-CO-、-COO-、-OCO-、 -OCO-O-、-S-CO-、-CO-S-、-NR1-CO-O-、-O-CO-NR1-、-NR1-CO-NR1-、-CH=CH-、或-C≡C-取代，該X'為-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-O-COO-、-CO-NR1-、-NR1-CO-、-NR1-CO-NR1-、-OCH2-、-CH2O-、-SCH2-、-CH2S-、-OCF2-、-CF2O-、-SCF2-、-SF2O-、-CF2CH2-、-CF2CF2-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-CH=CR1-、-CY1=CY2-、-C≡C-、-CH=CH-COO-、-OCO-CH=CH-、或一單鍵，該Y1和Y2係獨立為-H、-F、-Cl、-CN、或-R1，以及該R1和R2係獨立為-H或一C1-C12烷基。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之用於光學元件的組成物，其中該-[Q1]p-係選自於由-C≡C-、-C≡C-C≡C-、-C≡C-C≡C-C≡C-、-C≡C-C≡C-C≡C-C≡C-、 所組成之群組，該r為0、1、2、3、或4，以及該D為-F、-Cl、-Br、-I、-CN、-NO2、-NCO、-NCS、-OCN、-SCN、-C(=O)NR1R2、-C(=O)X、-C(=O)OR1、-NR1R2、-OH、-SF5、經取代或未經取代的矽基、一C6-C12芳基、一C1-C12直鏈或支鏈烷基、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、烷基羰基氧基、或烷氧基羰基氧基，而且該R1和R2係獨立為-H或一C1-C12烷基。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之用於光學元件的組成物，其中該反應性液晶原化合物係由以下化學式3表示的化合物： 在化學式3中，P為一可聚合基團，Sp為一間隔基團或一單鍵，X為-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCOO-、或一單鍵，n為0或1，MG為一液晶原基團，以及R為一C1-C25烷基、一鹵素、氰基、或一具有給予該P-(S-p-X)n-的含義的基團，而且該烷基中的一個或更多個非相鄰CH2基團可以被-O-、-S-、-NH-、-N(CH3)-、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCO-O-、-S-CO-、-CO-S-、或-C≡C-以氧原子彼此不直接連接的方式獨立取代。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之用於光學元件的組成物，其中化學式3中的P為一乙烯基、一丙烯酸酯基、一甲基丙烯酸酯基、一丙烯基醚基團、或一環氧基團。
  10. 如申請專利範圍第8項所述之用於光學元件的組成物，其中化學式3的SP為一C1-C20直鏈或支鏈亞烷基，而且該亞烷基中的一個或更多個非相鄰CH基團可以被-O-、-S-、-NH-、-N(CH)-、-CO-、-O-CO-、-S-CO-、-O-COO-、-CO-S-、-CO-O-、-CHF-、-CHCl-、-CH(CN)-、-CH=CH-、或-C≡C-取代。
  11. 如申請專利範圍第8項所述之用於光學元件的組成物，其中化學式3的MG為由以下化學式4表示的基團： 在化學式4中，Ya、Yb、及Yc係獨立為其中一個或更多個CH基團未被取代或被N取代的1,4-亞苯基；1,4-環亞己基、1,4-環亞己烯基、或其中一個或更多個CH2基團未被取代或被O、S、或O和S取代的萘-2,6-二基；而且該每個基團可以是被鹵素、氰基、硝基、或一C1-C7烷基、烷氧基或烷醯基單取代或多取代的，該烷醯基之一個或更多個氫原子可以被F或Cl取代，Za和Zb係獨立為-COO-、-OCO-、-CH2CH2-、-OCH2-、-CH2O-、-CH=CH-、-C≡C-、-CH=CH-COO-、-OCO-、-CH=CH-、或一單鍵，以及n為0、1、或2。
  12. 如申請專利範圍第11項所述之用於光學元件的組成物，其中Ya、Yb、及Yc係獨立為1,4-亞苯基(Phe)、被一個或更多個基團L取代的1,4-亞苯基(PheL)、或1,4-環亞己基(Cyc)，以及 該基團L為F、Cl、CN、NO2、CH3、C2H5、OCH3、OC2H5、COCH3、COC2H5、CF3、OCF3、OCHF3、或OCH2F5，而且該Za和Zb係獨立為-COO-、-OCO-、-CH2CH2-、或-CH=CH-COO-。
  13. 如申請專利範圍第8項所述之用於光學元件的組成物，其中該反應性液晶原化合物為一種或更多種選自於由以下化學式5a至5g表示之群組的化合物： [化學式5e] 在化學式5a至5g中，x和y係獨立為一1至12的整數，A為1,4-亞苯基或1,4-環亞己基，R1為一鹵素、氰基或一C1-C12烷基或烷氧基，以及Q1和Q2係獨立為H、一鹵素、CN、一C1-C7烷基、烷氧基或烷醯基。
  14. 一種從如申請專利範圍第1項所述之用於光學元件的組成物獲得並滿足以下方程式I和II的光學各向異性體：(方程式I)△n(450nm)/△n(550nm)〈1.0(方程式II)△n(650nm)/△n(550nm)〉1.0在方程式I和II中，△n(λ)表示在液晶相中在波長λ的特定雙折射率。
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