JP2016532141A - レンズアセンブリおよびそれを組み込んだ光学系 - Google Patents
レンズアセンブリおよびそれを組み込んだ光学系 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016532141A JP2016532141A JP2016519965A JP2016519965A JP2016532141A JP 2016532141 A JP2016532141 A JP 2016532141A JP 2016519965 A JP2016519965 A JP 2016519965A JP 2016519965 A JP2016519965 A JP 2016519965A JP 2016532141 A JP2016532141 A JP 2016532141A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- optical
- binder
- light
- optical lens
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/02—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
- G02B7/025—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses using glue
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/9501—Semiconductor wafers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2201/00—Features of devices classified in G01N21/00
- G01N2201/06—Illumination; Optics
- G01N2201/061—Sources
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Lens Barrels (AREA)
Abstract
Description
72 高強度領域
74 低強度領域
90 光学系
92 光源
94 ビーム形成素子
100、200、300 レンズアセンブリ
130 光学レンズ
Claims (10)
- 光源によって提供された光を透過および屈折させるように位置決めされた光学レンズ、および
前記光学レンズに連結されて、前記光源に対する該光学レンズの位置を維持するレンズホルダーであって、前記光学レンズが、該光学レンズの円周に近接した位置に不連続な構成で配置された結合剤によって連結されているレンズホルダー、
を有するレンズアセンブリと、
前記レンズアセンブリの前記光学レンズに光を提供する光源と、
を備えた光学系において、
前記光学レンズに提供される前記光は、低強度領域によって互いに分離された複数の高強度領域を含む光学フットプリントを有し、
前記結合剤が前記光の前記光学フットプリントの前記高強度領域から間隔をあけて配置されるように、該光源に対して円周の向きに該結合剤が位置決めされていることを特徴とする光学系。 - 前記高強度領域が、前記光学フットプリントの全域での光の中央強度以上の強度を有する、該光学フットプリントの一部分を含むことを特徴とする請求項1記載の光学系。
- 前記光学レンズに提供される前記光の中の前記光学フットプリントを提供するように前記光学系に連結されたビーム形成素子をさらに備えたことを特徴とする請求項1または2記載の光学系。
- 前記レンズホルダーが、平面部、および前記平面部に当接している輪郭部を備え、前記結合剤が、予め定められた位置で前記輪郭部と該光学レンズの一部分とに接触するように、前記光学レンズの前記円周に近接した位置に位置決めされていることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項記載の光学系。
- 前記レンズホルダーが、レリーフチャンネルから間隔をあけて配置された複数の支持パッドをさらに備え、前記結合剤が、前記支持パッドに近接して位置決めされていることを特徴とする請求項4記載の光学系。
- 前記複数の支持パッドが、前記光学レンズの光軸方向に前記レリーフチャンネルから間隔をあけて配置されていることを特徴とする請求項5記載の光学系。
- 前記複数の支持パッドが、前記光学レンズの光軸に対して半径方向に前記レリーフチャンネルから間隔をあけて配置されていることを特徴とする請求項5記載の光学系。
- 光学レンズと、
固定部および該固定部に連結されたレンズ支持部であって、レリーフチャンネルから間隔をあけて配置された複数の支持パッドを含むレンズ支持部を有するレンズホルダーと、
前記複数の支持パッドの少なくとも一部分と前記光学レンズとの間に位置決めされ、前記光学レンズを前記レンズホルダーに固定する結合剤と、
を備えたことを特徴とするレンズアセンブリ。 - 前記複数の支持パッドが、前記光学レンズの光軸方向に前記レリーフチャンネルから間隔をあけて配置されていることを特徴とする請求項8記載のレンズアセンブリ。
- 前記複数の支持パッドが、前記光学レンズの光軸に対して半径方向に前記レリーフチャンネルから間隔をあけて配置されていることを特徴とする請求項8記載のレンズアセンブリ。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US14/047,200 | 2013-10-07 | ||
US14/047,200 US9557516B2 (en) | 2013-10-07 | 2013-10-07 | Optical systems exhibiting improved lifetime using beam shaping techniques |
PCT/US2014/058766 WO2015054016A1 (en) | 2013-10-07 | 2014-10-02 | Lens assemblies and optical systems incorporating lens assemblies |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016532141A true JP2016532141A (ja) | 2016-10-13 |
JP6779131B2 JP6779131B2 (ja) | 2020-11-04 |
Family
ID=51799310
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016519965A Active JP6779131B2 (ja) | 2013-10-07 | 2014-10-02 | レンズアセンブリおよびそれを組み込んだ光学系 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9557516B2 (ja) |
EP (1) | EP3055725B1 (ja) |
JP (1) | JP6779131B2 (ja) |
WO (1) | WO2015054016A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI672537B (zh) * | 2018-11-21 | 2019-09-21 | 大立光電股份有限公司 | 塑膠透鏡組、成像鏡頭模組及電子裝置 |
CN109613655B (zh) * | 2019-01-17 | 2020-12-15 | 苏州旭创科技有限公司 | 一种光学组件及其制造方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04166904A (ja) * | 1990-10-31 | 1992-06-12 | Olympus Optical Co Ltd | レンズ保持鏡筒 |
JPH0794398A (ja) * | 1993-09-24 | 1995-04-07 | Mitsubishi Electric Corp | 投影露光装置及び投影露光方法 |
JPH1114876A (ja) * | 1997-06-19 | 1999-01-22 | Nikon Corp | 光学構造体、その光学構造体を組み込んだ投影露光用光学系及び投影露光装置 |
JPH11204397A (ja) * | 1998-01-08 | 1999-07-30 | Mitsubishi Electric Corp | パターン決定方法および露光装置に用いられるアパーチャ |
WO2008029852A1 (fr) * | 2006-09-06 | 2008-03-13 | Nikon Corporation | Dispositif optique, appareil d'exposition et procédé de fabrication du dispositif |
JP2009010232A (ja) * | 2007-06-28 | 2009-01-15 | Canon Inc | 光学装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
US20110205643A1 (en) * | 2010-02-24 | 2011-08-25 | Horst Schreiber | Extending the stability of uv curable adhesives in 193nm laser systems |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5493452A (en) * | 1990-10-31 | 1996-02-20 | Olympus Optical Company Limited | Lens retaining barrel |
CH695281A5 (de) | 1993-04-02 | 2006-02-28 | Balzers Hochvakuum | Verfahren zur Herstellung eines Filters, danach hergestellte optische Schicht, optisches Bauelement mit einer derartigen Schicht und Braeunungsanlage mit einem solchen Element. |
DE19733490C1 (de) | 1997-08-01 | 1999-02-25 | Zeiss Carl Fa | Optik-Fassung mit UV-Kleber und Schutzschicht |
DE19825716A1 (de) | 1998-06-09 | 1999-12-16 | Zeiss Carl Fa | Baugruppe aus optischem Element und Fassung |
JP4482990B2 (ja) * | 1999-12-10 | 2010-06-16 | 株式会社ニコン | レンズ保持枠及びレンズ鏡筒 |
DE10053899A1 (de) | 2000-10-31 | 2002-05-08 | Zeiss Carl | Vorrichtung zur Lagerung eines optischen Elementes |
US7081278B2 (en) | 2002-09-25 | 2006-07-25 | Asml Holdings N.V. | Method for protection of adhesives used to secure optics from ultra-violet light |
US7232595B2 (en) | 2002-11-07 | 2007-06-19 | Corning Incorporated | Device comprising low outgassing photo or electron beam cured rubbery polymer material |
NL1024722C2 (nl) | 2002-11-07 | 2005-12-23 | Corning Inc | Laag uitgassend rubberachtig polymeermateriaal dat hardbaar is door een licht- of elektronenbundel, alsmede de bereiding en het gebruik daarvan. |
WO2004092834A2 (de) * | 2003-04-15 | 2004-10-28 | Carl Zeiss Smt Ag | System zum einstellen und aufrechterhalten einer gasatmosphäre in einem optischen system |
JP4630565B2 (ja) | 2004-03-31 | 2011-02-09 | キヤノン株式会社 | 光学機器 |
JP2006154764A (ja) * | 2004-11-08 | 2006-06-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レンズユニット |
JP4942301B2 (ja) * | 2004-11-30 | 2012-05-30 | 新光電気工業株式会社 | 直接露光装置および直接露光方法 |
JP4098813B2 (ja) * | 2006-03-24 | 2008-06-11 | シャープ株式会社 | カメラモジュール |
JP2011134431A (ja) * | 2009-11-30 | 2011-07-07 | Victor Co Of Japan Ltd | 光ピックアップ装置 |
JP2012048090A (ja) * | 2010-08-30 | 2012-03-08 | Canon Inc | レンズ鏡筒 |
US9436092B2 (en) * | 2012-03-30 | 2016-09-06 | Newport Fab, Llc | Semiconductor fabrication utilizing grating and trim masks |
-
2013
- 2013-10-07 US US14/047,200 patent/US9557516B2/en active Active
-
2014
- 2014-10-02 JP JP2016519965A patent/JP6779131B2/ja active Active
- 2014-10-02 EP EP14789926.4A patent/EP3055725B1/en active Active
- 2014-10-02 WO PCT/US2014/058766 patent/WO2015054016A1/en active Application Filing
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04166904A (ja) * | 1990-10-31 | 1992-06-12 | Olympus Optical Co Ltd | レンズ保持鏡筒 |
JPH0794398A (ja) * | 1993-09-24 | 1995-04-07 | Mitsubishi Electric Corp | 投影露光装置及び投影露光方法 |
JPH1114876A (ja) * | 1997-06-19 | 1999-01-22 | Nikon Corp | 光学構造体、その光学構造体を組み込んだ投影露光用光学系及び投影露光装置 |
JPH11204397A (ja) * | 1998-01-08 | 1999-07-30 | Mitsubishi Electric Corp | パターン決定方法および露光装置に用いられるアパーチャ |
WO2008029852A1 (fr) * | 2006-09-06 | 2008-03-13 | Nikon Corporation | Dispositif optique, appareil d'exposition et procédé de fabrication du dispositif |
JP2009010232A (ja) * | 2007-06-28 | 2009-01-15 | Canon Inc | 光学装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
US20110205643A1 (en) * | 2010-02-24 | 2011-08-25 | Horst Schreiber | Extending the stability of uv curable adhesives in 193nm laser systems |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20150098131A1 (en) | 2015-04-09 |
EP3055725B1 (en) | 2023-03-15 |
WO2015054016A1 (en) | 2015-04-16 |
EP3055725A1 (en) | 2016-08-17 |
US9557516B2 (en) | 2017-01-31 |
JP6779131B2 (ja) | 2020-11-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7402855B2 (ja) | 半導体レンズの製造の最適化 | |
JP4381460B2 (ja) | レーザ光合成装置 | |
US9252885B2 (en) | Method for manufacturing wavelength division multiplexing transmission apparatus and wavelength division multiplexing transmission apparatus | |
WO2007131161A3 (en) | Symmetrical objective having four lens groups for microlithography | |
JP6862509B2 (ja) | レンズアセンブリ用uv保護被膜 | |
JPWO2015111543A1 (ja) | 車両用灯具 | |
KR20110046527A (ko) | 오염이 적은 광학 배열체 | |
US10359703B2 (en) | Method for aligning a mirror of a microlithographic projection exposure apparatus | |
JP2016532141A (ja) | レンズアセンブリおよびそれを組み込んだ光学系 | |
JP2011034965A (ja) | 光学系、特に照明系内に備えられる光学配置 | |
US10578274B2 (en) | Lens array assembly and method for making the same | |
JPWO2015129179A1 (ja) | レンズの保持構造、レンズホルダ、光モジュールおよびレンズの保持方法 | |
US7085080B2 (en) | Low-deformation support device of an optical element | |
KR101758165B1 (ko) | 레이저 다이오드를 포함하는 광출력장치 | |
JP6662460B2 (ja) | 発光装置 | |
JP2015115379A (ja) | 半導体レーザモジュール及びその製造方法 | |
JP6596817B2 (ja) | 光源デバイス及び光源装置 | |
KR101999553B1 (ko) | 조명 광학장치, 노광장치, 및 물품의 제조방법 | |
TWI694310B (zh) | 陶瓷元件之間力合連接的連接配置及力合連接的方法 | |
US20060044528A1 (en) | Offner imaging system with reduced-diameter reflectors | |
TWI546572B (zh) | 透鏡及使用該透鏡的光纖耦合系統 | |
TW202347047A (zh) | 光學元件、和總成及其光學系統 | |
JP5843905B2 (ja) | 照明光学系、露光装置及びデバイス製造方法 | |
WO2015016308A1 (ja) | 光源装置 | |
JP2020064289A (ja) | 光学装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170929 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180830 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180926 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20181226 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20190226 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190820 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20191114 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191122 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20200415 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200721 |
|
C60 | Trial request (containing other claim documents, opposition documents) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C60 Effective date: 20200721 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20200730 |
|
C21 | Notice of transfer of a case for reconsideration by examiners before appeal proceedings |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C21 Effective date: 20200805 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200916 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20201013 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6779131 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |