JP2016524004A - 酸化物および窒化物に選択的な高除去速度および低欠陥を有するcmp組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
(i)基材を研磨パッド、ならびに(a)セリア研磨剤、(b)式Iのイオン性ポリマー、
(ii)研磨パッドおよび化学機械研磨組成物を、基材に対して動かすこと、ならびに、
(iii)基材の少なくとも1部を削り取って、基材を研磨すること。
この例は、ポリエチレングリコールジカルボン酸の、酸化ケイ素の除去速度ならびに酸化ケイ素の窒化ケイ素およびポリシリコンに対する選択性への効果を示している。
この例は、パターン化された窒化ケイ素基材の研磨における窒化物の損失およびディッシングへの、ポリエチレングリコールジカルボン酸の効果を示している。
この例は、ポリエチレングリコールジカルボン酸を含む研磨組成物で観察される、酸化ケイ素除去速度ならびに窒化ケイ素およびポリシリコンに対する酸化ケイ素の選択性を、ポリマー主鎖中にエーテル結合を含む中性の水溶性ポリマーを含む研磨組成物で観察される酸化ケイ素の除去速度ならびに窒化ケイ素およびポリシリコンに対する酸化ケイ素の選択性を比較している。
この例は、ポリエチレングリコールジカルボン酸を含み、そして直鎖のポリビニルアルコールを更に含む研磨組成物で観察された、酸化ケイ素除去速度ならびに窒化ケイ素およびポリシリコンに対する酸化ケイ素の選択性を示している。
この例は、ポリエチレングリコールジカルボン酸を含み、そしてポリビニルアルコールを更に含む研磨組成物で観察されたディッシングへの効果を示している。
この例は、ポリエチレングリコールジカルボン酸を含み、そして分岐ポリビニルアルコールを更に含む研磨組成物で観察される、酸化ケイ素の除去速度および窒化ケイ素に対する酸化ケイ素の選択性への効果を示している。
この例は、ポリエチレングリコールジカルボン酸を含み、そして分岐したポリビニルアルコールを更に含む研磨組成物で観察される、ディッシングおよび窒化物損失への効果を示している。
この例は、ポリエチレングリコールジカルボン酸の分子量の、それを含む研磨組成物における、酸化ケイ素の除去速度および窒化ケイ素に対する酸化ケイ素の選択性への効果を示している。
この例は、湿式法セリアおよびポリエチレングリコールジカルボン酸を含む研磨組成物によって示される、酸化ケイ素除去速度および窒化ケイ素に対する酸化ケイ素の選択性への、有機酸およびノニオン性ポリマーの効果を示している。
この例は、湿式法セリアおよびポリエチレングリコールジカルボン酸を含む研磨組成物によって示される、有機酸およびノニオン性ポリマーの、酸化ケイ素の除去速度および窒化ケイ素に対する酸化ケイ素の選択性への効果を、湿式法セリアおよびアクリル酸−2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸共重合体であるイオン性ポリマーを含む研磨組成物と比較して、示している。
この例は、ポリエチレングリコールジカルボン酸を含み、そして中性のポリマーを更に含んでいる研磨組成物で観察されるディッシングおよび窒化物損失への効果を示している。
Claims (23)
- X1およびX2の両方が−COOHである、請求項1記載の研磨組成物。
- Z1およびZ2の両方がOであり、かつR1、R2、R3およびR4が水素である、請求項2記載の研磨組成物。
- 前記イオン性ポリマーが、500ダルトン〜10000ダルトンの分子量を有し、かつnが、8以上の値を有する整数である、請求項1記載の研磨組成物。
- 前記イオン性ポリマーが、前記研磨組成物の0.01質量%〜0.5質量%の量で存在する、請求項1記載の研磨組成物。
- 前記セリア研磨剤が、湿式法セリア研磨剤である、請求項1記載の研磨組成物。
- 前記湿式法セリア研磨剤が、前記研磨組成物の0.05質量%〜1質量%の量で存在する、請求項6記載の研磨組成物。
- 前記研磨組成物が、ポリビニルアルコールを更に含む、請求項1記載の研磨組成物。
- 前記ポリビニルアルコールが、20000ダルトン〜200000ダルトンの分子量を有する、請求項8記載の研磨組成物。
- 前記ビニルアルコールが、分岐したポリビニルアルコールである、請求項8記載の研磨組成物。
- (i)基材を、研磨パッドならびに化学機械研磨組成物と接触させること、該化学機械研磨組成物は、
(a)セリア研磨剤、
(b)式Iのイオン性ポリマー、
Z1およびZ2は、独立してOまたはSであり、
R1、R2、R3およびR4は、独立して水素、C1〜C6アルキル、およびC7〜C10アリールから選択され、そして、
nは、3〜500の整数である、ならびに、
(c)水、
を含む学機械研磨組成物であって、
該研磨組成物は、1〜4.5のpHを有している、
(ii)該研磨パッドおよび該化学機械研磨組成物を、該基材に対して動かすこと、ならびに、
(iii)該基材の少なくとも1部を削り取って、該基材を研磨すること、
を含んでなる、該基材の化学機械研磨方法。 - X1およびX2の両方が−COOHである、請求項11記載の方法。
- Z1およびZ2の両方がOであり、かつR1、R2、R3およびR4が水素である、請求項12記載の方法。
- 前記イオン性ポリマーが、500ダルトン〜10000ダルトンの分子量を有し、かつnが、8以上の値を有する整数である、請求項11記載の方法。
- 前記イオン性ポリマーが、前記研磨組成物の0.01質量%〜0.5質量%の量で存在する、請求項11記載の方法。
- 前記セリア研磨剤が、湿式法セリア研磨剤である、請求項11記載の方法。
- 前記湿式法セリア研磨剤が、前記研磨組成物の0.1質量%〜1質量%の量で存在する、請求項16記載の方法。
- 前記研磨組成物が、ポリビニルアルコールを更に含む、請求項11記載の方法。
- 前記ポリビニルアルコールが、20000ダルトン〜200000ダルトンの分子量を有する、請求項18記載の方法。
- 前記ビニルアルコールが、分岐したポリビニルアルコールである、請求項18記載の方法。
- 前記基材が、酸化ケイ素を含み、かつ該酸化ケイ素の少なくとも1部が削り取られて該基材が研磨される、請求項11記載の方法。
- 前記基材が、窒化ケイ素を更に含み、かつ該窒化ケイ素の少なくとも1部が削り取られて該基材が研摩される、請求項21記載の方法。
- 前記基材が、ポリシリコンを更に含み、かつ該ポリシリコンの少なくとも1部が削り取られて該基材が研摩される、請求項21記載の方法。
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