JP2016523859A - 低温プラズマの化粧的使用方法 - Google Patents

Abstract

本発明は、低温大気圧プラズマを、健康な頭皮の審美的障害を予防するおよび／または処置するために化粧的に使用する方法に関する。【選択図】図１

Description

本発明は、頭皮の障害、特に審美的障害の予防および／または処置のための新規処置を提案することに向けられる。特に、本発明は、頭皮のふけ異常に関する。

頭皮は、皮膚組織の残りと同様に絶え間ない再生を受ける表皮であり、皮脂腺に富む。

通常、頭皮は、皮膚の表面細胞を除去することによって再生を受け、この再生は、感じられたり見えたりしない。しかし、頭皮の角質層の細胞の過剰な再生は、種々の理由により、細胞の大きくて厚い断片の形成をもたらし得、上記断片は、裸眼で見ることができ、「ふけ」として知られる。

ふけの出現を促進する因子の例として、ストレス、冬季、保湿の欠如、または酵母Ｍａｌａｓｓｅｚｉａ ｓｐ．による皮膚又は毛包のコロニー形成が挙げられ得る。Ｍａｌａｓｓｅｚｉａ ｓｐ．属は、ヒトおよび特定の温血動物の皮膚に通常存在する親油性の酵母から成る。それらの分布は、年齢、皮脂腺活性および特定の病理学的状態に依存する。Ｍａｌａｓｓｅｚｉａ ｓｐ．属は、ふけのない個体では、頭皮の表面の通常の共生フローラの約４５％を占めるが、ふけがある場合には、フローラの７５％を占め得、関連する脂漏性皮膚炎の場合には８５％まで占め得る。頭皮の表面に一般に存在する他の微生物は、ミクロコッカスおよびＰｒｏｐｉｏｎｏｂａｃｔｅｒｉｕｍである。

ふけ状態は一般に、種々の局所的または全身的な抗菌処置に応答する。すなわち、抗菌剤および抗脂漏剤を組み合わせた種々の調製物が、重症のふけ状態を処置するために提案されている。抗菌剤に基づく処置は、ふけ状態に対して一定の効果を示す。

頭皮の表面におけるＭａｌａｓｓｅｚｉａ型の酵母を抑制するであろう化学抗菌剤をシャンプーに配合して使用することは、比較的有効であるが、抗ふけシャンプーの使用が中止されると、ふけが非常に迅速に再び出現する。

さらに、多くの特許出願が、医学分野および化粧分野におけるプラズマの使用に関する。

国際公開第２０１２／１０４３３２号パンフレットは、化粧用組成物とプラズマを組み合わせることによる防臭処置法を開示している。

国際公開第２０１２／１０３８７７号パンフレットは、誘電性プラズマを使用する毛髪の処置法を記載している。

国際公開第２００４／１０５８１０号パンフレットは、生体物質を大気圧プラズマで処置する方法に関する。

韓国特許出願公開第２００６０２５８２５号明細書は、大気低温プラズマを用いて毛髪を染めるための装置を記載している。

独国特許出願公開第１０２３８９３１号明細書は、マニキュアを塗るために爪を準備するための装置を記載している。

中国特許出願公開第１０１２５９０３６号明細書は、皮膚を処置しそして角栓を除去するための、鉛筆形状のプラズマ発生器を記載している。

独国特許出願公開第１０２００９０６０６２７号明細書は、皮膚表面の誘電体バリアプラズマ処置のための電極配置を開示している。

国際公開第２０１１／０５８３０１号パンフレットは、低温プラズマを使用する、化粧料および歯科分野において使用される処置装置を記載している。

韓国特許出願公開第２００９０４００１５６号明細書は、抗しわプラズマ処置装置を開示している。

国際公開第２０１１／１４４３４４号パンフレットは、低温プラズマを使用する、汚染された表面を少なくとも部分的に滅菌するためのデバイスを開示しており、上記プラズマを作るための種々の電極配列が記載され、そして多数の用途、例えば脱臭、が挙げられている。

頭皮の状態に有益な作用を及ぼし得る、特にふけの出現をなくし得るまたは少なくし得る新規解決のための要求が依然としてある。

本発明は、健康な頭皮の審美的障害、特に健康な頭皮のふけ状態を予防するおよび／または処置するための低温大気圧プラズマの化粧的使用によってこの目的を満たす。

本発明は、処置の始めからずっと有効であり、かつ比較的長く続き、迅速であり、行うことが容易であるところの解決を提供する。

本発明の別の利点は、例えばローションまたはシャンプーの形態で適用され得る何らの殺生物化合物にも頼らないことができることにある。

本発明の目的のために、用語「予防する」は、考慮下の現象の出現のリスクを低下させることを意味する。

別の局面によれば、本発明の主題は、頭皮を低温大気圧プラズマに暴露することを含む、個体の健康な頭皮の審美的障害を処置するおよび／または予防する化粧的方法である。

本発明に従う方法は、頭皮のふけ状態を示す個体において特に有利に行われる。

別の局面によれば、本発明の主題はまた、下記：
低温大気圧プラズマを製造する部材、ここで上記部材は、頭皮を上記プラズマに暴露することを可能にする、
頭皮に当接し、そして上記部材を頭皮から一定の距離、特に０．５〜１５ｍｍ、優先的には２〜６ｍｍの距離を置いて頭皮に相対的に移動させうるように構成されたガイド
を含む、頭皮を処置するデバイスである。

図１は、実施例の試験結果を示すグラフである。 図２は、本発明に従う、頭皮を処置するためのデバイス１０の例を示す。

プラズマ
プラズマは、プラズマを結果する放電によって製造される、イオン化されたガスであり、上記ガスはまた、反応性種を生じ得る。低温大気圧プラズマは、プラズマに暴露された基体の過剰の加熱を何ら引き起こさないプラズマである。

低温大気圧プラズマの３つの群が利用可能である。すなわち、直接プラズマ、間接プラズマおよびハイブリッドプラズマである。

直接プラズマでは、プラズマを製造するために必要とされる対電極として作用するのが基体である。従って、プラズマは、電極と基体との間で発生する。主要な直接プラズマ技術の一つがＤＢＤ(誘電体バリア放電)として知られるプラズマである。

間接プラズマでは、プラズマが２の電極間に発生し、次いで、気体流を使用して基体の方へ向けられる。主要な技術の一つが「プラズマトーチ」として知られる。

ハイブリッドプラズマはコロナプラズマとして知られ、直接プラズマの製造様式と間接プラズマの特性を結び付ける。

直接またはハイブリッドプラズマの文脈において、頭皮が対電極として作用し、電極下に置かれた領域が処置される。

低温大気圧プラズマは、種々の気体（空気、ヘリウム、酸素など）を使用することを可能にする。本発明は、気体によって制限されない。直接プラズマでは、好ましい気体が空気である。

プラズマのみの使用の文脈では、直接プラズマ、より優先的にはＤＢＤ型のものが本発明において好ましい。

処置法
本発明に従う方法は、頭皮を低温大気圧プラズマに暴露することを含む。

処置領域は、優先的には、頭皮の全体に及ぶ。

そのとき、処置を行うために、プラズマの局所製造を提供する部材を頭皮に相対的に移動させることが必要であり得る。

処置時間は、所望の結果に従って調整される。

暴露時間に応じて、抑制の領域が延ばされ得、それによって、電極またはプラズマ源の表面積よりも大きい表面積を処置することが可能である。

処置時間は、優先的には１秒間〜１０分間、より優先的には１秒間〜５分間である。この処置時間は、ふけ状態の処置のためのプラズマ発生器の化粧的使用と完全に両立する。

１０秒間の暴露はすでに、Ｍａｌａｓｓｅｚｉａ酵母の完全に満足のいく抑制を得ることを可能にする。

プラズマは、電極またはプラズマ製造源を制御された距離で維持しながら、頭皮の表面で移動させながら、製造され得る。

この移動は、手動でまたは自動化されたやり方で行われ得る。手動での移動の場合には、適切ならば、その人の頭の周りに置かれたガイド機構によってアシストされ得る。

移動の間に、頭皮へのアクセスを容易にするように、毛髪が例えば櫛によって局部的に分けられ得る。

プラズマ製造は、経時的に自動的に中断され得、発生器が、例えば所定の操作時間の後に、または頭皮全体が処置されたことが検出されたときに、停止する。

処置は、定期的に、例えば２日〜１ヶ月の間隔で、繰り返され得る。

処置法が、プラズマへ暴露の前、間または後に化粧料組成物の局所的適用を含むとき、頭皮を処置するための活性剤の浸透が促進され得る。これは特に、プラズマが脂質バリア機能を減少させ得るという事実による。頭皮の表面はまた、より親水性にされ得る。適用される組成物は、特に１以上の抗ふけ活性剤を含み得る。

活性剤
抗ふけ活性剤
用語「抗ふけ活性剤」は、ふけの出現を予防し、ふけ片の数を減少させおよび／またはふけを完全に消滅させることができる化合物を意味することが意図される。

本発明での使用に適するふけ活性剤は特に下記から選択され得る。
ｌ−ヒドロキシ−２−ピリドン誘導体、例えばｌ−ヒドロキシ−４−メチル−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−６−メチルピリドン、１−ヒドロキシ−４，６−ジメチル−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−（２，４，４−トリメチルペンチル）−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−シクロヘキシル−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６−（メチルシクロヘキシル）２−ピリドン、ｌ−ヒドロキシ−４−メチル−６−（２−ビシクロ［２，２，ｌ］ヘプチル）−２−ピリドン、ｌ−ヒドロキシ−４−メチル−６（４−メチルフェニル）−２−ピリドン、１−ヒドロキシ−４−メチル−６［ｌ−［４−ニトロフェノキシ］ブチル］−２−ピリドン、ｌ−ヒドロキシ−４−メチル−６−（４−シアノフェノキシメチル−２−ピリドン）、ｌ−ヒドロキシ−４−メチル−６−（フェニルスルホニルメチル）−２−ピリドン、ｌ−ヒドロキシ−４−メチル−６−（４−ブロモベンジル）−２−ピリドン、およびそれらの塩、ここで、好ましいｌ−ヒドロキシ−２−ピリドン誘導体として、Ｈｏｅｃｈｓｔ社によってｏｃｔｏｐｙｒｏｘの名称で販売されている製品（ｌ−ヒドロキシ−４−メチル−６−（２，４，４−トリメチルペンチル）−２−ピリドン モノエタノールアミン塩）が挙げられ得る、
ピリジンチオン塩、特にカルシウム塩、マグネシウム塩、バリウム塩、ストロンチウム塩、亜鉛塩、カドミウム塩、スズ塩およびジルコニウム塩、ここで、ピリジンチオンの亜鉛塩が特に好ましく、ピリジンチオンの亜鉛塩は、特に、ｚｉｎｃ ｏｍａｄｉｎｅの名称でＯｌｉｎ社によって販売されている、
下記式のトリハロカルバミド

（式中、Ｚはハロゲン原子、例えば塩素、またはＣ_１−Ｃ_４トリハロアルキル基、例えばＣＦ_３を表わす）、
下記式で表わされるトリクロサン、

アゾール化合物、例えばクリンバゾール、ケトコナゾール、クロトリマゾール、エコナゾール、イソコナゾールおよびミコナゾール、
抗菌性ポリマー、例えばアンホテリシンＢまたはナイスタチン、
硫化セレン、特に式Ｓ_ｘＳｅ_８−ｘ（ｘは１〜７である）のもの、
種々の形態の硫黄、硫化カドミウム、アラントイン、コールタール、木タール、およびそれらの誘導体、特にカデ油、サリチル酸、ウンデシレン酸、フマル酸およびアリルアミン、例えばテルビナフィン、
エラグ酸、
二硫化セレン。

処置デバイス
プラズマは、頭皮を低温大気圧プラズマに暴露することを可能にする任意の適するデバイスによって発生される。

プラズマの放出は好ましくは、ハンドピースを含むまたはハンドピースの形態の発生器であって、その人間工学が頭皮上での適用と両立するところのものから行われる。例えば、Ｎｅｏｐｌａｓ ｔｏｏｌｓ ＧｍｂＨ社によって販売されているＫｉｎｐｅｎ源、または中国特許出願公開第１０１２５９０３６号明細書に記載されたペン様式の源、または頭皮のプラズマへの暴露に適合された櫛の形状の源が使用される。使用され得るデバイスの例が、図２を参照して後述される。

好ましくは、デバイスが、製造されたプラズマの強度を制御することによって、頭皮の均一な暴露を提供するように用意される。

デバイスは、電極またはプラズマ製造源と頭皮との間に所定の距離を維持するように、例えば、上記電極または源が頭皮に相対的に移動されるときには、頭皮に当接するガイドによって維持されるように、用意され得る。このガイドは、頭皮の湾曲にほぼ合う曲面を有し得る。

デバイスは、頭皮を明確にしそしてプラズマの作用を容易にするために、毛髪を局所的に分けるように用意され得、また、この目的のために１以上の櫛の歯を含み得る。

デバイスが移動されるときの頭皮に対するデバイスの位置は、例えば加速度計および／またはカメラによって検出され得、そしてプラズマ製造は、最も完全でかつ均一な正確な処置を確実にするように、デバイスの位置に従って自動的に制御され得る。例えば、デバイスが、頭皮上のすでに処置された箇所を再び通っていることが検出されると、プラズマ製造がちょっとの間、中断されまたは減少され得る。

デバイスは、例えばカメラによって、十分な処置をするには速すぎるデバイスの動きを検出し、そしてこれを使用者に知らせるように用意され得る。

デバイスは、コンセントを使って操作され得、充電池を使用して操作され得、および／または電池を使って操作され得る。

デバイスは、頭皮をマッサージするための部材を含み得る。その作用は、プラズマ処置に付随していてもいなくてもよい。

試験
プラズマ処置が、比較的短い暴露時間からその先へ、Ｍａｌａｓｓｅｚｉａ酵母の増殖を抑制することを可能にすることを示すインビトロ試験が行われた。

増殖培地（アガー）にＭａｌａｓｓｅｚｉａ培地が接種された。

上記アガーが次いで、ＤＢＤ型のプラズマ処置に１０秒〜１０分の時間、付された。

接種された皿（試験のシリーズ毎に３つ）が四部円に分けられ、試験の第一シリーズのための３つの四部円についてはそれぞれ１０秒、３０秒および６０秒間、プラズマガスに暴露され、第二シリーズについては１分、５分および１０分間暴露された。上記皿が次いで、３０〜３３℃で４〜５日間培養された。

培養の終わりに、アガー皿の全ての写真を撮った。

プラズマガスの抗菌効果が、暴露されたＭａｌａｓｓｅｚｉａ菌株の抑制の表面積を、Ｃｅｌｌ Ｆ画像分析ソフトウエア（Ｏｌｙｍｐｕｓ）によって測定することにより評価された。

処置された表面積は、電極の表面積、すなわち約１ｃｍ^２に対応する。

結果
試験の条件下で、プラズマへの暴露は、試験された２の菌株（Ｍａｌｅｓｓｅｚｉａ ｇｌｏｂｏｓａおよびＭａｌａｓｓｅｚｉａ ｒｅｓｔｒｉｃｔａ）に関して抗菌効果を有した。上記効果は、処置の１０秒と早いときに現れ、暴露された領域の周りの抑制の表面積は、それが数ｃｍ^２をカバーするまで、暴露時間の関数として増加する。

試験の条件下で、Ｍａｌａｓｓｅｚｉａ ｒｅｓｔｒｉｃｔａ菌株は、Ｍａｌａｓｓｅｚｉａ ｇｌｏｂｏｓａより感受性が高い。

結果を図１に示す。

図２は、本発明に従う、頭皮を処置するためのデバイス１０の例を示す。

このデバイスは、頭皮上で移動され得るハンドピース１１を含む。

プラズマ発生器は、例えばＤＢＤ型であり、この場合には、ハンドピース１１が、誘電物質で被覆された電極１２を含み得る。

電極１２に高電圧パルスが、自体公知のやり方で供給される。

頭皮は対電極として作用し、無害な電流を受け取る。

デバイス１０は、電極１２を頭皮Ｃから所定の距離で維持するためのガイド１５を含む。このガイド１５はまた、頭皮に対するハンドピース１１の移動の方向を考慮しながら電極１２の上流で毛髪Ｈを分けるように用意される。このガイド１５は、図示されているように、丸みを帯びたエンドピースを有する櫛歯の形状であり得る。

本発明は、記載された実施例に限定されない。

特に、上記処置はまた、例えば、プラズマ処置の前、間または後に、化粧料組成物、特に抗ふけ剤を含む組成物、の局所的施与と組み合わせられることにより、または食品サプリメントの摂取と組み合わせられることにより、異なって行われ得る。

Claims (12)

1. 低温大気圧プラズマを、健康な頭皮の審美的障害を予防するおよび／または処置するために化粧的に使用する方法。
2. 頭皮のふけ状態を予防するおよび／または処置するための請求項１に記載の方法。
3. 上記プラズマが直接型、特にＤＢＤ型である、請求項１または２に記載の方法。
4. 上記プラズマがハイブリッド型である、請求項１または２に記載の方法。
5. 上記プラズマが間接型である、請求項１または２に記載の方法。
6. 上記プラズマへの頭皮の局所暴露の時間が１秒間〜１分間、好ましくは１０秒間〜５分間である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
7. 頭皮から所定の距離、特に０．５〜１５ｍｍ、より好ましくは２〜６ｍｍの距離を置いて頭皮に相対的に移動される電極（１２）または源によって上記プラズマが発生される、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
8. プラズマ製造のために使用される気体が空気である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
9. 健康な頭皮のための化粧的処置法であって、健康な頭皮の審美的障害を予防および／または処置するために、好ましくは頭皮のふけ状態を予防および／または処置するために、頭皮を低温大気圧プラズマに暴露することを含む、上記方法。
10. 化粧料組成物、特に抗ふけ活性剤を含む組成物を頭皮に局所施与することを含む、請求項９に記載の健康な頭皮のための化粧的処置法。
11. 頭皮を処置するためのデバイス（１０）であって、下記：
    低温大気圧プラズマを製造する部材（１２）、ここで上記部材は、頭皮を上記プラズマに暴露することを可能にする、
    頭皮（Ｃ）に当接し、そして上記部材を頭皮から所定の距離、特に０．５〜１５ｍｍ、より好ましくは２〜６ｍｍの距離を置いて頭皮に相対的に移動させうるように構成されたガイド（１５）
    を含む上記デバイス（１０）。
12. プラズマを製造するための部材が、直接型、好ましくはＤＢＤ型の発生器に属する、請求項１０または１１に記載のデバイス。

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