JP2016508232A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2016508232A5
JP2016508232A5 JP2015548447A JP2015548447A JP2016508232A5 JP 2016508232 A5 JP2016508232 A5 JP 2016508232A5 JP 2015548447 A JP2015548447 A JP 2015548447A JP 2015548447 A JP2015548447 A JP 2015548447A JP 2016508232 A5 JP2016508232 A5 JP 2016508232A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pixels
exposure field
motif
projector
light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2015548447A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP6436912B2 (ja
JP2016508232A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE102012224005.5A external-priority patent/DE102012224005B4/de
Application filed filed Critical
Publication of JP2016508232A publication Critical patent/JP2016508232A/ja
Publication of JP2016508232A5 publication Critical patent/JP2016508232A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6436912B2 publication Critical patent/JP6436912B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2015548447A 2012-12-20 2013-12-17 均一な光分布を形成する方法 Active JP6436912B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102012224005.5A DE102012224005B4 (de) 2012-12-20 2012-12-20 Verfahren zur Herstellung einer homogenen Lichtverteilung
DE102012224005.5 2012-12-20
PCT/EP2013/076902 WO2014095864A1 (de) 2012-12-20 2013-12-17 Verfahren zur herstellung einer homogenen lichtverteilung

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2016508232A JP2016508232A (ja) 2016-03-17
JP2016508232A5 true JP2016508232A5 (cg-RX-API-DMAC7.html) 2017-11-09
JP6436912B2 JP6436912B2 (ja) 2018-12-12

Family

ID=49885232

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015548447A Active JP6436912B2 (ja) 2012-12-20 2013-12-17 均一な光分布を形成する方法

Country Status (10)

Country Link
US (1) US9914265B2 (cg-RX-API-DMAC7.html)
EP (1) EP2934858B1 (cg-RX-API-DMAC7.html)
JP (1) JP6436912B2 (cg-RX-API-DMAC7.html)
KR (1) KR101860617B1 (cg-RX-API-DMAC7.html)
CN (1) CN104853902A (cg-RX-API-DMAC7.html)
AU (1) AU2013361779B2 (cg-RX-API-DMAC7.html)
BR (1) BR112015012368A2 (cg-RX-API-DMAC7.html)
CA (1) CA2888844A1 (cg-RX-API-DMAC7.html)
DE (1) DE102012224005B4 (cg-RX-API-DMAC7.html)
WO (1) WO2014095864A1 (cg-RX-API-DMAC7.html)

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
PT3040778T (pt) * 2014-12-30 2020-12-23 Visitech As Método para fornecer brilho uniforme a partir de um projetor de luz sobre uma área de imagem
DE102015104394B4 (de) 2015-03-24 2020-06-04 Kulzer Gmbh Verfahren zur Herstellung einer Teil- oder Totalprothese sowie Prothese erhältlich nach diesem Verfahren
US10180248B2 (en) 2015-09-02 2019-01-15 ProPhotonix Limited LED lamp with sensing capabilities
FR3041560B1 (fr) * 2015-09-29 2017-10-20 Prodways Procede de fabrication d'un produit par empilement de couche de matiere
CN108698883A (zh) 2015-12-18 2018-10-23 贺利氏石英玻璃有限两合公司 石英玻璃制备中的二氧化硅的喷雾造粒
US11339076B2 (en) 2015-12-18 2022-05-24 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Preparation of carbon-doped silicon dioxide granulate as an intermediate in the preparation of quartz glass
JP6881777B2 (ja) 2015-12-18 2021-06-02 ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー 合成石英ガラス粒の調製
KR20180094087A (ko) 2015-12-18 2018-08-22 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지 실리카 과립으로부터 실리카 유리 제품의 제조
EP3390296B1 (de) 2015-12-18 2024-09-04 Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG Herstellung eines quarzglaskörpers in einem mehrkammerofen
TWI812586B (zh) 2015-12-18 2023-08-21 德商何瑞斯廓格拉斯公司 石英玻璃體、其製備方法與應用、及用於控制烘箱出口處之露點
US10676388B2 (en) 2015-12-18 2020-06-09 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Glass fibers and pre-forms made of homogeneous quartz glass
JP6881776B2 (ja) 2015-12-18 2021-06-02 ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー 不透明石英ガラス体の調製
CN108698890A (zh) 2015-12-18 2018-10-23 贺利氏石英玻璃有限两合公司 利用在熔融烘箱中的露点监测制备石英玻璃体
JP6984897B2 (ja) 2015-12-18 2021-12-22 ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー 石英ガラス調製時のケイ素含有量の増大
JP6523194B2 (ja) * 2016-03-14 2019-05-29 東京エレクトロン株式会社 補助露光装置
CN106182772B (zh) * 2016-07-25 2018-06-26 哈尔滨工业大学 多种材料快速原型成型装置及方法
CN115464159B (zh) * 2017-05-11 2024-07-16 速尔特技术有限公司 用于增材制造的图案化光的开关站射束路由
WO2018235209A1 (en) * 2017-06-21 2018-12-27 Essilor International Method of manufacturing optical article and optical shaping apparatus
CN107891596A (zh) * 2017-12-15 2018-04-10 博纳云智(天津)科技有限公司 一种dlp光固化3d打印机的光强均匀校正方法
CN110394980A (zh) * 2018-04-24 2019-11-01 三纬国际立体列印科技股份有限公司 立体打印系统
US10503076B1 (en) * 2018-08-29 2019-12-10 Applied Materials, Inc. Reserving spatial light modulator sections to address field non-uniformities
NO20190617A1 (en) * 2019-05-16 2020-11-17 Visitech As System and method for exposing a material with images
FR3119562B1 (fr) * 2021-02-09 2024-08-30 Univ Claude Bernard Lyon Procédé d'impression d'un objet à imprimer, et imprimante adaptée pour la mise en oeuvre du procédé.
KR102443272B1 (ko) * 2021-07-20 2022-09-15 단국대학교 산학협력단 특정 경로를 따른 중복 광조사를 이용하는 3d 프린터 및 3d 프린팅 방법
CN118596582B (zh) * 2024-06-24 2025-04-08 广州黑格智造信息科技有限公司 三维打印设备的光调制器控制方法及三维打印设备

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3326902B2 (ja) * 1993-09-10 2002-09-24 株式会社日立製作所 パターン検出方法及びパターン検出装置及びそれを用いた投影露光装置
DE4333620A1 (de) * 1993-10-15 1995-04-20 Jenoptik Technologie Gmbh Anordnung und Verfahren zur Erzeugung von Dosisprofilen für die Herstellung von Oberflächenprofilen
JPH10163300A (ja) * 1996-12-02 1998-06-19 Nikon Corp ステージ装置
JP2001255664A (ja) 2000-03-14 2001-09-21 Fuji Photo Film Co Ltd 画像露光方法
US6605796B2 (en) * 2000-05-25 2003-08-12 Westar Photonics Laser beam shaping device and apparatus for material machining
JP2004157219A (ja) * 2002-11-05 2004-06-03 Fuji Photo Film Co Ltd 露光ヘッドおよび露光装置
ES2385984T3 (es) * 2004-05-05 2012-08-06 Sign-Tronic Ag Método para habilitar la transmisión de cantidades de energía prácticamente idénticas
EP1894705B1 (de) 2004-05-10 2010-08-25 Envisiontec GmbH Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines dreidimensionalen Objekts mit Auflösungsverbesserung mittels Pixel-Shift
DE102004022961B4 (de) * 2004-05-10 2008-11-20 Envisiontec Gmbh Verfahren zur Herstellung eines dreidimensionalen Objekts mit Auflösungsverbesserung mittels Pixel-Shift
US7893384B2 (en) * 2004-12-07 2011-02-22 Chosen Technologies, Inc. Systems and methods for laser material manipulation
JP2006319098A (ja) * 2005-05-12 2006-11-24 Pentax Industrial Instruments Co Ltd 描画装置
CN101176042B (zh) * 2005-05-13 2010-04-07 Nxp股份有限公司 空间光调制器装置、光刻设备、显示装置、产生具有空间光图案的光束的方法以及制造器件的方法
JP4679249B2 (ja) * 2005-05-31 2011-04-27 大日本スクリーン製造株式会社 パターン描画装置
JP2007017897A (ja) * 2005-07-11 2007-01-25 Fujifilm Holdings Corp 露光装置及び洗浄方法
DE102006019963B4 (de) * 2006-04-28 2023-12-07 Envisiontec Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines dreidimensionalen Objekts durch schichtweises Verfestigen eines unter Einwirkung von elektromagnetischer Strahlung verfestigbaren Materials mittels Maskenbelichtung
JP5280615B2 (ja) * 2006-06-16 2013-09-04 シーメット株式会社 光学的立体造形用樹脂組成物
EP1880830B1 (en) 2006-07-19 2011-12-21 Envisiontec GmbH Method and device for producing a three-dimensional object, and computer and data carrier useful thereof
DE102008040742A1 (de) * 2007-08-02 2009-02-05 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren und Vorrichtung zur Überwachung von Mehrfachspiegelanordnungen, optische Anordnung mit einer derartigen Vorrichtung sowie mit einer zweiten Mehrfachspiegelanordnung zum Ein- und Ausschalten einer ersten Mehrfachspiegelanordnung sowie Beleuchtungsoptik für eine Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen Vorrichtung
WO2010043275A1 (en) * 2008-10-17 2010-04-22 Huntsman Advanced Materials (Switzerland) Gmbh Improvements for rapid prototyping apparatus

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6436912B2 (ja) 均一な光分布を形成する方法
JP2016508232A5 (cg-RX-API-DMAC7.html)
JP6966807B2 (ja) 付加製造装置及び方法
CN106457670B (zh) 用于借助快速成型法制造三维物体的有效方法
CN113934116B (zh) 用于弹性印刷板的受控曝光的系统和方法
JP7055424B2 (ja) 立体物を形成するために液体ポリマーの光硬化のための光エンジンを用いる方法および装置
US10610341B2 (en) More efficient method for producing three-dimensional objects by means of a rapid prototyping process
US12208570B2 (en) 3D printing of an intraocular lens having smooth, curved surfaces
US7083405B2 (en) Photo-fabrication apparatus
CN101055429A (zh) 相对于衍射光学部件移动射束以便减少干涉图案
CN110622070B (zh) 用于在受控制的曝光系统或过程中调整柔性版印刷板的底板的过程和装置
JP2019513594A (ja) 構成層のキャリア対象への接着性を向上させるための装置及び方法
WO2017154457A1 (ja) 三次元造形装置、造形物の製造方法、プログラム及び記録媒体
WO2021120906A1 (zh) 直写光刻系统和直写光刻方法
EP4504493A1 (en) Method and apparatus for high-resolution fast layer-by-layer 3d printing
CN120936480A (zh) 在层析体积3d打印中使用多个投影仪进行打印体积扩展
HK1097922A (en) Exposure apparatus and exposure method, and method of manufacturing electrical wiring board
JP2014146012A (ja) パターン形成方法及び装置
KR20070072157A (ko) 얼룩 방지용 스캔 노광 장치