JP2016502127A - 高段差斜面に基づくフォトリソグラフィ方法及びシステム - Google Patents
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- G03F7/2035—Exposure; Apparatus therefor simultaneous coating and exposure; using a belt mask, e.g. endless
Abstract
Description
21 斜面−上部補償パターン
22 斜面補償パターン
Claims (8)
- 高段差斜面に基づくフォトリソグラフィ方法であって、
S1、基板上に高段差斜面を有する犠牲層を製造する段階、
S2、スピン−オンPRコーティング処理を実行することによって前記犠牲層上にフォトレジスト層を被覆し、フォトリソグラフィ層を形成する段階、
S3、マスク上にマスクパターン及び補償パターンを形成する段階であって、前記マスクパターンが、前記斜面の上部、前記斜面、及び前記斜面の底部にわたって矩形であり、前記補償パターンが、斜面−上部補償パターン及び斜面補償パターンを含み、前記斜面−上部補償パターンが、前記斜面の幅に等しい長さと前記マスクパターンの幅よりも大きい幅とを有する前記斜面の前記上部に対応する矩形であり、前記斜面補償パターンが、前記マスクパターンと前記斜面−上部補償パターンとに隣接する前記斜面に対応する複数の三角形を含む前記マスクパターン及び補償パターンを形成する段階、
S4、フォトリソグラフィ機械により、前記マスクを使用して前記フォトリソグラフィ層に対して1つ又はそれよりも多くのフォトリソグラフィ処理を実行する段階、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記斜面−上部補償パターン及び前記マスクパターンは、軸対称パターンであり、前記斜面−上部補償パターン及び前記マスクパターンは、前記斜面の勾配の方向に沿って延びる同じ対称軸を共有し、前記斜面補償パターンは、4つの直角三角形を含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記斜面−上部補償パターンの幅対前記マスクパターンの幅の比率が、1.2:1から1:1の範囲であることを特徴とする請求項2に記載の方法。
- 前記斜面−上部補償パターンの幅対前記マスクパターンの幅の比率が、1.1:1であることを特徴とする請求項2に記載の方法。
- 前記高段差斜面の高さが、2μmよりも高く、前記高段差斜面の角度が、40°から60°の範囲であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記犠牲層は、TEOS又はPSGで作られることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記犠牲層の厚みが、5μmよりも大きいことを特徴とする請求項6に記載の方法。
- 高段差斜面に基づくフォトリソグラフィシステムであって、
基板上に高段差斜面を有する犠牲層を製造するように構成された堆積ユニットと、
スピン−オンPRコーティング処理を実行することによって前記犠牲層上にフォトレジスト層を被覆し、フォトリソグラフィ層を形成するように構成されたコーティングユニットと、
前記フォトリソグラフィ層に対して1つ又はそれよりも多くのフォトリソグラフィ処理を実行するように構成され、補償パターンの複数のマスクを含むフォトリソグラフィユニットであって、前記マスクが、マスクパターン及び補償パターンを含み、前記マスクパターンが、前記斜面の上部、前記斜面、及び前記斜面の底部にわたって矩形であり、前記補償パターンが、斜面−上部補償パターン及び斜面補償パターンを含み、前記斜面−上部補償パターンが、前記斜面の前記上部の幅に等しい前記矩形の長さと前記マスクパターンの幅よりも大きい幅とを有する前記斜面の前記上部に対応する矩形であり、前記斜面補償パターンが、前記マスクパターンと前記斜面−上部補償パターンとに隣接する前記斜面に対応する複数の三角形を含む前記フォトリソグラフィユニットと、
を含むことを特徴とするフォトリソグラフィシステム。
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