JP2016225508A - イオンビームエッチング装置、およびイオンビーム発生装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の一実施形態に係るイオンビームエッチング装置1は、内部空間102aから処理室101へと、プラズマ発生室102にて生成されたプラズマからイオンを引き出すためのグリッド部109と、第1の電極115よりもプラズマ発生室102側に設けられた第1のリング119と、グリッド部109の第3の電極117よりも処理室101側に設けられた第2のリング120と、第1の電極115、第2の電極116、および第3の電極117を貫通し、一方端が第1のリング119に連結され、他方端が第2のリング120に連結された固定部材121と、第3の電極117をプラズマ発生室102の外側から加熱するランプヒータ123とを備える。
【選択図】図1
Description
前記第3の電極を前記プラズマ発生室の外側から加熱する加熱手段と、前記処理室内に設けられ、基板を保持可能な基板ホルダーであって、前記引き出し手段から引き出されたイオンが入射するように設けられた基板ホルダーとを備えることを特徴とする。
図1に本実施形態に係るイオンビームエッチング装置の概略図を示す。イオンビームエッチング装置1は、処理室101と、該処理室101内にイオンビームを照射するように設けられたイオンビーム発生装置100とを備える。イオンビーム発生装置100と処理室101とは連結されており、イオンビーム発生装置100から発生されたイオンビームは処理室101内に導入される。
第1の実施形態では、プラズマ発生室102の外側から第3の電極117を加熱するための加熱手段として、第2のリング120から離間して配置されたランプヒータ123を用いているが、加熱手段はこれに限定されるものではない。加熱手段は、第3の電極117を加熱できるものであればよく、第2の電極117および固定部材121を加熱できるものであることがより好ましい。上記加熱手段としては、例えば、抵抗加熱方式のもの、誘導加熱方式のもの、誘電加熱方式のもの、放射加熱方式のものなど、所定の部材を加熱できるものであればいずれを用いても良い。本実施形態では、上記加熱手段として、抵抗加熱方式の一例である電熱線を用いた形態について説明する。
第1のリング119および第2のリング120の少なくとも一方に対して固定部材121がスライド可能に構成されていても良い。そのような構成によれば、第1のリング119および第2のリング120の熱膨張率に依らず、固定部材121が自由に伸縮できる。このため、固定部材121ならびに第1の電極115、第2の電極116、および第3の電極117に加わる負荷をより一層低減することが可能となる。
100 イオンビーム発生装置
101 処理室
102 プラズマ発生室
102a 内部空間
102b 開口
104 放電容器
105 第1のガス導入部
106 電磁コイル
107 整合器
108 RFアンテナ
109 グリッド部
110 基板ホルダー
111 基板
115 第1の電極
116 第2の電極
117 第3の電極
119 第1のリング
120 第2のリング
121 固定部材
123 ランプヒータ
124 電熱線
126 開口部
Claims (6)
- 内部空間を有するプラズマ発生室と、
前記プラズマ発生室に連結した処理室と、
前記内部空間にプラズマを発生させるための手段と、
前記内部空間から前記処理室へと、前記プラズマからイオンを引き出すための引き出し手段であって、前記イオンを通過させるための複数のイオン通過孔を有する第1の電極、第2の電極、および第3の電極を有し、該第1の電極は最も前記プラズマ発生室側に設けられ、前記第2の電極は該第1の電極よりも前記処理室側に設けられ、前記第3の電極は最も前記処理室側に設けられた引き出し手段と、
前記第1の電極に形成された複数のイオン通過孔を露出させるように、前記第1の電極の前記複数のイオン通過孔が形成された領域よりも外側の外周部と重なり、前記第1の電極よりも前記プラズマ発生室側に設けられた第1の環状部材と、
前記第3の電極に形成された複数のイオン通過孔を露出させるように、前記第3の電極の前記複数のイオン通過孔が形成された領域よりも外側の外周部と重なり、前記第3の電極よりも前記処理室側に設けられた第2の環状部材と、
一方端と他方端とを有する固定部材であって、前記第1の電極、前記第2の電極、および前記第3の電極を貫通し、前記一方端が前記第1の環状部材に連結され、前記他方端が前記第2の環状部材に連結された固定部材と、
前記第3の電極を前記プラズマ発生室の外側から加熱する加熱手段と、
前記処理室内に設けられ、基板を保持可能な基板ホルダーであって、前記引き出し手段から引き出されたイオンが入射するように設けられた基板ホルダーと
を備えることを特徴とするイオンビームエッチング装置。 - 前記第1、第2、および第3の電極のそれぞれには、前記複数のイオン通過孔が形成された領域よりも外側の領域に前記固定部材を貫通させるための貫通孔が複数設けられており、
前記固定部材が前記第1、第2、および第3の電極の前記貫通孔を貫通して前記第1の環状部材と前記第2の環状部材とを連結することにより、前記固定部材は前記第1の環状部材および前記第2の環状部材に対して固定されていることを特徴とする請求項1に記載のイオンビームエッチング装置。 - 前記加熱手段は、前記第2の環状部材を加熱することを特徴とする請求項1に記載のイオンビームエッチング装置。
- 前記加熱手段を覆うように設けられた防着カバーをさらに備えることを特徴とする請求項1に記載のイオンビームエッチング装置。
- 前記第1の環状部材および第2の環状部材の少なくとも一方には、前記固定部材が挿入される開口部が形成されており、
前記開口部はそれぞれ、環状部材の径方向の幅が該環状部材の周方向の幅よりも長い形状を有し、
前記形状により、前記固定部材は、前記開口部においてスライド可能であることを特徴とする請求項2に記載のイオンビームエッチング装置。 - 内部空間を有するプラズマ発生室と、
前記内部空間にプラズマを発生させるための手段と、
前記内部空間から前記プラズマ発生室の外へと、前記プラズマからイオンを引き出すための引き出し手段であって、前記イオンを通過させるための複数のイオン通過孔を有する第1の電極、第2の電極、および第3の電極を有し、前記第1の電極、前記第2の電極、および前記第3の電極は前記イオン通過孔が形成された面が対向するように所定の方向に沿って配列されており、前記第1の電極は最も前記プラズマ発生室側に設けられ、前記第3の電極は前記プラズマ発生室の前記所定の方向に沿った最も外側に設けられ、前記第2の電極は前記第1の電極と前記第3の電極との間に設けられた引き出し手段と、
前記第1の電極に形成された複数のイオン通過孔を露出させるように、前記第1の電極の前記複数のイオン通過孔が形成された領域よりも外側の外周部と重なり、前記第1の電極よりも前記プラズマ発生室側に設けられた第1の環状部材と、
前記第3の電極に形成された複数のイオン通過孔を露出させるように、前記第3の電極の前記複数のイオン通過孔が形成された領域よりも外側の外周部と重なり、前記第3の電極よりも前記プラズマ発生室の前記所定の方向に沿った外側に設けられた第2の環状部材と、
一方端と他方端とを有する固定部材であって、前記第1の電極、前記第2の電極、および前記第3の電極を貫通し、前記一方端が前記第1の環状部材に連結され、前記他方端が前記第2の環状部材に連結された固定部材と、
前記第3の電極を前記プラズマ発生室の外側から加熱する加熱手段と
を備えることを特徴とするイオンビーム発生装置。
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