JP2016218068A - 取付支持体上にmecsデバイスを備えたコンポーネント - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (9)
- ・ダイヤフラム(11)を備えたマイクロ電気化学センサ(MECS)デバイス(10)であって、前記ダイヤフラム(11)が、当該デバイスの基板における層構造体に形成されており且つ前記基板裏面における開口部(12)を覆っている、マイクロ電気化学センサデバイス(10)と、
・アプリケーションプリント基板上での前記MECSデバイス(10)の取り付け及び電気的な接触接続のための支持体(110)と、
を少なくとも備えている、コンポーネント(100)において、
前記MECSデバイス(10)をフリップチップ技術で前記支持体(110)上に接合して、少なくとも1つの接続領域(15,16)において前記MECSデバイス(10)の上面と前記支持体表面との間に気密の機械的な接続が形成され、これにより、少なくとも1つのコンタクト領域において前記MECSデバイス(10)と前記支持体(110)との間に電気接続部(17)が形成されるようにする、
ことを特徴とするコンポーネント(100)。 - 少なくとも1つの接続領域(15,16)は、周縁を描き且つ閉じられており、前記ダイヤフラム(11)及び前記少なくとも1つのコンタクト領域(17)を取り囲む、
請求項1に記載のコンポーネント(100)。 - 前記MECSデバイス(10)の前記ダイヤフラム(11)と前記支持体(110)との間に空洞(18)が設けられており、
前記空洞(18)は、前記MECSデバイス(10)と前記支持体(110)との間の接合接続部(15)によって気密に閉鎖されており、且つ、前記空洞(18)内に基準ガスが存在する、
請求項1又は2に記載のコンポーネント(100)。 - 前記MECSデバイス(10)の基板材料の熱膨張係数及び前記支持体(110)の熱膨張係数は、互いに適合するように調整されている、
請求項1乃至3のいずれか一項に記載のコンポーネント(100)。 - 前記支持体(110)は、接合可能なガラスセラミック表面、シリコン表面又は酸化シリコン表面を備えた多層セラミックプリント基板であり、
前記支持体(110)の前記層構造体には、複数の導体路(113)及び/又はスルーコンタクトが含まれている、
請求項1乃至4のいずれか一項に記載のコンポーネント(100)。 - 前記接続領域における前記機械的な接続(15,16)は、陽極ボンディング又はシリコン直接接合によって作製される、
請求項1乃至5のいずれか一項に記載のコンポーネント(100)。 - 前記コンタクト領域における前記電気接続部(17)は、高融点はんだを使用して又は導電性接着剤又は圧膜導電性ペーストを用いて、熱圧着又は超音波ボンディングによって作製される、
請求項1乃至6のいずれか一項に記載のコンポーネント(100)。 - 前記MECSデバイスの露出した裏面及び/又は前記支持体の露出した表面には、パッシベーション層、撥水性の層及び/又は付着防止層が被着されている、
請求項1乃至7のいずれか一項に記載のコンポーネント(100)。 - 前記MECSデバイス(10)は、ジルコニアダイヤフラムを備えたマイクロラムダセンサである、
請求項1乃至8のいずれか一項に記載のコンポーネント(100)。
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Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5271293A (en) * | 1975-12-10 | 1977-06-14 | Sanyo Electric Co Ltd | Oxygen concentration meter |
JPS6478149A (en) * | 1987-09-19 | 1989-03-23 | Riken Kk | Oxygen sensor |
US6140144A (en) * | 1996-08-08 | 2000-10-31 | Integrated Sensing Systems, Inc. | Method for packaging microsensors |
US20020153257A1 (en) * | 2000-08-11 | 2002-10-24 | Bertrand Leverrier | Micromachined sensor with insulating protection of connections |
US6750521B1 (en) * | 1999-10-22 | 2004-06-15 | Delphi Technologies, Inc. | Surface mount package for a micromachined device |
US20110073969A1 (en) * | 2009-09-30 | 2011-03-31 | Hubert Benzel | Sensor system and method for manufacturing same |
JP2013053906A (ja) * | 2011-09-02 | 2013-03-21 | Nippon Soken Inc | 積層型ガスセンサ素子および積層型ガスセンサ |
JP2013156259A (ja) * | 2012-01-31 | 2013-08-15 | Robert Bosch Gmbh | マイクロメカニカル固体電解質センサ装置、および、その製造方法 |
JP2014236072A (ja) * | 2013-05-31 | 2014-12-15 | エプコス アクチエンゲゼルシャフトEpcos Ag | 多層配線基板 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19833087A1 (de) * | 1998-07-23 | 2000-01-27 | Bosch Gmbh Robert | Gassensor und Verfahren zu dessen Herstellung |
DE102004006201B4 (de) * | 2004-02-09 | 2011-12-08 | Robert Bosch Gmbh | Drucksensor mit Siliziumchip auf einer Stahlmembran |
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Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5271293A (en) * | 1975-12-10 | 1977-06-14 | Sanyo Electric Co Ltd | Oxygen concentration meter |
JPS6478149A (en) * | 1987-09-19 | 1989-03-23 | Riken Kk | Oxygen sensor |
US6140144A (en) * | 1996-08-08 | 2000-10-31 | Integrated Sensing Systems, Inc. | Method for packaging microsensors |
US6750521B1 (en) * | 1999-10-22 | 2004-06-15 | Delphi Technologies, Inc. | Surface mount package for a micromachined device |
US20020153257A1 (en) * | 2000-08-11 | 2002-10-24 | Bertrand Leverrier | Micromachined sensor with insulating protection of connections |
US20110073969A1 (en) * | 2009-09-30 | 2011-03-31 | Hubert Benzel | Sensor system and method for manufacturing same |
JP2013053906A (ja) * | 2011-09-02 | 2013-03-21 | Nippon Soken Inc | 積層型ガスセンサ素子および積層型ガスセンサ |
JP2013156259A (ja) * | 2012-01-31 | 2013-08-15 | Robert Bosch Gmbh | マイクロメカニカル固体電解質センサ装置、および、その製造方法 |
JP2014236072A (ja) * | 2013-05-31 | 2014-12-15 | エプコス アクチエンゲゼルシャフトEpcos Ag | 多層配線基板 |
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