JP2016207409A - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
前記処理室内に配置され前記被処理物を載置するための試料台と,
前記処理室に第1ガスと第2ガスを含む複数の処理ガスを供給するガス供給装置と,
前記処理ガスをプラズマ化するプラズマ生成手段と,
前記ガス供給装置を制御するガス供給制御装置と,を有し,
前記ガス供給装置は,
第1マスフローコントローラと前記処理室側に配置された第1ストップバルブとを備えた第1ガス用の第1配管と,
第2マスフローコントローラと前記処理室側に配置された第2ストップバルブとを備えた第2ガス用の第2配管とを含み,
前記ガス供給制御装置は,
時刻T1において前記処理室に供給する第1ガスを第2ガスに切り替える際に,
時刻T1よりもTc秒前に前記第2ストップバルブを閉としたまま前記第2マスフローコントローラを所定の流量値に設定し,
時刻T1において前記第2ストップバルブを開とするように制御するものであることを特徴とするプラズマ処理装置とする。
前記処理室内に配置され前記被処理物を載置するための試料台と,
前記処理室に第1ガスと第2ガスを含む複数の処理ガスを供給するガス供給装置と,
前記処理ガスをプラズマ化するプラズマ生成手段と,
前記ガス供給装置を制御するガス供給制御装置と,を有し,
前記ガス供給装置は,
第1マスフローコントローラと前記処理室側に配置された第1ストップバルブとを備えた第1ガス用の第1配管と,
第2マスフローコントローラと前記処理室側に配置された第2ストップバルブと圧力計を備えた第2ガス用の第2配管とを含み,
前記ガス供給制御装置は,
時刻T1において前記処理室に供給する第1ガスを第2ガスに切り替える際に,
時刻T1よりもTc秒前に前記圧力計により前記第2配管内の圧力を計測し,その計測値に基づいて求めたガス充填開始の遅れ時間T2秒だけTc秒から遅れて前記第2ストップバルブを閉としたまま前記第2マスフローコントローラを所定の流量値に設定し,
時刻T1において前記第2ストップバルブを開とするように制御するものであることを特徴とするプラズマ処理装置とする。
Claims (10)
- 被処理物を処理する処理室と,
前記処理室内に配置され前記被処理物を載置するための試料台と,
前記処理室に第1ガスと第2ガスを含む複数の処理ガスを供給するガス供給装置と,
前記処理ガスをプラズマ化するプラズマ生成手段と,
前記ガス供給装置を制御するガス供給制御装置と,を有し,
前記ガス供給装置は,
第1マスフローコントローラと前記処理室側に配置された第1ストップバルブとを備えた第1ガス用の第1配管と,
第2マスフローコントローラと前記処理室側に配置された第2ストップバルブとを備えた第2ガス用の第2配管とを含み,
前記ガス供給制御装置は,
時刻T1において前記処理室に供給する第1ガスを第2ガスに切り替える際に,
時刻T1よりもTc秒前に前記第2ストップバルブを閉としたまま前記第2マスフローコントローラを所定の流量値に設定し,
時刻T1において前記第2ストップバルブを開とするように制御するものであることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1に記載のプラズマ処理装置において,
時刻T1よりもTc秒前に前記第2マスフローコントローラを所定の流量値に設定し,時刻T1において前記第2ストップバルブを開とするように制御することにより,前記第2配管内の高圧のガスが瞬間的に高速に放出され,前記第2ガスを前記処理室に迅速に供給可能であることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項2に記載のプラズマ処理装置において,
前記第2配管内の高圧のガスが瞬間的に高速に放出されるときのガス流量波形は,前記第2配管の容積と,時刻T1における前記第2配管内圧力を用いて最適化されることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1乃至3の何れか一項に記載のプラズマ処理装置において,
前記第1配管及び前記第2配管は一本の第3配管に集合し,前記処理室に接続されており,
前記Tcは,前記第2ガスを連続して前記処理室に供給したときの前記処理室の圧力を所定の値としたときに,前記ガス供給装置と前記処理室とを接続する前記第3配管および前記処理室を満たすのに必要なガスの量を用いて求められることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1乃至4の何れか一項に記載のプラズマ処理装置において,
前記第2配管の容積は,時刻T1の時点で前記第2配管内の圧力が前記第2マスフローコントローラの動作範囲を超えて上昇しない容積であり,前記第2ガスの流量とTcに応じて30〜3000mm3の範囲から選定されることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1乃至5の何れか一項に記載のプラズマ処理装置において,
前記時刻T1において前記処理室に供給する第1ガスを第2ガスに切り替える際に,
前記処理室内のプラズマの生成は維持されることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1乃至6の何れか一項に記載のプラズマ処理装置において,
前記第2ストップバルブの開動作の前後で前記第2マスフローコントローラに設定される流量値は一定であることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 被処理物を処理する処理室と,
前記処理室内に配置され前記被処理物を載置するための試料台と,
前記処理室に第1ガスと第2ガスを含む複数の処理ガスを供給するガス供給装置と,
前記処理ガスをプラズマ化するプラズマ生成手段と,
前記ガス供給装置を制御するガス供給制御装置と,を有し,
前記ガス供給装置は,
第1マスフローコントローラと前記処理室側に配置された第1ストップバルブとを備えた第1ガス用の第1配管と,
第2マスフローコントローラと前記処理室側に配置された第2ストップバルブと圧力計を備えた第2ガス用の第2配管とを含み,
前記ガス供給制御装置は,
時刻T1において前記処理室に供給する第1ガスを第2ガスに切り替える際に,
時刻T1よりもTc秒前に前記圧力計により前記第2配管内の圧力を計測し,その計測値に基づいて求めたガス充填開始の遅れ時間T2秒だけTc秒から遅れて前記第2ストップバルブを閉としたまま前記第2マスフローコントローラを所定の流量値に設定し,
時刻T1において前記第2ストップバルブを開とするように制御するものであることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項8に記載のプラズマ処理装置において,
前記T2は,予め取得された所定のガス流量で前記第2マスローコントローラと前記第2ストップバルブ間にガスを充填したときの圧力の時間変化のデータを用い,目標充填圧力と前記圧力計により測定された前記第2配管内の圧力との差圧から計算されることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項8又は9に記載のプラズマ処理装置において,
前記第1配管は,圧力計を有することを特徴とするプラズマ処理装置。
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