JP2016204202A - 焼成治具及び焼成治具の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 炭化ケイ素を主成分とする柱状のハニカム成形体を載置するための収容体と、上記収容体の少なくとも上記ハニカム成形体を載置する載置面側に形成されたコート層とからなるハニカム成形体焼成用焼成治具であって、上記収容体は黒鉛からなり、上記コート層は炭化ケイ素から構成され、上記コート層を構成する上記炭化ケイ素は、上記収容体の内部に浸透しており、上記コート層を構成する上記炭化ケイ素が、上記収容体の内部に浸透している浸透幅は、200μm以上であることを特徴とする焼成治具。
【選択図】 図1
Description
この排気ガスを多孔質セラミックに通すことにより、排気ガス中のパティキュレートを捕集して排気ガスを浄化するセラミックフィルタが種々提案されている。
次に、熱風乾燥機等を用いて得られたハニカム成形体を乾燥させることにより、一定の強度を有し、取り扱いが容易なハニカム成形体の乾燥体を製造することになる。
この乾燥工程の後、酸素含有雰囲気下、乾燥したハニカム成形体を加熱して、バインダ中の溶剤を揮発させ、樹脂成分を分解消失させる脱脂工程を行うことになる。次いで、不活性ガス雰囲気下、上記ハニカム成形体中の炭化ケイ素粒子を焼結させる焼成工程を経て、焼結体であるハニカム焼成体を製造することができる。
そのため、焼成治具の劣化を防ぐために焼成治具にコート層を形成することが行われてきた。
すなわち、特許文献1の焼成用治具には、コート層と収容体との密着性に改良の余地があった。
すなわち、本発明の焼成治具は、炭化ケイ素を主成分とする柱状のハニカム成形体を載置するための収容体と、上記収容体の少なくとも上記ハニカム成形体を載置する載置面側に形成されたコート層とからなるハニカム成形体焼成用焼成治具であって、上記収容体は黒鉛からなり、上記コート層は炭化ケイ素から構成され、上記コート層を構成する上記炭化ケイ素は、上記収容体の内部に浸透しており、上記コート層を構成する上記炭化ケイ素が、上記収容体の内部に浸透している浸透幅は、200μm以上であることを特徴とする。
このように、コート層を構成する炭化ケイ素が、収容体の内部深くに浸透していると、アンカー効果が高まるので、コート層と収容体との密着性が向上する。そのため、コート層が収容体から剥がれることを抑制することができる。
なお、浸透幅が200μm未満であると、コート層と収容体との密着性が不充分となる。そのため、コート層が収容体から剥がれることを抑制しにくくなる。
浸透幅が1000μmを超えると、コート層と収容体との密着性を向上させる効果が上限に近づき、費用対効果が悪くなりやすい。また、その形成に手間がかかる。
コート層の露出面から収容体までの幅が20μm未満であると、コート層が薄すぎるため物理的に弱くなる。そのため、僅かな衝撃でコート層が剥がれ収容体が剥き出しになり易くなる。
コート層の露出面から収容体までの幅が500μmを超えると、収容体の劣化を抑制する効果が向上しにくくなり、費用対効果が悪くなる。また、その形成に手間がかかる。
収容体の気孔率が5%未満であると、コート層を構成する炭化ケイ素が、収容体の内部に浸透しにくくなる。そのため、炭化ケイ素が、収容体の内部に浸透している浸透幅を、200μm以上にすることが困難になる。
収容体の気孔率が40%を超えると、収容体の強度が弱くなり、ハニカム成形体用焼成治具として適した強度となりにくくなる。
化学気相蒸着法は、コート層を構成する炭化ケイ素を収容体に浸透させる手段として好適である。
一般的に、黒鉛からなる収容体に有機シランガスを用いてコート層を形成する場合、黒鉛の気孔内に有機シランガスが入り込んで、有機シランガスと黒鉛とが反応して炭化ケイ素となる、又は、有機シランガスが熱分解して炭化ケイ素が析出する。そして、黒鉛の気孔の壁から炭化ケイ素が成長することになる。この炭化ケイ素の成長が速いと、炭化ケイ素が黒鉛の気孔を早期に埋めてしまい、有機シランガスが収容体の奥深くに浸透しにくくなる。炭化ケイ素の成長の速度は、有機シランガスと黒鉛との反応の反応速度、又は、有機シランガスが熱分解して炭化ケイ素が析出する速度に依存する。有機シランガスの濃度が高い程、これらの速度が速くなり、炭化ケイ素の成長速度も速くなる。
本発明の焼成治具の製造方法では、第1有機シランガスは濃度が低い。そのため、炭化ケイ素の成長がゆっくり進む。従って、第1有機シランガスが収容体の奥深くまで浸透する。そのため、本発明の焼成治具の製造方法により製造された焼成治具において、炭化ケイ素が収容体の内部に浸透している浸透幅を200μm以上にすることができる。
本発明の焼成治具の製造方法では、その後、濃度が高い第2有機シランガスを用いて収容体に化学気相蒸着を行う。
第2有機シランガスは濃度が高いので、収容体に充分な厚さのコート層を形成することができる。
第1有機シランガスの濃度が、1.0%未満であると、第1有機シランガスの濃度が低すぎるため、収容体に充分な量の炭化ケイ素を浸透させにくくなる。
第1有機シランガスの濃度が、6.5%を超えると、第1有機シランガスの濃度が高すぎるので、収容体に第1有機シランガスが収容体に浸透する際、第1有機シランガスが収容体の奥深くに浸透する前に、第1有機シランガスと黒鉛とが反応した炭化ケイ素又は第1有機シランガスが分解して析出した炭化ケイ素が、黒鉛の気孔を埋めてしまい、第1有機シランガスを収容体の奥深くに浸透させにくくなる。そのため、コート層を構成する炭化ケイ素が収容体の内部に浸透している浸透幅を、200μm以上にしにくくなる。
第2有機シランガスの濃度が、5.0%未満であると、収容体に充分な厚さのコート層を形成しにくくなる
第2有機シランガスの濃度が、20.0%を超えると、第2有機シランガスの濃度が高すぎ、第2有機シランガスを構成する分子同士が互いに衝突して収容体への吸着速度が低下する。第2有機シランガスの収容体への吸着速度が、コート層を形成する反応の律速となるので、第2有機シランガスの濃度が20.0%を超えると、コート層形成速度が低下し生産性が悪化する。
以下、本発明について具体的に説明する。しかしながら、本発明は、以下の内容に限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲において適宜変更して適用することができる。
図1は、本発明の焼成治具の一例を模式的に示す一部断面斜視図である。
図2は、図1の破線部Aの拡大図である。
図1に示すように、本発明の焼成治具の一例である焼成治具1は、上部が開放された箱状の収容体10と、収容体10の表面に形成されたコート層30とからなる。
また、図1に示すように、収容体10は、底部11と枠部12とから構成される。底部11と枠部12とは分離可能な形状である。
焼成治具1は、炭化ケイ素を主成分とする柱状のハニカム成形体を載置するために用いられ、収容体10の底部11には、スペーサー21を介してハニカム成形体を載置する載置面20がある。
また、焼成治具1では、収容体10は黒鉛からなり、コート層30は炭化ケイ素から構成されている。
焼成治具1に、コート層30がなく、収容体10が剥き出しの場合には、収容体10は黒鉛であるので、脱脂工程において酸化されることになる。しかし、焼成治具1では、収容体10にコート層30が形成されているので、焼成治具1を用いてハニカム成形体を焼成する際に行われる脱脂工程において、収容体10が劣化することを抑制することができる。
まず、電子線マイクロアナライザ(EPMA)を用いて、焼成治具1を構成する収容体10及びコート層30における黒鉛13及び炭化ケイ素31の存在位置を測定する。
載置面20に垂直な焼成治具1の断面の電子線マイクロアナライザ(EPMA)画像では、図2に示すように、コート層30の露出面35から収容体10にかけて炭化ケイ素31の層が形成されているのが観察され、その下に黒鉛13が存在することが観察される。なお、図2において、コート層30の露出面35と、載置面20とは一致する。
さらに、図2に示すように、炭化ケイ素31は、収容体10の内部にも浸透している。最もコート層30の露出面35側に観察される黒鉛13を含み、コート層30の露出面35に平行な面を、境界面15(図2中、破線で示す)とすると、収容体10の最も奥に観察された炭化ケイ素31から、境界面15までの最短距離が浸透幅Dである。
このように、コート層30を構成する炭化ケイ素が、収容体10の内部深くに浸透していると、アンカー効果が高まるので、コート層30と収容体10との密着性が向上する。そのため、コート層30が収容体10から剥がれることを抑制することができる。
なお、浸透幅Dが200μm未満であると、コート層30と収容体10との密着性が不充分となる。そのため、コート層30が収容体10から剥がれることを抑制しにくくなる。
浸透幅Dが1000μmを超えると、コート層30と収容体10との密着性を向上させる効果が上限に近づき、費用対効果が悪くなりやすい。また、その形成に手間がかかる。
また、露出面35から収容体10までの幅Tとは、図2に示すように、露出面35のある一点から境界面15までの最小距離のことを意味する。
コート層30の露出面35から収容体10までの幅Tが20μm未満であると、コート層30が薄すぎるため物理的に弱くなる。そのため、僅かな衝撃でコート層30が剥がれ収容体10が剥き出しになり易くなる。
コート層30の露出面35から収容体10までの幅Tが500μmを超えると、収容体10の劣化を抑制する効果が向上しにくくなり、費用対効果が悪くなる。また、その形成に手間がかかる。
なお、これらの中では有機シランガスを用いることが望ましい。
化学気相蒸着法は、コート層30を構成する炭化ケイ素31を収容体10に浸透させる手段として好適である。
収容体10とコート層30との密着強度が上記範囲であると、コート層30が収容体10から剥がれることを抑制することができる。
なお、収容体10とコート層30との密着強度は、セバスチャン法で測定することができる。
セバスチャン法による測定方法としては、まず、コート層30にスタットピン(型番:901106、QUAD GROUP社製)を接着して測定用サンプルを作製し、その後、密着強度測定機(機種名:AG−X、株式会社島津製作所製)を用いて密着強度を測定することができる。
収容体10の気孔率が5%未満であると、コート層30を構成する炭化ケイ素31が、収容体10の内部に浸透しにくくなる。そのため、炭化ケイ素31が、収容体10の内部に浸透している浸透幅Dを、200μm以上にすることが困難になる。
収容体10の気孔率が40%を超えると、収容体10の強度が弱くなり、ハニカム成形体用焼成治具として適した強度となりにくくなる。
例えば、図1においては、枠部12の表面にコート層30が形成されているが、本発明の焼成治具では、枠部の表面にコート層が形成されていなくてもよい。
なお、本発明の焼成治具では、底部の表面及び枠部の表面のすべてがコート層で覆われていることが望ましい。
本発明の焼成治具の製造方法には、(1)黒鉛からなる収容体を準備する収容体準備工程と、(2)収容体に炭化ケイ素から構成されるコート層を形成する成膜工程とを含む。
以下、各工程について説明する。
まず、黒鉛からなる収容体を準備する。収容体としては、底部と枠部とが一体型になっていてもよく、底部と枠部とが分離可能なものであってもよい。また、底部と枠部とが分離可能である場合には、底部と枠部とを分離して後述する成膜工程を行ってもよく、底部と枠部とを組み合わせて後述する成膜工程を行ってもよい。
収容体の気孔率が5%未満であると、後述する(2)成膜工程において、炭化ケイ素が、収容体の内部に浸透しにくくなる。そのため、炭化ケイ素を充分に収容体に浸透させにくくなる。
収容体の気孔率が40%を超えると、収容体の強度が弱くなり、ハニカム成形体用焼成治具として適した強度となりにくくなる。
成膜工程は、(2−1)第1有機シランガスを用いて収容体に化学気相蒸着を行う成膜第1工程と、(2−2)成膜第1工程で用いる第1有機シランガスよりも濃度が高い第2有機シランガスを用いて収容体に化学気相蒸着を行う成膜第2工程とを含む。
成膜第1工程では、まず、濃度の低い第1有機シランガスを用いて収容体に化学気相蒸着を行う。
一般的に、黒鉛からなる収容体に有機シランガスを用いてコート層を形成する場合、黒鉛の気孔内に有機シランガスが入り込んで、有機シランガスと黒鉛とが反応して炭化ケイ素となる、又は、有機シランガスが熱分解して炭化ケイ素が析出する。そして、黒鉛の気孔の壁から炭化ケイ素が成長することになる。この炭化ケイ素の成長が速いと、炭化ケイ素が黒鉛の気孔を早期に埋めてしまい、有機シランガスが収容体の奥深くに浸透しにくくなる。炭化ケイ素の成長の速度は、有機シランガスと黒鉛との反応の反応速度、又は、有機シランガスが熱分解して炭化ケイ素が析出する速度に依存する。有機シランガスの濃度が高い程、これらの速度が速くなり、炭化ケイ素の成長速度も速くなる。
本発明の焼成治具の製造方法では、第1有機シランガスは濃度が低い。そのため、炭化ケイ素の成長がゆっくり進む。従って、第1有機シランガスが収容体の奥深くまで浸透する。
このことを図面を参照して詳しく説明する。
図4(a)及び(b)は、濃度が低い有機シランガスを用いて収容体にコート層を形成する様子の一例を模式的に示す模式図である。
図3(a)及び(b)、並びに、図4(a)及び(b)において、符号32が付された黒円は有機シランガスであり、その数により有機シランガス32の濃度を示している。
図3(b)に示すように、有機シランガス32の濃度が高いと、炭化ケイ素31の成長が速くなり、炭化ケイ素31が黒鉛13の気孔14を早期に埋めてしまい、有機シランガス32が収容体10の奥深くに浸透しにくくなる。
第1有機シランガスの濃度が1.0%未満であると、第1有機シランガスの濃度が低すぎるため、収容体に充分な量の炭化ケイ素を浸透させにくくなる。
第1有機シランガスの濃度が、6.5%を超えると、第1有機シランガスの濃度が高すぎるので、第1有機シランガスが収容体の奥深くに浸透する前に、第1有機シランガスと黒鉛とが反応した炭化ケイ素が、黒鉛の気孔を埋めてしまい、第1有機シランガスを収容体の奥深くに浸透させにくくなる。そのため、コート層を構成する炭化ケイ素が収容体の内部に浸透している浸透幅を200μm以上にしにくくなる。
第1有機シランガスの温度が、1150℃未満であると炭化ケイ素生成の反応速度が極端に小さくなり、実質的に炭化ケイ素が析出しなくなる。
第1有機シランガスの温度が1200℃を超えると、第1有機シランガスと黒鉛との反応速度が速くなる、又は、有機シランガスが熱分解して炭化ケイ素が析出する速度が速くなる。その結果、炭化ケイ素の成長速度が速くなる。そのため、炭化ケイ素が黒鉛の気孔を早期に埋めてしまい、有機シランガスが収容体の奥深くに浸透しにくくなる。
続いて、第1有機シランガスよりも濃度が高い第2有機シランガスを用いて収容体に化学気相蒸着を行う。
第2有機シランガスは濃度が高いので、収容体に充分な厚さのコート層を形成することができる。
また、第1有機シランガスと、第2有機シランガスとは同じ種類の有機シランガスであってもよい。
第2有機シランガスの濃度が、5.0%未満であると、収容体に充分な厚さのコート層を形成しにくくなる
第2有機シランガスの濃度が、20.0%を超えると、第2有機シランガスの濃度が高すぎ、第2有機シランガスを構成する分子同士が互いに衝突して収容体への吸着速度が低下する。第2有機シランガスの収容体への吸着速度が、コート層を形成する反応の律速となるので、第2有機シランガスの濃度が20.0%を超えると、コート層形成速度が低下し生産性が悪化する。
第2有機シランガスの温度が、1150℃未満であると炭化ケイ素生成の反応速度が極端に小さくなり、実質的に炭化ケイ素が析出しなくなる。
第2有機シランガスの濃度が、1200℃を超えると、析出する炭化ケイ素の粒子が大きくなり、成膜第1工程で析出した炭化ケイ素との間に明確な粒界ができることになる。その結果、コート層にかかる圧力や応力が偏在しやすくなり、コート層が破壊されやすくなる。
上記の通り、本発明の焼成治具は、炭化ケイ素からなるハニカム成形体を焼成し、ハニカム焼成体とする際に用いられる。
以下、各工程について図面を参照しながら説明する。
図5は、ハニカム成形体の一例を模式的に示す斜視図である。
まず、炭化ケイ素を含む原料組成物を押出成形することにより、図5に示す、多数の貫通孔111が隔壁112を隔てて長手方向に並設されたハニカム成形体110を形成する。
なお、原料組成物には、後の工程を経て作製されるハニカム焼成体の気孔率を向上させる目的で造孔材が含まれることが望ましい。
造孔材としては、特に限定されず、アクリル樹脂、デンプン、ビール粕、及び、クルミ殻等を用いることができる。
図6は、ハニカム成形体が搭載された本発明の焼成治具の一例を模式的に示す斜視図である。
次に、図6に示すように、焼成治具1の載置面20のスペーサー21の上に複数のハニカム成形体110を搭載する。このように複数のハニカム成形体110を焼成治具1に搭載することにより、後の(c)乾燥工程、(d)脱脂工程及び(e)焼成工程において、一度に多くのハニカム成形体110を処理することができる。
次に、焼成治具1に搭載されたハニカム成形体110を乾燥する。
乾燥の条件は、特に限定されないが、70〜200℃で1〜5時間乾燥することが望ましい。
次に、ハニカム成形体110に含まれる有機成分有機成分や造孔材を分解させるため、酸素含有雰囲気下でハニカム成形体110を脱脂する。
脱脂の条件は、特に限定されないが、300〜650℃で1〜15時間加熱することが望ましい。
脱脂工程では、焼成治具1も加熱されることになる。焼成治具1に、コート層30がなく、収容体10が剥き出しの場合は、収容体10は黒鉛であるので、加熱中に酸化されることになる。しかし、焼成治具1では、収容体10にコート層30が形成されているので、焼成治具1を用いてハニカム成形体110を脱脂する際に、収容体10が劣化することを抑制することができる。
次に、非活性ガス雰囲気下でハニカム成形体110を焼成してハニカム焼成体にする。
焼成の条件としては、特に限定されないが、窒素雰囲気下、又は、アルゴン雰囲気下、1800〜2300℃で1〜10時間焼成することが望ましい。
そのため、ハニカム成形体110に含まれるSiO2が枯渇したとしても、コート層30からSiOガスが供給されるので、ハニカム成形体110の焼成終了まで上記式(1)は、好適に進行することになる。
このように、コート層を構成する炭化ケイ素が、収容体の内部深くに浸透していると、アンカー効果が高まるので、コート層と収容体との密着性が向上する。そのため、コート層が収容体から剥がれることを抑制することができる。
以下に実施例を掲げ本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されない。
(1)収容体準備工程
黒鉛(イビデン株式会社製「ES−90」)からなり底部及び枠部から構成される収容体を準備した。
収容体の気孔率は、17%であり、底部及び枠部の厚さは、10mmであった。
(2−1)成膜第1工程
反応器内に収容体を置き、以下の条件で収容体に化学気相蒸着を行った。
ガスの種類:メチルトリクロロシシラン
ガスの濃度:2.1%
処理温度 :1200℃
上記(2−1)成膜第1工程終了後、さらに以下の条件で各収容体に化学気層蒸着を行い、収容体にコート層を形成した。
ガスの種類:メチルトリクロロシシラン
ガスの濃度:6.4%
処理温度 :1200℃
実施例1の(2)成膜工程の条件を以下のように変更した以外は、実施例1と同様に実施例2に係る焼成治具を製造した。
(2)成膜工程
(2−1)成膜第1工程
ガスの種類:メチルトリクロロシシラン
ガスの濃度:4.2%
処理温度 :1200℃
ガスの種類:メチルトリクロロシシラン
ガスの濃度:6.4%
処理温度 :1200℃
(1)収容体準備工程
実施例1と同様に収容体を準備した。
反応器内に収容体を置き、以下の条件で収容体に化学気相蒸着を行い、収容体にコート層を形成した。
ガスの種類:メチルトリクロロシシラン
ガスの濃度:6.4%
処理温度 :1200℃
比較例1において(2)成膜工程の条件を以下のように変更した以外は、比較例1と同様にして比較例2に係る焼成治具を製造した。
(2)成膜工程
ガスの種類:メチルトリクロロシシラン
ガスの濃度:6.4%
処理温度 :1300℃
比較例1において(2)成膜工程の条件を以下のように変更した以外は、比較例1と同様にして比較例3に係る焼成治具を製造した。
(2)成膜工程
ガスの種類:メチルトリクロロシシラン
ガスの濃度:6.4%
処理温度 :1350℃
電子線マイクロアナライザ(EPMA)を用い、実施例1及び2、並びに、比較例1〜3に係る焼成治具の炭化ケイ素の浸透幅及びコート層の幅の測定をした。
測定条件としては、電子線マイクロアナライザ(機種名:EPMA JXA−8500F、日本電子株式会社製)を用い、撮像倍率を75倍とし、コート層の露出面から収容体の内部にむけて1200μmの深さを、幅250μmに渡ってマッピングした。
結果を表1に示す。各実施例及び各比較例の電子線マイクロアナライザ(EPMA)による画像を図7(a)〜(e)に示す。
図7(a)は、実施例1に係る焼成治具のEPMA画像である。
図7(b)は、実施例2に係る焼成治具のEPMA画像である。
図7(c)は、比較例1に係る焼成治具のEPMA画像である。
図7(d)は、比較例2に係る焼成治具のEPMA画像である。
図7(e)は、比較例3に係る焼成治具のEPMA画像である。
図7(a)及び(b)に示すように、実施例1及び2に係る焼成治具では黒鉛13からなる収容体10に炭化ケイ素31からなるコート層30が形成されており、さらに炭化ケイ素31は収容体10の内部に浸透していた。そして、炭化ケイ素の浸透幅は200μm以上であった。
一方、図7(c)及び(d)に示すように、比較例1及び2に係る焼成治具では、黒鉛13からなる収容体10に炭化ケイ素31からなるコート層30が形成されており、さらに炭化ケイ素31は収容体10の内部に浸透していたが、炭化ケイ素の浸透幅は200μm未満であった。
また、図7(e)に示すように、比較例3に係る焼成治具では、黒鉛13からなる収容体10に炭化ケイ素31からなるコート層30が形成されているものの、炭化ケイ素31は、ほとんど収容体10の内部に浸透していなかった。
実施例1及び2、並びに、比較例1〜3に係る焼成治具における収容体と、コート層との密着強度をセバスチャン法により測定した。
測定条件は以下の通りである。
まず、コート層にスタットピン(型番:901106、QUAD GROUP社製)を接着して測定用サンプルを作製した。
次に、密着強度測定機(機種名:AG−X、株式会社島津製作所製)を用いて、測定用サンプルの密着強度を測定した。
結果を表1に示す。
図8は、各実施例及び各比較例に係る焼成治具の密着強度と炭化ケイ素の浸透幅との相関関係を示すグラフである。
これは、成膜第1工程において濃度が低いメチルトリクロロシシランを用い、成膜第2工程において、成膜第1工程で用いたメチルトリクロロシシランよりも濃度が高いメチルトリクロロシシランを用いるという2段階に分けてコート層を成膜しているため、炭化ケイ素が収容体の奥深くに浸透したためと考えられる。
また、表1に示すように、実施例1及び2では、密着強度が充分に強かった。これは、実施例1及び2では、炭化ケイ素が収容体に充分浸透できたことが原因と考えられる。
また、表1に示すように、比較例1〜3では、密着強度が弱かった。これは、比較例1〜3では、炭化ケイ素が収容体に充分浸透できなかったことが原因と考えられる。
10 収容体
11 底部
12 枠部
13 黒鉛
14 気孔
14a 気孔の壁
15 境界面
20 載置面
21 スペーサー
30 コート層
31 炭化ケイ素
32 有機シランガス
35 露出面
Claims (9)
- 炭化ケイ素を主成分とする柱状のハニカム成形体を載置するための収容体と、前記収容体の少なくとも前記ハニカム成形体を載置する載置面側に形成されたコート層とからなるハニカム成形体焼成用焼成治具であって、
前記収容体は黒鉛からなり、
前記コート層は炭化ケイ素から構成され、
前記コート層を構成する前記炭化ケイ素は、前記収容体の内部に浸透しており、
前記コート層を構成する前記炭化ケイ素が、前記収容体の内部に浸透している浸透幅は、200μm以上であることを特徴とする焼成治具。 - 前記浸透幅は、1000μm以下である請求項1に記載の焼成治具。
- 前記コート層の露出面から前記収容体までの幅は、20〜500μmである請求項1又は2に記載の焼成治具。
- 前記収容体の気孔率は、5〜40%である請求項1〜3のいずれかに記載の焼成治具。
- 前記収容体の気孔率は、10〜30%である請求項4に記載の焼成治具。
- 前記コート層は、有機シランガスを用いて化学気相蒸着を行うことにより形成されている請求項1〜5のいずれかに記載の焼成治具。
- 請求項1〜6に係るハニカム成形体焼成用焼成治具の製造方法であって、
黒鉛からなる収容体を準備する収容体準備工程と、
前記収容体に炭化ケイ素から構成されるコート層を形成する成膜工程とを含み、
前記成膜工程は、
第1有機シランガスを用いて前記収容体に化学気相蒸着を行う成膜第1工程と、
前記成膜第1工程で用いる前記第1有機シランガスよりも濃度が高い第2有機シランガスを用いて前記収容体に化学気相蒸着を行う成膜第2工程とを含むことを特徴とする焼成治具の製造方法。 - 前記第1有機シランガスの濃度は、1.0〜6.5%である請求項7に記載の焼成治具の製造方法。
- 前記第2有機シランガスの濃度は、5.0〜20.0%である請求項7又は8に記載の焼成治具の製造方法。
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