JP2016194054A - ブロック共重合体 - Google Patents
ブロック共重合体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016194054A JP2016194054A JP2016063272A JP2016063272A JP2016194054A JP 2016194054 A JP2016194054 A JP 2016194054A JP 2016063272 A JP2016063272 A JP 2016063272A JP 2016063272 A JP2016063272 A JP 2016063272A JP 2016194054 A JP2016194054 A JP 2016194054A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- block
- group
- block copolymer
- phosphorylcholine
- meth
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Graft Or Block Polymers (AREA)
- Apparatus Associated With Microorganisms And Enzymes (AREA)
Abstract
【課題】短時間での細胞剥離を可能にする細胞培養基材の表面被覆剤として有用なブロック共重合体の提供。【解決手段】下記（Ａ）及び（Ｂ）の重合体ブロックを含むブロック共重合体。（Ａ）アクリルアミド又はＮ含有複素環で置換された（メタ）アクリレートのブロック単位（ａ）からなる重合体のブロック。（Ｂ）式（６）で表されるブロック単位（ｂ）からなる重合体のブロック（Ｒ７はＨ又はメチル基；Ｒ８は炭化水素基又はポリオキシエチレン基；Ｒ９は炭化水素基Ｒ１０〜Ｒ１２はＨ又は炭化水素基；Ａはエステル結合、アミド結合、ウレタン結合又はエーテル結合）【選択図】なし
Description
本発明は、短時間での細胞剥離を可能とする細胞培養基材の表面被覆材として有用なブ
ロック共重合体に関する。
ロック共重合体に関する。
細胞培養は生化学的な現象の理解や有用物質の産生などに用いられ、また近年、幹細胞
の発見や培養技術の進歩により、再生医療を始めとする細胞を用いた治療に大きな注目が
寄せられている。
の発見や培養技術の進歩により、再生医療を始めとする細胞を用いた治療に大きな注目が
寄せられている。
細胞の多くは接着性を有しており、体内においてはコラーゲン、フィブロネクチン、ラ
ミニンなどの生体高分子に接着し、増殖・分化することが知られている。同様に、細胞培
養においても接着性を有する細胞の多くは、培養する際に何らかの基材に接着する必要が
ある。従来、基材としては表面処理したガラスあるいは高分子が用いられていた。例えば
、ポリスチレンにγ線照射あるいはシリコーンコーティングを行なった基材がある。また
、コラーゲンやフィブロネクチンのような生体高分子を表面に塗布した支持体も用いられ
る。
ミニンなどの生体高分子に接着し、増殖・分化することが知られている。同様に、細胞培
養においても接着性を有する細胞の多くは、培養する際に何らかの基材に接着する必要が
ある。従来、基材としては表面処理したガラスあるいは高分子が用いられていた。例えば
、ポリスチレンにγ線照射あるいはシリコーンコーティングを行なった基材がある。また
、コラーゲンやフィブロネクチンのような生体高分子を表面に塗布した支持体も用いられ
る。
増殖する細胞は基材上で培養後、一般的に別の基材に植え継ぐ必要が有り、多くの場合
にはタンパク質分解酵素が用いられている。タンパク質分解酵素は細胞表面にあるタンパ
ク質を分解し、細胞と基材の間の結合および細胞間の結合を切る役目を担っている。一方
、タンパク質分解酵素は細胞の生存率に大きな影響を与えることが知られており、タンパ
ク質分解酵素を用いずに細胞を基材から分離する手法は細胞にダメージを与えない方法と
して重要である。再生医療においても同様に、体外で培養した細胞にダメージを与えずに
、さらに細胞間の結合を切断しない方法で細胞又は組織化した細胞を基材から分離し、体
内に戻すことが求められており、タンパク質分解酵素を用いずに基材から分離する方法が
求められている。
にはタンパク質分解酵素が用いられている。タンパク質分解酵素は細胞表面にあるタンパ
ク質を分解し、細胞と基材の間の結合および細胞間の結合を切る役目を担っている。一方
、タンパク質分解酵素は細胞の生存率に大きな影響を与えることが知られており、タンパ
ク質分解酵素を用いずに細胞を基材から分離する手法は細胞にダメージを与えない方法と
して重要である。再生医療においても同様に、体外で培養した細胞にダメージを与えずに
、さらに細胞間の結合を切断しない方法で細胞又は組織化した細胞を基材から分離し、体
内に戻すことが求められており、タンパク質分解酵素を用いずに基材から分離する方法が
求められている。
上記問題を解決するために、温度応答性ポリマーを基材表面に被覆した細胞培養基材が
知られている。（特許文献１）このような基材によれば、周囲環境の温度降下による温度
応答性ポリマーのゾル転移で基材表面の接着力を弱めて、細胞を剥離させ、ダメージを与
えることなく細胞を分別回収することができる。通常、細胞は体温付近で接着・培養する
必要があり、培養後、体温以下で細胞を剥離できる基材が必要となる。
知られている。（特許文献１）このような基材によれば、周囲環境の温度降下による温度
応答性ポリマーのゾル転移で基材表面の接着力を弱めて、細胞を剥離させ、ダメージを与
えることなく細胞を分別回収することができる。通常、細胞は体温付近で接着・培養する
必要があり、培養後、体温以下で細胞を剥離できる基材が必要となる。
また水中におけるゾル転移温度［臨界溶解温度（Ｔ）］が体温以下の範囲にある温度応
答性ポリマーとして、ポリ−Ｎ−イソプロピルアクリルアミド（Ｔ＝３２℃）、ポリ−Ｎ
−ｎ−プロピルアクリルアミド（Ｔ＝２１℃）、ポリ−Ｎ−ｎ−プロピルメタクリルアミ
ド（Ｔ＝３２℃）、ポリ−Ｎ−エトキシエチルアクリルアミド（Ｔ＝約３５℃）、ポリ−
Ｎ−テトラヒドロフルフリルアクリルアミド（Ｔ＝約２８℃）、ポリ−Ｎ−テトラヒドロ
フルフリルメタクリルアミド（Ｔ＝約３５℃）、及びポリ−Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルア
ミド（Ｔ＝３２℃）等が記載されている。（特許文献２、特許文献３）
上記温度応答性ポリマーを細胞培養基材に用いる場合、臨界溶解温度以下に細胞培養基
材の温度を下げる必要があるが、同時に細胞を低温化してしまう。細胞の低温化は細胞の
活性低下を及ぼすため、冷却時間の短縮が必要である。
答性ポリマーとして、ポリ−Ｎ−イソプロピルアクリルアミド（Ｔ＝３２℃）、ポリ−Ｎ
−ｎ−プロピルアクリルアミド（Ｔ＝２１℃）、ポリ−Ｎ−ｎ−プロピルメタクリルアミ
ド（Ｔ＝３２℃）、ポリ−Ｎ−エトキシエチルアクリルアミド（Ｔ＝約３５℃）、ポリ−
Ｎ−テトラヒドロフルフリルアクリルアミド（Ｔ＝約２８℃）、ポリ−Ｎ−テトラヒドロ
フルフリルメタクリルアミド（Ｔ＝約３５℃）、及びポリ−Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルア
ミド（Ｔ＝３２℃）等が記載されている。（特許文献２、特許文献３）
上記温度応答性ポリマーを細胞培養基材に用いる場合、臨界溶解温度以下に細胞培養基
材の温度を下げる必要があるが、同時に細胞を低温化してしまう。細胞の低温化は細胞の
活性低下を及ぼすため、冷却時間の短縮が必要である。
本発明の課題は、短時間での細胞剥離を可能にする細胞培養基材の表面被覆剤として有
用なブロック共重合体を提供することにある。
用なブロック共重合体を提供することにある。
本発明者らは、以上の点を鑑み、鋭意研究を重ねた結果、温度応答性の重合体を、細胞
非接着性の重合体でブロック共重合させたブロック共重合体を基材上に被覆し成膜するこ
とで、短時間での細胞剥離を可能にすることを見出し、本発明を完成した。
非接着性の重合体でブロック共重合させたブロック共重合体を基材上に被覆し成膜するこ
とで、短時間での細胞剥離を可能にすることを見出し、本発明を完成した。
すなわち本発明によれば、
［１］ 下記（Ａ）および（Ｂ）の重合体ブロックを含むブロック共重合体。
（Ａ）下記一般式（１）または（２）で表されるブロック単位から選ばれる少なくとも１
種類のブロック単位（ａ）からなる重合体のブロック。
［１］ 下記（Ａ）および（Ｂ）の重合体ブロックを含むブロック共重合体。
（Ａ）下記一般式（１）または（２）で表されるブロック単位から選ばれる少なくとも１
種類のブロック単位（ａ）からなる重合体のブロック。
（式中、Ｒ１は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ２は炭素数１〜８のアルキル基、炭素
数６〜２０のアリール基、炭素数１〜８の酸素含有炭化水素基を表す。）
数６〜２０のアリール基、炭素数１〜８の酸素含有炭化水素基を表す。）
［式中、Ｒ３は水素原子またはメチル基を表し、Ｘは下記一般式（３）、（４）または（
５）
５）
（Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６は水素原子、炭素数１〜８のアルキル基を表す。）
で表される置換基である。］
（Ｂ）下記一般式（６）で表されるブロック単位（ｂ）からなる重合体のブロック。
で表される置換基である。］
（Ｂ）下記一般式（６）で表されるブロック単位（ｂ）からなる重合体のブロック。
（式中、Ｒ７は水素原子又はメチル基であり、Ｒ８は、炭素数１〜１０の２価の炭化水素
基、又は（ポリ）オキシエチレン基であり、Ｒ９は、炭素数１〜４の２価の炭化水素基で
あり、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２は各々独立して、水素原子又は炭素数１〜４の炭化水素基
であり、Ａは、エステル結合、アミド結合、ウレタン結合、及びエーテル結合からなる群
から選択される２価の結合である。）
［２］ブロック（Ａ）がＮ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ｎ−プロピルアクリルアミド
、Ｎ−ｎ−プロピルメタクリルアミド、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、Ｎ−イソプロ
ピルメタクリルアミド、Ｎ−シクロプロピルアクリルアミド、Ｎ−シクロプロピルメタク
リルアミド、Ｎ−エトキシエチルアクリルアミド、Ｎ−エトキシエチルメタクリルアミド
、Ｎ−テトラヒドロフルフリルアクリルアミド、Ｎ−テトラヒドロフルフリルメタクリル
アミド、１−（１−オキソ−２−プロペニル）ピロリジン、１−（１−オキソ−２−メチ
ルー２−プロペニル）ピロリジン、１−（１−オキソ−２−プロペニル）ピペリジン、１
−（１−オキソ−２−メチルー２−プロペニル）ピペリジン、４−（１−オキソ−２−プ
ロペニル）モルホリン、４−（１−オキソ−２−メチルー２−プロペニル）モルホリンか
ら選ばれる少なくとも１つのモノマーの（共）重合体であることを特徴とする［１］に記
載のブロック共重合体。
基、又は（ポリ）オキシエチレン基であり、Ｒ９は、炭素数１〜４の２価の炭化水素基で
あり、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２は各々独立して、水素原子又は炭素数１〜４の炭化水素基
であり、Ａは、エステル結合、アミド結合、ウレタン結合、及びエーテル結合からなる群
から選択される２価の結合である。）
［２］ブロック（Ａ）がＮ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ｎ−プロピルアクリルアミド
、Ｎ−ｎ−プロピルメタクリルアミド、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、Ｎ−イソプロ
ピルメタクリルアミド、Ｎ−シクロプロピルアクリルアミド、Ｎ−シクロプロピルメタク
リルアミド、Ｎ−エトキシエチルアクリルアミド、Ｎ−エトキシエチルメタクリルアミド
、Ｎ−テトラヒドロフルフリルアクリルアミド、Ｎ−テトラヒドロフルフリルメタクリル
アミド、１−（１−オキソ−２−プロペニル）ピロリジン、１−（１−オキソ−２−メチ
ルー２−プロペニル）ピロリジン、１−（１−オキソ−２−プロペニル）ピペリジン、１
−（１−オキソ−２−メチルー２−プロペニル）ピペリジン、４−（１−オキソ−２−プ
ロペニル）モルホリン、４−（１−オキソ−２−メチルー２−プロペニル）モルホリンか
ら選ばれる少なくとも１つのモノマーの（共）重合体であることを特徴とする［１］に記
載のブロック共重合体。
［３］ブロック（Ｂ）が２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン、２−アク
リロイルオキシエチルホスホリルコリン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルホス
ホリルコリン、４−（メタ）アクリロイルオキシブチルホスホリルコリン、６−（メタ）
アクリロイルオキシヘキシルホスホリルコリン、１０−（メタ）アクリロイルオキシデシ
ルホスホリルコリン、ω−（メタ）アクリロイル（ポリ）オキシエチレンホスホリルコリ
ン、２−アクリルアミドエチルホスホリルコリン、３−アクリルアミドプロピルホスホリ
ルコリン、４−アクリルアミドブチルホスホリルコリン、６−アクリルアミドヘキシルホ
スホリルコリン、１０−アクリルアミドデシルホスホリルコリン、ω−（メタ）アクリル
アミド（ポリ）オキシエチレンホスホリルコリン、２−メタクリロイルオキシエチルホス
ホリルエタノールアミン、２−アクリロイルオキシエチルホスホリルエタノールアミン、
３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルホスホリルエタノールアミン、４−（メタ）ア
クリロイルオキシブチルホスホリルエタノールアミン、６−（メタ）アクリロイルオキシ
ヘキシルホスホリルエタノールアミン、１０−（メタ）アクリロイルオキシデシルホスホ
リルエタノールアミン、ω−（メタ）アクリロイル（ポリ）オキシエチレンホスホリルエ
タノールアミンから選ばれる少なくとも１つのモノマーの（共）重合体であることを特徴
とする［１］または［２］に記載のブロック共重合体。
リロイルオキシエチルホスホリルコリン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルホス
ホリルコリン、４−（メタ）アクリロイルオキシブチルホスホリルコリン、６−（メタ）
アクリロイルオキシヘキシルホスホリルコリン、１０−（メタ）アクリロイルオキシデシ
ルホスホリルコリン、ω−（メタ）アクリロイル（ポリ）オキシエチレンホスホリルコリ
ン、２−アクリルアミドエチルホスホリルコリン、３−アクリルアミドプロピルホスホリ
ルコリン、４−アクリルアミドブチルホスホリルコリン、６−アクリルアミドヘキシルホ
スホリルコリン、１０−アクリルアミドデシルホスホリルコリン、ω−（メタ）アクリル
アミド（ポリ）オキシエチレンホスホリルコリン、２−メタクリロイルオキシエチルホス
ホリルエタノールアミン、２−アクリロイルオキシエチルホスホリルエタノールアミン、
３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルホスホリルエタノールアミン、４−（メタ）ア
クリロイルオキシブチルホスホリルエタノールアミン、６−（メタ）アクリロイルオキシ
ヘキシルホスホリルエタノールアミン、１０−（メタ）アクリロイルオキシデシルホスホ
リルエタノールアミン、ω−（メタ）アクリロイル（ポリ）オキシエチレンホスホリルエ
タノールアミンから選ばれる少なくとも１つのモノマーの（共）重合体であることを特徴
とする［１］または［２］に記載のブロック共重合体。
［４］全繰り返し単位［（ａ）＋（ｂ）］に対する繰り返し単位（ａ）の比率が５〜９
５ｍｏｌ％であることを特徴とする［１］〜［３］のいずれか１項に記載のブロック共重
合体。
［５］数平均分子量（Ｍｎ）が５，０００以上１００，０００以下であることを特徴とす
る［１］〜［４］のいずれか１項に記載のブロック共重合体。
５ｍｏｌ％であることを特徴とする［１］〜［３］のいずれか１項に記載のブロック共重
合体。
［５］数平均分子量（Ｍｎ）が５，０００以上１００，０００以下であることを特徴とす
る［１］〜［４］のいずれか１項に記載のブロック共重合体。
温度応答性の重合体を、細胞非接着性の重合体でブロック共重合させた、本発明に記載
のブロック共重合体から得られる膜を細胞培養基材に被覆すれば、細胞培養後、温度を降
下させることによって基材表面の親水化が促進され、細胞剥離に必要な時間を短縮するこ
とができる。これによって、細胞培養後、冷却処理を施しても、細胞にダメージを与える
ことなく、短時間で細胞を分別回収できる細胞培養基材が得られるようになる。
のブロック共重合体から得られる膜を細胞培養基材に被覆すれば、細胞培養後、温度を降
下させることによって基材表面の親水化が促進され、細胞剥離に必要な時間を短縮するこ
とができる。これによって、細胞培養後、冷却処理を施しても、細胞にダメージを与える
ことなく、短時間で細胞を分別回収できる細胞培養基材が得られるようになる。
以下、本発明を実施するための形態（以下、単に「本実施の形態」という。）について
詳細に説明する。以下の本実施の形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明を
以下の内容に限定する趣旨ではない。本発明は、その趣旨の範囲内で適宜に変形して実施
できる。
詳細に説明する。以下の本実施の形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明を
以下の内容に限定する趣旨ではない。本発明は、その趣旨の範囲内で適宜に変形して実施
できる。
本発明のブロック共重合体は、一般式（１）または（２）で表される繰り返し単位から
選ばれる少なくとも１種類のブロック単位（ａ）からなる重合体のブロック（Ａ）、およ
び一般式（６）で表されるブロック単位（ｂ）からなる重合体のブロック（Ｂ）を含む。
選ばれる少なくとも１種類のブロック単位（ａ）からなる重合体のブロック（Ａ）、およ
び一般式（６）で表されるブロック単位（ｂ）からなる重合体のブロック（Ｂ）を含む。
一般式（１）中、Ｒ１は水素原子またはメチル基を表し、細胞剥離に必要な冷却時間を
短縮することを目的に水素原子が用いられる。またＲ２は炭素数１〜８のアルキル基、炭
素数６〜２０のアリール基、炭素数１〜８の酸素含有炭化水素基を表す。
短縮することを目的に水素原子が用いられる。またＲ２は炭素数１〜８のアルキル基、炭
素数６〜２０のアリール基、炭素数１〜８の酸素含有炭化水素基を表す。
炭素数１〜８のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロ
ピル基、シクロプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ．−ブチル基、ｎ−
ヘキシル基、イソヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基を例示できるが、水中に
おける臨界溶解温度（Ｔ）を体温付近にするために、好ましくはｎ−プロピル基、イソプ
ロピル基が用いられる。
ピル基、シクロプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ．−ブチル基、ｎ−
ヘキシル基、イソヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基を例示できるが、水中に
おける臨界溶解温度（Ｔ）を体温付近にするために、好ましくはｎ−プロピル基、イソプ
ロピル基が用いられる。
炭素数６〜２０のアリール基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基を例示でき
る。
炭素数１〜８の酸素含有炭化水素基としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、ｎ
−プロポキシエチル基、イソプロポキシエチル基、３−メトキシプロピル基、３−エトキ
シプロピル基、３−プロポキシプロピル基、フルフリル基、テトラヒドロフルフリル基を
例示できるが、水中における臨界溶解温度（Ｔ）を体温付近にするために、好ましくはエ
トキシエチル基、フルフリル基、テトラヒドロフルフリル基が用いられる。
る。
炭素数１〜８の酸素含有炭化水素基としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、ｎ
−プロポキシエチル基、イソプロポキシエチル基、３−メトキシプロピル基、３−エトキ
シプロピル基、３−プロポキシプロピル基、フルフリル基、テトラヒドロフルフリル基を
例示できるが、水中における臨界溶解温度（Ｔ）を体温付近にするために、好ましくはエ
トキシエチル基、フルフリル基、テトラヒドロフルフリル基が用いられる。
式（２）中、Ｒ３は水素原子またはメチル基を表し、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮
することを目的に水素原子が用いられる。
することを目的に水素原子が用いられる。
Ｘは一般式（３）、（４）または（５）で表される置換基であり、混合して用いても良
い。
い。
Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は各々独立して水素原子または炭素数１〜８のアルキル基を表し
、水中における臨界溶解温度（Ｔ）を体温付近にするために、好ましくは水素原子が用い
られる。
、水中における臨界溶解温度（Ｔ）を体温付近にするために、好ましくは水素原子が用い
られる。
一般式（１）または（２）で表されるブロック単位（ａ）を重合反応によって生成する
モノマーとしては、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−
ｎ−プロピルメタクリルアミド、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、Ｎ−イソプロピルメ
タクリルアミド、Ｎ−シクロプロピルアクリルアミド、Ｎ−シクロプロピルメタクリルア
ミド、Ｎ−エトキシエチルアクリルアミド、Ｎ−エトキシエチルメタクリルアミド、Ｎ−
テトラヒドロフルフリルアクリルアミド、Ｎ−テトラヒドロフルフリルメタクリルアミド
、１−（１−オキソ−２−プロペニル）ピロリジン、１−（１−オキソ−２−メチルー２
−プロペニル）ピロリジン、１−（１−オキソ−２−プロペニル）ピペリジン、１−（１
−オキソ−２−メチルー２−プロペニル）ピペリジン、４−（１−オキソ−２−プロペニ
ル）モルホリン、４−（１−オキソ−２−メチルー２−プロペニル）モルホリンを例示で
きるが、水中における臨界溶解温度（Ｔ）を体温付近にし、細胞剥離に必要な冷却時間を
短縮することを目的に、好ましくはＮ−ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−イソプロピル
アクリルアミド、Ｎ−ｎ−プロピルメタクリルアミド、Ｎ−エトキシエチルアクリルアミ
ド、Ｎ−テトラヒドロフルフリルアクリルアミド、Ｎ−テトラヒドロフルフリルメタクリ
ルアミドを用いることができ、更に好ましくはＮ−イソプロピルアクリルアミドを用いる
ことができる。
モノマーとしては、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−
ｎ−プロピルメタクリルアミド、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、Ｎ−イソプロピルメ
タクリルアミド、Ｎ−シクロプロピルアクリルアミド、Ｎ−シクロプロピルメタクリルア
ミド、Ｎ−エトキシエチルアクリルアミド、Ｎ−エトキシエチルメタクリルアミド、Ｎ−
テトラヒドロフルフリルアクリルアミド、Ｎ−テトラヒドロフルフリルメタクリルアミド
、１−（１−オキソ−２−プロペニル）ピロリジン、１−（１−オキソ−２−メチルー２
−プロペニル）ピロリジン、１−（１−オキソ−２−プロペニル）ピペリジン、１−（１
−オキソ−２−メチルー２−プロペニル）ピペリジン、４−（１−オキソ−２−プロペニ
ル）モルホリン、４−（１−オキソ−２−メチルー２−プロペニル）モルホリンを例示で
きるが、水中における臨界溶解温度（Ｔ）を体温付近にし、細胞剥離に必要な冷却時間を
短縮することを目的に、好ましくはＮ−ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−イソプロピル
アクリルアミド、Ｎ−ｎ−プロピルメタクリルアミド、Ｎ−エトキシエチルアクリルアミ
ド、Ｎ−テトラヒドロフルフリルアクリルアミド、Ｎ−テトラヒドロフルフリルメタクリ
ルアミドを用いることができ、更に好ましくはＮ−イソプロピルアクリルアミドを用いる
ことができる。
式（６）中、Ｒ７は水素原子またはメチル基を表し、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮
することを目的にメチル基が用いられる。
することを目的にメチル基が用いられる。
Ｒ８は炭素数１〜１０の２価の炭化水素基、又は（ポリ）オキシエチレン基：−（ＯＣ
Ｈ２ＣＨ２）ｎ−（式中、ｎは本発明のブロック共重合体に適切な親水性と生体適合性を
付与するブロック（Ｂ）の機能を損なわない限り特に限定されず、例えば１〜１０である
。なお、該（ポリ）オキシエチレン基は−Ｏ−を介して基Ａと結合する。）であり、細胞
剥離に必要な冷却時間を短縮することを目的に、好ましくは、メチレン、エチレン、プロ
ピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン等の炭素数１〜６の２価のアルキレン基であ
り、更に好ましくはエチレンである。
Ｈ２ＣＨ２）ｎ−（式中、ｎは本発明のブロック共重合体に適切な親水性と生体適合性を
付与するブロック（Ｂ）の機能を損なわない限り特に限定されず、例えば１〜１０である
。なお、該（ポリ）オキシエチレン基は−Ｏ−を介して基Ａと結合する。）であり、細胞
剥離に必要な冷却時間を短縮することを目的に、好ましくは、メチレン、エチレン、プロ
ピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン等の炭素数１〜６の２価のアルキレン基であ
り、更に好ましくはエチレンである。
Ｒ９は、炭素数１〜４の２価の炭化水素基であり、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮す
ることを目的に、好ましくは、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン等のアルキレ
ン基であり、更に好ましくはエチレンである。
ることを目的に、好ましくは、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン等のアルキレ
ン基であり、更に好ましくはエチレンである。
Ｒ１０、Ｒ１１、およびＲ１２は各々独立して、水素原子又は炭素数１〜４の炭化水素
基であり、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮することを目的に、好ましくは、Ｒ１０、Ｒ
１１、およびＲ１２が同時に水素原子またはメチル基であり、更に好ましくは同時にメチ
ル基である。
基であり、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮することを目的に、好ましくは、Ｒ１０、Ｒ
１１、およびＲ１２が同時に水素原子またはメチル基であり、更に好ましくは同時にメチ
ル基である。
Ａは、エステル結合、アミド結合、ウレタン結合、及びエーテル結合からなる群から選
択される２価の結合であり、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮することを目的に、好まし
くはエステル結合、アミド結合であり、特に好ましくはエステル結合である。
択される２価の結合であり、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮することを目的に、好まし
くはエステル結合、アミド結合であり、特に好ましくはエステル結合である。
一般式（６）で表されるブロック単位（ｂ）を重合反応によって生成するモノマーとし
ては、２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン、２−アクリロイルオキシエチ
ルホスホリルコリン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルホスホリルコリン、４−
（メタ）アクリロイルオキシブチルホスホリルコリン、６−（メタ）アクリロイルオキシ
ヘキシルホスホリルコリン、１０−（メタ）アクリロイルオキシデシルホスホリルコリン
、ω−（メタ）アクリロイル（ポリ）オキシエチレンホスホリルコリン、２−アクリルア
ミドエチルホスホリルコリン、３−アクリルアミドプロピルホスホリルコリン、４−アク
リルアミドブチルホスホリルコリン、６−アクリルアミドヘキシルホスホリルコリン、１
０−アクリルアミドデシルホスホリルコリン、ω−（メタ）アクリルアミド（ポリ）オキ
シエチレンホスホリルコリン、２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルエタノールア
ミン、２−アクリロイルオキシエチルホスホリルエタノールアミン、３−（メタ）アクリ
ロイルオキシプロピルホスホリルエタノールアミン、４−（メタ）アクリロイルオキシブ
チルホスホリルエタノールアミン、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシルホスホリル
エタノールアミン、１０−（メタ）アクリロイルオキシデシルホスホリルエタノールアミ
ン、ω−（メタ）アクリロイル（ポリ）オキシエチレンホスホリルエタノールアミンを例
示できるが、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮することを目的に、好ましくは２−メタク
リロイルオキシエチルホスホリルコリンを用いることができる。
ては、２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン、２−アクリロイルオキシエチ
ルホスホリルコリン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルホスホリルコリン、４−
（メタ）アクリロイルオキシブチルホスホリルコリン、６−（メタ）アクリロイルオキシ
ヘキシルホスホリルコリン、１０−（メタ）アクリロイルオキシデシルホスホリルコリン
、ω−（メタ）アクリロイル（ポリ）オキシエチレンホスホリルコリン、２−アクリルア
ミドエチルホスホリルコリン、３−アクリルアミドプロピルホスホリルコリン、４−アク
リルアミドブチルホスホリルコリン、６−アクリルアミドヘキシルホスホリルコリン、１
０−アクリルアミドデシルホスホリルコリン、ω−（メタ）アクリルアミド（ポリ）オキ
シエチレンホスホリルコリン、２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルエタノールア
ミン、２−アクリロイルオキシエチルホスホリルエタノールアミン、３−（メタ）アクリ
ロイルオキシプロピルホスホリルエタノールアミン、４−（メタ）アクリロイルオキシブ
チルホスホリルエタノールアミン、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシルホスホリル
エタノールアミン、１０−（メタ）アクリロイルオキシデシルホスホリルエタノールアミ
ン、ω−（メタ）アクリロイル（ポリ）オキシエチレンホスホリルエタノールアミンを例
示できるが、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮することを目的に、好ましくは２−メタク
リロイルオキシエチルホスホリルコリンを用いることができる。
本発明のブロック共重合体は、ブロック単位（ａ）からなる重合体のブロック（Ａ）、
およびブロック単位（ｂ）からなる重合体のブロック（Ｂ）を含むブロック共重合体であ
り、基材に被覆した場合に、細胞接着性を付与すると共に、細胞剥離に必要な冷却時間を
短縮することを目的に、好ましくはＮ−イソプロピルアクリルアミドの重合体のブロック
（Ａ）と２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリンの重合体のブロック（Ｂ）を
含むブロック共重合体である。
およびブロック単位（ｂ）からなる重合体のブロック（Ｂ）を含むブロック共重合体であ
り、基材に被覆した場合に、細胞接着性を付与すると共に、細胞剥離に必要な冷却時間を
短縮することを目的に、好ましくはＮ−イソプロピルアクリルアミドの重合体のブロック
（Ａ）と２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリンの重合体のブロック（Ｂ）を
含むブロック共重合体である。
全ブロック単位［（ａ）＋（ｂ）］に対する（ａ）の比率は１〜９５ｍｏｌ％であり、
基材に被覆した場合に、細胞接着性を付与すると共に、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮
することを目的に、５〜８５ｍｏｌ％であることが好ましい。全ブロック単位［（ａ）＋
（ｂ）］に対する（ａ）の比率が１ｍｏｌ％未満であれば細胞接着性が低下し、９５ｍｏ
ｌ％を超えれば細胞剥離に必要な冷却時間が長くなる。
基材に被覆した場合に、細胞接着性を付与すると共に、細胞剥離に必要な冷却時間を短縮
することを目的に、５〜８５ｍｏｌ％であることが好ましい。全ブロック単位［（ａ）＋
（ｂ）］に対する（ａ）の比率が１ｍｏｌ％未満であれば細胞接着性が低下し、９５ｍｏ
ｌ％を超えれば細胞剥離に必要な冷却時間が長くなる。
本発明のブロック共重合体は、ブロック（Ａ）または（Ｂ）中に、ブロック単位（ａ）
または（ｂ）以外のモノマー単位を含有できる。
または（ｂ）以外のモノマー単位を含有できる。
ブロック単位（ａ）または（ｂ）以外のモノマー単位を生成するモノマーとしては、ス
チレン、１−ビニルナフタレン、２−ビニルナフタレン、９−ビニルアントラセン、１−
ビニルピレンおよびその誘導体等の芳香族ビニル化合物、Ｎ−ｎ−オクチル（メタ）アク
リルアミド、Ｎ−ｎ−デシル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ドデシル（メタ）アクリ
ルアミド、Ｎ−ｎ−ヘキサデシル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−オクタデシル（メタ
）アクリルアミド等の（メタ）アクリルアミド化合物、Ｎ−ビニル−ｎ−オクチルアミド
、Ｎ−ビニル−ｎ−デシルアミド、Ｎ−ビニル−ｎ−ドデシルアミド、Ｎ−ビニル−ｎ−
ヘキサデシルアミド等のＮ−ビニルアミド化合物、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−
フェニルマレイミド等のＮ−アルキルマレイミド化合物、フマル酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル
、フマル酸ジ−ｎ−ブチル等のフマル酸ジエステル化合物、塩化ビニル、酢酸ビニル、（
メタ）アクリロニトリル、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニルカルバゾールを例示でき
る。
チレン、１−ビニルナフタレン、２−ビニルナフタレン、９−ビニルアントラセン、１−
ビニルピレンおよびその誘導体等の芳香族ビニル化合物、Ｎ−ｎ−オクチル（メタ）アク
リルアミド、Ｎ−ｎ−デシル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ドデシル（メタ）アクリ
ルアミド、Ｎ−ｎ−ヘキサデシル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−オクタデシル（メタ
）アクリルアミド等の（メタ）アクリルアミド化合物、Ｎ−ビニル−ｎ−オクチルアミド
、Ｎ−ビニル−ｎ−デシルアミド、Ｎ−ビニル−ｎ−ドデシルアミド、Ｎ−ビニル−ｎ−
ヘキサデシルアミド等のＮ−ビニルアミド化合物、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−
フェニルマレイミド等のＮ−アルキルマレイミド化合物、フマル酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル
、フマル酸ジ−ｎ−ブチル等のフマル酸ジエステル化合物、塩化ビニル、酢酸ビニル、（
メタ）アクリロニトリル、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニルカルバゾールを例示でき
る。
さらに、本発明のブロック共重合体は、ブロック（Ａ）または（Ｂ）以外の重合体ブロ
ックを含むことができる。
ブロック（Ａ）または（Ｂ）以外の重合体ブロックを生成するモノマーとしては、前記ブ
ロック単位（ａ）または（ｂ）以外のモノマー単位を生成するモノマーを例示できる。
ックを含むことができる。
ブロック（Ａ）または（Ｂ）以外の重合体ブロックを生成するモノマーとしては、前記ブ
ロック単位（ａ）または（ｂ）以外のモノマー単位を生成するモノマーを例示できる。
本発明のブロック共重合体の数平均分子量（Ｍｎ）は３，０００以上１，０００，００
０以下の範囲にあり、好ましくは４，０００以上５００，０００以下、さらに好ましくは
５，０００以上１００，０００以下である。３，０００未満の場合は細胞培養基材に被覆
しても細胞培養中に基材から培地中に溶出してしまう。また、１，０００，０００を越え
る場合は溶液粘度が高くなり、細胞培養基材への被覆が困難になる。
０以下の範囲にあり、好ましくは４，０００以上５００，０００以下、さらに好ましくは
５，０００以上１００，０００以下である。３，０００未満の場合は細胞培養基材に被覆
しても細胞培養中に基材から培地中に溶出してしまう。また、１，０００，０００を越え
る場合は溶液粘度が高くなり、細胞培養基材への被覆が困難になる。
本発明のブロック共重合体の合成方法としては、特に限定はないが、株式会社エヌ・テ
ィー・エス発行、“ラジカル重合ハンドブック”、ｐ．１６１〜２２５（２０１０）に記
載のリビングラジカル重合技術を用いて、共重合する方法を用いることができる。
ィー・エス発行、“ラジカル重合ハンドブック”、ｐ．１６１〜２２５（２０１０）に記
載のリビングラジカル重合技術を用いて、共重合する方法を用いることができる。
重合するモノマーの順番としては、ブロック単位（ｂ）を生成するモノマーを（共）重
合し、未反応モノマーを除いた後、ブロック単位（ａ）を生成するモノマーを（共）重合
する方法、ブロック単位（ａ）を生成するモノマーを（共）重合し、未反応モノマーを除
いた後、ブロック単位（ｂ）を生成するモノマーを（共）重合する方法、ブロック単位（
ｂ）を生成するモノマーを（共）重合し、未反応モノマーを除いた後、ブロック単位（ａ
）を生成するモノマーを（共）重合し、更に未反応モノマーを除いた後、ブロック単位（
ｂ）を生成するモノマーを（共）重合する方法、ブロック単位（ａ）を生成するモノマー
を（共）重合し、未反応モノマーを除いた後、ブロック単位（ｂ）を生成するモノマーを
（共）重合し、更に未反応モノマーを除いた後、ブロック単位（ａ）を生成するモノマー
を（共）重合する方法、ブロック単位（ｂ）を生成するモノマーを（共）重合し、未反応
モノマーを除いた後、ブロック単位（ａ）を生成するモノマーを（共）重合し、更に未反
応モノマーを除いた後、ブロック単位（ａ）または（ｂ）以外のモノマー単位を生成する
モノマーを（共）重合する方法、ブロック単位（ａ）を生成するモノマーを（共）重合し
、未反応モノマーを除いた後、ブロック単位（ｂ）を生成するモノマーを（共）重合し、
更に未反応モノマーを除いた後、ブロック単位（ａ）または（ｂ）以外のモノマー単位を
生成するモノマーを（共）重合する方法を例示することができる。また例えば、ブロック
単位（ｂ）を生成するモノマーを（共）重合し、未反応モノマーを除かずに、ブロック単
位（ａ）を生成するモノマーを（共）重合したとしても、特に問題はないが、より短時間
での細胞剥離を可能にするという理由から好ましくは未反応モノマーを取り除くことが好
ましい。
合し、未反応モノマーを除いた後、ブロック単位（ａ）を生成するモノマーを（共）重合
する方法、ブロック単位（ａ）を生成するモノマーを（共）重合し、未反応モノマーを除
いた後、ブロック単位（ｂ）を生成するモノマーを（共）重合する方法、ブロック単位（
ｂ）を生成するモノマーを（共）重合し、未反応モノマーを除いた後、ブロック単位（ａ
）を生成するモノマーを（共）重合し、更に未反応モノマーを除いた後、ブロック単位（
ｂ）を生成するモノマーを（共）重合する方法、ブロック単位（ａ）を生成するモノマー
を（共）重合し、未反応モノマーを除いた後、ブロック単位（ｂ）を生成するモノマーを
（共）重合し、更に未反応モノマーを除いた後、ブロック単位（ａ）を生成するモノマー
を（共）重合する方法、ブロック単位（ｂ）を生成するモノマーを（共）重合し、未反応
モノマーを除いた後、ブロック単位（ａ）を生成するモノマーを（共）重合し、更に未反
応モノマーを除いた後、ブロック単位（ａ）または（ｂ）以外のモノマー単位を生成する
モノマーを（共）重合する方法、ブロック単位（ａ）を生成するモノマーを（共）重合し
、未反応モノマーを除いた後、ブロック単位（ｂ）を生成するモノマーを（共）重合し、
更に未反応モノマーを除いた後、ブロック単位（ａ）または（ｂ）以外のモノマー単位を
生成するモノマーを（共）重合する方法を例示することができる。また例えば、ブロック
単位（ｂ）を生成するモノマーを（共）重合し、未反応モノマーを除かずに、ブロック単
位（ａ）を生成するモノマーを（共）重合したとしても、特に問題はないが、より短時間
での細胞剥離を可能にするという理由から好ましくは未反応モノマーを取り除くことが好
ましい。
本発明のブロック共重合体は、例えば各種溶媒に溶解させ、基材に塗布後、乾燥するこ
とによって温度応答性膜を製造することができる。
塗布に用いる溶媒としては残留していても培養細胞に及ぼす影響が小さい、エタノール、
水とエタノールの混合溶媒が好ましく用いられる。
とによって温度応答性膜を製造することができる。
塗布に用いる溶媒としては残留していても培養細胞に及ぼす影響が小さい、エタノール、
水とエタノールの混合溶媒が好ましく用いられる。
基材としては、特に限定はないが、好ましくは各種疎水性ポリマー材料が用いられる。
疎水性ポリマー材料としては、例えば、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル系ポリマー
、ポリジメチルシロキサン等の各種シリコーンゴム、ポリスチレン、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリカーボネート等が挙げられる。また、金属基材、セラミックス基材あるい
はガラス基材にシランカップリング剤で表面処理したものも用いることができる。
疎水性ポリマー材料としては、例えば、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル系ポリマー
、ポリジメチルシロキサン等の各種シリコーンゴム、ポリスチレン、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリカーボネート等が挙げられる。また、金属基材、セラミックス基材あるい
はガラス基材にシランカップリング剤で表面処理したものも用いることができる。
また、基材の形状は、特に限定はないが、例えば、板状、ビーズ状および繊維状の形状
のほか、板状の基材に設けられた穴や溝や突起なども挙げられる。
基材に塗布する方法としては、例えば、はけ塗り、ディップコーティング、スピンコーテ
ィング、バーコーティング、流し塗り、スプレー塗装、ロール塗装、エアーナイフコーテ
ィング、ブレードコーティングなど通常知られている各種の方法を用いることが可能であ
る。
のほか、板状の基材に設けられた穴や溝や突起なども挙げられる。
基材に塗布する方法としては、例えば、はけ塗り、ディップコーティング、スピンコーテ
ィング、バーコーティング、流し塗り、スプレー塗装、ロール塗装、エアーナイフコーテ
ィング、ブレードコーティングなど通常知られている各種の方法を用いることが可能であ
る。
本発明のブロック共重合体は、各種基材に被覆することによって、短時間での細胞剥離
を可能にする細胞培養基材として機能する。
を可能にする細胞培養基材として機能する。
基材への被覆方法としては、特に限定はないが、温度応答性膜を前記塗布及び／または
乾燥する方法に加え、温度応答性膜を化学結合で固定化する方法を用いることができる。
化学結合で固定化する方法としては、特に限定はないが、ブロック共重合体を合成後、化
学固定する方法と、ブロック重合体の合成と同時に固定化する方法を用いることができる
。
乾燥する方法に加え、温度応答性膜を化学結合で固定化する方法を用いることができる。
化学結合で固定化する方法としては、特に限定はないが、ブロック共重合体を合成後、化
学固定する方法と、ブロック重合体の合成と同時に固定化する方法を用いることができる
。
ブロック共重合体を合成後、化学固定する方法としては、特に限定はないが、ブロック
共重合体中に予め特定の官能基を含有するモノマー単位を導入しておき、基材上の特定官
能基と化学結合させる方法、ブロック共重合体を基材に塗布した後、電子線を照射して固
定化する方法、ブロック共重合体の溶液中にラジカル発生剤（ベンゾフェノン等）を添加
しておき、塗布した後、紫外線を照射する方法を例示することができる。
共重合体中に予め特定の官能基を含有するモノマー単位を導入しておき、基材上の特定官
能基と化学結合させる方法、ブロック共重合体を基材に塗布した後、電子線を照射して固
定化する方法、ブロック共重合体の溶液中にラジカル発生剤（ベンゾフェノン等）を添加
しておき、塗布した後、紫外線を照射する方法を例示することができる。
ブロック共重合体中の官能基と基材上の官能基との化学結合で固定化する場合に用いる
官能基の組み合わせとしては、特に限定は無いが、水酸基とアミノ基、メルカプト基とア
ミノ基、メルカプト基とマレイミド基、メルカプト基とメルカプト基、カルボキシル基と
アミノ基、カルボキシル基と水酸基、水酸基と水酸基を例示することができる。
官能基の組み合わせとしては、特に限定は無いが、水酸基とアミノ基、メルカプト基とア
ミノ基、メルカプト基とマレイミド基、メルカプト基とメルカプト基、カルボキシル基と
アミノ基、カルボキシル基と水酸基、水酸基と水酸基を例示することができる。
ブロック共重合体中の官能基と基材上の官能基との反応において、特に限定はないが縮
合試薬または架橋剤を添加することができる。
ブロック重合体の合成と同時に温度応答性膜を固定化する方法としては、表面開始リビン
グラジカル重合技術を用いることができる。
合試薬または架橋剤を添加することができる。
ブロック重合体の合成と同時に温度応答性膜を固定化する方法としては、表面開始リビン
グラジカル重合技術を用いることができる。
表面開始リビングラジカル重合は、ブロック共重合体鎖の起点となる基材表面に、重合
開始剤を化学結合させ、該重合開始剤を始点として、リビングラジカル重合を行うことで
、ブロック共重合体鎖を形成する手法であり、たとえば、特開２００９−５９６５９号公
報や特開２０１０−２１８９８４号公報に記載された方法などを適用することができる。
開始剤を化学結合させ、該重合開始剤を始点として、リビングラジカル重合を行うことで
、ブロック共重合体鎖を形成する手法であり、たとえば、特開２００９−５９６５９号公
報や特開２０１０−２１８９８４号公報に記載された方法などを適用することができる。
表面開始リビングラジカル重合で用いる基材としては、特に限定はないが、鋳鉄、鋼、
ステンレス鋼などの鉄や鉄合金、アルミニウム、銅などの非鉄及び非鉄合金、さらには、
シリコンウエハ、ガラス、石英などの非金属などを用いることができる。本発明において
重合開始剤は、ブロック共重合体を、表面開始リビングラジカル重合で形成するために必
要となる。またその基材表面には化学結合可能な材料として、具体的には、シリコンウエ
ハ、雲母の剥離片などの劈開性の鉱物、表面上に水酸基などの反応性置換基が存在する平
面基材などが好ましく用いられるがこの限りではない。
ステンレス鋼などの鉄や鉄合金、アルミニウム、銅などの非鉄及び非鉄合金、さらには、
シリコンウエハ、ガラス、石英などの非金属などを用いることができる。本発明において
重合開始剤は、ブロック共重合体を、表面開始リビングラジカル重合で形成するために必
要となる。またその基材表面には化学結合可能な材料として、具体的には、シリコンウエ
ハ、雲母の剥離片などの劈開性の鉱物、表面上に水酸基などの反応性置換基が存在する平
面基材などが好ましく用いられるがこの限りではない。
重合開始剤としては、特に限定されないが、基材に化学結合可能な基と、ラジカル発生
基とを有する化合物が好ましく、たとえば、特開２０１０−２１８９８４号公報に開示さ
れている重合開始剤、すなわち、ＴＥＭＰＯ系、ＡＴＲＰ系、ＲＡＦＴ系、ＲＴＣＰ系の
重合開始剤を用いることができる。これらのなかでも、ＴＥＭＰＯ系、ＲＡＦＴ系、ＲＴ
ＣＰ系の重合開始剤がより好ましい。また、ＴＥＭＰＯ系の重合開始剤の中では、特にＤ
ＥＰＮ系の重合開始剤が好ましい。なお、基材に化学結合可能な基としては、たとえば、
−ＳｉＣｌ３、−Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２、−Ｓｉ（ＣＨ３） ２Ｃｌ、−Ｓｉ（ＯＲ）３
（これらの式中、Ｒはメチル、エチル、プロピルまたはブチルを示す。）などが挙げられ
る。
基とを有する化合物が好ましく、たとえば、特開２０１０−２１８９８４号公報に開示さ
れている重合開始剤、すなわち、ＴＥＭＰＯ系、ＡＴＲＰ系、ＲＡＦＴ系、ＲＴＣＰ系の
重合開始剤を用いることができる。これらのなかでも、ＴＥＭＰＯ系、ＲＡＦＴ系、ＲＴ
ＣＰ系の重合開始剤がより好ましい。また、ＴＥＭＰＯ系の重合開始剤の中では、特にＤ
ＥＰＮ系の重合開始剤が好ましい。なお、基材に化学結合可能な基としては、たとえば、
−ＳｉＣｌ３、−Ｓｉ（ＣＨ３）Ｃｌ２、−Ｓｉ（ＣＨ３） ２Ｃｌ、−Ｓｉ（ＯＲ）３
（これらの式中、Ｒはメチル、エチル、プロピルまたはブチルを示す。）などが挙げられ
る。
基材表面に上記重合開始剤を化学結合させる方法としては、特に限定されないが、重合
開始剤を溶剤に溶解あるいは分散することで、重合開始剤溶液を調製し、調製した重合開
始剤溶液中に基材を浸漬する方法などが挙げられる。
開始剤を溶剤に溶解あるいは分散することで、重合開始剤溶液を調製し、調製した重合開
始剤溶液中に基材を浸漬する方法などが挙げられる。
重合開始剤を化学結合させた基材を、モノマーを含有する重合反応溶液に浸漬し、必要
に応じて加熱することで、基材表面に、ブロック共重合体鎖を形成することができる。な
お、重合反応溶液には、モノマーの他、各種ラジカル開始剤や、溶剤など重合反応に必要
な成分を含有させることができる。
に応じて加熱することで、基材表面に、ブロック共重合体鎖を形成することができる。な
お、重合反応溶液には、モノマーの他、各種ラジカル開始剤や、溶剤など重合反応に必要
な成分を含有させることができる。
本発明のブロック共重合体が被覆された基材を用いて培養される細胞としては、温度降
下による刺激付与前の表面に接着可能なものであれば特に限定されるものではない。例え
ばチャイニーズハムスター卵巣由来ＣＨＯ細胞やマウス結合組織Ｌ９２９細胞、ヒト胎児
腎臓由来細胞ＨＥＫ２９３細胞やヒト子宮頸癌由来ＨｅＬａ細胞等の種々の培養細胞株に
加え、例えば生体内の各組織、臓器を構成する上皮細胞や内皮細胞、収縮性を示す骨格筋
細胞、平滑筋細胞、心筋細胞、神経系を構成するニューロン細胞、グリア細胞、繊維芽細
胞、生体の代謝に関与する肝実質細胞、肝非実質細胞や脂肪細胞、分化能を有する細胞と
して、種々の組織に存在する幹細胞、さらにはそれらから分化誘導した細胞等を用いるこ
とができる。これら以外でも、血液、リンパ液、髄液、喀痰、尿又は便に含まれる細胞（
生細胞）や、体内あるいは環境中に存在する微生物、ウイルス、原虫等を例示できる。
下による刺激付与前の表面に接着可能なものであれば特に限定されるものではない。例え
ばチャイニーズハムスター卵巣由来ＣＨＯ細胞やマウス結合組織Ｌ９２９細胞、ヒト胎児
腎臓由来細胞ＨＥＫ２９３細胞やヒト子宮頸癌由来ＨｅＬａ細胞等の種々の培養細胞株に
加え、例えば生体内の各組織、臓器を構成する上皮細胞や内皮細胞、収縮性を示す骨格筋
細胞、平滑筋細胞、心筋細胞、神経系を構成するニューロン細胞、グリア細胞、繊維芽細
胞、生体の代謝に関与する肝実質細胞、肝非実質細胞や脂肪細胞、分化能を有する細胞と
して、種々の組織に存在する幹細胞、さらにはそれらから分化誘導した細胞等を用いるこ
とができる。これら以外でも、血液、リンパ液、髄液、喀痰、尿又は便に含まれる細胞（
生細胞）や、体内あるいは環境中に存在する微生物、ウイルス、原虫等を例示できる。
以下に本発明の実施例を説明するが、本発明はこれら実施例によりなんら制限されるも
のではない。なお、断りのない限り、試薬は市販品を用いた。
のではない。なお、断りのない限り、試薬は市販品を用いた。
＜本ポリマーの組成＞
核磁気共鳴測定装置（日本電子製、商品名ＪＮＭ−ＧＸ２７０）を用いたプロトン核磁気
共鳴分光（１Ｈ−ＮＭＲ）スペクトル分析、およびフーリエ変換赤外分光光度計（ＦＴ−
ＩＲ）（Ｐｅｒｋｉｎ Ｅｌｍｅｒ社製、商品名ＳＰＥＣＴＲＵＭ ＯＮＥ）より求めた
。
核磁気共鳴測定装置（日本電子製、商品名ＪＮＭ−ＧＸ２７０）を用いたプロトン核磁気
共鳴分光（１Ｈ−ＮＭＲ）スペクトル分析、およびフーリエ変換赤外分光光度計（ＦＴ−
ＩＲ）（Ｐｅｒｋｉｎ Ｅｌｍｅｒ社製、商品名ＳＰＥＣＴＲＵＭ ＯＮＥ）より求めた
。
＜樹脂の物性＞
重量平均分子量（Ｍｗ）、数平均分子量（Ｍｎ）および重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均
分子量の比（Ｍｗ／Ｍｎ）は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）
によって測定した。ＧＰＣ装置としては東ソー（株）製 ＨＬＣ−８１２０ＧＰＣを用い
、カラムとしては、東ソー製 ＴＳＫｇｅｌ α−Ｍを用い、カラム温度を４０℃に設定
し、溶離液として１０ｍＭ−ＬｉＢｒ メタノール／水溶液（メタノール：水＝７０ｖｏ
ｌ％：３０ｖｏｌ％）を用いて測定した。測定試料は２．０ｍｇ／ｍＬで調製し、０．１
ｍＬ注入して測定した。分子量の検量線は、分子量既知のポリエチレンオキサイド試料を
用いて校正した。なお、ＭｎとＭｗはポリエチレンオキサイド換算の値として求めた。
＜基材表面の対水接触角＞
水中、４０℃および２０℃での気泡接触角（θ）（°）を測定し、４０℃および２０℃の対水接触角（１８０−θ）（°）を算出した。θは協和界面科学（株）製接触角計ＤＭ３００を用いて、水中、３μＬの気泡の接触角を測定した。
重量平均分子量（Ｍｗ）、数平均分子量（Ｍｎ）および重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均
分子量の比（Ｍｗ／Ｍｎ）は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）
によって測定した。ＧＰＣ装置としては東ソー（株）製 ＨＬＣ−８１２０ＧＰＣを用い
、カラムとしては、東ソー製 ＴＳＫｇｅｌ α−Ｍを用い、カラム温度を４０℃に設定
し、溶離液として１０ｍＭ−ＬｉＢｒ メタノール／水溶液（メタノール：水＝７０ｖｏ
ｌ％：３０ｖｏｌ％）を用いて測定した。測定試料は２．０ｍｇ／ｍＬで調製し、０．１
ｍＬ注入して測定した。分子量の検量線は、分子量既知のポリエチレンオキサイド試料を
用いて校正した。なお、ＭｎとＭｗはポリエチレンオキサイド換算の値として求めた。
＜基材表面の対水接触角＞
水中、４０℃および２０℃での気泡接触角（θ）（°）を測定し、４０℃および２０℃の対水接触角（１８０−θ）（°）を算出した。θは協和界面科学（株）製接触角計ＤＭ３００を用いて、水中、３μＬの気泡の接触角を測定した。
実施例１
［ガラス製シャーレ表面への重合開始剤の導入］
固定化開始剤としての３−（３−（トリエトキシシリル）プロピルチオ）プロピル−２−
ブロモ−２−メチルプロパネート０．５ｇ、エタノール５０ｇ、およびアンモニア２．８
ｇを混合した溶液に、φ２５ｍｍガラス製シャーレを浸漬し、２４時間静置した。その後
、エタノールで洗浄・乾燥を行うことで、表面に重合開始剤が導入されたシャーレを得た
。
［ガラス製シャーレ表面への重合開始剤の導入］
固定化開始剤としての３−（３−（トリエトキシシリル）プロピルチオ）プロピル−２−
ブロモ−２−メチルプロパネート０．５ｇ、エタノール５０ｇ、およびアンモニア２．８
ｇを混合した溶液に、φ２５ｍｍガラス製シャーレを浸漬し、２４時間静置した。その後
、エタノールで洗浄・乾燥を行うことで、表面に重合開始剤が導入されたシャーレを得た
。
［重合体ブロック（Ｂ）の合成］
１００ｍＬの２口ナス型フラスコ中において、窒素ガス雰囲気下で、２−メタクリロイル
オキシエチルホスホリルコリンを２．０ｇ、塩化銅（Ｉ）１８．５ｍｇ、塩化銅（ＩＩ）
２．８ｍｇ、およびビピリジル６５ｍｇを、エタノール１０ｇに溶解することで、重合反
応溶液を調製した。
１００ｍＬの２口ナス型フラスコ中において、窒素ガス雰囲気下で、２−メタクリロイル
オキシエチルホスホリルコリンを２．０ｇ、塩化銅（Ｉ）１８．５ｍｇ、塩化銅（ＩＩ）
２．８ｍｇ、およびビピリジル６５ｍｇを、エタノール１０ｇに溶解することで、重合反
応溶液を調製した。
次いで、上記にて製造した表面に重合開始剤が導入されたガラス製シャーレを、上記に
て調製した重合反応溶液に浸漬させ、６５℃に加熱し、撹拌することで反応を開始した。
反応時間は６時間とし、反応終了後エタノールにて洗浄を行うことで、表面に２−メタク
リロイルオキシエチルホスホリルコリン重合体ブロック（Ｂ）が導入されたガラス製シャ
ーレを得た。
て調製した重合反応溶液に浸漬させ、６５℃に加熱し、撹拌することで反応を開始した。
反応時間は６時間とし、反応終了後エタノールにて洗浄を行うことで、表面に２−メタク
リロイルオキシエチルホスホリルコリン重合体ブロック（Ｂ）が導入されたガラス製シャ
ーレを得た。
［ブロック共重合体の合成］
１００ｍＬの２口ナス型フラスコ中において、窒素ガス雰囲気下で、Ｎ−イソプロピルア
クリルアミド１．２ｇ、塩化銅（Ｉ）１８．５ｍｇ、塩化銅（ＩＩ）２．８ｍｇ、および
ビピリジル６５ｍｇを、エタノール１０ｇに溶解することで、重合反応溶液を調製した。
１００ｍＬの２口ナス型フラスコ中において、窒素ガス雰囲気下で、Ｎ−イソプロピルア
クリルアミド１．２ｇ、塩化銅（Ｉ）１８．５ｍｇ、塩化銅（ＩＩ）２．８ｍｇ、および
ビピリジル６５ｍｇを、エタノール１０ｇに溶解することで、重合反応溶液を調製した。
次いで、上記にて製造した表面に２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン重
合体ブロック（Ｂ）が導入されたガラス製シャーレを、上記にて調製した重合反応溶液に
浸漬させ、６５℃に加熱し、撹拌することで反応を開始した。反応時間は６時間とし、反
応終了後エタノールにて洗浄を行うことで、表面にブロック共重合体が導入されたガラス
製シャーレを得た。水中、４０℃および２０℃で気泡接触角（θ）を評価し求めた対水接
触角（１８０−θ）を表１に示す。２０℃での対水接触角は４０°よりも低く、培養基材
にした場合に短時間で細胞が剥離する。
得られたシャーレを硫酸処理して、ブロック共重合体を単離し、ポリマー組成、Ｍｗ、Ｍ
ｎ、およびＭｗ／Ｍｎを評価した結果を表１に示す。
合体ブロック（Ｂ）が導入されたガラス製シャーレを、上記にて調製した重合反応溶液に
浸漬させ、６５℃に加熱し、撹拌することで反応を開始した。反応時間は６時間とし、反
応終了後エタノールにて洗浄を行うことで、表面にブロック共重合体が導入されたガラス
製シャーレを得た。水中、４０℃および２０℃で気泡接触角（θ）を評価し求めた対水接
触角（１８０−θ）を表１に示す。２０℃での対水接触角は４０°よりも低く、培養基材
にした場合に短時間で細胞が剥離する。
得られたシャーレを硫酸処理して、ブロック共重合体を単離し、ポリマー組成、Ｍｗ、Ｍ
ｎ、およびＭｗ／Ｍｎを評価した結果を表１に示す。
実施例２
［重合体ブロック（Ｂ）の合成］
反応時間を４８時間としたこと以外は実施例１［重合体ブロック（Ｂ）の合成］と同様の
方法で合成を行い、表面に２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン重合体ブロ
ック（Ｂ）が導入されたガラス製シャーレを得た。
［重合体ブロック（Ｂ）の合成］
反応時間を４８時間としたこと以外は実施例１［重合体ブロック（Ｂ）の合成］と同様の
方法で合成を行い、表面に２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン重合体ブロ
ック（Ｂ）が導入されたガラス製シャーレを得た。
［ブロック共重合体の合成］
上記重合体ブロック（Ｂ）を用い、反応時間を４８時間としたこと以外は実施例１［ブ
ロック共重合体の合成］と同様の方法で合成を行い、表面にブロック共重合体が導入され
たガラス製シャーレを得た。水中、４０℃および２０℃で気泡接触角（θ）を評価し求め
た対水接触角（１８０−θ）を表１に示す。２０℃での対水接触角は４０°よりも低く、
培養基材にした場合に短時間で細胞が剥離する。
上記重合体ブロック（Ｂ）を用い、反応時間を４８時間としたこと以外は実施例１［ブ
ロック共重合体の合成］と同様の方法で合成を行い、表面にブロック共重合体が導入され
たガラス製シャーレを得た。水中、４０℃および２０℃で気泡接触角（θ）を評価し求め
た対水接触角（１８０−θ）を表１に示す。２０℃での対水接触角は４０°よりも低く、
培養基材にした場合に短時間で細胞が剥離する。
得られたシャーレを硫酸処理して、ブロック共重合体を単離し、ポリマー組成、Ｍｗ、
Ｍｎ、およびＭｗ／Ｍｎを評価した結果を表１に示す。
Ｍｎ、およびＭｗ／Ｍｎを評価した結果を表１に示す。
実施例３
［ブロック共重合体の合成］
実施例１［重合体ブロック（Ｂ）の合成］で合成した、表面に２−メタクリロイルオキ
シエチルホスホリルコリン重合体ブロック（Ｂ）が導入されたガラス製シャーレを用い、
Ｎ−イソプロピルアクリルアミド１．２ｇの代わりに１−（１−オキソ−２−プロペニル
）ピロリジン１．２ｇを用いたこと以外は、実施例１［ブロック共重合体の合成］と同様
の方法で合成を行い、表面にブロック共重合体が導入されたガラス製シャーレを得た。水
中、４０℃および２０℃で気泡接触角（θ）を評価し求めた対水接触角（１８０−θ）を
表１に示す。２０℃での対水接触角は４０°よりも低く、培養基材にした場合に短時間で
細胞が剥離する。
［ブロック共重合体の合成］
実施例１［重合体ブロック（Ｂ）の合成］で合成した、表面に２−メタクリロイルオキ
シエチルホスホリルコリン重合体ブロック（Ｂ）が導入されたガラス製シャーレを用い、
Ｎ−イソプロピルアクリルアミド１．２ｇの代わりに１−（１−オキソ−２−プロペニル
）ピロリジン１．２ｇを用いたこと以外は、実施例１［ブロック共重合体の合成］と同様
の方法で合成を行い、表面にブロック共重合体が導入されたガラス製シャーレを得た。水
中、４０℃および２０℃で気泡接触角（θ）を評価し求めた対水接触角（１８０−θ）を
表１に示す。２０℃での対水接触角は４０°よりも低く、培養基材にした場合に短時間で
細胞が剥離する。
得られたシャーレを硫酸処理して、ブロック共重合体を単離し、ポリマー組成、Ｍｗ、
Ｍｎ、およびＭｗ／Ｍｎを評価した結果を表１に示す。
Ｍｎ、およびＭｗ／Ｍｎを評価した結果を表１に示す。
実施例４
［ブロック共重合体の合成］
実施例１［重合体ブロック（Ｂ）の合成］で合成した、表面に２−メタクリロイルオキ
シエチルホスホリルコリン重合体ブロック（Ｂ）が導入されたガラス製シャーレを用い、
Ｎ−イソプロピルアクリルアミド１．２ｇの代わりに１−（１−オキソ−２−プロペニル
）ピペリジン１．２ｇを用いたこと以外は、実施例１［ブロック共重合体の合成］と同様
の方法で合成を行い、表面にブロック共重合体が導入されたガラス製シャーレを得た。水
中、４０℃および２０℃で気泡接触角（θ）を評価し求めた対水接触角（１８０−θ）を
表１に示す。２０℃での対水接触角は４０°よりも低く、培養基材にした場合に短時間で
細胞が剥離する。
［ブロック共重合体の合成］
実施例１［重合体ブロック（Ｂ）の合成］で合成した、表面に２−メタクリロイルオキ
シエチルホスホリルコリン重合体ブロック（Ｂ）が導入されたガラス製シャーレを用い、
Ｎ−イソプロピルアクリルアミド１．２ｇの代わりに１−（１−オキソ−２−プロペニル
）ピペリジン１．２ｇを用いたこと以外は、実施例１［ブロック共重合体の合成］と同様
の方法で合成を行い、表面にブロック共重合体が導入されたガラス製シャーレを得た。水
中、４０℃および２０℃で気泡接触角（θ）を評価し求めた対水接触角（１８０−θ）を
表１に示す。２０℃での対水接触角は４０°よりも低く、培養基材にした場合に短時間で
細胞が剥離する。
得られたシャーレを硫酸処理して、ブロック共重合体を単離し、ポリマー組成、Ｍｗ、
Ｍｎ、およびＭｗ／Ｍｎを評価した結果を表１に示す。
Ｍｎ、およびＭｗ／Ｍｎを評価した結果を表１に示す。
実施例５
［ブロック共重合体の合成］
実施例１［重合体ブロック（Ｂ）の合成］で合成した、表面に２−メタクリロイルオキ
シエチルホスホリルコリン重合体ブロック（Ｂ）が導入されたガラス製シャーレを用い、
Ｎ−イソプロピルアクリルアミド１．２ｇの代わりに４−（１−オキソ−２−プロペニル
）モルホリン１．２ｇを用いたこと以外は、実施例１［ブロック共重合体の合成］と同様
の方法で合成を行い、表面にブロック共重合体が導入されたガラス製シャーレを得た。水
中、４０℃および２０℃で気泡接触角（θ）を評価し求めた対水接触角（１８０−θ）を
表１に示す。２０℃での対水接触角は４０°よりも低く、培養基材にした場合に短時間で
細胞が剥離する。
［ブロック共重合体の合成］
実施例１［重合体ブロック（Ｂ）の合成］で合成した、表面に２−メタクリロイルオキ
シエチルホスホリルコリン重合体ブロック（Ｂ）が導入されたガラス製シャーレを用い、
Ｎ−イソプロピルアクリルアミド１．２ｇの代わりに４−（１−オキソ−２−プロペニル
）モルホリン１．２ｇを用いたこと以外は、実施例１［ブロック共重合体の合成］と同様
の方法で合成を行い、表面にブロック共重合体が導入されたガラス製シャーレを得た。水
中、４０℃および２０℃で気泡接触角（θ）を評価し求めた対水接触角（１８０−θ）を
表１に示す。２０℃での対水接触角は４０°よりも低く、培養基材にした場合に短時間で
細胞が剥離する。
得られたシャーレを硫酸処理して、ブロック共重合体を単離し、ポリマー組成、Ｍｗ、
Ｍｎ、およびＭｗ／Ｍｎを評価した結果を表１に示す。
Ｍｎ、およびＭｗ／Ｍｎを評価した結果を表１に示す。
実施例６
［ブロック共重合体の合成］
実施例１［重合体ブロック（Ｂ）の合成］で合成した、表面に２−メタクリロイルオキ
シエチルホスホリルコリン重合体ブロック（Ｂ）が導入されたガラス製シャーレを用い、
Ｎ−イソプロピルアクリルアミド１．２ｇの代わりにＮ−ｎ−プロピルメタクリルアミド
１．２ｇを用いたこと以外は、実施例１［ブロック共重合体の合成］と同様の方法で合成
を行い、表面にブロック共重合体が導入されたガラス製シャーレを得た。水中、４０℃お
よび２０℃で気泡接触角（θ）を評価し求めた対水接触角（１８０−θ）を表１に示す。
２０℃での対水接触角は４０°よりも低く、培養基材にした場合に短時間で細胞が剥離す
る。
［ブロック共重合体の合成］
実施例１［重合体ブロック（Ｂ）の合成］で合成した、表面に２−メタクリロイルオキ
シエチルホスホリルコリン重合体ブロック（Ｂ）が導入されたガラス製シャーレを用い、
Ｎ−イソプロピルアクリルアミド１．２ｇの代わりにＮ−ｎ−プロピルメタクリルアミド
１．２ｇを用いたこと以外は、実施例１［ブロック共重合体の合成］と同様の方法で合成
を行い、表面にブロック共重合体が導入されたガラス製シャーレを得た。水中、４０℃お
よび２０℃で気泡接触角（θ）を評価し求めた対水接触角（１８０−θ）を表１に示す。
２０℃での対水接触角は４０°よりも低く、培養基材にした場合に短時間で細胞が剥離す
る。
得られたシャーレを硫酸処理して、ブロック共重合体を単離し、ポリマー組成、Ｍｗ、
Ｍｎ、およびＭｗ／Ｍｎを評価した結果を表１に示す。
Ｍｎ、およびＭｗ／Ｍｎを評価した結果を表１に示す。
実施例７
［重合体ブロック（Ｂ）の合成］
２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン２．０ｇを３−メタクリロイルオキ
シプロピルホスホリルコリン２．１ｇに変更したこと以外は、実施例１［重合体ブロック
（Ｂ）の合成］と同様の方法で合成を行い、表面に３−メタクリロイルオキシプロピルホ
スホリルコリン重合体のブロック（Ｂ）が導入されたシャーレを得た。
［重合体ブロック（Ｂ）の合成］
２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン２．０ｇを３−メタクリロイルオキ
シプロピルホスホリルコリン２．１ｇに変更したこと以外は、実施例１［重合体ブロック
（Ｂ）の合成］と同様の方法で合成を行い、表面に３−メタクリロイルオキシプロピルホ
スホリルコリン重合体のブロック（Ｂ）が導入されたシャーレを得た。
［ブロック共重合体の合成］
上記で合成した、表面に３−メタクリロイルオキシプロピルホスホリルコリン重合体ブロ
ック（Ｂ）が導入されたガラス製シャーレを用い、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド１．
２ｇの代わりにＮ−エトキシエチルアクリルアミド１．２ｇを用いたこと以外は、実施例
１［ブロック共重合体の合成］と同様の方法で合成を行い、表面にブロック共重合体が導
入されたガラス製シャーレを得た。水中、４０℃および２０℃で気泡接触角（θ）を評価
し求めた対水接触角（１８０−θ）を表１に示す。２０℃での対水接触角は４０°よりも
低く、培養基材にした場合に短時間で細胞が剥離する。
上記で合成した、表面に３−メタクリロイルオキシプロピルホスホリルコリン重合体ブロ
ック（Ｂ）が導入されたガラス製シャーレを用い、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド１．
２ｇの代わりにＮ−エトキシエチルアクリルアミド１．２ｇを用いたこと以外は、実施例
１［ブロック共重合体の合成］と同様の方法で合成を行い、表面にブロック共重合体が導
入されたガラス製シャーレを得た。水中、４０℃および２０℃で気泡接触角（θ）を評価
し求めた対水接触角（１８０−θ）を表１に示す。２０℃での対水接触角は４０°よりも
低く、培養基材にした場合に短時間で細胞が剥離する。
得られたシャーレを硫酸処理して、ブロック共重合体を単離し、ポリマー組成、Ｍｗ、
Ｍｎ、およびＭｗ／Ｍｎを評価した結果を表１に示す。
Ｍｎ、およびＭｗ／Ｍｎを評価した結果を表１に示す。
実施例８
［重合体ブロック（Ｂ）の合成］
２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン２．０ｇを３−メタクリロイルオキシ
ブチルホスホリルコリン２．２ｇに変更したこと以外は、実施例１［重合体ブロック（Ｂ
）の合成］と同様の方法で合成を行い、表面に３−メタクリロイルオキシブチルホスホリ
ルコリン重合体のブロック（Ｂ）が導入されたシャーレを得た。
［重合体ブロック（Ｂ）の合成］
２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン２．０ｇを３−メタクリロイルオキシ
ブチルホスホリルコリン２．２ｇに変更したこと以外は、実施例１［重合体ブロック（Ｂ
）の合成］と同様の方法で合成を行い、表面に３−メタクリロイルオキシブチルホスホリ
ルコリン重合体のブロック（Ｂ）が導入されたシャーレを得た。
［ブロック共重合体の合成］
実施例１［重合体ブロック（Ｂ）の合成］で合成した、表面に２−メタクリロイルオキシ
ブチルホスホリルコリン重合体ブロック（Ｂ）が導入されたガラス製シャーレを用い、Ｎ
−イソプロピルアクリルアミド１．２ｇの代わりにＮ−テトラヒドロフルフリルアクリル
アミド１．２ｇを用いたこと以外は、実施例１［ブロック共重合体の合成］と同様の方法
で合成を行い、表面にブロック共重合体が導入されたガラス製シャーレを得た。水中、４
０℃および２０℃で気泡接触角（θ）を評価し求めた対水接触角（１８０−θ）を表１に
示す。２０℃での対水接触角は４０°よりも低く、培養基材にした場合に短時間で細胞が
剥離する。
実施例１［重合体ブロック（Ｂ）の合成］で合成した、表面に２−メタクリロイルオキシ
ブチルホスホリルコリン重合体ブロック（Ｂ）が導入されたガラス製シャーレを用い、Ｎ
−イソプロピルアクリルアミド１．２ｇの代わりにＮ−テトラヒドロフルフリルアクリル
アミド１．２ｇを用いたこと以外は、実施例１［ブロック共重合体の合成］と同様の方法
で合成を行い、表面にブロック共重合体が導入されたガラス製シャーレを得た。水中、４
０℃および２０℃で気泡接触角（θ）を評価し求めた対水接触角（１８０−θ）を表１に
示す。２０℃での対水接触角は４０°よりも低く、培養基材にした場合に短時間で細胞が
剥離する。
得られたシャーレを硫酸処理して、ブロック共重合体を単離し、ポリマー組成、Ｍｗ、
Ｍｎ、およびＭｗ／Ｍｎを評価した結果を表１に示す。
Ｍｎ、およびＭｗ／Ｍｎを評価した結果を表１に示す。
実施例９
［重合体ブロック（Ｂ）の合成］
１００ｍＬの２口ナス型フラスコに２−アクリルアミドエチルホスホリルコリンを１．
０ｇ、スチレン１．３ｇ、ＲＡＦＴ剤として４−シアノ−４−［（ドデシルスルフォニル
チオカルボニル）スルフォニル］ペンタノイックアシッド７ｍｇ、アゾビスイソブチルニトリル１ｍｇを加え、１，４−ジオキサン／エタノール＝１：１混合溶液１
０ｍＬに溶解した。窒素バブリングを３０分行った後、６５℃で１２時間反応させた。反
応後ジエチルエーテルで再沈し、２−アクリルアミドエチルホスホリルコリンとスチレン
のランダム共重合体ブロック（Ｂ）を得た。
［重合体ブロック（Ｂ）の合成］
１００ｍＬの２口ナス型フラスコに２−アクリルアミドエチルホスホリルコリンを１．
０ｇ、スチレン１．３ｇ、ＲＡＦＴ剤として４−シアノ−４−［（ドデシルスルフォニル
チオカルボニル）スルフォニル］ペンタノイックアシッド７ｍｇ、アゾビスイソブチルニトリル１ｍｇを加え、１，４−ジオキサン／エタノール＝１：１混合溶液１
０ｍＬに溶解した。窒素バブリングを３０分行った後、６５℃で１２時間反応させた。反
応後ジエチルエーテルで再沈し、２−アクリルアミドエチルホスホリルコリンとスチレン
のランダム共重合体ブロック（Ｂ）を得た。
［ブロック共重合体の合成］
１００ｍＬの２口ナス型フラスコに上記ランダム共重合体ブロック（Ｂ）１．２ｇ、Ｎ−
イソプロピルアクリルアミド１．２ｇ、アゾビスイソブチルニトリル０．００４ｇを加え
、１，４−ジオキサン／エタノール＝１：２混合溶液１５ｍＬに溶解した。窒素バブリン
グを３０分行った後、６５℃で１２時間反応させた。反応後ヘキサンで再沈し、ブロック
共重合体を得た。
１００ｍＬの２口ナス型フラスコに上記ランダム共重合体ブロック（Ｂ）１．２ｇ、Ｎ−
イソプロピルアクリルアミド１．２ｇ、アゾビスイソブチルニトリル０．００４ｇを加え
、１，４−ジオキサン／エタノール＝１：２混合溶液１５ｍＬに溶解した。窒素バブリン
グを３０分行った後、６５℃で１２時間反応させた。反応後ヘキサンで再沈し、ブロック
共重合体を得た。
得られたブロック共重合体のポリマー組成、Ｍｗ、Ｍｎ、およびＭｗ／Ｍｎを評価した
結果を表１に示す。
結果を表１に示す。
［基材評価］
得られたブロック共重合体０．１０ｇをエタノール４９．９０ｇに溶解し、ブロック共重
合体の０．２ｗｔ％エタノール溶液を作成した。φ２５ｍｍガラス製シャーレにブロック
共重合体の０．２ｗｔ％エタノール溶液を２．５ｍＬ加え、３０分間静置した。その後ブ
ロック共重合体の０．２ｗｔ％エタノール溶液をピペットで抜き取り、デシケータで乾燥
することでφ２５ｍｍガラス製シャーレへのブロック共重合体コーティングを完了した。
水中、４０℃および２０℃で気泡接触角（θ）を評価し求めた対水接触角（１８０−θ）
を表１に示す。２０℃での対水接触角は４０°よりも低く、培養基材にした場合に短時間
で細胞が剥離する。
得られたブロック共重合体０．１０ｇをエタノール４９．９０ｇに溶解し、ブロック共重
合体の０．２ｗｔ％エタノール溶液を作成した。φ２５ｍｍガラス製シャーレにブロック
共重合体の０．２ｗｔ％エタノール溶液を２．５ｍＬ加え、３０分間静置した。その後ブ
ロック共重合体の０．２ｗｔ％エタノール溶液をピペットで抜き取り、デシケータで乾燥
することでφ２５ｍｍガラス製シャーレへのブロック共重合体コーティングを完了した。
水中、４０℃および２０℃で気泡接触角（θ）を評価し求めた対水接触角（１８０−θ）
を表１に示す。２０℃での対水接触角は４０°よりも低く、培養基材にした場合に短時間
で細胞が剥離する。
実施例１０
［重合体ブロック（Ｂ）の合成］
［重合体ブロック（Ｂ）の合成］
１００ｍＬの２口ナス型フラスコに２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリンを１．５ｇ、スチレン１．３ｇ、ＲＡＦＴ剤として４−シアノ−４−［（ドデシルスルフォニルチオカルボニル）スルフォニル］ペンタノイックアシッド６ｍｇ、アゾビスイソブチロニトリル１ｍｇを加え、１，４−ジオキサン／エタノール＝１：１混合溶液１０ｍＬに溶解した。窒素バブリングを３０分行った後、６５℃で７２時間反応させた。反応後アセトンで再沈し、２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリンとスチレンのランダム共重合体ブロック（Ｂ）を得た。
［ブロック共重合体の合成］
１００ｍＬの２口ナス型フラスコに上記ランダム共重合体ブロック（Ｂ）０．８ｇ、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド０．９ｇ、アゾビスイソブチロニトリル３ｍｇを加え、１，４−ジオキサン／エタノール＝１：１混合溶液１０ｍＬに溶解した。窒素バブリングを３０分行った後、６５℃で２４時間反応させた。反応後ヘキサンで再沈し、ブロック共重合体を得た。
得られたブロック共重合体のポリマー組成、Ｍｗ、Ｍｎ、およびＭｗ／Ｍｎを評価した結果を表１に示す。
［重合体ブロック（Ｂ）の合成］
［重合体ブロック（Ｂ）の合成］
１００ｍＬの２口ナス型フラスコに２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリンを１．５ｇ、スチレン１．３ｇ、ＲＡＦＴ剤として４−シアノ−４−［（ドデシルスルフォニルチオカルボニル）スルフォニル］ペンタノイックアシッド６ｍｇ、アゾビスイソブチロニトリル１ｍｇを加え、１，４−ジオキサン／エタノール＝１：１混合溶液１０ｍＬに溶解した。窒素バブリングを３０分行った後、６５℃で７２時間反応させた。反応後アセトンで再沈し、２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリンとスチレンのランダム共重合体ブロック（Ｂ）を得た。
［ブロック共重合体の合成］
１００ｍＬの２口ナス型フラスコに上記ランダム共重合体ブロック（Ｂ）０．８ｇ、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド０．９ｇ、アゾビスイソブチロニトリル３ｍｇを加え、１，４−ジオキサン／エタノール＝１：１混合溶液１０ｍＬに溶解した。窒素バブリングを３０分行った後、６５℃で２４時間反応させた。反応後ヘキサンで再沈し、ブロック共重合体を得た。
得られたブロック共重合体のポリマー組成、Ｍｗ、Ｍｎ、およびＭｗ／Ｍｎを評価した結果を表１に示す。
［基材評価］
上記ブロック共重合体０．０１ｇをエタノール４．９９ｇに溶解し、ブロック共重合体の０．２ｗｔ％エタノール溶液を作製した。 さらに、０．２ｗｔ％エタノール溶液１ｍＬとエタノール９ｍＬを混合し、０．０２ｗｔ％エタノール溶液を調製した。コーニング社製直径３５ｍｍ細胞培養表面処理ディッシュ（Ｎｏ．４３０１６５）に０．０２ｗｔ％エタノール溶液を０．４４ｍＬ加え、室温で乾燥した。さらに、減圧乾燥を６時間行い、直径３５ｍｍディッシュへのブロック共重合体コーティングを完了した。水中、４０℃および２０℃で気泡接触角（θ）を評価し求めた対水接触角（１８０−θ）を表１に示す。２０℃での対水接触角は４０°よりも低く、培養基材にした場合に短時間で細胞が剥離する。
比較例１
［重合体ブロック（Ａ）の合成］
１００ｍＬの２口ナス型フラスコにｎ−ブチルメタクリレート２．２４０ｇ、ＲＡＦＴ剤
として４−シアノ−４−［（ドデシルスルフォニルチオカルボニル）スルフォニル］ペン
タノイックアシッド０．０７３ｇ、アゾビスイソブチルニトリル０．００４ｇを加え、１
，４−ジオキサン１０ｍＬに溶解した。窒素バブリングを３０分行った後、６５℃で１２
時間反応させた。反応後、メタノールで再沈し、ｎ−ブチルメタクリレートの重合体を得
た。
上記ブロック共重合体０．０１ｇをエタノール４．９９ｇに溶解し、ブロック共重合体の０．２ｗｔ％エタノール溶液を作製した。 さらに、０．２ｗｔ％エタノール溶液１ｍＬとエタノール９ｍＬを混合し、０．０２ｗｔ％エタノール溶液を調製した。コーニング社製直径３５ｍｍ細胞培養表面処理ディッシュ（Ｎｏ．４３０１６５）に０．０２ｗｔ％エタノール溶液を０．４４ｍＬ加え、室温で乾燥した。さらに、減圧乾燥を６時間行い、直径３５ｍｍディッシュへのブロック共重合体コーティングを完了した。水中、４０℃および２０℃で気泡接触角（θ）を評価し求めた対水接触角（１８０−θ）を表１に示す。２０℃での対水接触角は４０°よりも低く、培養基材にした場合に短時間で細胞が剥離する。
比較例１
［重合体ブロック（Ａ）の合成］
１００ｍＬの２口ナス型フラスコにｎ−ブチルメタクリレート２．２４０ｇ、ＲＡＦＴ剤
として４−シアノ−４−［（ドデシルスルフォニルチオカルボニル）スルフォニル］ペン
タノイックアシッド０．０７３ｇ、アゾビスイソブチルニトリル０．００４ｇを加え、１
，４−ジオキサン１０ｍＬに溶解した。窒素バブリングを３０分行った後、６５℃で１２
時間反応させた。反応後、メタノールで再沈し、ｎ−ブチルメタクリレートの重合体を得
た。
さらに１００ｍＬの２口ナス型フラスコにｎ−ブチルメタクリレート重合体１．２００
ｇ、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド１．２１０ｇ、アゾビスイソブチルニトリル０．０
０４ｇを加え、１，４−ジオキサン／エタノール＝１：２混合溶液１５ｍＬに溶解した。
窒素バブリングを３０分行った後、６５℃で１２時間反応させた。反応後、純水で再沈し
、ｎ−ブチルメタクリレートとＮ−イソプロピルアクリルアミドがブロック共重合したポ
リマーを得た。
ｇ、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド１．２１０ｇ、アゾビスイソブチルニトリル０．０
０４ｇを加え、１，４−ジオキサン／エタノール＝１：２混合溶液１５ｍＬに溶解した。
窒素バブリングを３０分行った後、６５℃で１２時間反応させた。反応後、純水で再沈し
、ｎ−ブチルメタクリレートとＮ−イソプロピルアクリルアミドがブロック共重合したポ
リマーを得た。
［基材評価］
上記にて製造した重合体を用いたこと以外は、実施例９［基材評価］と同様の方法で評価
を行ったが、２０℃での対水接触角は４０°よりも高く、培養基材にした場合に短時間で
の細胞剥離が困難になることが分かった。
上記にて製造した重合体を用いたこと以外は、実施例９［基材評価］と同様の方法で評価
を行ったが、２０℃での対水接触角は４０°よりも高く、培養基材にした場合に短時間で
の細胞剥離が困難になることが分かった。
比較例２
［基材評価］
セルシード（株）製ＵｐＣｅｌｌ（Ｒ）３５ｍｍΦディッシュを用いたこと以外は、実施
例９［基材評価］と同様の評価を行い、２０℃での対水接触角は４０°よりも高く、培養
基材にした場合に短時間での細胞剥離が困難になることが分かった。
［基材評価］
セルシード（株）製ＵｐＣｅｌｌ（Ｒ）３５ｍｍΦディッシュを用いたこと以外は、実施
例９［基材評価］と同様の評価を行い、２０℃での対水接触角は４０°よりも高く、培養
基材にした場合に短時間での細胞剥離が困難になることが分かった。
Claims (5)
- 下記（Ａ）および（Ｂ）の重合体ブロックを含むブロック共重合体。
（Ａ）下記一般式（１）または（２）で表されるブロック単位から選ばれる少なくとも
１種類のブロック単位（ａ）からなる重合体のブロック。
数６〜２０のアリール基、炭素数１〜８の酸素含有炭化水素基を表す。）
［式中、Ｒ３は水素原子またはメチル基を表し、Ｘは下記一般式（３）、（４）または（
５）
で表される置換基である。］
（Ｂ）下記一般式（６）で表されるブロック単位（ｂ）からなる重合体のブロック。
基、又は（ポリ）オキシエチレン基であり、Ｒ９は、炭素数１〜４の２価の炭化水素基で
あり、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２は各々独立して、水素原子又は炭素数１〜４の炭化水素基
であり、Ａは、エステル結合、アミド結合、ウレタン結合、及びエーテル結合からなる群
から選択される２価の結合である。） - ブロック（Ａ）がＮ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−ｎ
−プロピルメタクリルアミド、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、Ｎ−イソプロピルメタ
クリルアミド、Ｎ−シクロプロピルアクリルアミド、Ｎ−シクロプロピルメタクリルアミ
ド、Ｎ−エトキシエチルアクリルアミド、Ｎ−エトキシエチルメタクリルアミド、Ｎ−テ
トラヒドロフルフリルアクリルアミド、Ｎ−テトラヒドロフルフリルメタクリルアミド、
１−（１−オキソ−２−プロペニル）ピロリジン、１−（１−オキソ−２−メチルー２−
プロペニル）ピロリジン、１−（１−オキソ−２−プロペニル）ピペリジン、１−（１−
オキソ−２−メチルー２−プロペニル）ピペリジン、４−（１−オキソ−２−プロペニル
）モルホリン、４−（１−オキソ−２−メチルー２−プロペニル）モルホリンから選ばれ
る少なくとも１つのモノマーの（共）重合体であることを特徴とする請求項１記載のブロ
ック共重合体。 - ブロック（Ｂ）が２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン、２−アクリロイル
オキシエチルホスホリルコリン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルホスホリルコ
リン、４−（メタ）アクリロイルオキシブチルホスホリルコリン、６−（メタ）アクリロ
イルオキシヘキシルホスホリルコリン、１０−（メタ）アクリロイルオキシデシルホスホ
リルコリン、ω−（メタ）アクリロイル（ポリ）オキシエチレンホスホリルコリン、２−
アクリルアミドエチルホスホリルコリン、３−アクリルアミドプロピルホスホリルコリン
、４−アクリルアミドブチルホスホリルコリン、６−アクリルアミドヘキシルホスホリル
コリン、１０−アクリルアミドデシルホスホリルコリン、ω−（メタ）アクリルアミド（
ポリ）オキシエチレンホスホリルコリン、２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルエ
タノールアミン、２−アクリロイルオキシエチルホスホリルエタノールアミン、３−（メ
タ）アクリロイルオキシプロピルホスホリルエタノールアミン、４−（メタ）アクリロイ
ルオキシブチルホスホリルエタノールアミン、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシル
ホスホリルエタノールアミン、１０−（メタ）アクリロイルオキシデシルホスホリルエタ
ノールアミン、ω−（メタ）アクリロイル（ポリ）オキシエチレンホスホリルエタノール
アミンから選ばれる少なくとも１つのモノマーの（共）重合体であることを特徴とする請
求項１または２に記載のブロック共重合体。 - 全繰り返し単位［（ａ）＋（ｂ）］に対する繰り返し単位（ａ）の比率が５〜９５ｍｏｌ
％であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のブロック共重合体。 - 数平均分子量（Ｍｎ）が５，０００以上１００，０００以下であることを特徴とする請求
項１〜４のいずれか１項に記載のブロック共重合体。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015072907 | 2015-03-31 | ||
| JP2015072907 | 2015-03-31 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2016194054A true JP2016194054A (ja) | 2016-11-17 |
Family
ID=57323456
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016063272A Pending JP2016194054A (ja) | 2015-03-31 | 2016-03-28 | ブロック共重合体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2016194054A (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017012018A (ja) * | 2015-06-26 | 2017-01-19 | 国立研究開発法人国立循環器病研究センター | 細胞培養器の製造方法 |
| WO2018025767A1 (ja) * | 2016-08-03 | 2018-02-08 | 東ソー株式会社 | ブロック共重合体およびそれを用いた表面処理剤 |
| JPWO2018116905A1 (ja) * | 2016-12-22 | 2018-12-20 | Dic株式会社 | 細胞培養基材 |
| JP2018201403A (ja) * | 2017-06-02 | 2018-12-27 | 日本ゼオン株式会社 | 幹細胞の培養方法 |
| WO2019035436A1 (ja) * | 2017-08-16 | 2019-02-21 | 東ソー株式会社 | 多能性幹細胞の培養基材及び多能性幹細胞の製造方法 |
| JP2019033742A (ja) * | 2017-08-16 | 2019-03-07 | 東ソー株式会社 | 多能性幹細胞の培養基材及び多能性幹細胞の製造方法 |
| JP2019085520A (ja) * | 2017-11-09 | 2019-06-06 | 東ソー株式会社 | ブロック共重合体、細胞培養基材及び細胞培養方法 |
| JP2020014453A (ja) * | 2018-07-13 | 2020-01-30 | 東ソー株式会社 | 幹細胞の培養基材及び幹細胞の製造方法 |
| JP2020023658A (ja) * | 2018-07-25 | 2020-02-13 | 東ソー株式会社 | 温度応答性膜 |
| WO2020036096A1 (ja) * | 2018-08-17 | 2020-02-20 | 東ソー株式会社 | 細胞懸濁液の製造方法 |
| JP2020528473A (ja) * | 2017-07-18 | 2020-09-24 | アルコン インク． | ホスホリルコリン含有ポリ（メタ）アクリルアミド系コポリマー |
| CN116284548A (zh) * | 2023-05-24 | 2023-06-23 | 广东工业大学 | 一种具有多重自翻转的磷酸胆碱四元共聚物及其制备方法和应用 |
Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06343451A (ja) * | 1993-06-08 | 1994-12-20 | Yamato Kubota | 固定化用器具、これを用いた生物組織の固定化法および培養法 |
| JP2005037331A (ja) * | 2003-07-18 | 2005-02-10 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 生体由来物検出用基板及びその製造方法 |
| JP2008194362A (ja) * | 2007-02-15 | 2008-08-28 | National Cardiovascular Center | 抗血栓コーティング剤及び医療用具 |
| JP2008289375A (ja) * | 2007-05-22 | 2008-12-04 | Dainippon Printing Co Ltd | 紐状の心筋細胞集合体を形成するための細胞培養支持体 |
| JP2009213421A (ja) * | 2008-03-11 | 2009-09-24 | Fujifilm Corp | 細胞培養方法及び細胞培養装置 |
| JP2010252631A (ja) * | 2009-04-21 | 2010-11-11 | Adeka Corp | 細胞培養基板 |
| WO2012029882A1 (ja) * | 2010-08-31 | 2012-03-08 | 学校法人東京女子医科大学 | 細胞培養用温度応答性基材及びその製造方法 |
| JP2013013368A (ja) * | 2011-07-04 | 2013-01-24 | Dainippon Printing Co Ltd | 治療用細胞フラグメント回収用基材およびそれを用いた治療用細胞フラグメントの製造方法、ならびに、継代用細胞フラグメント回収用基材およびそれを用いた継代用細胞フラグメントの製造方法 |
| JP2014100123A (ja) * | 2012-11-22 | 2014-06-05 | Dainippon Printing Co Ltd | 温度応答性を有する細胞培養基材の製造方法 |
| JP2014180255A (ja) * | 2013-03-21 | 2014-09-29 | Kinki Univ | 細胞処理用基板 |
-
2016
- 2016-03-28 JP JP2016063272A patent/JP2016194054A/ja active Pending
Patent Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06343451A (ja) * | 1993-06-08 | 1994-12-20 | Yamato Kubota | 固定化用器具、これを用いた生物組織の固定化法および培養法 |
| JP2005037331A (ja) * | 2003-07-18 | 2005-02-10 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 生体由来物検出用基板及びその製造方法 |
| JP2008194362A (ja) * | 2007-02-15 | 2008-08-28 | National Cardiovascular Center | 抗血栓コーティング剤及び医療用具 |
| JP2008289375A (ja) * | 2007-05-22 | 2008-12-04 | Dainippon Printing Co Ltd | 紐状の心筋細胞集合体を形成するための細胞培養支持体 |
| JP2009213421A (ja) * | 2008-03-11 | 2009-09-24 | Fujifilm Corp | 細胞培養方法及び細胞培養装置 |
| JP2010252631A (ja) * | 2009-04-21 | 2010-11-11 | Adeka Corp | 細胞培養基板 |
| WO2012029882A1 (ja) * | 2010-08-31 | 2012-03-08 | 学校法人東京女子医科大学 | 細胞培養用温度応答性基材及びその製造方法 |
| JP2013013368A (ja) * | 2011-07-04 | 2013-01-24 | Dainippon Printing Co Ltd | 治療用細胞フラグメント回収用基材およびそれを用いた治療用細胞フラグメントの製造方法、ならびに、継代用細胞フラグメント回収用基材およびそれを用いた継代用細胞フラグメントの製造方法 |
| JP2014100123A (ja) * | 2012-11-22 | 2014-06-05 | Dainippon Printing Co Ltd | 温度応答性を有する細胞培養基材の製造方法 |
| JP2014180255A (ja) * | 2013-03-21 | 2014-09-29 | Kinki Univ | 細胞処理用基板 |
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017012018A (ja) * | 2015-06-26 | 2017-01-19 | 国立研究開発法人国立循環器病研究センター | 細胞培養器の製造方法 |
| WO2018025767A1 (ja) * | 2016-08-03 | 2018-02-08 | 東ソー株式会社 | ブロック共重合体およびそれを用いた表面処理剤 |
| JPWO2018116905A1 (ja) * | 2016-12-22 | 2018-12-20 | Dic株式会社 | 細胞培養基材 |
| US11499136B2 (en) | 2016-12-22 | 2022-11-15 | Dic Corporation | Cell culture substrate |
| JP2018201403A (ja) * | 2017-06-02 | 2018-12-27 | 日本ゼオン株式会社 | 幹細胞の培養方法 |
| JP2020528473A (ja) * | 2017-07-18 | 2020-09-24 | アルコン インク． | ホスホリルコリン含有ポリ（メタ）アクリルアミド系コポリマー |
| JP7376467B2 (ja) | 2017-07-18 | 2023-11-08 | アルコン インク． | ホスホリルコリン含有ポリ（メタ）アクリルアミド系コポリマー |
| JP7271870B2 (ja) | 2017-08-16 | 2023-05-12 | 東ソー株式会社 | 多能性幹細胞の培養基材及び多能性幹細胞の製造方法 |
| JP2019033742A (ja) * | 2017-08-16 | 2019-03-07 | 東ソー株式会社 | 多能性幹細胞の培養基材及び多能性幹細胞の製造方法 |
| WO2019035436A1 (ja) * | 2017-08-16 | 2019-02-21 | 東ソー株式会社 | 多能性幹細胞の培養基材及び多能性幹細胞の製造方法 |
| JP2019085520A (ja) * | 2017-11-09 | 2019-06-06 | 東ソー株式会社 | ブロック共重合体、細胞培養基材及び細胞培養方法 |
| JP2020014453A (ja) * | 2018-07-13 | 2020-01-30 | 東ソー株式会社 | 幹細胞の培養基材及び幹細胞の製造方法 |
| JP2020023658A (ja) * | 2018-07-25 | 2020-02-13 | 東ソー株式会社 | 温度応答性膜 |
| JP7293692B2 (ja) | 2018-07-25 | 2023-06-20 | 東ソー株式会社 | 温度応答性膜 |
| WO2020036096A1 (ja) * | 2018-08-17 | 2020-02-20 | 東ソー株式会社 | 細胞懸濁液の製造方法 |
| CN116284548A (zh) * | 2023-05-24 | 2023-06-23 | 广东工业大学 | 一种具有多重自翻转的磷酸胆碱四元共聚物及其制备方法和应用 |
| CN116284548B (zh) * | 2023-05-24 | 2023-08-11 | 广东工业大学 | 一种具有多重自翻转的磷酸胆碱四元共聚物及其制备方法和应用 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2016194054A (ja) | ブロック共重合体 | |
| WO2016159153A1 (ja) | 細胞培養基材、その製造方法、およびそれを用いた細胞培養方法 | |
| JP6638706B2 (ja) | ブロック共重合体およびそれを用いた表面処理剤 | |
| JP6497677B2 (ja) | ブロック共重合体、表面処理剤、その膜、およびそれを被覆した細胞培養基材 | |
| JP6759958B2 (ja) | 温度応答性基材、その製造方法及びその評価方法 | |
| JP7127330B2 (ja) | ブロック共重合体およびそれを用いた表面処理剤 | |
| US11441120B2 (en) | Cell culture substrate | |
| WO1993003139A1 (en) | Cell culture support, production thereof, and production of cell cluster using same | |
| WO2020080364A1 (ja) | 細胞培養基材、細胞培養基材の製造方法、及びスフェロイドの製造方法 | |
| JP2018012811A (ja) | ブロック共重合体 | |
| JPWO2018116902A1 (ja) | 細胞培養基材 | |
| WO2019035436A1 (ja) | 多能性幹細胞の培養基材及び多能性幹細胞の製造方法 | |
| JP2018154752A (ja) | 共重合体およびその製造方法 | |
| JP7293683B2 (ja) | ブロック共重合体及び培養基材、幹細胞の製造方法 | |
| JP7271870B2 (ja) | 多能性幹細胞の培養基材及び多能性幹細胞の製造方法 | |
| JP2020014453A (ja) | 幹細胞の培養基材及び幹細胞の製造方法 | |
| JP7018175B2 (ja) | 共重合体、基材用表面処理剤および細胞培養基材 | |
| KR20230049009A (ko) | 줄기세포의 비효소적 장기 계대배양을 위한 고분자코팅 조성물 및 이의 용도 | |
| JP7250248B2 (ja) | ブロック共重合体、それを含む表面処理剤及び膜、並びに、それを用いた細胞培養用器材及び細胞培養方法 | |
| JP7183612B2 (ja) | 多能性幹細胞の培養基材及び多能性幹細胞の製造方法 | |
| JP6314458B2 (ja) | 温度応答性を有する細胞培養基材およびその製造方法 | |
| JP6954047B2 (ja) | ブロック共重合体コートビーズおよびその製造方法 | |
| JP2019085520A (ja) | ブロック共重合体、細胞培養基材及び細胞培養方法 | |
| JP7470893B2 (ja) | 細胞培養基材、およびその製法 | |
| JP2023006594A (ja) | 細胞分離用基材および細胞分離方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190214 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200213 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200218 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20200901 |