JP2016193456A - はんだペースト - Google Patents
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Abstract
【課題】最表面層としてのAu層及び下地層としてのNi層を含有するパッドとの接合に用いた場合に、十分な接合強度のはんだ接合部を形成できるはんだペーストを提供することを目的とする。【解決手段】金属粉末を含有するはんだペーストであって、前記金属粉末が、ビスマスと銀とを含有する合金粉末と、スズ粉末とからなり、前記ビスマスと銀とを含有する合金粉末は、銀を0.1質量%以上11.0質量%以下の割合で含有しているはんだペーストを提供する。【選択図】図1
Description
本発明は、はんだペーストに関する。
各種電子部品や半導体素子等の組立て等に用いるはんだペーストには、被接合部材に対する濡れ性等の通常のはんだペーストに要求される特性の中でも、以下の(1)〜(3)等の特性を満たすことが特に要求されている。
(1)320℃以下の温度ではんだ付けが可能なこと。
(2)プリント基板へ実装後にはんだ付けした部品が作動最高温度である200℃の温度で再溶融しないこと。
(3)はんだ接合部の信頼性が確保できること、即ち比較的高温の使用環境下においてはんだ接合部の劣化が生じないこと。
(1)320℃以下の温度ではんだ付けが可能なこと。
(2)プリント基板へ実装後にはんだ付けした部品が作動最高温度である200℃の温度で再溶融しないこと。
(3)はんだ接合部の信頼性が確保できること、即ち比較的高温の使用環境下においてはんだ接合部の劣化が生じないこと。
これらの特性を有するはんだペーストとして、従来から例えばPb−5質量%Snを含有する高温はんだペーストが使用されている。しかし、近年では環境汚染防止への配慮から、鉛を含まない、いわゆる鉛フリーの高温はんだペーストが求められている。鉛フリーの高温はんだペーストとしては、上記(1)〜(3)の特性を全て満たす適切な材料は見出されておらず、各種検討が進められている。
例えば特許文献1には、約60重量%〜約92重量%の第1はんだ合金パウダーと、0重量%よりも多いが約12重量%よりも少ない第2はんだ合金パウダーと、フラックスと、を含み、前記第1はんだ合金パウダーが、約260℃を超える固相温度を有する第1はんだ合金を含み、前記第2はんだ合金パウダーが、約250℃よりも小さい固相温度を有する第2はんだ合金を含むことを特徴とする、はんだペーストが開示されている。そして、第1はんだ合金はBi−Ag、Bi−Cu又はBi−Ag−Cu合金を含む旨も開示されている。
ところで、被接合部材に最表面層としてのAu層及び下地層としてのNi層を含有するパッドが用いられる場合がある。
しかしながら、特許文献1に開示されたBiを含有する合金を用いたはんだペーストを、係るパッドとの接合に適用した場合、下地層のNiがはんだ内に拡散してはんだ接合部に脆いビスマス−ニッケル(Bi−Ni)合金を形成する場合があった。またビスマス−ニッケル合金が形成される際に体積が収縮するため、ビスマス−ニッケル合金の層と隣接する層との間に隙間が生じる場合がある。これらの理由から、はんだ接合部の接合強度が低くなり、信頼性が確保できないという問題が生じる場合があった。
上記従来技術の問題に鑑み、本発明の一側面では、最表面層としてのAu層及び下地層としてのNi層を含有するパッドとの接合に用いた場合に、十分な接合強度のはんだ接合部を形成できるはんだペーストを提供することを目的とする。
上記課題を解決するため本発明の一態様では、
金属粉末を含有するはんだペーストであって、
前記金属粉末が、ビスマスと銀とを含有する合金粉末と、スズ粉末とからなり、
前記ビスマスと銀とを含有する合金粉末は、銀を0.1質量%以上11.0質量%以下の割合で含有しているはんだペーストを提供する。
金属粉末を含有するはんだペーストであって、
前記金属粉末が、ビスマスと銀とを含有する合金粉末と、スズ粉末とからなり、
前記ビスマスと銀とを含有する合金粉末は、銀を0.1質量%以上11.0質量%以下の割合で含有しているはんだペーストを提供する。
本発明の一態様によれば、最表面層としてのAu層及び下地層としてのNi層を含有するパッドとの接合に用いた場合に、十分な接合強度のはんだ接合部を形成できるはんだペーストを提供することができる。
以下、本発明のはんだペーストの一実施形態について説明する。
本実施形態のはんだペーストは、金属粉末を含有し、該金属粉末はビスマスと銀とを含有する合金粉末と、スズ粉末とから構成できる。そして、ビスマスと銀とを含有する合金粉末は、銀を0.1質量%以上11.0質量%以下の割合で含有できる。
本発明の発明者はビスマスを含有する合金を用いたはんだペーストを、最表面層としてのAu(金)層及び下地層としてのNi(ニッケル)層を含有するパッドとの接合に適用した際に、十分な接合強度のはんだ接合部を形成できる方法について検討を行った。そして、はんだペーストに含まれる金属粉末を、ビスマスと銀とを含有する合金粉末と、スズ粉末とから構成することにより、ビスマス−ニッケル合金の形成を抑制し、十分な接合強度のはんだ接合部を形成できることを見出し本発明を完成させた。
ここでまず、本実施形態のはんだペーストに含まれる金属粉末について説明する。
金属粉末は、ビスマスと銀とを含有する合金粉末と、スズ粉末とから構成できる。すなわち、金属粉末は、ビスマスと銀とを含有する合金粉末と、スズ粉末とからなる混合粉末とすることができる。
ビスマスと銀とを含有する合金粉末について説明する。
ビスマスと銀とを含有する合金粉末に含まれるビスマスは、本実施形態のはんだペーストの主成分として添加することができる。ここでいう主成分とは、はんだペースト中に質量比で最も多く含まれている成分であることを意味する。
ビスマスの融点は271℃であるため、ビスマスを含有することで、高温鉛フリーはんだペーストに要求される200℃程度の温度で再溶融せず、320℃以下の温度ではんだ付けが可能なはんだペーストとすることが比較的容易にできる。
ビスマスと銀とを含有する合金粉末は、ビスマスだけでは脆いので銀を添加し、ビスマスと銀とを含有する合金の粉末とすることで応力緩和性を改善できる。ビスマスと銀とを含有する合金粉末中の銀の含有量は0.1質量%以上であることが好ましく、1.0質量%以上であることがより好ましい。
これはビスマスと銀とを含有する合金粉末の銀の含有量を0.1質量%以上とすることで、ビスマスと銀とを含有する合金の応力緩和性を改善できるためである。
ビスマスと銀とを含有する合金粉末の銀の含有量の上限値は11.0質量%以下であることが好ましく、5.0質量%以下であることがより好ましい。これはビスマスと銀とを含有する合金粉末の銀の含有量が11.0質量%を超えると、ビスマスと銀とを含有する合金の融点が320℃を超える恐れがあり、はんだペーストを溶融するために加熱する際、基板等の被接合部材を熱により損傷する場合があるためである。
ビスマスと銀とを含有する合金粉末は、ビスマス、銀以外にも任意の成分を含有することができる。例えばビスマスと銀とを含有する合金粉末は、Cu、Zn、Al、Ni、Ge、P等から選択される1種類以上の金属をさらに含有することもできる。ただし、本実施形態のはんだペーストは鉛フリーはんだペーストであることから、ビスマスと銀とを含有する合金粉末は不可避成分を除いて鉛を含有しないことが好ましい。なお、ビスマスと銀とを含有する合金粉末は、ビスマス及び銀のみから構成することもできる。すなわちビスマスと銀とを含有する合金粉末は、ビスマス−銀合金粉末とすることもできる。
次にスズ粉末について説明する。
本発明の発明者の検討によれば、金属粉末がビスマスと銀とを含有する合金粉末に加えてスズ粉末を含有する場合、パッドに含まれるAu層の金と、スズとが反応してパッドの表面と、はんだ接合部との間に金とスズとの合金の層であるAuSn層を形成できる。形成されたAuSn層はバリア層として機能し、下地層であるNi層のニッケルがはんだ接合部に拡散することを防止し、ビスマス−ニッケル合金が形成されることを抑制できる。このため、十分な接合強度のはんだ接合部を形成でき、はんだ接合部の信頼性を確保できる。
スズ粉末は金属スズの単体により構成できる。これは金属スズの単体により構成されたスズ粉末を用いることで、緻密なAuSn層を形成でき、ニッケルの拡散を抑制できるためである。
また、ビスマスと銀とを含有する合金粉末の合金成分としてスズを添加した場合、またはスズを金属スズの単体の粉末ではなくスズを含有する合金の粉末として添加した場合、スズを含有する合金粉末は該合金の融点まで融解しない。これに対して、本実施形態のはんだペーストのように、金属スズの単体により構成されたスズ粉末を添加した場合、スズ粉末はスズの融点で融解できるため、比較的低温で融解する。このため、スズの融点近傍から、パッドに含まれるAu層の金とスズとが反応してAuSn層を形成でき、より確実に下地層であるNi層のニッケルがはんだ接合部に拡散することを防止し、ビスマス−ニッケル合金が形成されることを抑制できる。
さらに、スズ粉末の添加量は後述のようにAu層の厚さ等に応じて任意に選択することができる。このため、ビスマスと銀とを含有する合金粉末にスズを添加し合金にするのではなく、ビスマスと銀とを含有する合金粉末とは別にスズ粉末を添加することで、用途や、被接合部材であるパッドの構成に応じて最適な組成のはんだペーストを容易に提供することが可能になる。
金属粉末に占めるスズ粉末の割合は特に限定されるものではなく、例えば接合に用いるはんだペーストの量や、被接合部材に含まれるパッドのAu層の厚さ等に応じて任意に選択できる。例えば金属粉末に占めるスズ粉末の割合は、3.0質量%以上30.0質量%以下であることが好ましく、5.0質量%以上20.0質量%以下であることがより好ましい。
これは金属粉末に占めるスズ粉末の割合が3.0質量%以上の場合、十分な厚さのAuSn層を形成でき、ビスマス−ニッケル合金の生成をより確実に抑制できるためである。ただし、金属粉末に占めるスズ粉末の割合が30.0質量%を超えると、Au層の金との反応に関与しない余剰のスズが生じやすく、余剰のスズがはんだ接合部内に比較的多く残留してしまう。そして、スズは融点が低いため、特に使用時等に高温になる被接合部材等を接合する用途においては、はんだ接合部の一部が溶融し、ボイドを発生する等してはんだ接合部が脆くなり、接合信頼性が低下する恐れがある。このため、金属粉末に占めるスズ粉末の割合は30.0質量%以下とすることが好ましい。
金属粉末を構成するビスマスと銀とを含有する合金粉末、及びスズ粉末の粒径は特に限定されるものではない。例えば、金属粉末を構成するビスマスと銀とを含有する合金粉末、及びスズ粉末の粒径は、はんだペーストとした際の分散の度合いや、パッド上に塗布する際の作業性等を考慮して任意に選択することができる。
なお、ここまで説明した金属粉末は上述のようにビスマスと銀とを含有する合金粉末、及びスズ粉末から構成されるが、不純物等の不可避成分が含まれることを除外するものではない。
本実施形態のはんだペーストは、上述の金属粉末以外にも任意の成分を含有することができる。例えば金属粉末と混合することでペースト状にするためのフラックスを含有する。
フラックスとしては特に限定されるものでなく、例えば樹脂系、有機酸系、無機酸系など用途等に応じて任意に選択することができる。例えば、ロジンまたはレジン、溶剤、活性剤、チクソ剤などを含有するフラックスを用いることができる。
ロジンとしては、ロジンまたはロジン誘導体等を、溶剤としてはエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル等を用いることができる。また、活性剤としてはジフェニルグアニジンHBr、ジエチルアミンHCl等を、チクソ剤としては水素添加ヒマシ油、脂肪酸アマイド等を用いることができる。
金属粉末と、フラックスとの混合比率も特に限定されるものではなく、はんだペーストに要求される流動性等に応じて任意に選択することができる。例えば金属粉末と、フラックスとの混合物に占めるフラックスの割合は3.0質量%以上15.0質量%以下とすることが好ましく、5.0質量%以上12.0質量%以下とすることがより好ましい。
ここまで本実施形態のはんだペーストについて説明してきたが、既述のように本実施形態のはんだペーストは最表面層としてのAu層及び下地層としてのNi層を含有するパッドと、他の被接合部材との接合に特に好適に用いることができる。しかしながら、係る用途に限定されるものではなく、例えば高温鉛フリーはんだペーストが要求される各種用途において用いることができる。
本実施形態のはんだペーストを用いて形成したはんだ接合部の接合強度は被接合部材の材料や用途等により異なるため特に限定されるものではない。ただし、2つの被接合部材を本実施形態のはんだペーストにより接合した構造体について、接合直後の接合強度(初期接合強度)は20.0MPa以上であることが好ましく、30.0MPa以上であることがより好ましい。なお、構造体の接合強度は室温でシェア試験により測定することができる。
さらに、2つの被接合部材を本実施形態のはんだペーストにより接合した構造体を200℃で100時間、または200時間加熱した際の接合強度も20.0MPa以上であることが好ましく、30.0MPa以上であることがより好ましい。なお、上記200℃での加熱時間には室温からの昇温時間を含んでいてもよい。
以上に説明した本実施形態のはんだペーストによれば、最表面層としてのAu層及び下地層としてのNi層を含有するパッドとの接合に用いた場合に、十分な接合強度のはんだ接合部を形成できる。
以下に具体的な実施例、比較例を挙げて説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
まず、以下の実施例、比較例で作製したはんだペーストの評価方法について説明する。
(接合試験、接合界面の評価)
まず、図1に示した試験片の作製を行った。なお、図1は試験片を構成する各層の積層方向と平行な面における断面図を模式的に示したものである。
(接合試験、接合界面の評価)
まず、図1に示した試験片の作製を行った。なお、図1は試験片を構成する各層の積層方向と平行な面における断面図を模式的に示したものである。
図1に示すように20mm×20mmのコバール材製の基材11上に、下地層であるNi層121と、最表面層であるAu層122とを有するパッド12を形成した一方の被接合部材を用意した。なお、Ni層121は、20mm×20mm、膜厚が5μm、Au層122は、20mm×20mm、膜厚が3μmとなるようにめっきにより成膜した。
そして、パッド12上に各実施例、比較例で作製したはんだペーストを3mm×3mm、厚さが50μmから60μmとなるように印刷し、はんだ接合部13を形成した。はんだ接合部13上に他方の被接合部材として、3mm×3mm、厚さが0.30mmのシリコンチップ14を載置した。
準備した構造体を加熱炉内に配置し、大気雰囲気下、室温から4℃/秒の昇温速度で320℃まで昇温した後3分間保持し、その後室温まで冷却して試験片を作製した。なお、後述する200℃保持試験も実施するために各実施例、比較例について同じ条件で4個ずつ試験片を作製した。
各実施例、比較例で作製した試験片のうちの1個について、接合試験として、一方の被接合部材と、他方の被接合部材とが接合されているか簡易な確認を行った。一方の被接合部材上に他方の被接合部材であるシリコンチップ14が配置されていることから、他方の被接合部材に対して水平方向に手で力を加えて、他方の被接合部材が一方の被接合部材から離れた場合には接合できていないと判断して×と評価した。他方の被接合部材と、一方の被接合部材とが離れなかった場合には接合できていると判断して〇と評価した。
また、接合界面の評価として、試験片のはんだ接合部13のパッド12との界面について、SEM S−4800(HITACHI)および、EDX GENESIS 2000(EDAX)にて定性分析を行った。そして、Ni層121のニッケルとビスマスとが反応し、はんだ接合部13のパッド12との界面にビスマス−ニッケル合金が生じていないか確認を行った。ビスマス−ニッケル合金の生成が見られなかった場合には〇、ビスマス−ニッケル合金が接合界面に面積で10.0%以上30.0%未満確認できた場合には△、ビスマス−ニッケル合金が接合界面に面積で30.0%以上確認できた場合には×と評価した。
(シェア試験)
各実施例、比較例において作製した図1に示した構造の試験片について、大気雰囲気下、200℃で所定の時間加熱後に室温でシェア試験を実施し、接合強度の評価を行った。評価は試験片について200℃で100時間保持後、200時間保持後にそれぞれ行った。また、比較のため、200℃に加熱する前の試料の初期接合強度の評価を行うためのシェア試験も実施した。なお、上述の加熱する際の保持時間には後述のように昇温時間も含まれている。
(シェア試験)
各実施例、比較例において作製した図1に示した構造の試験片について、大気雰囲気下、200℃で所定の時間加熱後に室温でシェア試験を実施し、接合強度の評価を行った。評価は試験片について200℃で100時間保持後、200時間保持後にそれぞれ行った。また、比較のため、200℃に加熱する前の試料の初期接合強度の評価を行うためのシェア試験も実施した。なお、上述の加熱する際の保持時間には後述のように昇温時間も含まれている。
シェア試験は破壊試験であるため、各実施例、比較例において作製した試験片のうち3個の試験片についてそれぞれ、初期接合強度、100時間保持後の接合強度、200時間保持後の接合強度の測定を行った。
シェア試験は、図1に示した構造の試験片について、基材11側の一方の被接合部材を固定し、シリコンチップ14に対して、図1に示したブロック矢印Aの方向に力を加えて実施し、試験片が破壊された時の強度を当該試験片の接合強度とした。
なお、200℃に試験片を加熱する際の条件としては、室温から1℃/分で昇温し、200℃に到達後、200℃で保持した。そして、昇温を開始してから100時間、または200時間経過したときに加熱炉内から試験片を取り出し、室温まで冷却してからシェア試験に供した。
次に各実施例、比較例のはんだペーストの作製手順について説明する。
[実施例1]
銀を0.5質量%と、ビスマスを99.5質量%とを含有するビスマス−銀合金粉末(平均粒径30μm)と、スズ粉末(平均粒径30μm)とを混合した金属粉末を用意した。
[実施例1]
銀を0.5質量%と、ビスマスを99.5質量%とを含有するビスマス−銀合金粉末(平均粒径30μm)と、スズ粉末(平均粒径30μm)とを混合した金属粉末を用意した。
なお、金属粉末中のスズ粉末の含有量が5質量%、ビスマス−銀合金粉末が95質量%となる様に混合した。
以下、上述のような金属粉末の組成をBi/0.5Ag+5Snのように記載する。
上述の金属粉末とフラックスとを混合してはんだペーストとした。
フラックスとしては、ロジンを主成分とした、ノンハロゲンタイプを用い、金属粉末と、フラックスとの混合物の粘度が、190Pa・Sになるようにフラックスの添加量を調整し、両者を混合してはんだペーストとした。なお、ここでいう粘度とは、粘度計(株式会社マルコム製 型式:PCU-203)で回転条件が10rpm、25℃における粘度を指す。
以下の実施例、比較例でもはんだペーストを調製する際、同様にしてフラックスの添加量を調整したところ、はんだペースト中のフラックスの含有量は7.0質量%〜11.0質量%の範囲となっている。
得られたはんだペーストについて上述の接合試験、接合界面の評価、シェア試験を実施した。結果を表1に示す。
[実施例2〜実施例11]
各実施例について、表1に示した組成を有する金属粉末を用いた点を除いては実施例1と同様にしてはんだペーストを作製した。
[実施例2〜実施例11]
各実施例について、表1に示した組成を有する金属粉末を用いた点を除いては実施例1と同様にしてはんだペーストを作製した。
なお、実施例2に示した金属粉末の場合、ビスマス−銀合金粉末は銀を0.5質量%含有し、残部、すなわち99.5質量%がビスマスにより構成されている。そして、金属粉末はスズ粉末を10質量%、ビスマス−銀合金粉末を90質量%含有している。
また、実施例11に示した金属粉末の場合、ビスマスと銀とを含有する合金粉末は、ビスマスと銀以外に銅、ニッケル、及びゲルマニウムを含有している。係るビスマスと銀とを含有する合金粉末は、銀を3質量%、銅を0.1質量%、ニッケルを0.1質量%、ゲルマニウムを0.05質量%、ビスマスを96.75質量%含有している。そして、金属粉末は、係るビスマスと銀とを含有する合金粉末を90質量%と、スズ粉末10質量%とを含有している。
各実施例において得られたはんだペーストについて実施例1と同様に評価を行った。結果を表1に示す。
[比較例1〜比較例3]
表1に示した組成を有する金属粉末を用いた点を除いては実施例1と同様にしてはんだペーストを作製した。
[比較例1〜比較例3]
表1に示した組成を有する金属粉末を用いた点を除いては実施例1と同様にしてはんだペーストを作製した。
得られたはんだペーストについて実施例1と同様に評価を行った。結果を表1に示す。
[比較例4]
表1に示したように、銀を2.6質量%含有するビスマス−銀合金粉末(平均粒径30μm)と、スズ−亜鉛合金粉末とを混合した金属粉末を用いた点以外は実施例1と同様にしてはんだペーストを作製した。
[比較例4]
表1に示したように、銀を2.6質量%含有するビスマス−銀合金粉末(平均粒径30μm)と、スズ−亜鉛合金粉末とを混合した金属粉末を用いた点以外は実施例1と同様にしてはんだペーストを作製した。
なお、表1にも示すように、金属粉末に含まれるビスマス−銀合金粉末は、銀を2.6質量%含有し、残部である97.4質量%がビスマスにより構成されている。
また、表1に示すように、スズ−亜鉛合金粉末は1.8質量%の亜鉛を含有し、残部、すなわち98.2質量%がスズとなっている。
そして、金属粉末はスズ−亜鉛合金粉末を20質量%含有し、残部、すなわち80質量%がビスマス−銀合金粉末となっている。
得られたはんだペーストについて実施例1と同様に評価を行った。結果を表1に示す。
[比較例5]
表1に示したように、銀を2.6質量%含有するビスマス−銀合金粉末(平均粒径30μm)と、スズ−銀−銅合金粉末とを混合した金属粉末を用いた点以外は実施例1と同様にしてはんだペーストを作製した。
[比較例5]
表1に示したように、銀を2.6質量%含有するビスマス−銀合金粉末(平均粒径30μm)と、スズ−銀−銅合金粉末とを混合した金属粉末を用いた点以外は実施例1と同様にしてはんだペーストを作製した。
なお、表1にも示すように、金属粉末に含まれるビスマス−銀合金粉末は、銀を2.6質量%含有し、残部である97.4質量%がビスマスにより構成されている。
また、表1に示すように、スズ−銀−銅合金粉末は0.06質量%の銀と、0.01質量%の銅とを含有し、残部、すなわち99.93質量%がスズとなっている。
そして、金属粉末はスズ−銀−銅合金粉末を1.9質量%含有し、残部、すなわち98.1質量%がビスマス−銀合金粉末となっている。
得られたはんだペーストについて実施例1と同様に評価を行った。結果を表1に示す。
これに対して、比較例3では、ビスマス−銀合金粉末中の銀の含有量が多く、融点が高くなったため、はんだペースト中の金属粉末の一部が溶融せず、一方の被接合部材と、他方の被接合部材とを接合できないことが確認できた。なお、表1中、比較例3については接合界面の評価、及びシェア試験は−と記載しているが、これは2つの被接合部材を接合できなかったため、接合界面の評価、及びシェア試験を行わなかったからである。
そして、実施例1〜実施例11においてはいずれも初期接合強度が20MPa以上になっており、2つの被接合部材を十分な強度で接合できていることを確認できた。これは2つの被接合部材を接合する際に、パッド表面にAuSn層が形成され、はんだ接合部にビスマス−ニッケル合金が形成されることを抑制できたためと考えられる。
ただし、実施例4、実施例8においては初期接合強度がそれぞれ22.0MPa、23.0MPaとなっており、十分な初期接合強度を発揮できているものの、実施例1等の他の実施例と比較すると初期接合強度が小さくなることが確認された。
実施例4については、金属粉末中のスズ粉末の含有量が少なかったために、AuSn層の形成が十分でない部分が生じ、微量ではあるがビスマスとニッケルとの反応が生じた為、接合界面の評価が△となっている。脆いビスマス−ニッケル合金が一部形成されたため、他の実施例よりもはんだ接合部の初期接合強度が小さくなったと考えられる。
また、実施例8については金属粉末中のスズ粉末の含有量が多かったため、Au層の金と反応しなかった余剰のスズがはんだ接合部内に比較的多く残留していると考えられる。このため、他の実施例よりもはんだ接合部の初期接合強度や200℃で加熱した後の接合強度が小さくなったと考えられる。
これに対して、比較例1、2では、ビスマス−銀合金粉末に含まれる銀の含有量が少なかったため、はんだ接合部の接合強度を十分に高められず、初期接合強度でも15.0MPaと、実施例1〜実施例11と比較して小さくなることが確認できた。
また、比較例4、比較例5では接合界面の評価が×になっていることが確認できた。今回の接合試験においては、金属粉末にスズを添加する場合、スズ合金の粉末ではなく、スズ粉末として添加することが好ましいことが確認できた。
Claims (4)
- 金属粉末を含有するはんだペーストであって、
前記金属粉末が、ビスマスと銀とを含有する合金粉末と、スズ粉末とからなり、
前記ビスマスと銀とを含有する合金粉末は、銀を0.1質量%以上11.0質量%以下の割合で含有しているはんだペースト。 - 前記金属粉末に占める前記スズ粉末の割合が、3.0質量%以上30.0質量%以下である請求項1に記載のはんだペースト。
- 前記ビスマスと銀とを含有する合金粉末が、ビスマスと、銀とから構成されたビスマス−銀合金粉末である請求項1または2に記載のはんだペースト。
- 最表面層としてのAu層及び下地層としてのNi層を含有するパッドと、他の被接合部材との接合に用いる請求項1乃至3のいずれか一項に記載のはんだペースト。
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