JP2016181476A - 真空バルブ用接点および真空バルブ用接点の製造方法、並びに真空バルブ - Google Patents
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Abstract
【課題】ろう付け性に優れた真空バルブ用接点および真空バルブ用接点の製造方法を得る。【解決手段】高融点成分を主体とする粒子と、粒子の間隙に充填されたCuあるいはAgを主体とする母相とからなる接点層と、接点層から、ろう材との接触面側に延びて、母相により形成された母相成分層とを有する真空バルブ用接点であり、多孔質体内の気孔総量より体積が大きいCuあるいはAgを主体とする溶浸材を多孔質体内に溶浸させて接点素板とするとともに、溶浸工程において形成された溶浸材の溶け残り部を加工してろう材との接触面として用いることを特徴とする。【選択図】図2
Description
本発明は、例えば、電流遮断用の真空遮断器に適用される真空バルブ、真空バルブに用いられる真空バルブ用接点および真空バルブ用接点の製造方法に関するものである。
真空遮断器の大容量化、高耐圧化、小型化に伴い、真空遮断器に搭載される真空バルブの性能向上が要求されている。真空バルブは、高真空に保たれた絶縁容器内部で、固定電極と可動電極とが同軸対向配置された構造を有している。これにより、過負荷電流または短絡電流が発生した際には、これらの電極が瞬時に開極されることで電流を遮断することができる。
このような真空バルブの固定電極と可動電極との接触部に使用される接点材料には、遮断性能、耐電圧性能、低サージ性能が主に要求される。接点材料に要求されるこれらの性能は、互いに相反する性質であるため、接点材料を単一の元素からなる材料を用いて製造することは困難である。そのため、従来の接点材料は、二種以上の元素を組み合わせた材料を用いて製造されている。
例えば、低サージ向けの真空バルブ用接点材料には、電子放出成分であるWC(タングステンカーバイト)を、高導電性成分のCuまたはAgに分散させたCu−WC系、Ag−WC系の接点材料が一般に用いられている。
このような、従来の接点材料の製造方法として、原料粉末を成形および焼結して多孔質体を得た後に、多孔質体の片面にCu、Ag等からなる溶浸材を設置して溶浸材の融点以上に加熱することで、多孔質体内部の気孔に溶浸材を溶浸し、この結果得られる接点素板を接点形状に加工することで接点を得るものがある(例えば、特許文献1参照)。
しかしながら、特許文献1の製造方法で得られた接点材料では、接点表面におけるWC等のろう材とのなじみの悪い成分の割合が大きい場合、接点をろう付けする際に接点が脱落してしまうという課題があった。
本発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、ろう付け性に優れた真空バルブ用接点および真空バルブ用接点の製造方法、並びにこの真空バルブ用接点を用いた真空バルブを得ることを目的とする。
本発明に係る真空バルブ用接点は、CuあるいはAgを主体とする母相と、母相の融点より高い融点を有する高融点成分を主体とする粒子とからなり、母相は粒子の間隙に充填された構造を有する接点層と、接点層から、ろう材との接触面側に延びて、母相により形成された母相成分層とを有するものである。
また、本発明に係る真空バルブ用接点の製造方法は、高融点成分を主体とする粉末を成形および焼結して多孔質体を得る成形および焼結工程と、多孔質体内の気孔総量より体積が大きい溶浸材を多孔質体内に溶浸させて、多孔質体内に形成された、CuあるいはAgを主体とする母相と、多孔質体の表面に形成された、溶浸材の溶け残り部とを有する接点素板を得る溶浸工程と、接点素板表面の溶け残り部を加工して、ろう材との接触面として用いられる母相成分層を得る加工工程と、母相成分層を台金にろう付けするろう付け工程とを有するものである。
本発明によれば、高融点成分を主体とする粒子の間隙に充填されたCuあるいはAgを主体とする母相により形成された母相成分層を、ろう材との接触面として用いることにより、ろう付け性に優れた真空バルブ用接点を得ることができる。
また、高融点成分を主体とする粉末を成形および焼結して多孔質体を得た後、多孔質体内の気孔総量より体積が大きいCuあるいはAgを主体とする溶浸材を多孔質体内に溶浸させて接点素板とするとともに、溶浸工程において形成された溶浸材の溶け残り部を加工してろう材との接触面として用いることにより、ろう付け性に優れた真空バルブ用接点の製造方法を得ることができる。
以下、本発明における真空バルブ用接点および真空バルブ用接点の製造方法、並びに真空バルブの好適な実施の形態について図面を用いて説明する。なお、各図において同一、または相当する部分については、同一符号を付して説明する。
実施の形態1.
図1は、本発明の実施の形態1に係る真空バルブ用接点を備えた真空バルブ1の断面模式図である。図1において、真空バルブ1は、遮断室2を内部に備えている。遮断室2は、円筒状に形成された絶縁容器3と、封止金具4a,4bによって絶縁容器3の両端に固定された金属蓋5a,5bとから区画形成され、真空密封されている。
図1は、本発明の実施の形態1に係る真空バルブ用接点を備えた真空バルブ1の断面模式図である。図1において、真空バルブ1は、遮断室2を内部に備えている。遮断室2は、円筒状に形成された絶縁容器3と、封止金具4a,4bによって絶縁容器3の両端に固定された金属蓋5a,5bとから区画形成され、真空密封されている。
遮断室2内には、固定電極棒6aと可動電極棒6bとが、互いに対向するように設けられている。固定電極棒6aの対向面には、固定電極7aがろう付けによって取り付けられている。また、可動電極棒6bの対向面には、可動電極7bがろう付けによって取り付けられている。また、固定電極7aと可動電極7bとの接触部において、固定電極7aには、固定接点8aがろう付けによって取り付けられ、可動電極7bには、可動接点8bがろう付けによって取り付けられている。
可動電極棒6bには、遮断室2の内部を真空気密に保持しながら、可動電極7bを軸方向に移動可能とするベローズ12が取り付けられている。ベローズ12の上部には、ベローズ12にアーク蒸気が付着することを防止するために、金属製のベローズ用アークシールド13が設けられている。
また、遮断室2内には、絶縁容器3がアーク蒸気で覆われることを防止するために、固定電極7aおよび可動電極7bを覆い囲むように、金属製の絶縁容器用アークシールド14が設けられている。
図2は、本発明の実施の形態1に係る真空バルブ用接点の断面模式図である。図2の真空バルブ用接点8(以下、「接点8」と省略することがある)は、図1に示した可動接点8bに対応した方向で示されている。本実施の形態1の接点8は、高融点成分を主体とする粒子21と、粒子21の間隙に充填されたCuあるいはAgを主体とする母相22とからなる接点層23と、接点層23から可動電極7b側に延びて、母相22により形成された層であって、ろう材との接触面として用いられる母相成分層24とを有している。
このように、ろう材とのなじみの悪いWC等の成分が含まれない母相成分層24を、ろう材との接触面として用いることで、接点をろう付けする際に接点が脱落してしまうことを防ぐことができる。
なお、粒子21は、母相22よりも融点が高い高融点成分を主体とするものであれば特に限定されず、CuやAgよりも融点の低い成分を含んでいてもよい。高融点成分としては、例えば、Cr粉末、Mo粉末、W粉末、またはこれらの炭化物粉末、あるいはこれらの組み合わせからなる粉末を含むことができる。また、つなぎ材として、Cu粉末あるいはAg粉末を含むこともできる。また、接点8中には、原料に含まれる微量の不可避不純物(Ag、Al、Fe、Si、P、O、N、H等)が含まれていてもよい。
接点層23は、理論密度に対する相対密度が95%以上、好ましくは98%以上である。ここで、本明細書において「理論密度に対する相対密度」とは、理論密度に対する測定密度の密度比のことを意味する。密度の測定方法としては、特に限定されないが、例えば、アルキメデス法を用いて測定することができる。
相対密度が95%以上であれば、接点8内部の残留ガスが十分に少なく、遮断性能の低下を防止することができる。一方、相対密度が95%未満であると、接点8内部の残留ガスが多くなり、十分な遮断性能を得ることができない。
本実施の形態1の真空バルブ用接点は、以下に示す工程を経て製造される。
(1)成形および焼結工程:高融点成分を主体とする粉末を成形および焼結して多孔質体を得る。
(2)溶浸工程:多孔質体内の気孔総量より体積が大きい溶浸材を多孔質体内に溶浸させて、多孔質体内に形成された、CuあるいはAgを主体とする母相22と、多孔質体の表面に形成された、溶浸材の溶け残り部とを有する接点素板を得る。
(3)加工工程:ろう材との接触面として用いられる母相成分層24を、溶浸工程において形成された溶浸材の溶け残り部を加工することによって得る。
(4)ろう付け工程:母相成分層24を電極棒等の台金にろう付けする。
(1)成形および焼結工程:高融点成分を主体とする粉末を成形および焼結して多孔質体を得る。
(2)溶浸工程:多孔質体内の気孔総量より体積が大きい溶浸材を多孔質体内に溶浸させて、多孔質体内に形成された、CuあるいはAgを主体とする母相22と、多孔質体の表面に形成された、溶浸材の溶け残り部とを有する接点素板を得る。
(3)加工工程:ろう材との接触面として用いられる母相成分層24を、溶浸工程において形成された溶浸材の溶け残り部を加工することによって得る。
(4)ろう付け工程:母相成分層24を電極棒等の台金にろう付けする。
成形および焼結工程は、溶浸法を用いた接点8の製造方法において一般に行われている工程であり、このような公知の方法に準じて行うことができる。
高融点成分を主体とする粉末を成形する方法としては、特に限定されないが、例えば、粉末をプレス成形機の金型に充填し、所定の圧力で加圧成形すればよい。加圧成形時の圧力としては、特に限定されないが、好ましくは100MPa以上150MPa以下である。
成形後の焼結方法としては、特に限定されないが、成形体を真空または水素雰囲気等の非酸化性雰囲気中で1100℃以上1200℃以下の焼結温度に加熱すればよい。焼結温度が1100℃未満であると、焼結が不十分となり、接点8が脆くなることがある。また、焼結温度が1200℃を超えると、粉末(特に、Cu粉末)が溶融して形状維持性が低下してしまうことがある。焼結時間は、作製する材料の成分、大きさ等に応じて適宜調整すればよく、特に限定されない。
図3は、本発明の実施の形態1に係る真空バルブ用接点の製造方法における溶浸工程を示す模式図である。
溶浸工程は、焼結工程で得られた多孔質体25に、CuあるいはAgを主体とする溶浸材26を溶浸して接点素板を得る工程であり、本実施の形態1の溶浸工程は、溶浸材26の体積が多孔質体25内部の気孔体積の総量より大きいことを特徴としている。このようにすることで、溶浸後に得られる接点素板の表面に、CuあるいはAgを主体とする溶浸材26の溶け残り部が形成されるので、この溶け残り部を加工して図2に示す母相成分層24を得ることができる。
溶浸材26の体積は、多孔質体25内部の気孔体積の合計の1.02倍以上1.2倍以下であることが望ましい。1.02倍未満の場合は、溶浸後に接点素板表面に溶浸材26の溶け残り部が十分に形成されない。一方、1.2倍より大きい場合は、溶浸後の接点素板表面の溶け残り部に溶浸材26中への溶解ガスが残留する懸念がある。
つまり、溶浸材26の体積が、多孔質体25内部の気孔体積の合計の1.02倍以上1.2倍以下であることにより、CuあるいはAgを主体とする母相成分層24が、同じCuあるいはAgを主体とする接点層23の母相22から連続的に形成されることとなる。
表1は、本発明の実施の形態1に係る真空バルブ用接点の製造方法における溶浸工程において、多孔質体25内部の気孔体積に対する溶浸材26の体積を変えて、接点8を製造した実施例および比較例である。
実施例1では、目空き径45μmのふるいに通して45μm以下の粒径としたCr粉末と、つなぎ材としてのCu粉末とを混合した後、金型内に充填して140MPaの圧力で加圧成形した。次に、成形体を水素ガス雰囲気中、1190℃で3時間焼結させることによって多孔質体25を得た。
次に、多孔質体25の表面に、多孔質体25内部の気孔の1.02倍の体積を有するCu板を溶浸材26として配置し、水素ガス雰囲気中、1090℃で溶浸した。以上のようにしてCu−45Cr接点素板を得た。
このようにして得られた実施例1の接点素板は、溶浸材26の溶け残り部が接点素板表面を完全に覆っており、溶け残り部の内部にガスの残留も見られなかった。加工後のろう付け性は良好であった。
実施例2〜5および比較例1〜5では、実施例1と同様の方法により、溶浸工程において、多孔質体25の表面に配置する溶浸材26の、多孔質体25内部の気孔に対する体積比率を変えて、接点素板を作製した。
実施例2〜5では、多孔質体25内部の気孔に対する溶浸材26の体積比率が1.02倍以上1.2倍以下の範囲内で適正であるため、溶浸後に溶浸材26の溶け残り部が接点素板表面を完全に覆い、溶け残り部の内部に残留ガスも見られなかった。加工後のろう付け性も良好であった。
一方、比較例1および2では、多孔質体25内部の気孔に対する溶浸材26の体積比率が1.02倍未満で十分ではないため、溶浸後に溶浸材26の溶け残り部が接点素板表面を完全に覆う状態とならないので、母相成分層24が形成されず、接点素板表面が露出している部分が見られた。そのため、加工後のろう付け後、ろう付け面にろう材が存在しない部分が見られた。
比較例3〜5では、多孔質体25内部の気孔に対する溶浸材26の体積比率が1.2倍を超えて過剰であるため、溶浸後に溶浸材26の溶け残り部の内部にガスの残留が見られた。ガスが残留した部分は加工後に凹みとして残るため、母相成分層24がひずんだ形状となることから、ろう付け時にろう材が行き渡ることができなかった。
溶浸温度としては、CuあるいはAgの融点以上であれば特に限定されないが、Cuを主体とする溶浸材の場合に1200℃を超える、あるいは、Agを主体とする溶浸材の場合に1100℃を超えると、溶浸材の表面張力が低くなり、溶浸性が低下することがある。
溶浸時間としては、多孔質体内部の気孔に溶浸材を浸透させるのに十分な時間であれば特に限定されない。
溶浸構成としては、例えば、図3に示したように、多孔質体25の上面に溶浸材26を設置して溶浸する方法が考えられる。溶浸中の溶け残り部の流出を防止するために、多孔質体25に流出防止コートを施してもよく、全体を容器内で実施してもよい。
図4は、本発明の実施の形態1に係る真空バルブ用接点の製造方法における加工工程を示す模式図である。
加工工程は、溶浸工程で得られた接点素板27を、真空バルブ1に搭載する接点形状に加工して接点8を得る工程であり、本実施の形態1の加工工程は、図4に示すように、溶浸材の溶け残り部28を含むように接点8を切り出すことを特徴としている。このようにすることで、溶け残り部28から、接点8の表面にCuあるいはAgを主体とする母相成分層24を、界面に間隙を含むことなく連続的に形成することができる。
加工方法としては、特に限定されるものではなく、切削加工や研削加工などの一般的な機械加工方法を用いることができる。
図5は、本発明の実施の形態1に係る真空バルブ用接点の製造方法におけるろう付け工程を示す模式図である。図5では、図4に示した接点8を、上下反転させて示している。
ろう付け工程は、接点8を、ろう材30により、電極棒等の台金31に接合する工程であり、本実施の形態1のろう付け工程は、CuあるいはAgを主体とする母相成分層24を、ろう材30との接触面とすることを特徴としている。このようにすることで、ろう材30とのなじみを良好に保つことができ、ろう付け後の接点8の脱落を防止することができる。
ろう付け方法としては、例えば、台金31の上にAg系ろう材30の板材を設置し、その上に接点8をCuあるいはAgを主体とする母相成分層24を接触面として設置し、水素雰囲気中で780℃以上に加熱しすることで接合する方法が挙げられる。
以上のように、実施の形態1によれば、高融点成分を主体とする粒子の間隙に充填されたCuあるいはAgを主体とする母相により形成された母相成分層を、ろう材との接触面として用いることにより、ろう付け性に優れた真空バルブ用接点を得ることができる。
また、高融点成分を主体とする粉末を成形および焼結して多孔質体を得た後、多孔質体内の気孔総量より体積が大きいCuあるいはAgを主体とする溶浸材を多孔質体内に溶浸させて接点素板とするとともに、溶浸工程において形成された溶浸材の溶け残り部を加工してろう材との接触面として用いることにより、ろう付け性に優れた真空バルブ用接点の製造方法を得ることができる。
また、溶浸材の体積を、多孔質体内の気孔総量の体積の1.02倍以上1.2倍以下とすることで、片面に溶浸材の溶け残り部を有し、残留ガスやろう付け性について所望の仕様を満たす接点素板を得ることができる。
1 真空バルブ、2 遮断室、3 絶縁容器、4a,4b 封止金具、5a,5b 金属蓋、6a 固定電極棒、6b 可動電極棒、7a 固定電極、7b 可動電極、8a 固定接点、8b 可動接点、8 接点、12 ベローズ、13 ベローズ用アークシールド、14 絶縁容器用アークシールド、21 粒子、22 母相、23 接点層、24 母相成分層、25 多孔質体、26 溶浸材、27 接点素板、28 溶け残り部、30 ろう材、31 台金。
Claims (5)
- CuあるいはAgを主体とする母相と、前記母相の融点より高い融点を有する高融点成分を主体とする粒子とからなり、前記母相は前記粒子の間隙に充填された構造を有する接点層と、
前記接点層から、ろう材との接触面側に延びて、前記母相により形成された母相成分層と、
を有する真空バルブ用接点。 - 高融点成分を主体とする粉末を成形および焼結して多孔質体を得る成形および焼結工程と、
前記多孔質体内の気孔総量より体積が大きい溶浸材を前記多孔質体内に溶浸させて、前記多孔質体内に形成された、CuあるいはAgを主体とする母相と、前記多孔質体の表面に形成された、前記溶浸材の溶け残り部とを有する接点素板を得る溶浸工程と、
前記接点素板表面の前記溶け残り部を加工して、ろう材との接触面として用いられる母相成分層を得る加工工程と、
前記母相成分層を台金にろう付けするろう付け工程と、
を有する真空バルブ用接点の製造方法。 - 前記溶浸材の体積は、前記多孔質体内の気孔総量の体積の1.02倍以上1.2倍以下である
請求項2に記載の真空バルブ用接点の製造方法。 - 前記高融点成分を主体とする粉末は、Cr、Mo、W、またはこれらの炭化物粉末、あるいはこれらの組み合わせからなる粉末である
請求項2または3に記載の真空バルブ用接点の製造方法。 - 請求項1に記載の真空バルブ用接点を備えた
真空バルブ。
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