JP2016179115A5 - - Google Patents
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Claims (12)
- イオンビームを加速する加速器と、
前記加速器から前記イオンビームが出射される第1ビーム経路及び前記第1ビーム経路に沿って配置される第1ステアリング電磁石及び第2ステアリング電磁石を有する第1ビーム輸送系と、
回転ガントリーと、
前記回転ガントリーに取り付けられ、前記第1ビーム経路に連絡される第2ビーム経路及び前記第2ビーム経路に沿って配置される第3ステアリング電磁石及び第4ステアリング電磁石を有する第2ビーム輸送系と、
前記回転ガントリーに取り付けられ、前記第2ビーム経路に連絡される照射装置と、
前記第1および第2ステアリング電磁石よりも下流で前記第1ビーム経路に沿って相互間に間隔を置いて配置される第1及び第2ビーム位置測定装置と、
前記照射装置内で前記照射装置の中心軸に沿って相互間に間隔を置いて配置される第3及び第4ビーム位置測定装置と、
前記第3及び第4ビーム位置測定装置で測定される各ビーム位置に基づいて前記第1ステアリング電磁石に対する第1励磁電流及び前記第2ステアリング電磁石に対する第2励磁電流をそれぞれ算出する第1励磁電流演算装置とを備えたことを特徴とする粒子線照射システム。 - 前記算出される第1及び第2励磁電流を用いて、記憶装置に格納されている、前記第1及び第2ステアリング電磁石のそれぞれに対する励磁電流を更新する励磁電流更新装置を備えた請求項1に記載の粒子線照射システム。
- 前記回転ガントリーの設定回転角度ごとの、前記第3ステアリング電磁石に対する第5励磁電流及び前記第4ステアリング電磁石に対する第6励磁電流の各情報を含む回転角度テーブル情報、前記回転ガントリーの一つの回転角度における、前記第1ステアリング電磁石に対する第3励磁電流及び前記第2ステアリング電磁石に対する第4励磁電流の各情報、及び前記第3及び第4ビーム位置測定装置によって測定される各々の前記ビーム位置の情報を格納する記憶装置と、
前記記憶装置に格納されている前記第3励磁電流情報を前記第1励磁電流の情報に更新し、前記記憶装置に格納されている前記第4励磁電流情報を前記第2励磁電流の情報に更新する励磁電流更新装置を備えた請求項1に記載の粒子線照射システム。 - 前記回転ガントリーの一つの設定回転角度において前記第1及び第2ビーム位置測定装置で測定される各ビーム位置に基づいて前記第1ステアリング電磁石に対する第3励磁電流及び前記第2ステアリング電磁石に対する第4励磁電流をそれぞれ算出し、前記回転ガントリーの複数の設定回転角度において前記第3及び第4ビーム位置測定装置で測定される各ビーム位置に基づいて、前記第3ステアリング電磁石に対する第5励磁電流及び前記第4ステアリング電磁石に対する第6励磁電流を前記設定回転角度ごとにそれぞれ算出する第2励磁電流演算装置とを備える請求項1に記載の粒子線照射システム。
- 前記設定回転角度ごとに、前記設定回転角度ごとの前記第5励磁電流及び前記第6励磁電流を含む回転角度テーブル情報を作成するテーブル作成装置と、
前記設定回転角度ごとの前記回転角度テーブル情報、前記回転ガントリーの一つの回転角度における、前記第1ステアリング電磁石に対する第3励磁電流及び前記第2ステアリング電磁石に対する第4励磁電流の各情報、及び前記第3及び第4ビーム位置測定装置によって測定される各々の前記ビーム位置の情報を格納する記憶装置とを備えた請求項4に記載の粒子線照射システム。 - 前記記憶装置に格納されている前記第3励磁電流情報を前記第1励磁電流の情報に更新し、前記記憶装置に格納されている前記第4励磁電流情報を前記第2励磁電流の情報に更新する励磁電流更新装置を備えた請求項5に記載の粒子線照射システム。
- イオンビーム走査装置を有する前記照射装置と、
前記イオンビーム走査装置を制御する走査制御装置と、
前記第1励磁電流及び前記第2励磁電流を、前記加速器から出射される前記イオンビームの設定エネルギーごとに算出する前記第1励磁電流演算装置とを備えた請求項1に記載の粒子線照射システム。 - ビーム照射対象への前記イオンビームの照射後におけるビーム軌道の調整が選択されるとき、前記回転ガントリーを基準回転角度まで回転させる回転制御装置への第1制御指令、前記第3及び第4ビーム位置測定装置のそれぞれによる前記ビーム位置の測定を、前記イオンビームの所定のエネルギーの範囲において設定エネルギーごとに繰り返して実施させる第2制御指令、及び前記第1励磁電流演算装置による前記第1及び第2励磁電流の算出を実行させる第3制御指令を、前記第1制御指令、前記第2制御指令及び前記第3制御指令の順に出力する第1軌道調整制御装置を備えた請求項1に記載の粒子線照射システム。
- 前記回転ガントリーの一つの設定回転角度において前記第1及び第2ビーム位置測定装置で測定される各ビーム位置に基づいて前記第1ステアリング電磁石に対する第3励磁電流及び前記第2ステアリング電磁石に対する第4励磁電流をそれぞれ算出し、前記回転ガントリーの複数の設定回転角度において前記第3及び第4ビーム位置測定装置で測定される各ビーム位置に基づいて、前記第3ステアリング電磁石に対する第5励磁電流及び前記第4ステアリング電磁石に対する第6励磁電流を前記設定回転角度ごとにそれぞれ算出する第2励磁電流演算装置と、
前記粒子線照射システムの試運転の期間におけるビーム軌道の調整が選択されるとき、前記第2励磁電流演算装置による前記第3及び第4励磁電流のそれぞれの算出を一つの設定エネルギーにおいて実施させる第4制御指令、及び前記回転ガントリーの回転範囲内の前記設定回転角度ごとに前記第2励磁電流演算装置による前記第5及び第6励磁電流のそれぞれの算出を実施させる第5制御指令を、前記第4制御指令及び前記第5制御指令の順に、複数の前記設定エネルギーを含む前記イオンビームの所定のエネルギーの範囲内の前記設定エネルギーごとに出力する第2軌道調整制御装置と、
ビーム照射対象への前記イオンビームの照射後におけるビーム軌道の調整が選択されるとき、前記回転ガントリーを基準回転角度まで回転させる回転制御装置への第1制御指令、前記第3及び第4ビーム位置測定装置のそれぞれによる前記ビーム位置の測定を、前記イオンビームの所定のエネルギーの範囲において前記設定エネルギーごとに繰り返して実施させる第2制御指令、及び前記第1励磁電流演算装置による前記第1及び第2励磁電流の算出を実行させる第3制御指令を、前記第1制御指令、前記第2制御指令及び前記第3制御指令の順に出力する第1軌道調整制御装置とを備えた請求項1または2に記載の粒子線照射システム。 - 前記加速器がシンクロトロン加速器及びサイクロトロン加速器のいずれかである請求項1に記載の粒子線照射システム。
- 照射制御装置と、
前記照射制御装置からの第1制御指令に基づいて前記回転ガントリーを回転させて前記照射装置の前記中心軸をビーム照射対象に対する前記イオンビームの照射方向に設定するガントリー制御装置と、
前記照射制御装置からの第2制御指令に基づいて、前記第1ステアリング電磁石に供給する励磁電流を前記第1励磁電流に調節し、前記第2ステアリング電磁石に供給する励磁電流を前記第2励磁電流に調節するステアリング電磁石制御装置とを有する請求項1に記載の粒子線照射システム。 - 照射制御装置と、
前記照射制御装置からの第1制御指令に基づいて前記回転ガントリーを回転させて前記照射装置の前記中心軸をビーム照射対象に対する前記イオンビームの照射方向に設定するガントリー制御装置と、
前記照射制御装置からの第2制御指令に基づいて、前記第1ステアリング電磁石に供給する励磁電流を前記第1励磁電流に調節し、前記第2ステアリング電磁石に供給する励磁電流を前記第2励磁電流に調節し、前記第3ステアリング電磁石に供給する励磁電流を前記第5励磁電流に調節し、前記第4ステアリング電磁石に供給する励磁電流を前記第6励磁電流に調節するステアリング電磁石制御装置とを有する請求項3に記載の粒子線照射システム。
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2015062041A JP6280513B2 (ja) | 2015-03-25 | 2015-03-25 | 粒子線照射システム |
Publications (3)
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Family
ID=56978452
Family Applications (1)
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- 2015-03-25 JP JP2015062041A patent/JP6280513B2/ja active Active
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