WO2018207244A1 - 粒子線治療装置 - Google Patents

粒子線治療装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2018207244A1
WO2018207244A1 PCT/JP2017/017478 JP2017017478W WO2018207244A1 WO 2018207244 A1 WO2018207244 A1 WO 2018207244A1 JP 2017017478 W JP2017017478 W JP 2017017478W WO 2018207244 A1 WO2018207244 A1 WO 2018207244A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
particle beam
screen monitor
charged particle
monitor
electromagnets
Prior art date
Application number
PCT/JP2017/017478
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
由希子 山田
高明 岩田
Original Assignee
株式会社日立製作所
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社日立製作所 filed Critical 株式会社日立製作所
Priority to PCT/JP2017/017478 priority Critical patent/WO2018207244A1/ja
Priority to TW107114026A priority patent/TWI652090B/zh
Publication of WO2018207244A1 publication Critical patent/WO2018207244A1/ja

Links

Images

Classifications

    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61NELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
    • A61N5/00Radiation therapy
    • A61N5/10X-ray therapy; Gamma-ray therapy; Particle-irradiation therapy

Definitions

  • the present invention relates to a particle beam therapy apparatus for irradiating an affected area such as cancer with a charged particle beam such as a proton beam or a carbon ion beam.
  • a particle beam therapy system is installed at an accelerator that accelerates a charged particle beam, a beam transport system that transports a charged particle beam that is emitted after being accelerated to the energy set by the accelerator, and a downstream side of the beam transport system. And a particle beam irradiation apparatus for irradiating the irradiation target with the charged particle beam.
  • the first irradiation method scatters and expands a charged particle beam with a scatterer, forms an irradiation field by matching the expanded charged particle beam with the shape of the irradiation target, and applies to the entire affected area of the patient who is the irradiation target.
  • the second irradiation method is a scanning irradiation method (spot scanning method, raster scanning method, etc.) in which a thin pencil beam is scanned to an arbitrary position by a scanning electromagnet so as to match the shape of the irradiation target. .
  • the wobbler method in which a charged particle beam is simultaneously rotated in the X and Y directions by a rotating magnetic field to flatten the irradiation field, is charged by two wobbler electromagnets in the X and Y directions.
  • a particle beam is scanned at high speed along a circular orbit.
  • Patent Document 1 includes an accelerator system for accelerating a charged particle beam and a beam transport system for transporting a high energy beam emitted from the accelerator system to an irradiation position.
  • the beam transport system includes at least one steering electromagnet;
  • a particle beam therapy system (particle beam therapy apparatus) provided with at least one beam position monitor corresponding to this is disclosed.
  • the particle beam therapy system (particle beam therapy apparatus) of Patent Document 1 drives (excites) a steering electromagnet so as to correct the beam position from the detection result of the beam position monitor.
  • Patent Document 2 a plurality of profile monitors are provided in a beam transport device (beam transport system) that transports an ion beam (charged particle beam) accelerated by an accelerator to a scatterer irradiation method irradiation device (particle beam irradiation device).
  • a particle beam therapy system (particle beam therapy apparatus) provided is disclosed.
  • Patent Document 2 discloses a plurality of profile monitors in a beam transport apparatus (beam transport system) that transports an ion beam (charged particle beam) accelerated by an accelerator to an irradiation apparatus (particle beam irradiation apparatus) of a scanning irradiation method.
  • a particle beam therapy system including one profile monitor in the irradiation apparatus.
  • the particle beam therapy system (particle beam therapy system) of Patent Document 2 drives (excites) a quadrupole electromagnet so as to correct the beam size from the beam size detected by the profile monitor.
  • the particle beam therapy system disclosed in Patent Document 1 beam irradiation is performed in a state where a detachable beam position monitor is installed at an irradiation position at the time of test irradiation, which is irradiation at a preparation stage different from actual irradiation.
  • the particle beam therapy system of Patent Document 1 is based on the premise that the fluctuation of the beam position is periodic with reproducibility, and the steering electromagnet is used to eliminate the periodic fluctuation of the beam position during the test irradiation.
  • the exciting current value is supplied in accordance with the position fluctuation cycle, the periodic exciting current value is acquired, and the periodic exciting current value is stored.
  • the particle beam therapy system of Patent Document 1 supplies a periodic excitation current stored with the beam position monitor removed during actual irradiation to a steering electromagnet. That is, the particle beam therapy system of Patent Literature 1 performs feedforward control during actual irradiation.
  • Patent Document 2 discloses an example in which a quadrupole electromagnet is driven (excited) so as to correct the beam size from the beam sizes detected by a plurality of profile monitors, but charging at a target irradiation position (isocenter) is disclosed. It is not disclosed that the excitation current of the steering electromagnet is adjusted in consideration of the incident angle of the particle beam.
  • the particle beam therapy system of Patent Document 1 does not include two beam position monitors downstream from the scanning electromagnet provided in the nozzle. Also, the particle beam therapy system of Patent Document 2 does not include two profile monitors downstream of the scanning electromagnet provided in the irradiation apparatus.
  • the particle beam therapy systems of Patent Document 1 and Patent Document 2 are not provided with two monitors downstream of the scanning electromagnet for measuring the charged particle beam position, and the charged particle beam is incident on the downstream side of the scanning electromagnet. Since the angle is not known accurately, the accuracy of the charged particle beam position at the target irradiation position (isocenter) is poor.
  • the incident angle of the charged particle beam at a position as close as possible to the target irradiation position (isocenter). Can be used to adjust the beam position of the charged particle at the target irradiation position (isocenter) with higher accuracy.
  • the present invention has been made to solve the above-described problems, and measures the beam position of the charged particles at two positions downstream of the scanning electromagnet that scans the charged particle beam, and supports the adjustment of the beam axis.
  • An object of the present invention is to realize a particle beam therapy system provided with a beam adjusting device.
  • the particle beam therapy system includes an accelerator system for accelerating a charged particle beam, a beam transport system for transporting a charged particle beam accelerated by the accelerator system, and a scanning electromagnet for the charged particle beam transported by the beam transport system.
  • a particle beam irradiation apparatus that scans and irradiates an irradiation object, a beam adjustment apparatus that supports adjustment of a beam axis that is an axis of a traveling direction of a charged particle beam in the particle beam irradiation apparatus when not scanned by a scanning electromagnet, and Is provided.
  • the beam transport system includes two x-direction steering electromagnets that deflect a charged particle beam in the x-direction perpendicular to the traveling direction, two y-direction steering electromagnets that deflect the traveling particle and the y-direction perpendicular to the x-direction, and 2 A steering electromagnet power source for supplying an exciting current to each of the two x-direction steering electromagnets and the two y-direction steering electromagnets.
  • the beam adjustment device is arranged to be movable in a direction crossing the beam axis on the downstream side of the scanning electromagnet of the particle beam irradiation device, and detects a beam position of the charged particle beam by light emission, and the first screen monitor A second screen monitor, which is detachably disposed at the distal end of the particle beam irradiation apparatus close to the irradiation target on the downstream side and detects the beam position of the charged particle beam by light emission, and the beams of the first screen monitor and the second screen monitor Two cameras each for observing the light emitting surface, and a beam adjustment calculator for calculating values of excitation currents of the two x-direction steering electromagnets and the two y-direction steering electromagnets.
  • the beam adjustment computer is a first beam position that is a beam position of the charged particle beam in the first screen monitor and a beam position of the charged particle beam that is in the second screen monitor based on the image signals output from the two cameras.
  • the excitation current values of the two x-direction steering electromagnets and the two y-direction steering electromagnets are calculated so that the two beam positions exist on the reference beam trajectory passing through the isocenter that is the target irradiation position.
  • the particle beam therapy system includes a charged particle beam in a first screen monitor movably disposed downstream of a scanning electromagnet and a second screen monitor detachably disposed at a tip of the particle beam irradiation apparatus.
  • the actual beam axis can be made to coincide with the beam axis set in the particle beam therapy system with high accuracy, and the irradiation accuracy can be improved as compared with the conventional case.
  • FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a particle beam therapy system according to Embodiment 1 of the present invention. It is a block diagram which shows the structure of the particle beam irradiation apparatus of FIG. 1 in the case of a treatment. It is a block diagram which shows the structure of the particle beam irradiation apparatus of FIG. 1 in the case of beam axis adjustment. It is an enlarged view which shows the engaging part of the snout of FIG. 3, and a screen monitor holder. It is a figure explaining the position adjustment of the screen monitor of the upstream with respect to arrangement
  • positioning change apparatus It is a figure explaining position adjustment of an arrangement change device. It is a figure explaining the position adjustment of the downstream screen monitor. It is a figure which shows the screen monitor of an upstream.
  • FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a particle beam therapy system according to Embodiment 1 of the present invention.
  • FIG. 2 is a configuration diagram showing the configuration of the particle beam irradiation apparatus of FIG. 1 during treatment.
  • FIG. 3 is a configuration diagram showing the configuration of the particle beam irradiation apparatus of FIG. 1 when adjusting the beam axis.
  • FIG. 4 is an enlarged view showing an engaging portion between the snout of FIG. 3 and the screen monitor holder.
  • FIG. 5 is a diagram for explaining the position adjustment of the upstream screen monitor with respect to the arrangement changing device
  • FIG. 6 is a diagram for explaining the position adjustment of the arrangement changing device.
  • FIG. 7 is a diagram for explaining the position adjustment of the downstream screen monitor.
  • FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a particle beam therapy system according to Embodiment 1 of the present invention.
  • FIG. 2 is a configuration diagram showing the configuration of the particle beam irradiation apparatus of FIG. 1 during treatment.
  • FIG. 8 is a diagram showing an upstream screen monitor
  • FIG. 9 is a diagram showing a camera image of the upstream screen monitor.
  • FIG. 10 is a diagram illustrating a screen monitor and a camera image on the downstream side.
  • FIG. 11 is a flowchart showing a procedure for adjusting the steering electromagnet.
  • FIG. 12 is a diagram for explaining a method for calculating the steering angle of the steering electromagnet, and
  • FIG. 13 is a diagram for explaining the steering angle of the steering electromagnet.
  • FIG. 14 is a functional block diagram of a beam adjustment computer that executes the procedure of FIG. 11, and
  • FIG. 15 is a diagram illustrating a hardware configuration of the beam adjustment computer.
  • the particle beam therapy system 100 circulates an incident system 1 including an ion source (not shown), an injector 11, quadrupole electromagnets 12a and 12b, and a charged particle beam 44 emitted from the injector 11.
  • An accelerator system 2 which is a synchrotron or the like for accelerating to a required energy while being charged, a beam transport system 3 for transporting a charged particle beam 44 accelerated to a required energy by the accelerator system 2 to the particle beam irradiation apparatus 4, and a charge
  • a particle beam irradiation device 4 for irradiating a particle beam 44 with an affected area 43 (irradiation target) of a patient 42 to form an irradiation field, an incident system 1, an accelerator system 2, a beam transport system 3, and a particle beam irradiation device 4.
  • An irradiation control device 5 to be controlled and a beam adjustment device 18 that supports the adjustment of the beam axis of the particle beam irradiation device 4 are provided.
  • the beam axis that is supported by the beam adjusting device 18 is an axis in the traveling direction of the charged particle beam 44 when the particle beam irradiation device 4 is not scanned by the scanning electromagnets 25x and 25y.
  • a charged particle beam 44 generated by an injector 11 is incident on an accelerator system 2 such as a synchrotron, where it is accelerated to a required energy.
  • the charged particle beam 44 accelerated by the accelerator system 2 is emitted from the deflecting electromagnet 20 for emission to the beam transport system 3, and the beam trajectory is adjusted via various electromagnets described later and is transported to the particle beam irradiation apparatus 4.
  • the affected part 43 (irradiation target) of the patient 42 is irradiated by the particle beam irradiation device 4.
  • the beam transport system 3 includes a plurality of quadrupole electromagnets 22a, 22b, 22c, 22d, 22e, 22f, 22g, 22h, 22i, and 22j that adjust the beam size of the charged particle beam 44, and steering electromagnets 23a and 23b that correct the beam trajectory.
  • the particle beam irradiation device 4 includes scanning electromagnets 25x and 25y, a layout changing device 28 including a plurality of scatterers (not shown) and a screen monitor 30, vacuum ducts 26, 27a, and 27c, and a snout 39. .
  • the particle beam irradiation apparatus 4 includes, for example, a dose monitor, a ridge filter, a range shifter, a position monitor, a block collimator, a multi-leaf collimator, a compensation filter, and a patient collimator.
  • the arrangement changing device 28 includes other components in addition to the screen monitor 30.
  • the arrangement changing device 28 includes a screen monitor 30, a vacuum duct 27 b, a support bar 54 connected to the screen monitor 30, and a drive unit 55 that drives the support bar 54.
  • the support bar 54 and the driving device 55 are a screen monitor moving device 52 that moves the screen monitor 30.
  • the drive device 55 moves the support bar 54 by compressed air.
  • Scanning electromagnets 25x and 25y are electromagnets that expand the irradiation field, for example, scanning electromagnets.
  • the beam traveling direction in which the charged particle beam 44 travels is the s direction
  • the beam axis in which the charged particle beam 44 travels is the s axis (axis in the s direction).
  • the scanning electromagnet 25x scans the charged particle beam 44 in a direction perpendicular to the s axis (x direction)
  • the scanning electromagnet 25y scans the charged particle beam 44 in a direction perpendicular to the s axis and x axis (y direction).
  • a scatterer (not shown) is made of lead or the like and scatters the charged particle beam 44.
  • a ridge filter (not shown) is made of aluminum or the like, and expands the width of the Bragg peak according to the thickness of the irradiation target (affected part 43).
  • a range shifter (not shown) changes the energy of the charged particle beam 44 and changes the range of the charged particle beam 44.
  • a dose monitor (not shown) detects the dose of the charged particle beam 44.
  • a position monitor (not shown) detects beam information through which the charged particle beam 44 scanned by the scanning electromagnets 25x and 25y passes. Based on the beam information, the passing position (center of gravity position) and size of the charged particle beam 44 are calculated by a data processing device (not shown).
  • the irradiation control device 5 starts irradiation of the charged particle beam 44 based on treatment plan data created by a treatment planning device (not shown). When the dose measured by the dose monitor reaches the target dose, the irradiation control device 5 Stop.
  • a block collimator limits the beam range perpendicular to the beam axis of the charged particle beam 44.
  • a multi-leaf collimator includes a leaf unit composed of a plurality of leaf plates and a leaf drive mechanism that drives each of the leaf plates.
  • the irradiation field (planar shape) perpendicular to the beam axis of the charged particle beam 44 is changed to an affected part shape. Adjust to almost match.
  • a compensation filter (not shown) adjusts the energy of the charged particle beam 44 so as to match the depth shape (distal shape) of the irradiation target (affected part 43).
  • a patient collimator (not shown) adjusts the irradiation field (planar shape) perpendicular to the beam axis adjusted by the multi-leaf collimator so as to match the affected part shape with high accuracy.
  • the small-sized affected part 43 may be adjusted so that the irradiation field (planar shape) perpendicular to the beam axis is matched to the affected part shape by using a block collimator and a patient collimator without using a multi-leaf collimator.
  • the large-sized affected part 43 may be adjusted by using a block collimator and a multi-leaf collimator so that the irradiation field (planar shape) perpendicular to the beam axis matches the affected part shape without using a patient collimator.
  • the isocenter 48 is an irradiation center for irradiating the irradiation target (affected part 43) with the charged particle beam 44, and is a reference for beam axis adjustment.
  • the reference beam trajectory 45 is a beam trajectory through which the charged particle beam 44 passes through the isocenter 48 when not scanned by the scanning electromagnets 25x and 25y.
  • the drift line 47 is a range in the s direction in which the charged particle beam 44 from the upstream scanning electromagnet 25x to the isocenter 48 is scanned.
  • the screen monitor 30 is placed in a vacuum.
  • the vacuum duct 27 b is provided with a window 53 for observing the screen monitor 30, and the screen monitor 30 is photographed by the camera 56 from the window 53.
  • a dose monitor, a ridge filter, a range shifter, and a position monitor (not shown) are arranged on the upstream side of the beam from the ceiling 46, for example.
  • the snout 39 is a tip that houses a block collimator (not shown) and a multi-leaf collimator (not shown).
  • the screen monitor 30 is retracted to a position where the charged particle beam 44 does not hit.
  • the screen monitor 30 is moved to the retracted position by the screen monitor moving device 52.
  • a screen monitor 30a indicated by a broken line in FIG. 2 is the screen monitor 30 at the time of beam axis adjustment.
  • the screen monitor 30 is moved to the beam measurement position (position of the screen monitor 30a) by the screen monitor moving device 52.
  • Beam axis adjustment is performed when the particle beam therapy system 100 is started up and during maintenance work (maintenance).
  • the screen monitor 30 is moved from the retracted position shown in FIG. 2 to the beam measurement position by the screen monitor moving device 52.
  • a compensation filter and a patient collimator (not shown) arranged on the downstream side of the snout 39 during the treatment are moved away from the reference beam trajectory 45.
  • a screen monitor holder 59, a screen monitor 31, and a camera 57 are arranged downstream of the snout 39.
  • FIG. 3 shows an example in which the camera 56 that observes the screen monitor 30 is arranged at an angle that is obliquely shifted from the normal line perpendicular to the surface of the screen monitor 30.
  • FIG. 3 shows an example in which the camera 57 that observes the surface of the screen monitor 31 is arranged so as to be parallel to a normal line perpendicular to the surface of the screen monitor 31.
  • the screen monitor holder 59 includes a plurality of engaging portions 74 at the upstream end portion, and is engaged with and fixed to a plurality of engaging portions 71 provided at the lower end portion of the snow note 39.
  • the engaging portion 71 has a claw 72 protruding toward the screen monitor holder 59 side.
  • the claw 72 of the engaging portion 71 presses the engaging portion 74 toward the snout 39 from the downstream surface of the engaging portion 74, that is, the downstream surface 75.
  • the screen monitor holder 59 is fixed to the snout 39 at a position in the s direction parallel to the reference beam trajectory 45.
  • the outer peripheral surface 76 of the engaging portion 74 is in contact with the inner peripheral surface 73 of the opposing engaging portion 71.
  • the engaging portion 71 is an irradiation device engaging portion
  • the engaging portion 74 is a holder engaging portion.
  • the position adjustment method for the screen monitors 30 and 31 will be described.
  • the screen monitor 30 arranged inside the arrangement changing device 28 is positioned with respect to the arrangement changing device 28.
  • the screen monitor 30 is a rectangular (rectangular) plate-like light emitter, and as shown in FIG. 8, a reference mark 62 is provided at the center of each side, and a position reference line 63 connecting the reference marks 62 facing each other, 64 is provided.
  • FIG. 8 shows an example in which the outer shape of the screen monitor 30 is a square, and the position reference line 63 and the position reference line 64 are vertical. As shown in FIG.
  • the screen monitor 30 is positioned at a position where the center point of the screen monitor 30, for example, the intersection of the position reference line 63 and the position reference line 64 passes through the reference axis 65.
  • the arrangement changing device 28 is arranged so that the reference axis 65 coincides with the reference beam trajectory 45.
  • This position is the beam measurement position. Since the screen monitor 30 is moved by the screen monitor moving device 52 along the monitor moving line 60, the beam measurement position is adjusted by the screen monitor moving device 52 when adjusting the beam axis.
  • a broken line 61 is a line parallel to the position reference line 64.
  • FIG. 5 shows an example in which the reference axis 65 and the monitor movement line 60 intersect at an angle ⁇ , and the broken line 61 and the monitor movement line 60 intersect at an angle ⁇ . In FIG. 5, the angle ⁇ is 90 °.
  • the arrangement changing device 28 is arranged with reference to an apparatus reference position 50 and an isocenter 48 defined on the reference beam trajectory 45, for example.
  • the arrangement changing device 28 is positioned and fixed by matching the reference axis 65 and the reference beam trajectory 45 and aligning the reference in the s direction of the arrangement changing device 28 with the apparatus reference position 50 and the isocenter 48. Is done.
  • the reference in the s direction of the arrangement changing device 28 is, for example, the upstream surface 77 of the arrangement changing device 28 or the downstream surface 78 of the arrangement changing device 28.
  • the screen monitor 30 whose position has been adjusted is arranged at the beam measurement position or the retracted position by driving the screen monitor moving device 52 in accordance with a remote instruction from the user.
  • the screen monitor 30 is movably disposed on the downstream side of the scanning electromagnets 25x and 25y of the particle beam irradiation device 4. The screen monitor 30 is moved to the beam measurement position during beam axis adjustment, and is moved from the beam measurement position to the retracted position during treatment.
  • the screen monitor 31 is positioned with respect to the screen monitor holder 59 with respect to the apparatus reference position 50 and the isocenter 48.
  • the screen monitor 31 is configured in the same manner as the screen monitor 30.
  • the screen monitor 31 is a rectangular (rectangular) plate-shaped light emitter, and as shown in FIG. 10, a reference mark 62 is provided at the center of each side, and position reference lines 63 and 64 connecting the reference marks facing each other. Is provided.
  • FIG. 10 shows an example in which the outer shape of the screen monitor 31 is a square, and the position reference line 63 and the position reference line 64 are vertical.
  • the screen monitor 31 is positioned at a position where the center point of the screen monitor 31, for example, the intersection of the position reference line 63 and the position reference line 64 coincides with the isocenter 48 on the reference beam trajectory 45. More specifically, the screen monitor 31 has a center point of the screen monitor 31, for example, an intersection of the position reference line 63 and the position reference line 64, on the reference beam trajectory 45 within the screen monitor holder 59 fixed to the snout 39. It is positioned at a position coinciding with the isocenter 48.
  • the screen monitor 31 whose position is adjusted with respect to the screen monitor holder 59 is placed at the beam measurement position or the retracted position by a user's manual operation.
  • the screen monitor 31 is detachably disposed at the tip of the particle beam irradiation device 4 closest to the irradiation target (affected part 43), that is, downstream of the snow note 39.
  • the screen monitor 31 is mounted on the downstream side of the snow note 39 during beam axis adjustment, and is detached from the downstream side of the snow note 39 during treatment.
  • the screen monitor holder 59 is fixed to the snout 39 using a fitting method, that is, a method of fitting by the engaging portions 71 and 74. Therefore, when the screen monitor holder 59 is fixed to the snout 39 at the next beam axis adjustment, the screen monitor 31 is disposed at a predetermined position with respect to the apparatus reference position 50 and the isocenter 48.
  • step S001 the particle beam irradiation apparatus 4 is configured as shown in FIG.
  • the beam positions Pb and Pc on the screen monitors 30 and 31 are photographed with the camera in order from the upstream side, and the beam positions Pb and Pc are calculated (beam position calculation procedure). Since the screen monitor using the plate-like illuminant does not allow the charged particle beam to pass downstream, the screen monitor upstream of the screen monitor to be observed is moved from the reference beam trajectory 45 to the retracted position. When measuring the beam position Pb of the charged particle beam 44 on the screen monitor 30, the screen monitor 29 on the upstream side of the screen monitor 30 is moved to the retracted position.
  • the configuration of the screen monitors 29, 30, and 31, which are plate-like light emitters, will be described in detail.
  • the screen monitors 29, 30, and 31 include a substrate and an intensifying screen that is disposed on the upstream side of the substrate and emits light when the charged particle beam 44 hits.
  • intensifying screen intensifying screen PS-H manufactured by Fuji Film Medical can be used.
  • a beam emission 66 is generated on the screen monitor 30 as shown in FIG.
  • the beam emission 66 shows an example having a plurality of luminance contour lines.
  • the luminance contour line on the center side has higher luminance than the outer luminance contour line.
  • the beam emission 66 is captured by the camera 56, and the image signal sig 1 is transmitted to the beam adjustment computer 17.
  • the beam adjustment computer 17 includes a processor 91, a memory 92, and a monitor 93, and various functions are realized by the processor 91 executing programs stored in the memory 92.
  • the beam adjustment computer 17 displays the camera image of the screen monitor 30 on the monitor 93 of the beam adjustment computer 17 from the image signal sig1 as shown in FIG. Since the camera 56 is disposed at an angle that is obliquely shifted from the normal line perpendicular to the surface of the screen monitor 30, the outer shape of the screen monitor 30 is a rectangle contracted in the x direction.
  • the beam adjustment computer 17 calculates the gravity center of the luminance of the beam emission 66 from the camera image of the screen monitor 30, and calculates the luminance center of gravity as the beam position Pb.
  • the calculated beam position Pb is stored in the memory 92 of the beam adjustment computer 17.
  • the screen monitor 30 is moved to the retracted position (the position of the screen monitor 30 in FIG. 2) by driving the screen monitor moving device 52 according to a remote instruction from the user.
  • a beam emission 67 is generated on the screen monitor 31 as shown in FIG. 10 shows an example in which the beam emission 67 has a plurality of luminance contour lines, similar to the beam emission 66 of FIG.
  • the luminance contour line on the center side has higher luminance than the outer luminance contour line.
  • the beam emission 67 is captured by the camera 57, and the image signal sig2 is transmitted to the beam adjustment computer 17.
  • the beam adjustment computer 17 displays the camera image of the screen monitor 31 on the monitor 93 of the beam adjustment computer 17 from the image signal sig2 as shown in FIG. Since the camera 57 is arranged so as to be parallel to the normal line perpendicular to the surface of the screen monitor 31, the outer shape of the screen monitor 30 remains square.
  • the beam adjustment calculator 17 calculates the center of gravity of the luminance of the beam emission 67 from the camera image of the screen monitor 31, and calculates the center of gravity of the luminance as the beam position Pc.
  • the calculated beam position Pc is stored in the memory 92 of the beam adjustment computer 17.
  • step S002 the beam adjustment computer 17 calculates the slip angles ⁇ a , ⁇ b , ⁇ c , and ⁇ d of the steering electromagnets 23a, 23b, 23c, and 23d (slip angle calculation procedure).
  • slip angle calculation procedure A method of calculating the slip angles ⁇ a , ⁇ b , ⁇ c , and ⁇ d of the steering electromagnets 23a, 23b, 23c, and 23d will be described later.
  • step S003 the values of the excitation currents Ia, Ib, Ic, Id of the steering electromagnets 23a, 23b, 23c, 23d corresponding to the slip angles ⁇ a , ⁇ b , ⁇ c , ⁇ d calculated in step S002 are calculated.
  • Current value calculation procedure Specifically, the magnetic field B is calculated from the relationship angle ⁇ for each energy of the charged particle beam 44 from the relational expression of the magnetic field of the steering electromagnet, the energy of the charged particle beam, and the steering angle of the steering electromagnet.
  • the calculated magnetic field B is converted into an excitation current value I from the relational expression or conversion table of the steering electromagnet magnetic field and the excitation current value (excitation current value).
  • step S004 the values of the excitation currents Ia, Ib, Ic, and Id are set in the steering electromagnet power supplies 24a, 24b, 24c, and 24d of the steering electromagnets 23a, 23b, 23c, and 23d (current value setting procedure).
  • a method of calculating the slip angles ⁇ a , ⁇ b , ⁇ c , and ⁇ d of the steering electromagnets 23a, 23b, 23c, and 23d in the procedure of step S002, that is, the slip angle calculating procedure will be described.
  • Adjustment of the beam axis by the steering electromagnet usually adjusts the x direction and the y direction independently.
  • the steering electromagnets 23a and 23c are steering electromagnets for the x direction
  • the steering electromagnets 23b and 23d are steering electromagnets for the y direction. As shown in FIG.
  • the beam axis adjustment in the x direction or the beam axis in the y direction is performed by the two steering electromagnets 70a and 70b.
  • the two steering electromagnets 70a and 70b are the steering electromagnets 23a and 23c, respectively.
  • the two steering electromagnets 70a and 70b are the steering electromagnets 23b and 23d, respectively.
  • Dashed lines 81a, 81b, 81c, 81d are lines for indicating the sections R1, R2, R3 in FIG.
  • the broken lines 81a and 81b are lines that pass through the changing point of the beam trajectory in FIG. 13, and the broken line 81d is also a line that passes through the isocenter 48.
  • Beam transport of a charged particle beam is expressed using a transport matrix. Again, consider transport of the charged particle beam 44 using a transport matrix.
  • FIG. 12 shows a screen monitor 29, steering electromagnets 70a and 70b, and screen monitors 30 and 31 arranged on the reference beam trajectory 45.
  • the beam trajectory 68 is a beam trajectory of the charged particle beam 44 before beam axis adjustment.
  • the beam positions on the screen monitors 29, 30, and 31 before beam axis adjustment are Pa, Pb, and Pc, respectively.
  • the beam positions Pa, Pb, Pc are (s 1 , x 1 , y 1 ), (s 2 , x 2 , y 2 ), ( s 3 , x 3 , y 3 ).
  • the angle (x ′, y ′) at the position (x, y) is also used.
  • Prime ' represents the differentiation by s, that is, d / ds.
  • the beam axis adjustment in the x direction will be described.
  • the beam axis adjustment in the y direction is the same as the beam axis adjustment in the x direction.
  • the charged particle beam 44 during beam transportation is affected by a magnetic field by the equipment of the beam transport system 3 and the equipment of the particle beam irradiation apparatus 4, and the position and angle thereof change.
  • the charged particle beam 44 receives the action A by the magnetic field of the deflection electromagnet and the quadrupole electromagnet shown in FIG.
  • the charged particle beam 44 is subjected to the action B by the magnetic fields of the deflecting electromagnet and the quadrupole electromagnet shown in FIG. 1 and the magnetic fields of the scanning electromagnets 25x and 25y shown in FIG. .
  • the scanning electromagnets 25x and 25y are not excited with the excitation current, but there may be an influence due to a residual magnetic field or the like.
  • the charged particle beam 44 is subjected to the action C by equipment downstream from the screen monitor 30.
  • Actions A, B, and C can be expressed as transport matrices A, B, and C as shown in equations (1), (2), and (3), respectively.
  • the transport matrices A, B, and C can be obtained by calculation and are prepared in advance.
  • the relationship between the position and angle in the x direction on the screen monitor 29 and the position and angle in the x direction on the screen monitors 30 and 31 can be generally expressed as equations (4) and (5).
  • (x 1 , x ′ 1 ) is the position x 1 in the x direction on the screen monitor 29, the angle x ′ 1 in the x direction, that is, the position x 1 in the x direction at the beam position Pa on the beam trajectory 68, x is the direction of the angle x'1.
  • (X 2 , x ′ 2 ) is a position x 2 in the x direction on the screen monitor 30, an angle x ′ 2 in the x direction, that is, a position x 2 in the x direction at the beam position Pb on the beam trajectory 68 orbit. it is the angle x'2.
  • (X 3 , x ′ 3 ) is the position x 3 in the x direction on the screen monitor 31, the angle x ′ 3 in the x direction, that is, the position x 3 in the x direction at the beam position Pc on the beam trajectory 68, and the x direction it is the angle x'3.
  • the slip angle ⁇ 0 is an angle between the extension line 82a of the beam trajectory 69 of the charged particle beam incident on the steering electromagnet 70a and the beam trajectory 69 deflected by the steering electromagnet 70a.
  • the bevel angle ⁇ 1 is an angle between the extension line 82b of the beam trajectory 69 of the charged particle beam incident on the steering electromagnet 70b and the beam trajectory 69 (reference beam trajectory 45) deflected by the steering electromagnet 70b.
  • the beam trajectory is adjusted by the steering electromagnets 70a and 70b so that the beam trajectory 69 coincides with the reference beam trajectory 45 on the downstream side of the steering electromagnet 70b.
  • the coordinates S1, S2, and S3 are coordinates at which the broken lines 81a, 81b, and 81d intersect the s axis.
  • the beam position Pa of the charged particle beam 44 in the screen monitor 29 is adjusted on the reference beam trajectory 45.
  • the beam positions in the x direction measured by the screen monitors 30 and 31 are respectively expressed as ⁇ x 2 , and ⁇ x 3.
  • the beam positions ⁇ x 2 and ⁇ x 3 in the x direction are expressed with the point where the reference beam trajectory 45 passes through the screen monitors 30 and 31 as the origin.
  • the beam position ⁇ x 2 in the x direction can also be referred to as offset coordinates in the screen monitor 30 with reference to the reference beam trajectory 45.
  • the positions ⁇ x 2 and ⁇ x 3 including the slip angles ⁇ 0 and ⁇ 1 indicate the position changing action by the steering electromagnets 70a and 70b.
  • the angles ⁇ x ′ 2 and ⁇ x ′ 3 including the slip angles ⁇ 0 and ⁇ 1 indicate the angle changing action by the steering electromagnets 70a and 70b. Since the steering electromagnet 70a does not change the position in the x direction, the position changing action in the x direction by the steering electromagnet 70a is zero. Since steering magnet 70a is changed to kick angle theta 0 the angle of the x-direction, the angle changing action of the x-direction by the steering magnet 70a is theta 0.
  • the matrix of 2 rows and 1 column having 0 and ⁇ 0 as components is the action of the steering electromagnet 70a, that is, the position changing action in the x direction and the angle changing action in the x direction.
  • the matrix of 2 rows and 1 column having 0 and ⁇ 0 as components is the action of the steering electromagnet 70a, that is, the position changing action in the x direction and the angle changing action in the x direction.
  • it is (0, ⁇ 0 ).
  • the position changing action in the x direction by the steering electromagnet 70b is zero. Since steering magnet 70b is changed to kick angle theta 1 the angle of the x-direction, the angle changing action of the x-direction by the steering magnet 70b is theta 1.
  • the 2 ⁇ 1 matrix having 0 and ⁇ 1 as components is the action of the steering electromagnet 70b, that is, the position changing action in the x direction and the angle changing action in the x direction. When expressed in a vector format, it is (0, ⁇ 1 ).
  • equation (8) is obtained.
  • each component A 11 , A 12 , A 21 , A 22 , B 11 , B 12 , B 21 , B 22 , C 11 , C 12 , C 21 , C 22 of the transport matrix A, B, C. Can be obtained by calculation and is a known constant.
  • ⁇ x 2 and ⁇ x 3 are beam positions in the x direction measured by the screen monitors 30 and 31 and are known. Accordingly, the angles ⁇ 0 and ⁇ 1 can be calculated by solving the simultaneous statutory formula of the equation (8).
  • the beam adjustment computer 17 uses a program installed in the beam adjustment computer 17 to perform the beam position calculation unit 83, the slip angle calculation unit 84, the current value calculation unit 85, and the like shown in FIG. 14.
  • Each functional block of the current value setting unit 86 is configured.
  • the beam position calculation unit 83 is a functional block that executes the procedure of step S001
  • the slip angle calculation unit 84 is a functional block that executes the procedure of step S002.
  • the current value calculation unit 85 is a functional block that executes the procedure of step S003
  • the current value setting unit 86 is a functional block that executes the procedure of step S004.
  • the beam position calculation unit 83 calculates the gravity center of the luminance of the beam emission 66 by the charged particle beam 44 in the monitor image generated by the image signal sig1 of the screen monitor 30, and calculates the luminance gravity center of the beam emission 66 by the screen monitor 30. Is calculated as the beam position Pb of the charged particle beam 44 at.
  • the beam position calculation unit 83 calculates the barycenter of the luminance of the beam emission 67 by the charged particle beam 44 in the monitor image generated by the image signal sig2 of the screen monitor 31, and the barycenter of the luminance of the beam emission 67 is calculated on the screen. This is calculated as the beam position Pc of the charged particle beam 44 on the monitor 31.
  • the angle calculation unit 84 performs two x-direction steering operations so that the beam position Pb of the charged particle beam 44 on the screen monitor 30 and the beam position Pc of the charged particle beam 44 on the screen monitor 31 exist on the reference beam trajectory 45.
  • the deflection angles ⁇ a and ⁇ c that are the deflection angles of the steering electromagnets 23a and 23c, which are electromagnets, are calculated, respectively, and the deflection angles ⁇ b and ⁇ that are the deflection angles of the two steering electromagnets 23b and 23d, which are y-direction steering electromagnets. d is calculated.
  • Current value calculating section 85 steering magnets 23a, 23c of the kick angle theta a, theta steering magnets 23a based on the c, 23c of the excitation current Ia, calculates the value of Ic, further steering magnets 23b, kicking angle 23d theta b, calculated steering magnets 23b, 23d of the exciting current Ib, the value of Id on the basis of the theta d.
  • the current value setting unit 86 sets the values of the excitation currents Ia, Id, Ic, and Id calculated by the current value calculation unit 85 in the steering electromagnet power supplies 24a, 24b, 24c, and 24d.
  • the particle beam therapy system 100 includes two screen monitors 30 and 31 arranged on a drift line 47 from the scanning electromagnets 25x and 25y to the isocenter 48 during beam axis adjustment.
  • the beam positions Pb and Pc are measured, and the slip angles ⁇ a , ⁇ b , ⁇ c , and ⁇ d of the steering electromagnets 23a, 23b, 23c, and 24d disposed in the beam transport system 3 are calculated based on the beam positions Pb and Pc.
  • the actual beam axis of the particle beam irradiation apparatus 4 can be made to coincide with the reference beam axis (axis along the reference beam trajectory 45) set in the particle beam therapy apparatus 100 with high accuracy, which is higher than in the past. Irradiation accuracy can be improved.
  • the particle beam therapy system 100 uses the charged particle beam in the two screen monitors 30 and 31 disposed on the drift line 47 from the scanning electromagnets 25x and 25y to the isocenter 48 at the time of beam axis adjustment. 44, the beam positions Pb, Pc of the steering electromagnets 23a, 23b, 23c, 24d are measured so that the beam positions Pb, Pc exist on the reference beam trajectory 45 passing through the isocenter 48 that is the target irradiation position.
  • the values of the excitation currents Ia, Id, Ic and Id are calculated, and the steering angles of the steering electromagnets 23a, 23b, 23c and 24d arranged in the beam transport system 3 based on the values of the excitation currents Ia, Id, Ic and Id.
  • ⁇ a, ⁇ b, ⁇ c , ⁇ since adjusting the d, actual beam axis of the particle beam irradiation apparatus 4 is a particle beam therapy system 100 Can be matched to the precision constant criteria beam axis (the reference beam orbit 45 axis along the) can than conventional improving the irradiation accuracy.
  • the particle beam therapy system 100 uses two screen monitors 30 and 31 to measure the beam positions Pb and Pc of the charged particle beam 44.
  • the merit of using the screen monitors 30 and 31 will be described.
  • the screen monitors 30 and 31 have a simple structure including an intensifying screen arranged on a substrate, and are less expensive than a position monitor or a flatness monitor having a plurality of wires, so that the monitor can be easily adjusted. There is a merit that can be done.
  • the position monitor arranges a plurality of detection channels (wires) in gas to be ionized, and detects the passing position of the charged particle beam by the plurality of detection channels (wires).
  • the position monitor collects about 256 channels of data.
  • the flatness monitor has the same structure as the position monitor.
  • the flatness of the charged particle beam is measured by collecting data of about 30 channels.
  • the position monitor and the flatness monitor are connected to each detection channel with a signal cable, and are larger than the screen monitor, and installation adjustment and the like are complicated.
  • the flatness monitor is smaller than the position monitor, but because there are few detection channels, the passing position of the charged particle beam can be measured only with the accuracy of the number of detection channels, that is, the beam position can be determined with high accuracy like a screen monitor. It cannot be measured.
  • the screen monitors 30 and 31 have a simple structure and can measure the beam position with high accuracy.
  • the particle beam therapy system 100 includes the screen monitor 30 movably in a vacuum duct that maintains a part of the particle beam irradiation apparatus 4 in a vacuum, the particle beam irradiation apparatus is used for beam axis adjustment. Since the screen monitor 30 can be disposed on the reference beam trajectory 45 without breaking the vacuum of 4, preparation for beam position measurement by the screen monitor 30 can be facilitated. Further, since the position of the screen monitor 31 disposed on the downstream side of the drift line 47 at the time of beam axis adjustment is adjusted with respect to the screen monitor holder 59, if the screen monitor holder 59 is fixed to the snout 39, the device They are arranged at predetermined positions with reference to the reference position 50 and the isocenter 48. Preparation of beam position measurement by the screen monitor 31 disposed on the downstream side can be facilitated.
  • FIGS. 11 and 14 show an example of an adjustment procedure for adjusting the beam axis in the drift line 47 and an example of a functional block diagram of the beam adjustment computer.
  • FIG. 11 shows the beam axis in the drift line even in other adjustment procedures. Can be adjusted.
  • FIG. 16 is a flowchart showing another adjustment procedure for adjusting the beam axis in the drift line
  • FIG. 17 is a functional block diagram of a beam adjustment computer for executing the procedure of FIG.
  • steps S003 and S004 in the flowchart of FIG. 11 are replaced with steps S005 and S006. The different parts will be described below.
  • step S005 the values of the excitation currents Ia, Ib, Ic, Id of the steering electromagnets 23a, 23b, 23c, 23d corresponding to the slip angles ⁇ a , ⁇ b , ⁇ c , ⁇ d calculated in step S002, and charging Offset current values ⁇ Ia, ⁇ Ib which are differences between the initial current values of the steering electromagnets 23a, 23b, 23c, 23d when the beam emission of the particle beam 44 is observed and the calculated excitation currents Ia, Ib, Ic, Id. , ⁇ Ic, ⁇ Id are calculated (current value calculation procedure).
  • step S006 offset current values ⁇ Ia, ⁇ Ib, ⁇ Ic, ⁇ Id are set in the steering electromagnet power supplies 24a, 24b, 24c, 24d of the steering electromagnets 23a, 23b, 23c, 23d (current value setting procedure).
  • the steering electromagnet power supplies 24a, 24b, 24c, and 24d are offset currents set in the current value setting procedure to the initial current values of the steering electromagnets 23a, 23b, 23c, and 23d when the beam emission of the charged particle beam 44 is observed. Excitation currents Ia, Ib, Ic, and Id having values obtained by adding the values ⁇ Ia, ⁇ Ib, ⁇ Ic, and ⁇ Id are supplied to the respective steering electromagnets 23a, 23b, 23c, and 23d.
  • the Current calculation section 85 executes step S005 of FIG. 16, the steering electromagnets 23a, 23c of the excitation current Ia, the value of Ic is calculated on the basis of the steering magnet 23a, kick angle theta a to 23c, the theta c, further steering Based on the slip angles ⁇ b and ⁇ d of the electromagnets 23b and 23d, the values of the excitation currents Ib and Id of the steering electromagnets 23b and 23d are calculated.
  • the current value calculation unit 85 also includes initial current values of the steering electromagnets 23a, 23b, 23c, and 23d when the beam emission of the charged particle beam 44 is observed, and calculated excitation currents Ia, Ib, Ic, and Id.
  • the current value setting unit 86 sets the offset current values ⁇ Ia, ⁇ Ib, ⁇ Ic, and ⁇ Id calculated by the current value calculation unit 85 in the steering electromagnet power supplies 24a, 24b, 24c, and 24d.
  • the offset current values ⁇ Ia, ⁇ Ib, ⁇ Ic, ⁇ Id are set in the steering electromagnet power supplies 24a, 24b, 24c, 24d, the difference from the steering electromagnet power supply when the particle beam therapy system 100 is started up, that is, the offset current value ⁇ Ia , ⁇ Ib, ⁇ Ic, and ⁇ Id, the offset current value change tendency can be known, and the scheduled date for performing maintenance work (maintenance) can be set appropriately.
  • the particle beam therapy system 100 includes the accelerator system 2 that accelerates the charged particle beam 44, the beam transport system 3 that transports the charged particle beam 44 accelerated by the accelerator system 2, and the beam.
  • the charged particle beam 44 transported by the transport system 3 is scanned by the scanning electromagnets 25x and 25y to irradiate the irradiation target (affected part 43), and the scanning electromagnets 25x and 25y in the particle beam irradiating device 4 are used.
  • a beam adjusting device 18 for assisting adjustment of a beam axis which is an axis in the traveling direction of the charged particle beam 44 when not scanned.
  • the beam transport system 3 deflects the charged particle beam 44 in two x-direction steering electromagnets (steering electromagnets 23a and 23c) that are perpendicular to the traveling direction and the y-direction perpendicular to the traveling direction and the x-direction.
  • Two y-direction steering electromagnets (steering electromagnets 23b and 23d), two x-direction steering electromagnets (steering electromagnets 23a and 23c), and two y-direction steering electromagnets (steering electromagnets 23b and 23d) are respectively excited currents Ia and Ic. , Ib, Id, steering electromagnet power supplies 24a, 24c, 24b, 24d.
  • the beam adjustment device 18 is arranged to be movable in the direction intersecting the beam axis on the downstream side of the scanning electromagnets 25x and 25y of the particle beam irradiation device 4, and detects the beam position of the charged particle beam 44 by light emission.
  • the charged particle beam is detachably disposed at the tip of the particle beam irradiation device 4 (snaught 39) near the irradiation target (affected part 43) on the downstream side of the screen monitor 30) and the first screen monitor (screen monitor 30).
  • the beam adjustment computer 17 is a first beam position (beam) which is a beam position of the charged particle beam 44 in the first screen monitor (screen monitor 30) based on the image signals sig1 and sig2 output from the two cameras 56 and 57.
  • Position Pb) and the second beam position (beam position Pc) which is the beam position of the charged particle beam 44 in the second screen monitor (screen monitor 31) is on the reference beam trajectory 45 passing through the isocenter 48 which is the target irradiation position.
  • the values of the excitation currents Ia, Ic, Ib and Id of the two x-direction steering electromagnets (steering electromagnets 23a and 23c) and the two y-direction steering electromagnets (steering electromagnets 23b and 23d) are calculated so as to exist.
  • the actual beam axis of the particle beam irradiation apparatus 4 is the reference beam axis (axis along the reference beam trajectory 45) set in the particle beam therapy system 100. Therefore, the irradiation accuracy can be improved as compared with the prior art.
  • the position reference lines 63 and 64 may be omitted.
  • the positions of the screen monitors 30 and 31 are adjusted as follows.
  • the user adjusts the position of the screen monitors 30 and 31 by displaying a camera image obtained by photographing the surfaces of the screen monitors 30 and 31 with the camera without directly viewing the surfaces of the screen monitors 30 and 31 with the naked eye
  • reference lines corresponding to the position reference lines 63 and 64 are displayed on the monitor screen. In this way, even when the screen monitors 30 and 31 do not have the position reference lines 63 and 64, the positions of the screen monitors 30 and 31 can be adjusted.
  • the beam adjustment calculator 17 calculates the center of gravity (luminance centroid) of the respective light emission 66 and 67 from the camera images of the screen monitors 30 and 31, and calculates the centroid (luminance centroid) of the luminance as the beam positions Pb and Pc.
  • the beam adjustment computer 17 is a distribution center (Gaussian distribution center) that is the center of the Gaussian distribution when fitting the contour lines (luminance contour lines) of the respective beam emission 66 and 67 from the camera images of the screen monitors 30 and 31 with the Gaussian distribution. ) And the distribution center may be calculated as the beam positions Pb and Pc.
  • the setting of the excitation currents Ia, Ib, Ic, Id in step S004 is not limited to the case where the beam adjustment computer 17 sets.
  • the values of the excitation currents Ia, Ib, Ic, and Id may be stored in a recording medium and set in the steering electromagnets 23a, 23b, 23c, and 23d via the recording medium. Further, the user may manually set the values of the excitation currents Ia, Ib, Ic, and Id to the steering electromagnets 23a, 23b, 23c, and 23d.
  • the setting of the offset current values ⁇ Ia, ⁇ Ib, ⁇ Ic, and ⁇ Id in step S006 is not limited to the case where the beam adjustment computer 17 sets them.
  • the offset current values ⁇ Ia, ⁇ Ib, ⁇ Ic, ⁇ Id may be stored in a recording medium and set to the steering electromagnets 23a, 23b, 23c, 23d via the recording medium. Further, the user may manually set the values of the excitation currents Ia, Ib, Ic, and Id to the steering electromagnets 23a, 23b, 23c, and 23d.
  • the screen monitor 31 is disposed on the isocenter 48.
  • the screen monitor 31 is not limited to the position coincident with the isocenter 48, and the downstream side of the isocenter 48 is located downstream of the snout 39 of the particle beam irradiation device 4. It may be near upstream.
  • the beam adjustment device 18 according to the first embodiment can be applied to the particle beam irradiation device 4 including the scanning electromagnet of the wobbler method.
  • the present invention can be combined with each other, or each component can be appropriately modified or omitted.

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Radiology & Medical Imaging (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Radiation-Therapy Devices (AREA)

Abstract

本発明は、ビーム軸の調整を支援するビーム調整装置を備えた粒子線治療装置を実現することを目的とする。 粒子線治療装置(100)は、粒子線照射装置(4)における、走査電磁石(25x,25y)により走査されない場合の荷電粒子ビーム(44)の進行方向の軸であるビーム軸の調整を支援するビーム調整装置(18)を備える。ビーム調整装置(18)は、走査電磁石(25x,25y)の下流側においてビーム軸と交わる方向に移動可能に配置された第一スクリーンモニタ(30)、及び粒子線照射装置(4)の先端部(スノート(39))に着脱可能に配置された第二スクリーンモニタ(31)における荷電粒子ビーム(44)のビーム位置が、アイソセンタ(48)を通過する基準ビーム軌道(45)上に存在するように、2つのx方向ステアリング電磁石(23a,23c)、2つのy方向ステアリング電磁石(23b,23d)の励磁電流の値を算出するビーム調整計算機(17)を備える。

Description

粒子線治療装置
 本発明は、陽子線や炭素イオン線などの荷電粒子ビームを癌等の患部に照射して治療する粒子線治療装置に関するものである。
 一般に、粒子線治療装置は、荷電粒子ビームを加速する加速器と、加速器で設定されたエネルギーまで加速された後に出射される荷電粒子ビームを輸送するビーム輸送系と、ビーム輸送系の下流側に設置され、荷電粒子ビームを照射対象に照射するための粒子線照射装置とを備える。
 粒子線治療装置における照射方法には、大きく分けて2つある。第一の照射方法は、荷電粒子ビームを散乱体で散乱させて拡大し、拡大した荷電粒子ビームを照射対象の形状に合わせて照射野を形成し、照射対象である患者の患部全体に対してビームを一斉に照射するブロード照射法である。第二の照射方法は、照射対象の形状に合わせるように、細いペンシル状のビームを走査電磁石により任意の位置に走査して照射する走査式照射法(スポットスキャニング法、ラスタースキャニング法等)である。また、いくつかあるブロード照射法の内、荷電粒子ビームを回転磁場でX方向、Y方向同時に回転させて照射野を平坦化させるワブラー法では、X方向、Y方向の2台のワブラー電磁石で荷電粒子ビームを円軌道に沿って高速に走査する。
 特許文献1には、荷電粒子ビームを加速する加速器系と、この加速器系から出射された高エネルギービームを照射位置まで輸送するビーム輸送系とからなり、ビーム輸送系に少なくとも1個のステアリング電磁石とこれに対応する少なくとも1個のビーム位置モニタを備えた粒子線治療システム(粒子線治療装置)が開示されている。特許文献1の粒子線治療システム(粒子線治療装置)は、ビーム位置モニタの検出結果からビーム位置を補正するようにステアリング電磁石を駆動(励磁)している。
 特許文献2には、加速器にて加速されたイオンビーム(荷電粒子ビーム)を散乱体照射法の照射装置(粒子線照射装置)に輸送するビーム輸送装置(ビーム輸送系)に複数のプロファイルモニタを備えた粒子線治療システム(粒子線治療装置)が開示されている。また、特許文献2には、加速器にて加速されたイオンビーム(荷電粒子ビーム)をスキャニング照射法の照射装置(粒子線照射装置)に輸送するビーム輸送装置(ビーム輸送系)に複数のプロファイルモニタを備え、かつ照射装置に1つのプロファイルモニタを備えた粒子線治療システム(粒子線治療装置)が開示されている。特許文献2の粒子線治療システム(粒子線治療装置)は、プロファイルモニタにて検出されたビームサイズからビームサイズを補正するように四極電磁石を駆動(励磁)している。
国際公開WO2013/069090A1(0008段、0011段~0014段、0034段~0039段、図1、図10) 特開2011-206237号公報(0024段~0030段、0064段~0071段、図1、図8)
 特許文献1に開示された粒子線治療システムにおいては、実照射と異なる準備段階における照射である、試験照射の際に、着脱自在のビーム位置モニタを照射位置に設置した状態でビーム照射をする。特許文献1の粒子線治療システムは、ビーム位置の変動が再現性のある周期的のものであるという前提のもと、試験照射の際においてビーム位置の周期的な変動を無くすようにステアリング電磁石の励磁電流値を位置変動の周期に合わせて供給し、その周期的励磁電流値を取得し、この周期的励磁電流値を保存する。特許文献1の粒子線治療システムは、実照射の際にビーム位置モニタを取り外した状態で保存した周期的励磁電流をステアリング電磁石に供給するようにしている。すなわち、特許文献1の粒子線治療システムは、実照射の際にフィードフォワード制御をしている。
 また、特許文献2には、複数のプロファイルモニタにて検出されたビームサイズからビームサイズを補正するよう四極電磁石を駆動(励磁)する例が開示されているものの、目標照射位置(アイソセンタ)における荷電粒子ビームの入射角度を十分に考慮してステアリング電磁石の励磁電流を調整することは開示されていない。
 特許文献1の粒子線治療システムは、ノズル内に設けられた走査電磁石より下流に2個のビーム位置モニタを備えていない。また、特許文献2の粒子線治療システムも、照射装置に設けられた走査電磁石より下流に2個のプロファイルモニタを備えていない。特許文献1及び特許文献2の粒子線治療システムは、いずれも荷電粒子のビーム位置を測定するモニタを走査電磁石より下流に2個備えておらず、走査電磁石の下流側への荷電粒子ビームの入射角度が正確に分からないので、目標照射位置(アイソセンタ)における荷電粒子のビーム位置の精度が劣る。
 目標照射位置(アイソセンタ)における荷電粒子のビーム位置を高精度に調整するには、すなわち照射装置の実際のビーム軸が粒子線治療装置に設定されたビーム軸に高精度に一致させるためには、荷電粒子ビームを走査する走査電磁石の下流側の2箇所において荷電粒子のビーム位置を測定することが必要である。また、荷電粒子ビームの入射角度を十分に考慮して目標照射位置(アイソセンタ)における荷電粒子のビーム位置を調整するには、できる限り目標照射位置(アイソセンタ)に近い位置における荷電粒子ビームの入射角度を用いる方が、目標照射位置(アイソセンタ)における荷電粒子のビーム位置を高精度に調整することができる。
 本発明は上記のような課題を解決するためになされたものであり、荷電粒子ビームを走査する走査電磁石の下流側の2箇所において荷電粒子のビーム位置を測定し、ビーム軸の調整を支援するビーム調整装置を備えた粒子線治療装置を実現することを目的とする。
 本発明に係る粒子線治療装置は、荷電粒子ビームを加速する加速器系と、加速器系により加速された荷電粒子ビームを輸送するビーム輸送系と、ビーム輸送系で輸送された荷電粒子ビームを走査電磁石により走査して照射対象に照射する粒子線照射装置と、粒子線照射装置における、走査電磁石により走査されない場合の荷電粒子ビームの進行方向の軸であるビーム軸の調整を支援するビーム調整装置と、を備える。ビーム輸送系は、荷電粒子ビームをその進行方向に垂直なx方向に偏向する2つのx方向ステアリング電磁石と、進行方向及びx方向に垂直なy方向に偏向する2つのy方向ステアリング電磁石と、2つのx方向ステアリング電磁石、2つのy方向ステアリング電磁石のそれぞれに励磁電流を供給するステアリング電磁石電源と、を備える。ビーム調整装置は、粒子線照射装置の走査電磁石の下流側においてビーム軸と交わる方向に移動可能に配置され、荷電粒子ビームのビーム位置を発光により検出する第一スクリーンモニタと、第一スクリーンモニタの下流側で照射対象に近い粒子線照射装置の先端部に、着脱可能に配置され、荷電粒子ビームのビーム位置を発光により検出する第二スクリーンモニタと、第一スクリーンモニタ、第二スクリーンモニタのビーム発光面をそれぞれ観測する2つのカメラと、2つのx方向ステアリング電磁石、2つのy方向ステアリング電磁石の励磁電流の値を算出するビーム調整計算機と、を備える。ビーム調整計算機は、2つのカメラから出力された画像信号に基づいた、第一スクリーンモニタにおける荷電粒子ビームのビーム位置である第一ビーム位置及び第二スクリーンモニタにおける荷電粒子ビームのビーム位置である第二ビーム位置が、目標照射位置であるアイソセンタを通過する基準ビーム軌道上に存在するように、2つのx方向ステアリング電磁石、2つのy方向ステアリング電磁石の励磁電流の値を算出する。
 本発明に係る粒子線治療装置は、走査電磁石の下流側に移動可能に配置された第一スクリーンモニタ、及び粒子線照射装置の先端部に着脱可能に配置された第二スクリーンモニタにおける荷電粒子ビームのビーム位置が、アイソセンタを通過する基準ビーム軌道上に存在するように、2つのx方向ステアリング電磁石、2つのy方向ステアリング電磁石の励磁電流の値を算出するビーム調整装置を備えたので、照射装置の実際のビーム軸が粒子線治療装置に設定されたビーム軸に高精度に一致させることができ、従来よりも照射精度を向上することができる。
本発明の実施の形態1による粒子線治療装置の概略構成図である。 治療の際における、図1の粒子線照射装置の構成を示す構成図である。 ビーム軸調整の際における、図1の粒子線照射装置の構成を示す構成図である。 図3のスノートとスクリーンモニタホルダとの係合部を示す拡大図である。 配置変更装置に対する上流側のスクリーンモニタの位置調整を説明する図である。 配置変更装置の位置調整を説明する図である。 下流側のスクリーンモニタの位置調整を説明する図である。 上流側のスクリーンモニタを示す図である。 上流側のスクリーンモニタのカメラ画像を示す図である。 下流側のスクリーンモニタ及びカメラ画像を示す図である。 ドリフトラインにおけるビーム軸を調整する調整手順を示すフローチャートである。 ステアリング電磁石のけり角の計算方法を説明する図である。 ステアリング電磁石のけり角を説明する図である。 図11の手順を実行するビーム調整計算機の機能ブロック図である。 ビーム調整計算機のハードウェア構成を示す図である。 ドリフトラインにおけるビーム軸を調整する他の調整手順を示すフローチャートである。 図16の手順を実行するビーム調整計算機の機能ブロック図である。
実施の形態1.
 図1は本発明の実施の形態1による粒子線治療装置の概略構成図である。図2は、治療の際における、図1の粒子線照射装置の構成を示す構成図である。図3は、ビーム軸調整の際における、図1の粒子線照射装置の構成を示す構成図である。図4は、図3のスノートとスクリーンモニタホルダとの係合部を示す拡大図である。図5は配置変更装置に対する上流側のスクリーンモニタの位置調整を説明する図であり、図6は配置変更装置の位置調整を説明する図である。図7は、下流側のスクリーンモニタの位置調整を説明する図である。図8は上流側のスクリーンモニタを示す図であり、図9は上流側のスクリーンモニタのカメラ画像を示す図である。図10は、下流側のスクリーンモニタ及びカメラ画像を示す図である。図11は、ステアリング電磁石の調整手順を示すフローチャートである。図12はステアリング電磁石のけり角の計算方法を説明する図であり、図13はステアリング電磁石のけり角を説明する図である。図14は図11の手順を実行するビーム調整計算機の機能ブロック図であり、図15はビーム調整計算機のハードウェア構成を示す図である。
 実施の形態1の粒子線治療装置100は、イオン源(図示せず)、入射器11、四極電磁石12a、12b等からなる入射系1と、入射器11から出射された荷電粒子ビーム44を周回させながら必要なエネルギーまで加速させるシンクロトロン等である加速器系2と、この加速器系2により必要なエネルギーまで加速された荷電粒子ビーム44を粒子線照射装置4に輸送するビーム輸送系3と、荷電粒子ビーム44を患者42の患部43(照射対象)にあわせて照射野を形成して照射する粒子線照射装置4と、入射系1、加速器系2、ビーム輸送系3、粒子線照射装置4を制御する照射制御装置5と、粒子線照射装置4のビーム軸の調整を支援するビーム調整装置18を備えている。ビーム調整装置18が調整支援するビーム軸は、粒子線照射装置4における、走査電磁石25x、25yにより走査されない場合の荷電粒子ビーム44の進行方向の軸である。
 図1において、入射器11で発生した荷電粒子ビーム44は、シンクロトロン等の加速器系2に入射され、ここで必要なエネルギーまで加速される。加速器系2で加速された荷電粒子ビーム44は、出射用偏向電磁石20からビーム輸送系3へと出射され、後述する各種電磁石を経由してビーム軌道が調整されて粒子線照射装置4に輸送され、粒子線照射装置4により患者42の患部43(照射対象)に照射される。ビーム輸送系3は、荷電粒子ビーム44のビームサイズを調整する複数の四極電磁石22a、22b、22c、22d、22e、22f、22g、22h、22i、22j、ビーム軌道を補正するステアリング電磁石23a、23b、23c、23d、ビームの方向を偏向する偏向電磁石21a、21b、21c、荷電粒子ビーム44のビーム位置を検出するスクリーンモニタ29、ステアリング電磁石23a、23b、23c、23dに励磁電流Ia、Ib、Ic、Idを供給し、各励磁電流Ia、Ib、Ic、Idをそれぞれ制御するステアリング電磁石電源24a、24b、24c、24dを備えている。ビーム調整装置18は、ビーム調整計算機17と、粒子線照射装置4に配置されるスクリーンモニタ30、31の表面、すなわち荷電粒子ビーム44により発光する発光面をそれぞれ観測するように配置されるカメラ56、57とを備える。ステアリング電磁石23a、23b、23c、23dは、荷電粒子ビーム44を偏向してビーム軌道を補正する。
 粒子線照射装置4は、走査電磁石25x、25yと、複数の散乱体(図示せず)及びスクリーンモニタ30を備えた配置変更装置28と、真空ダクト26、27a、27cと、スノート39とを備える。また、粒子線照射装置4は、図示はしないが、例えば、線量モニタと、リッジフィルタと、レンジシフタと、位置モニタと、ブロックコリメータと、マルチリーフコリメータと、補償フィルタと、患者コリメータとを備える。配置変更装置28は、スクリーンモニタ30以外にも他の構成物を備える。配置変更装置28は、スクリーンモニタ30と、真空ダクト27bと、スクリーンモニタ30に接続された支持棒54と、支持棒54を駆動する駆動装置55とを備える。支持棒54と、駆動装置55は、スクリーンモニタ30を移動するスクリーンモニタ移動装置52である。例えば、駆動装置55は、圧縮空気により支持棒54を移動させる。
 走査電磁石25x、25yは、照射野を拡大する電磁石であり、例えばスキャニング電磁石である。荷電粒子ビーム44が進行するビーム進行方向はs方向であり、荷電粒子ビーム44が進行するビーム軸はs軸(s方向の軸)である。走査電磁石25xは荷電粒子ビーム44をs軸に垂直な方向(x方向)に走査し、走査電磁石25yは、荷電粒子ビーム44をs軸及びx軸に垂直な方向(y方向)に走査する。図示しない散乱体は、鉛などで構成され、荷電粒子ビーム44を散乱させる。図示しないリッジフィルタは、アルミニウムなどで構成され、照射対象(患部43)の厚さに応じて、ブラッグピークの幅を拡大する。図示しないレンジシフタは、荷電粒子ビーム44のエネルギーを変更し、荷電粒子ビーム44の飛程を変更する。図示しない線量モニタは、荷電粒子ビーム44の線量を検出する。図示しない位置モニタは、走査電磁石25x、25yで走査された荷電粒子ビーム44が通過するビーム情報を検出する。このビーム情報に基づいて、図示しないデータ処理装置により荷電粒子ビーム44の通過位置(重心位置)やサイズが演算される。照射制御装置5は、図示しない治療計画装置で作成された治療計画データに基づいて、荷電粒子ビーム44の照射を開始し、線量モニタで測定された線量が目標線量に達すると荷電粒子ビーム44を停止する。
 図示しないブロックコリメータは、荷電粒子ビーム44のビーム軸に垂直なビーム範囲を制限する。図示しないマルチリーフコリメータは、複数のリーフ板からなるリーフ部とリーフ板のそれぞれを駆動するリーフ駆動機構で構成され、荷電粒子ビーム44のビーム軸に垂直な照射野(平面形状)を患部形状にほぼ合うように調整する。図示しない補償フィルタは、照射対象(患部43)の深さ形状(ディスタル形状)に合うように荷電粒子ビーム44のエネルギーを調整する。図示しない患者コリメータは、マルチリーフコリメータで調整されたビーム軸に垂直な照射野(平面形状)を患部形状に高精度に合わせるように調整する。なお、小さなサイズの患部43には、マルチリーフコリメータを用いずに、ブロックコリメータと患者コリメータでビーム軸に垂直な照射野(平面形状)を患部形状に合わせるように調整する場合もある。また、大きなサイズの患部43には、患者コリメータを用いずに、ブロックコリメータとマルチリーフコリメータでビーム軸に垂直な照射野(平面形状)を患部形状に合わせるように調整する場合もある。
 アイソセンタ48は、荷電粒子ビーム44を照射対象(患部43)に照射する照射中心であり、ビーム軸調整の基準である。基準ビーム軌道45は、走査電磁石25x、25yにより走査されていない場合における荷電粒子ビーム44がアイソセンタ48を通過するビーム軌道である。ドリフトライン47は、上流側の走査電磁石25xからアイソセンタ48までの荷電粒子ビーム44が走査されるs方向の範囲である。
 スクリーンモニタ30は真空中に配置されている。真空ダクト27bにはスクリーンモニタ30を観察する窓53が設けられており、この窓53からスクリーンモニタ30をカメラ56により撮影する。図示しない、線量モニタ、リッジフィルタ、レンジシフタ、位置モニタは、例えば天井46よりビームの上流側に配置される。スノート39は、図示しないブロックコリメータ、図示しないマルチリーフコリメータを収納する突端である。
 図2に示すように、荷電粒子ビーム44を照射対象(患部43)に照射する治療の際には、スクリーンモニタ30は荷電粒子ビーム44が当たらない位置に退避される。すなわち、治療の際には、スクリーンモニタ30はスクリーンモニタ移動装置52により退避位置に移動されている。図2の破線で示したスクリーンモニタ30aは、ビーム軸調整の際におけるスクリーンモニタ30である。ビーム軸調整の際には、スクリーンモニタ30はスクリーンモニタ移動装置52によりビーム測定位置(スクリーンモニタ30aの位置)に移動される。
 図3を用いて、ビーム軸調整の際の粒子線照射装置4を説明する。ビーム軸調整は、粒子線治療装置100の立ち上げの際と、保守作業(メンテナンス)の際に行われる。スクリーンモニタ30は、図2に示した退避位置からスクリーンモニタ移動装置52によりビーム測定位置に移動されている。治療の際にスノート39の下流側に配置されていた図示しない補償フィルタ及び患者コリメータは、基準ビーム軌道45から離れた位置に移動されている。補償フィルタ及び患者コリメータの代わりに、スノート39の下流側にスクリーンモニタホルダ59、スクリーンモニタ31、カメラ57が配置されている。また、スクリーンモニタ31の表面を観測するカメラ56が、配置変更装置28の窓53の近くに配置されている。図3では、スクリーンモニタ30を観測するカメラ56は、スクリーンモニタ30の表面に垂直な法線から斜めにずれた角度で配置された例を示した。また、図3では、スクリーンモニタ31の表面を観測するカメラ57は、スクリーンモニタ31の表面に垂直な法線に平行になるように配置された例を示した。
 スクリーンモニタホルダ59は、上流側の端部に複数の係合部74を備えており、スノート39の下端部に設けられた複数の係合部71に係合されて、固定されている。係合部71はスクリーンモニタホルダ59側に突き出た爪72を有している。係合部71の爪72は、係合部74の下流側の面、すなわち下流面75から、係合部74をスノート39側に押圧している。これにより、スクリーンモニタホルダ59は、基準ビーム軌道45に平行なs方向の位置がスノート39に対して固定される。また、係合部74の外周面76は、対向する係合部71の内周面73に接触している。これにより、スクリーンモニタホルダ59は、基準ビーム軌道45に垂直なx方向及びy方向の位置がスノート39に対して固定される。係合部71は照射装置係合部であり、係合部74はホルダ係合部である。
 スクリーンモニタ30、31の位置調整方法を説明する。配置変更装置28の内部に配置されるスクリーンモニタ30は、配置変更装置28に対して位置決めされている。スクリーンモニタ30は、四角形(方形)の板状の発光体であり、図8に示すように、各辺の中央に基準印62が設けられ、互いに対向する基準印62を結ぶ位置基準線63、64が設けられている。図8では、スクリーンモニタ30の外形が正方形であり、位置基準線63と位置基準線64とが垂直である例を示した。図5に示すように、スクリーンモニタ30は、スクリーンモニタ30の中心点、例えば位置基準線63と位置基準線64との交点が基準軸65を通過する位置に位置決めされる。後述するように、この基準軸65が基準ビーム軌道45に一致するように配置変更装置28は配置される。この位置がビーム測定位置である。スクリーンモニタ30は、モニタ移動線60に沿ってスクリーンモニタ移動装置52により移動するので、ビーム軸調整の際に、ビーム測定位置はスクリーンモニタ移動装置52により調整される。破線61は位置基準線64に平行な線である。図5では、基準軸65とモニタ移動線60とが角度βで交わり、破線61とモニタ移動線60とが角度αで交わっている例を示した。なお、図5では、角度βは90°である。
 図6に示すように、配置変更装置28は、例えば、基準ビーム軌道45上に定められた装置基準位置50とアイソセンタ48を基準にして配置される。具体的には、基準軸65と基準ビーム軌道45とを一致させ、配置変更装置28のs方向の基準と装置基準位置50とアイソセンタ48とを合わせることにより、配置変更装置28は位置決めされて固定される。配置変更装置28のs方向の基準は、例えば、配置変更装置28の上流側の面77、又は配置変更装置28の下流側の面78である。位置調整されたスクリーンモニタ30は、ユーザーの遠隔指示によるスクリーンモニタ移動装置52の駆動により、ビーム測定位置又は退避位置に配置される。スクリーンモニタ30は、粒子線照射装置4の走査電磁石25x、25yの下流側に移動可能に配置される。スクリーンモニタ30は、ビーム軸調整の際にビーム測定位置に移動され、治療の際にビーム測定位置から退避位置に移動される。
 図7に示すように、スクリーンモニタ31は、装置基準位置50及びアイソセンタ48を基準にして、スクリーンモニタホルダ59に対して位置決めさている。スクリーンモニタ31は、スクリーンモニタ30と同様に構成されている。スクリーンモニタ31は、四角形(方形)の板状の発光体であり、図10に示すように、各辺の中央に基準印62が設けられ、互いに対向する基準印を結ぶ位置基準線63、64が設けられている。図10では、スクリーンモニタ31の外形が正方形であり、位置基準線63と位置基準線64とが垂直である例を示した。スクリーンモニタ31は、スクリーンモニタ31の中心点、例えば位置基準線63と位置基準線64との交点が基準ビーム軌道45上のアイソセンタ48と一致する位置に位置決めされる。より具体的には、スクリーンモニタ31は、スノート39に固定されたスクリーンモニタホルダ59内で、スクリーンモニタ31の中心点、例えば位置基準線63と位置基準線64との交点が基準ビーム軌道45上のアイソセンタ48と一致する位置に位置決めされる。
 スクリーンモニタホルダ59に対して位置調整されたスクリーンモニタ31は、ユーザーの手動操作により、ビーム測定位置又は退避位置に配置される。スクリーンモニタ31は、照射対象(患部43)に最も近い粒子線照射装置4の先端部、すなわちスノート39の下流側に、着脱可能に配置される。スクリーンモニタ31は、ビーム軸調整の際にスノート39の下流側に装着され、治療の際にスノート39の下流側から離脱される。
 スクリーンモニタホルダ59は、嵌合方式、すなわち係合部71、74により嵌合する方式を用いて、スノート39に固定される。このため、次回のビーム軸調整の際に、スクリーンモニタホルダ59をスノート39に固定すれば、スクリーンモニタ31は、装置基準位置50及びアイソセンタ48を基準にした所定の位置に配置される。
 次に、ドリフトライン47におけるビーム軸を調整する調整手順を説明する。ドリフトライン47におけるビーム軸を調整する際に、粒子線照射装置4は図3に示すように構成される。ステップS001にて、スクリーンモニタ30、31におけるビーム位置Pb、Pcを上流側から順番にカメラで撮影し、ビーム位置Pb、Pcを算出する(ビーム位置算出手順)。板状の発光体を用いたスクリーンモニタは、この下流側に荷電粒子ビームを通過させないので、観測対象のスクリーンモニタより上流側のスクリーンモニタは基準ビーム軌道45から退避位置に移動されている。スクリーンモニタ30における荷電粒子ビーム44のビーム位置Pbを測定する際は、スクリーンモニタ30より上流側のスクリーンモニタ29が退避位置に移動されている。
 板状の発光体であるスクリーンモニタ29、30、31の構成を詳しく説明する。スクリーンモニタ29、30、31は、基板と、基板の上位流側に配置された、荷電粒子ビーム44が当たると発光する増感紙を備えている。例えば、増感紙は、富士フィルムメディカル製の増感紙PS-Hを用いることができる。基準ビーム軌道45上に配置されたスクリーンモニタ30に荷電粒子ビーム44が照射されると、図8に示すようにスクリーンモニタ30上にビーム発光66が生じる。図8において、ビーム発光66は、複数の輝度等高線を有する例を示した。中央側の輝度等高線は、外側の輝度等高線よりも輝度が高い。ビーム発光66はカメラ56で撮影され、画像信号sig1がビーム調整計算機17に送信される。ビーム調整計算機17は、プロセッサ91、メモリ92、モニタ93を備えており、プロセッサ91がメモリ92に記憶されたプログラムを実行することにより、各種の機能を実現する。ビーム調整計算機17は画像信号sig1から図9に示すように、スクリーンモニタ30のカメラ画像をビーム調整計算機17のモニタ93に表示する。カメラ56はスクリーンモニタ30の表面に垂直な法線から斜めにずれた角度で配置されているので、スクリーンモニタ30の外形はx方向に縮んだ長方形になっている。ビーム調整計算機17は、スクリーンモニタ30のカメラ画像からビーム発光66の輝度の重心を計算し、この輝度の重心をビーム位置Pbとして算出する。算出したビーム位置Pbは、ビーム調整計算機17のメモリ92に記憶される。
 その後、ユーザーの遠隔指示によるスクリーンモニタ移動装置52の駆動により、スクリーンモニタ30は退避位置(図2におけるスクリーンモニタ30の位置)に移動される。基準ビーム軌道45上に配置されたスクリーンモニタ31に荷電粒子ビーム44が照射されると、図10に示すようにスクリーンモニタ31上にビーム発光67が生じる。図10において、図8のビーム発光66と同様に、ビーム発光67は、複数の輝度等高線を有する例を示した。中央側の輝度等高線は、外側の輝度等高線よりも輝度が高い。ビーム発光67はカメラ57で撮影され、画像信号sig2がビーム調整計算機17に送信される。ビーム調整計算機17は画像信号sig2から図10に示すように、スクリーンモニタ31のカメラ画像をビーム調整計算機17のモニタ93に表示する。カメラ57はスクリーンモニタ31の表面に垂直な法線に平行になるように配置されているので、スクリーンモニタ30の外形は正方形のままになっている。ビーム調整計算機17は、スクリーンモニタ31のカメラ画像からビーム発光67の輝度の重心を計算し、この輝度の重心をビーム位置Pcとして算出する。算出したビーム位置Pcは、ビーム調整計算機17のメモリ92に記憶される。
 ステップS002にて、ビーム調整計算機17は、ステアリング電磁石23a、23b、23c、23dのけり角θ、θ、θ、θを算出する(けり角算出手順)。ステアリング電磁石23a、23b、23c、23dのけり角θ、θ、θ、θを算出する方法は後述する。
 ステップS003にて、ステップS002で算出したけり角θ、θ、θ、θに応じたステアリング電磁石23a、23b、23c、23dの励磁電流Ia、Ib、Ic、Idの値を算出する(電流値算出手順)。具体的には、ステアリング電磁石の磁場、荷電粒子ビームのエネルギー、ステアリング電磁石のけり角の関係式から、荷電粒子ビーム44のエネルギー毎のけり角θから磁場Bを算出する。算出された磁場Bを、ステアリング電磁石の磁場、励磁電流の値(励磁電流値)の関係式又は変換テーブルから、励磁電流の値Iに変換する。
 ステップS004にて、ステアリング電磁石23a、23b、23c、23dのそれぞれのステアリング電磁石電源24a、24b、24c、24dに、励磁電流Ia、Ib、Ic、Idの値を設定する(電流値設定手順)。
 ステップS002の手順、すなわちけり角算出手順における、ステアリング電磁石23a、23b、23c、23dのけり角θ、θ、θ、θを算出する方法を説明する。ステアリング電磁石によるビーム軸の調整は、通常x方向とy方向を独立に調整する。例えば、ステアリング電磁石23a、23cはx方向用のステアリング電磁石であり、ステアリング電磁石23b、23dはy方向用のステアリング電磁石である。図12に示したように、2つのステアリング電磁石70a、70bによりx方向のビーム軸調整又はy方向のビーム軸調整を行う。x方向のビーム軸調整を行う場合は、2つのステアリング電磁石70a、70bは、それぞれステアリング電磁石23a、23cである。同様に、y方向のビーム軸調整を行う場合は、2つのステアリング電磁石70a、70bは、それぞれステアリング電磁石23b、23dである。破線81a、81b、81c、81dは、図12の区間R1、R2、R3を示すための線である。なお、破線81a、81bは、図13におけるビーム軌道の変化点を通過する線であり、破線81dはアイソセンタ48を通過する線でもある。
 荷電粒子ビームのビーム輸送は、輸送行列を用いて表現される。ここでも、輸送行列を用いて、荷電粒子ビーム44のビーム輸送を考える。図12には、基準ビーム軌道45上に配置された、スクリーンモニタ29、ステアリング電磁石70a、70b、スクリーンモニタ30、31を示した。ビーム軌道68は、ビーム軸調整前の荷電粒子ビーム44のビーム軌道である。スクリーンモニタ29、30、31におけるビーム軸調整前のビーム位置は、それぞれPa、Pb、Pcである。ビーム位置は、s座標、x座標、y座標で表せるので、ビーム位置Pa、Pb、Pcは、それぞれ、(s、x、y)、(s、x、y)、(s、x、y)と表せる。輸送行列を用いたビーム輸送では、位置(x、y)における角度(x´、y´)も用いる。プライム´は、sによる微分、すなわちd/dsを表している。
 ここでは、x方向のビーム軸調整を説明する。なお、y方向のビーム軸調整も、x方向のビーム軸調整と同様である。ビーム輸送中の荷電粒子ビーム44は、ビーム輸送系3の機器及び粒子線照射装置4の機器により磁場の作用を受け、位置及び角度が変化する。ステアリング電磁石70aとステアリング電磁石70bとの間の区間R1では、図1に示した偏向電磁石、四極電磁石の磁場により荷電粒子ビーム44は作用Aを受ける。ステアリング電磁石70bとスクリーンモニタ30との間の区間R2では、図1に示した偏向電磁石、四極電磁石の磁場と、図2の走査電磁石25x、25y等の磁場により荷電粒子ビーム44は作用Bを受ける。なお、ビーム軸調整の際には走査電磁石25x、25yを励磁電流で励磁することはないが、残留磁場等による影響がある場合もある。スクリーンモニタ30とスクリーンモニタ31との間の区間R3では、スクリーンモニタ30より下流側の機器により、荷電粒子ビーム44は作用Cを受ける。作用A、B、Cは、それぞれ式(1)、式(2)、式(3)のように、輸送行列A、B、Cと表すことができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000003
 輸送行列A、B、Cは、計算により求めることができ、事前に用意してある。スクリーンモニタ29におけるx方向の位置及び角度と、スクリーンモニタ30、31におけるx方向の位置及び角度との関係は、一般的に数式(4)、(5)のように表せる。ここで、(x、x´)は、スクリーンモニタ29におけるx方向の位置x、x方向の角度x´、すなわちビーム軌道68軌道上のビーム位置Paにおけるx方向の位置x、x方向の角度x´である。(x、x´)は、スクリーンモニタ30におけるx方向の位置x、x方向の角度x´、すなわちビーム軌道68軌道上のビーム位置Pbにおけるx方向の位置x、x方向の角度x´である。(x、x´)は、スクリーンモニタ31におけるx方向の位置x、x方向の角度x´、すなわちビーム軌道68軌道上のビーム位置Pcにおけるx方向の位置x、x方向の角度x´である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000004
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000005
 次に、図12のステアリング電磁石70a、70bのけり角θ、θの算出方法を説明する。けり角θは、図13に示すように、ステアリング電磁石70aに入射する荷電粒子ビームのビーム軌道69における延長線82aと、ステアリング電磁石70aで偏向されたビーム軌道69との角度である。けり角θは、ステアリング電磁石70bに入射する荷電粒子ビームのビーム軌道69における延長線82bと、ステアリング電磁石70bで偏向されたビーム軌道69(基準ビーム軌道45)との角度である。図13に示すように、ステアリング電磁石70bより下流側で、ビーム軌道69が基準ビーム軌道45に一致するように、ステアリング電磁石70a、70bによりビーム軌道が調整される。なお、座標S1、S2、S3は、破線81a、81b、81dがs軸と交わる座標である。
 ビーム輸送系3のビーム軸調整は、上流側から下流側に順番に調整するので、スクリーンモニタ29における荷電粒子ビーム44のビーム位置Paは基準ビーム軌道45上に調整されている。x方向の位置x、y方向の位置yは、共にゼロ、すなわちx=0、y=0である。このように、スクリーンモニタ29における荷電粒子ビーム44のビーム位置Paが基準ビーム軌道45上に調整されている状態において、スクリーンモニタ30、31により測定されたx方向のビーム位置を、それぞれΔx、Δxとする。x方向のビーム位置Δx、Δxは、スクリーンモニタ30、31における基準ビーム軌道45が通過する点を原点として表したものである。また、x方向のビーム位置Δxは、基準ビーム軌道45を基準にしたスクリーンモニタ30におけるオフセット座標ということもできる。x方向のビーム位置Δxは、基準ビーム軌道45を基準にしたスクリーンモニタ31におけるオフセット座標ということもできる。ステアリング電磁石70a、70bのけり角θ、θを調整して、スクリーンモニタ30、31におけるx方向のビーム位置が各スクリーンモニタ30、31の中央を通るようにするので、Δx=0、Δx=0にする必要がある。つまり、スクリーンモニタ30、31のビーム位置に対して、それぞれ-Δxの作用、-Δxの作用が生じるように、ステアリング電磁石70a、70bのけり角θ、θを調整すればよい。
 一般的な式(4)、式(5)を用いると、けり角θ、θを含む位置及び角度、すなわち(-Δx、-Δx´)、(-Δx、-Δx´)は式(6)、式(7)のように表すことができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000006
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000007
 けり角θ、θを含む位置-Δx、-Δxは、ステアリング電磁石70a、70bによる位置変更作用を示している。けり角θ、θを含む角度-Δx´、-Δx´は、ステアリング電磁石70a、70bによる角度変更作用を示している。ステアリング電磁石70aはx方向の位置を変更しないので、ステアリング電磁石70aによるx方向の位置変更作用は0である。ステアリング電磁石70aはx方向の角度をけり角θに変更するので、ステアリング電磁石70aによるx方向の角度変更作用はθである。式(6)、式(7)において、0及びθを成分とする2行1列の行列は、ステアリング電磁石70aの作用、すなわち、x方向の位置変更作用及びx方向の角度変更作用であり、ベクトル形式で表現すれば、(0、θ)である。
 ステアリング電磁石70bはx方向の位置を変更しないので、ステアリング電磁石70bによるx方向の位置変更作用は0である。ステアリング電磁石70bはx方向の角度をけり角θに変更するので、ステアリング電磁石70bによるx方向の角度変更作用はθである。式(6)、式(7)において、0及びθを成分とする2行1列の行列は、ステアリング電磁石70bの作用、すなわち、x方向の位置変更作用及びx方向の角度変更作用であり、ベクトル形式で表現すれば、(0、θ)である。
 式(6)における-Δxと式(7)における-Δxを展開すれば、式(8)のようになる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000008
 前述したように、輸送行列A、B、Cの各成分A11、A12、A21、A22、B11、B12、B21、B22、C11、C12、C21、C22は、計算により求めることができ、既知の定数である。Δx、Δxは、スクリーンモニタ30、31により測定されたx方向のビーム位置であり、既知である。したがって、式(8)の連立法定式を解くことにより、けり角θ、θが算出できる。
 ビーム調整計算機17は、図11の調整手順を実行する際に、ビーム調整計算機17に搭載されたプログラムにより、図14に示すビーム位置算出部83、けり角算出部84、電流値算出部85、電流値設定部86の各機能ブロックを構成する。ビーム位置算出部83はステップS001の手順を実行する機能ブロックであり、けり角算出部84はステップS002の手順を実行する機能ブロックである。電流値算出部85はステップS003の手順を実行する機能ブロックであり、電流値設定部86はステップS004の手順を実行する機能ブロックである。ビーム位置算出部83は、スクリーンモニタ30の画像信号sig1により生成されたモニタ画像における、荷電粒子ビーム44によるビーム発光66の輝度の重心を計算し、このビーム発光66の輝度の重心をスクリーンモニタ30における荷電粒子ビーム44のビーム位置Pbとして算出する。また、ビーム位置算出部83は、スクリーンモニタ31の画像信号sig2により生成されたモニタ画像における、荷電粒子ビーム44によるビーム発光67の輝度の重心を計算し、このビーム発光67の輝度の重心をスクリーンモニタ31における荷電粒子ビーム44のビーム位置Pcとして算出する。
 けり角算出部84は、スクリーンモニタ30における荷電粒子ビーム44のビーム位置Pb及びスクリーンモニタ31における荷電粒子ビーム44のビーム位置Pcが、基準ビーム軌道45上に存在するように、2つのx方向ステアリング電磁石であるステアリング電磁石23a、23cの偏向角度であるけり角θ、θをそれぞれ算出し、更に2つのy方向ステアリング電磁石であるステアリング電磁石23b、23dの偏向角度であるけり角θ、θをそれぞれ算出する。
 電流値算出部85は、ステアリング電磁石23a、23cのけり角θ、θに基づいてステアリング電磁石23a、23cの励磁電流Ia、Icの値を算出し、更にステアリング電磁石23b、23dのけり角θ、θに基づいてステアリング電磁石23b、23dの励磁電流Ib、Idの値を算出する。電流値設定部86は、電流値算出部85により算出された励磁電流Ia、Id、Ic、Idの値を、ステアリング電磁石電源24a、24b、24c、24dに設定する。
 実施の形態1の粒子線治療装置100は、ビーム軸調整の際に走査電磁石25x、25yからアイソセンタ48までのドリフトライン47に配置された、2つのスクリーンモニタ30、31において、荷電粒子ビーム44のビーム位置Pb、Pcを測定し、このビーム位置Pb、Pcに基づいてビーム輸送系3に配置されたステアリング電磁石23a、23b、23c、24dのけり角θ、θ、θ、θを調整するので、粒子線照射装置4の実際のビーム軸が粒子線治療装置100に設定された基準ビーム軸(基準ビーム軌道45に沿った軸)に高精度に一致させることができ、従来よりも照射精度を向上することができる。
 また、実施の形態1の粒子線治療装置100は、ビーム軸調整の際に走査電磁石25x、25yからアイソセンタ48までのドリフトライン47に配置された、2つのスクリーンモニタ30、31において、荷電粒子ビーム44のビーム位置Pb、Pcを測定し、このビーム位置Pb、Pcが、目標照射位置であるアイソセンタ48を通過する基準ビーム軌道45上に存在するように、ステアリング電磁石23a、23b、23c、24dの励磁電流Ia、Id、Ic、Idの値を算出し、この励磁電流Ia、Id、Ic、Idの値に基づいてビーム輸送系3に配置されたステアリング電磁石23a、23b、23c、24dのけり角θ、θ、θ、θを調整するので、粒子線照射装置4の実際のビーム軸が粒子線治療装置100に設定された基準ビーム軸(基準ビーム軌道45に沿った軸)に高精度に一致させることができ、従来よりも照射精度を向上することができる。
 実施の形態1の粒子線治療装置100は、荷電粒子ビーム44のビーム位置Pb、Pcを測定するために、2つのスクリーンモニタ30、31を用いている。スクリーンモニタ30、31を用いるメリットを述べる。スクリーンモニタ30、31は、基板に配置された増感紙を備えた簡単な構造であり、複数のワイヤを備えた位置モニタや平坦度モニタに比べて、安価であり、モニタの調整が容易に行えるメリットがある。位置モニタは、電離するガス中に複数の検出チャネル(ワイヤ)を配置し、荷電粒子ビームの通過位置を複数の検出チャネル(ワイヤ)により検出する。位置モニタは、256チャンネル程度のデータを収集する。平坦度モニタは、位置モニタと同様の構造であり、ブロード照射法において、荷電粒子ビームの平坦度を30チャンネル程度のデータを収集して測定する。位置モニタや平坦度モニタは、検出チャネル毎に信号ケーブルが接続され、スクリーンモニタに比べて大型であり、設置調整等が複雑である。平坦度モニタは位置モニタに比べれば小型であるが、検出チャネルが少ないので、荷電粒子ビームの通過位置は検出チャネル数の精度でしか測定できず、すなわちスクリーンモニタのように高精度でビーム位置を測定することはできない。スクリーンモニタ30、31は、位置モニタや平坦度モニタと異なり、簡単な構造で、高精度にビーム位置を測定することができる。
 実施の形態1の粒子線治療装置100は、粒子線照射装置4の一部を真空に維持する真空ダクト中に移動可能にスクリーンモニタ30を備えたので、ビーム軸調整の際に粒子線照射装置4の真空をやぶることなく、基準ビーム軌道45上にスクリーンモニタ30を配置できるので、スクリーンモニタ30によるビーム位置測定準備が容易にできる。また、ビーム軸調整の際にドリフトライン47の下流側に配置されるスクリーンモニタ31は、スクリーンモニタホルダ59に対して位置調整されているので、スクリーンモニタホルダ59をスノート39に固定すれば、装置基準位置50及びアイソセンタ48を基準にした所定の位置に配置される。下流側に配置されるスクリーンモニタ31によるビーム位置測定準備が容易にできる。
 図11、図14に、ドリフトライン47におけるビーム軸を調整する調整手順、ビーム調整計算機の機能ブロック図の一例を図11に示したが、他の調整手順であっても、ドリフトラインにおけるビーム軸を調整することができる。図16はドリフトラインにおけるビーム軸を調整する他の調整手順を示すフローチャートであり、図17は図16の手順を実行するビーム調整計算機の機能ブロック図である。図16のフローチャートは、図11のフローチャートのステップS003、S004が、ステップS005、S006に代わったものである。以下に、異な部分を説明する。
 ステップS005にて、ステップS002で算出したけり角θ、θ、θ、θに応じたステアリング電磁石23a、23b、23c、23dの励磁電流Ia、Ib、Ic、Idの値、及び荷電粒子ビーム44のビーム発光を観測した際のステアリング電磁石23a、23b、23c、23dの初期電流値と算出された励磁電流Ia、Ib、Ic、Idの値との差であるオフセット電流値ΔIa、ΔIb、ΔIc、ΔIdを算出する(電流値算出手順)。なお、荷電粒子ビーム44のビーム発光を観測した際の初期電流値は、荷電粒子ビーム44のビーム発光を観測した際の現在の励磁電流値である。ステップS006にて、ステアリング電磁石23a、23b、23c、23dのそれぞれのステアリング電磁石電源24a、24b、24c、24dに、オフセット電流値ΔIa、ΔIb、ΔIc、ΔIdを設定する(電流値設定手順)。
 ステアリング電磁石電源24a、24b、24c、24dは、荷電粒子ビーム44のビーム発光を観測した際のステアリング電磁石23a、23b、23c、23dの初期電流値に、電流値設定手順にて設定されたオフセット電流値ΔIa、ΔIb、ΔIc、ΔIdを加えた電流値の励磁電流Ia、Ib、Ic、Idを、それぞれのステアリング電磁石23a、23b、23c、23dに供給する。
 図16のステップS005を実行する電流値算出部85は、ステアリング電磁石23a、23cのけり角θ、θに基づいてステアリング電磁石23a、23cの励磁電流Ia、Icの値を算出し、更にステアリング電磁石23b、23dのけり角θ、θに基づいてステアリング電磁石23b、23dの励磁電流Ib、Idの値を算出する。また、電流値算出部85は、荷電粒子ビーム44のビーム発光を観測した際のステアリング電磁石23a、23b、23c、23dの初期電流値と算出された励磁電流Ia、Ib、Ic、Idの値との差であるオフセット電流値ΔIa、ΔIb、ΔIc、ΔIdを算出する。電流値設定部86は、電流値算出部85により算出されたオフセット電流値ΔIa、ΔIb、ΔIc、ΔIdを、ステアリング電磁石電源24a、24b、24c、24dに設定する。
 オフセット電流値ΔIa、ΔIb、ΔIc、ΔIdをステアリング電磁石電源24a、24b、24c、24dに設定する場合は、粒子線治療装置100の立ち上げの際のステアリング電磁石電源との差、すなわちオフセット電流値ΔIa、ΔIb、ΔIc、ΔIdが分かるので、オフセット電流値の変化傾向が分かり、保守作業(メンテナンス)を行う予定日を適切に設定可能になる。
 以上のように、実施の形態1の粒子線治療装置100は、荷電粒子ビーム44を加速する加速器系2と、加速器系2により加速された荷電粒子ビーム44を輸送するビーム輸送系3と、ビーム輸送系3で輸送された荷電粒子ビーム44を走査電磁石25x、25yにより走査して照射対象(患部43)に照射する粒子線照射装置4と、粒子線照射装置4における、走査電磁石25x、25yにより走査されない場合の荷電粒子ビーム44の進行方向の軸であるビーム軸の調整を支援するビーム調整装置18と、を備える。ビーム輸送系3は、荷電粒子ビーム44をその進行方向に垂直なx方向に偏向する2つのx方向ステアリング電磁石(ステアリング電磁石23a、23c)と、進行方向及びx方向に垂直なy方向に偏向する2つのy方向ステアリング電磁石(ステアリング電磁石23b、23d)と、2つのx方向ステアリング電磁石(ステアリング電磁石23a、23c)、2つのy方向ステアリング電磁石(ステアリング電磁石23b、23d)のそれぞれに励磁電流Ia、Ic、Ib、Idを供給するステアリング電磁石電源24a、24c、24b、24dと、を備える。ビーム調整装置18は、粒子線照射装置4の走査電磁石25x、25yの下流側においてビーム軸と交わる方向に移動可能に配置され、荷電粒子ビーム44のビーム位置を発光により検出する第一スクリーンモニタ(スクリーンモニタ30)と、第一スクリーンモニタ(スクリーンモニタ30)の下流側で照射対象(患部43)に近い粒子線照射装置4の先端部(スノート39)に、着脱可能に配置され、荷電粒子ビーム44のビーム位置を発光により検出する第二スクリーンモニタ(スクリーンモニタ31)と、第一スクリーンモニタ(スクリーンモニタ30)、第二スクリーンモニタ(スクリーンモニタ31)のビーム発光面をそれぞれ観測する2つのカメラ56、57と、2つのx方向ステアリング電磁石(ステアリング電磁石23a、23c)、2つのy方向ステアリング電磁石(ステアリング電磁石23b、23d)の励磁電流Ia、Ic、Ib、Idの値を算出するビーム調整計算機17と、を備える。ビーム調整計算機17は、2つのカメラ56、57から出力された画像信号sig1、sig2に基づいた、第一スクリーンモニタ(スクリーンモニタ30)における荷電粒子ビーム44のビーム位置である第一ビーム位置(ビーム位置Pb)及び第二スクリーンモニタ(スクリーンモニタ31)における荷電粒子ビーム44のビーム位置である第二ビーム位置(ビーム位置Pc)が、目標照射位置であるアイソセンタ48を通過する基準ビーム軌道45上に存在するように、2つのx方向ステアリング電磁石(ステアリング電磁石23a、23c)、2つのy方向ステアリング電磁石(ステアリング電磁石23b、23d)の励磁電流Ia、Ic、Ib、Idの値を算出する。実施の形態1の粒子線治療装置100は、上記の構成により、粒子線照射装置4の実際のビーム軸が粒子線治療装置100に設定された基準ビーム軸(基準ビーム軌道45に沿った軸)に高精度に一致させることができ、従来よりも照射精度を向上することができる。
 なお、スクリーンモニタ30、31に位置基準線63、64が設けられている例を示したが、この位置基準線63、64がない場合でも構わない。スクリーンモニタ30、31に位置基準線63、64がない場合には次のように、スクリーンモニタ30、31の位置を調整する。ユーザーがスクリーンモニタ30、31の表面を直接肉眼で見ずに、スクリーンモニタ30、31の表面をカメラで撮影したカメラ画像をモニタに映して、スクリーンモニタ30、31の位置を調整する際に、スクリーンモニタ30、31の基準印62に基づいてモニタ画面上に位置基準線63、64に相当する基準線を表示する。このようにすれば、スクリーンモニタ30、31に位置基準線63、64がない場合でも、スクリーンモニタ30、31の位置を調整することができる。
 ビーム調整計算機17は、スクリーンモニタ30、31のカメラ画像からそれぞれのビーム発光66、67の輝度の重心(輝度重心)を計算し、この輝度の重心(輝度重心)をビーム位置Pb、Pcとして算出する例を説明したが、この例に限らない。ビーム調整計算機17は、スクリーンモニタ30、31のカメラ画像からそれぞれのビーム発光66、67の輝度の等高線(輝度等高線)をガウス分布でフィッティングした場合のガウス分布の中心である分布中心(ガウス分布中心)を計算し、この分布中心をビーム位置Pb、Pcとして算出しても構わない。
 ステップS004における励磁電流Ia、Ib、Ic、Idの値の設定は、ビーム調整計算機17が設定する場合に限らない。励磁電流Ia、Ib、Ic、Idの値を記録媒体に保存して、記録媒体を介してステアリング電磁石23a、23b、23c、23dに設定してもよい。また、励磁電流Ia、Ib、Ic、Idの値をユーザーが手動でステアリング電磁石23a、23b、23c、23dに設定してもよい。同様に、ステップS006におけるオフセット電流値ΔIa、ΔIb、ΔIc、ΔIdの設定は、ビーム調整計算機17が設定する場合に限らない。オフセット電流値ΔIa、ΔIb、ΔIc、ΔIdを記録媒体に保存して、記録媒体を介してステアリング電磁石23a、23b、23c、23dに設定してもよい。また、励磁電流Ia、Ib、Ic、Idの値をユーザーが手動でステアリング電磁石23a、23b、23c、23dに設定してもよい。
 また、スクリーンモニタ31がアイソセンタ48上に配置された例で説明したが、アイソセンタ48に一致した位置に限らず、アイソセンタ48の下流側でも、粒子線照射装置4のスノート39の下流でアイソセンタ48に近い上流側であってもよい。粒子線照射装置4がスキャニング電磁石を備える例で説明したが、実施の形態1のビーム調整装置18は、ワブラー法の走査電磁石を備える粒子線照射装置4に適用することができる。また、本発明は、その発明の範囲内において、各構成物を組み合わせたり、各構成物を適宜、変形、省略することが可能である。
 2…加速器系、3…ビーム輸送系、4…粒子線照射装置、17…ビーム調整計算機、18…ビーム調整装置、23a、23b、23c、23d…ステアリング電磁石、24a、24b、24c、24d…ステアリング電磁石電源、25x、25y…走査電磁石、28…配置変更装置、30、31…スクリーンモニタ、43…患部(照射対象)、44…荷電粒子ビーム、45…基準ビーム軌道、48…アイソセンタ、56、57…カメラ、59…スクリーンモニタホルダ、71…係合部(照射装置係合部)、72…爪、74…係合部(ホルダ係合部)、83…ビーム位置算出部、84…けり角算出部、85…電流値算出部、θ、θ、θ、θ…けり角、Ia、Ib、Ic、Id…励磁電流、ΔIa、ΔIb、ΔIc、ΔId…オフセット電流値、sig1、sig2…画像信号、Pb、Pc…ビーム位置、100…粒子線治療装置

Claims (12)

  1.  荷電粒子ビームを加速する加速器系と、前記加速器系により加速された前記荷電粒子ビームを輸送するビーム輸送系と、前記ビーム輸送系で輸送された前記荷電粒子ビームを走査電磁石により走査して照射対象に照射する粒子線照射装置と、前記粒子線照射装置における、前記走査電磁石により走査されない場合の前記荷電粒子ビームの進行方向の軸であるビーム軸の調整を支援するビーム調整装置と、を備え、
    前記ビーム輸送系は、前記荷電粒子ビームをその進行方向に垂直なx方向に偏向する2つのx方向ステアリング電磁石と、前記進行方向及び前記x方向に垂直なy方向に偏向する2つのy方向ステアリング電磁石と、2つの前記x方向ステアリング電磁石、2つの前記y方向ステアリング電磁石のそれぞれに励磁電流を供給するステアリング電磁石電源と、を備え、
    前記ビーム調整装置は、
    前記粒子線照射装置の前記走査電磁石の下流側において前記ビーム軸と交わる方向に移動可能に配置され、前記荷電粒子ビームのビーム位置を発光により検出する第一スクリーンモニタと、
    前記第一スクリーンモニタの下流側で前記照射対象に近い前記粒子線照射装置の先端部に、着脱可能に配置され、前記荷電粒子ビームのビーム位置を発光により検出する第二スクリーンモニタと、
    前記第一スクリーンモニタ、前記第二スクリーンモニタのビーム発光面をそれぞれ観測する2つのカメラと、
    2つの前記x方向ステアリング電磁石、2つの前記y方向ステアリング電磁石の前記励磁電流の値を算出するビーム調整計算機と、を備え、
    前記ビーム調整計算機は、
    2つの前記カメラから出力された画像信号に基づいた、前記第一スクリーンモニタにおける前記荷電粒子ビームのビーム位置である第一ビーム位置及び前記第二スクリーンモニタにおける前記荷電粒子ビームのビーム位置である第二ビーム位置が、目標照射位置であるアイソセンタを通過する基準ビーム軌道上に存在するように、2つの前記x方向ステアリング電磁石、2つの前記y方向ステアリング電磁石の前記励磁電流の値を算出することを特徴とする粒子線治療装置。
  2.  前記ビーム調整計算機により構成された電流値算出部は、
    2つの前記カメラから出力された前記画像信号に基づいて、前記第一ビーム位置及び前記第二ビーム位置を計算し、
    前記第一ビーム位置及び前記第二ビーム位置が、前記基準ビーム軌道上に存在するように、2つの前記x方向ステアリング電磁石、2つの前記y方向ステアリング電磁石の前記励磁電流の値を算出することを特徴とする請求項1記載の粒子線治療装置。
  3.  前記ビーム調整計算機により構成されたビーム位置算出部は、
    前記第一スクリーンモニタの前記画像信号により生成された第一モニタ画像及び前記第二スクリーンモニタの前記画像信号により生成された第二モニタ画像における、それぞれの前記荷電粒子ビームによるビーム発光の輝度の重心である輝度重心を計算し、
    前記第一モニタ画像における前記輝度重心を、前記第一スクリーンモニタにおける前記第一ビーム位置として算出するとともに、
    前記第二モニタ画像における前記輝度重心を、前記第二スクリーンモニタにおける前記第二ビーム位置として算出することを特徴とする請求項2記載の粒子線治療装置。
  4.  前記ビーム調整計算機により構成されたビーム位置算出部は、
    前記第一スクリーンモニタの前記画像信号により生成された第一モニタ画像及び前記第二スクリーンモニタの前記画像信号により生成された第二モニタ画像における、それぞれの前記荷電粒子ビームによるビーム発光の輝度等高線をガウス分布でフィッティングした場合のガウス分布の中心である分布中心を計算し、
    前記第一モニタ画像における前記分布中心を、前記第一スクリーンモニタにおける前記第一ビーム位置として算出し、
    前記第二モニタ画像における前記分布中心を、前記第二スクリーンモニタにおける前記第二ビーム位置として算出することを特徴とする請求項2記載の粒子線治療装置。
  5.  前記ビーム調整計算機により構成されたけり角算出部は、
    前記第一スクリーンモニタにおける前記荷電粒子ビームの前記第一ビーム位置及び前記第二スクリーンモニタにおける前記荷電粒子ビームの前記第二ビーム位置が、前記基準ビーム軌道上に存在するように、2つの前記x方向ステアリング電磁石、2つの前記y方向ステアリング電磁石の偏向角度であるけり角をそれぞれ算出し、
    前記電流値算出部は、前記けり角算出部により算出された前記けり角に基づいて、2つの前記x方向ステアリング電磁石、2つの前記y方向ステアリング電磁石の前記励磁電流の値を算出することを特徴とする請求項2から4のいずれか1項に記載の粒子線治療装置。
  6.  前記ビーム位置算出部は、
    前記第一スクリーンモニタにおける前記荷電粒子ビームの前記第一ビーム位置と前記基準ビーム軌道との差である第一オフセット座標、及び前記第二スクリーンモニタにおける前記荷電粒子ビームの前記第二ビーム位置と前記基準ビーム軌道との差である第二オフセット座標を算出することを特徴とする請求項3または4に記載の粒子線治療装置。
  7.  前記ビーム調整計算機により構成されたけり角算出部は、
    前記第一スクリーンモニタにおける前記荷電粒子ビームの前記第一オフセット座標、及び前記第二スクリーンモニタにおける前記荷電粒子ビームの第二オフセット座標が、ゼロになるように、2つの前記x方向ステアリング電磁石、2つの前記y方向ステアリング電磁石の偏向角度であるけり角をそれぞれ算出し、
    前記電流値算出部は、前記けり角算出部により算出された前記けり角に基づいて、2つの前記x方向ステアリング電磁石、2つの前記y方向ステアリング電磁石の前記励磁電流の値を算出することを特徴とする請求項6記載の粒子線治療装置。
  8.  前記電流値算出部は、
    前記x方向ステアリング電磁石の前記けり角に基づいて算出された、前記励磁電流の値と、前記荷電粒子ビームの発光を観測した際の前記x方向ステアリング電磁石の前記励磁電流の値と差である前記励磁電流のオフセット値と、
    前記y方向ステアリング電磁石の前記けり角に基づいて算出された、前記励磁電流の値と、前記荷電粒子ビームの発光を観測した際の前記y方向ステアリング電磁石の前記励磁電流の値と差である前記励磁電流のオフセット値と、を算出し、
    前記ステアリング電磁石電源は、
    2つの前記x方向ステアリング電磁石、2つの前記y方向ステアリング電磁石のそれぞれの前記オフセット値が、それぞれにおける現在の前記励磁電流の値に加えられた電流値の前記励磁電流を、対応する2つの前記x方向ステアリング電磁石、2つの前記y方向ステアリング電磁石のそれぞれに供給することを特徴とする請求項7記載の粒子線治療装置。
  9.  前記粒子線照射装置は、前記第一スクリーンモニタを移動する配置変更装置を備え、
    前記荷電粒子ビームの前記ビーム軸を調整する際に、前記第一スクリーンモニタが前記配置変更装置により前記基準ビーム軌道上に配置されることを特徴とする請求項1から8のいずれか1項に記載の粒子線治療装置。
  10.  前記第二スクリーンモニタは、スクリーンモニタホルダに設置され、
    前記スクリーンモニタホルダは、前記荷電粒子ビームの前記ビーム軸を調整する際に、前記粒子線照射装置の前記先端部に配置されることを特徴とする請求項1から9のいずれか1項に記載の粒子線治療装置。
  11.  前記スクリーンモニタホルダは、前記粒子線照射装置の前記先端部に設けられた複数の照射装置係合部に係合する複数のホルダ係合部を有し、
    前記照射装置係合部は、前記ホルダ係合部における前記荷電粒子ビームの進行方向の下流側の面に接触する爪を有することを特徴とする請求項10記載の粒子線治療装置。
  12.  前記第一スクリーンモニタ及び前記第二スクリーンモニタは、表面が四角形であり、
    前記第一スクリーンモニタ及び前記第二スクリーンモニタの各辺の中央に、基準印が設けられたことを特徴とする請求項1から11のいずれか1項に記載の粒子線治療装置。
PCT/JP2017/017478 2017-05-09 2017-05-09 粒子線治療装置 WO2018207244A1 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2017/017478 WO2018207244A1 (ja) 2017-05-09 2017-05-09 粒子線治療装置
TW107114026A TWI652090B (zh) 2017-05-09 2018-04-25 粒子線治療裝置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2017/017478 WO2018207244A1 (ja) 2017-05-09 2017-05-09 粒子線治療装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2018207244A1 true WO2018207244A1 (ja) 2018-11-15

Family

ID=64105327

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2017/017478 WO2018207244A1 (ja) 2017-05-09 2017-05-09 粒子線治療装置

Country Status (2)

Country Link
TW (1) TWI652090B (ja)
WO (1) WO2018207244A1 (ja)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009000347A (ja) * 2007-06-22 2009-01-08 Hitachi Ltd 粒子線照射システム
JP4299269B2 (ja) * 2005-06-06 2009-07-22 株式会社日立製作所 粒子線治療システム
JP2010032419A (ja) * 2008-07-30 2010-02-12 Natl Inst Of Radiological Sciences 照射線量確認システム及び照射線量確認方法
WO2010122662A1 (ja) * 2009-04-24 2010-10-28 三菱電機株式会社 粒子線治療装置
WO2013069379A1 (ja) * 2011-11-08 2013-05-16 三菱電機株式会社 粒子線治療システムおよびそのビーム位置補正方法
WO2016152279A1 (ja) * 2015-03-25 2016-09-29 株式会社日立製作所 粒子線照射システム

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4299269B2 (ja) * 2005-06-06 2009-07-22 株式会社日立製作所 粒子線治療システム
JP2009000347A (ja) * 2007-06-22 2009-01-08 Hitachi Ltd 粒子線照射システム
JP2010032419A (ja) * 2008-07-30 2010-02-12 Natl Inst Of Radiological Sciences 照射線量確認システム及び照射線量確認方法
WO2010122662A1 (ja) * 2009-04-24 2010-10-28 三菱電機株式会社 粒子線治療装置
WO2013069379A1 (ja) * 2011-11-08 2013-05-16 三菱電機株式会社 粒子線治療システムおよびそのビーム位置補正方法
WO2016152279A1 (ja) * 2015-03-25 2016-09-29 株式会社日立製作所 粒子線照射システム

Also Published As

Publication number Publication date
TW201900237A (zh) 2019-01-01
TWI652090B (zh) 2019-03-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2845623B1 (en) Particle beam therapy system
US8232536B2 (en) Particle beam irradiation system and method for controlling the particle beam irradiation system
TWI398239B (zh) 粒子射線治療裝置
US9492684B2 (en) Particle therapy system
CN102000398B (zh) 粒子束辐射装置和粒子束辐射方法
KR20120041109A (ko) 하전입자선 조사장치, 하전입자선 조사방법 및 하전입자선 조사프로그램
KR20040079835A (ko) 베드 위치 결정 장치 및 그 위치 결정 방법
TWI418379B (zh) 粒子束照射裝置、粒子束治療裝置及記錄資料顯示程式之記錄媒體
US9265970B2 (en) Particle beam irradiation system
CN105636331B (zh) 电子直线加速器
TWI510267B (zh) 粒子射線治療系統及該粒子射線束位置補正方法
US20150131780A1 (en) X-ray positioning apparatus, x-ray positioning method, and attentional image photographing method
US9067065B2 (en) Particle beam irradiation apparatus and particle beam therapy system utilizing a beam position monitor to provide feedback adjustments based on the beam position
US10183178B2 (en) Method and apparatus for controlled pencil beam therapy
WO2018207244A1 (ja) 粒子線治療装置
JP2011206237A (ja) 荷電粒子ビーム輸送装置及び粒子線治療システム
US8933420B2 (en) Particle beam therapy system
TWI610699B (zh) 粒子射線治療裝置用之射束監視器及粒子射線治療裝置
EP4180089A1 (en) Particle therapy system and irradiation control apparatus
JP2003135608A (ja) 荷電粒子線のビーム軸調整装置及び照射装置
TW201801095A (zh) 粒子射線治療裝置
JPH0617098Y2 (ja) 粒子加速器のスクリーンモニタ
JP2689137B2 (ja) 荷電粒子ビーム計測装置
JP2016162692A (ja) レーザイオン源、入射器及び粒子線治療装置

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 17909158

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 17909158

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: JP