JP2016162902A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、新たな工程を追加することなくエレクトロマイグレーションを抑制可能な半導体装置を提供する。
【解決手段】
第1の電極と、第2の電極と、前記第1の電極と前記第2の電極との間に介在するパワー半導体と、前記第1の電極と前記パワー半導体及び前記第2の電極と前記パワー半導体を接続するはんだ層と、を有する半導体装置であって、少なくとも前記第1の電極または前記第2電極のいずれかの外周部と対向する領域における前記はんだ層は、対向しない領域における前記はんだ層よりも厚いこと、を特徴とする半導体装置。
【選択図】図1
【解決手段】
第1の電極と、第2の電極と、前記第1の電極と前記第2の電極との間に介在するパワー半導体と、前記第1の電極と前記パワー半導体及び前記第2の電極と前記パワー半導体を接続するはんだ層と、を有する半導体装置であって、少なくとも前記第1の電極または前記第2電極のいずれかの外周部と対向する領域における前記はんだ層は、対向しない領域における前記はんだ層よりも厚いこと、を特徴とする半導体装置。
【選択図】図1
Description
本発明は、半導体素子等の電子部品がはんだ層を介して電極に接続されることでなる半導体装置に係る。
特許文献1では、半導体装置において、一方の電極からはんだ層を通って他方の電極に流れる電流の密度が、はんだ層のうち電極の外周部の一部と対向する部分で、他の部分よりも高くなることで、エレクトロマイグレーションが発生している。これを抑制すべく、はんだ層内において、電極内の電流密度が高くなる部分と対向する部分に、はんだ層を構成する材質よりも電気抵抗の高い材質によってなる補助層を形成することが開示されている。
はんだ層内に補助層を形成することによって、エレクトロマイグレーションを抑制することは可能である。しかし、補助層を形成するためにはんだ層を形成する場合に加えて新たな工程や製造装置が必要になり、作業が煩雑になる、さらに、コストアップにつながるという問題が生じる。
本発明は、上述した実情に鑑みて創作されたものであり、新たな工程や製造装置の追加を抑えつつ、エレクトロマイグレーションを抑制可能な半導体装置を提供する。
本発明に開示の半導体装置は、第1の電極と、第2の電極と、前記第1の電極と前記第2の電極との間に介在するパワー半導体と、前記第1の電極と前記パワー半導体及び前記第2の電極と前記パワー半導体を接続するはんだ層と、を有する半導体装置であって、少なくとも前記第1の電極または前記第2電極のいずれかにおいて、電流密度が高くなる部分と対向する領域における前記はんだ層は、対向しない領域における前記はんだ層よりも厚いこと、を特徴とする。
電極内の電流密度が高くなる部分と対向するはんだ層の厚みを厚くすることで、電気抵抗が高い領域を形成することができる。これによって、電流密度が高いところに電流が偏ることを抑制できる。
本発明の半導体装置によれば、新たな工程を追加することなくエレクトロマイグレーションを抑制することができる。
本発明の実施形態に係る半導体装置について、図1を参照しながら説明する。図1は、実施形態に係る半導体装置100の断面図である。図2は、実施形態に係るリードフレーム200の上面図である。実施形態に係る半導体装置100は、図1に示すように、コレクタ電極20、はんだ層60、パワー半導体80、はんだ層50、Cuブロック30、はんだ層40、エミッタ電極10の順に積層されることで形成されている。以下では、コレクタ電極20が形成されている側を下面、エミッタ電極10が形成されている側を上面とする。
リードフレーム200は、例えば銅等の金属部材によって形成され、図2に示すように連結部90と連結部90の内側に形成されパワー半導体80を搭載する搭載部分92、連結部90を横断し、搭載部92に対向する信号端子70、パワー半導体80と信号端子70とを接続するワイヤー72を有する。コレクタ電極20は、搭載部92の一部分であり、電極としての機能を果たす。
コレクタ電極20は、銅等の金属部材によって形成され電極を構成している。コレクタ電極20は、表面にめっき加工が施されており、耐腐食性向上を図っている。例えば、無電解めっきによる処理がされている。エミッタ電極10についても、同様である。
パワー半導体80は、例えばRC−IGBT、IGBT、Diode、MOS−FETなどであり、搭載部92のコレクタ電極20の上面に後述するはんだ層60を介して接続される。ここで、パワー半導体80によって、エミッタ電極10から流れてきた電流をコレクタ電極20に流すことができる。
Cuブロック30は、エミッタ電極10とコレクタ電極20の間に設けられ、信号端子70とパワー半導体80とを接続するワイヤー72が、エミッタ電極10と干渉することを防止するために積層方向における厚さを調節している。Cuブロック30は、上面においてはんだ層40を介してエミッタ電極10と接続され、下面においてはんだ層50を介してパワー半導体80と接続されている。Cuブロック30は、表面において、めっき加工が施されており、耐腐食性向上を図っている。ここで、Cuブロック30は、電気伝導性、熱伝導性が良く、組み立てコストがかからないようなものであれば、他の金属によって構成されていてもよい。
コレクタ電極20とパワー半導体80との間、パワー半導体80とCuブロック30との間、Cuブロック30とエミッタ電極10との間には、それぞれはんだ層60、50,40が形成されている。はんだ層60は、コレクタ10の上面とパワー半導体80の下面とに接することで、両者を接続している。はんだ層50は、パワー半導体80の上面とCu30の下面とに接することで、両者を接続している。はんだ層40は、Cuブロック30の上面とエミッタ電極10の下面とに接することで、両者を接続している。はんだ層60は、例えばSn、Cu、Niによって構成されている。
次に、半導体装置100における電流の流れについて説明する。図2に示すように、信号端子70が図示しないECUからの信号を受信し、ワイヤー72を介してその信号を受信したパワー半導体80によって、Cuブロック30とコレクタ電極20との間が導通可能な状態になる。これによって、パワー半導体80の種類に応じて、エミッタ電極10からコレクタ電極20、または、コレクタ電極20からエミッタ電極10へ電流が流れる。
より詳細には、エミッタ電極10及びコレクタ電極20はパワー半導体80と比較して非常に面積が大きい。そのため、エミッタ電極10からパワー半導体80へ電流が流入する際、及び、パワー半導体80からエミッタ電極20へ電流が流入する際には、はんだ層40、Cuブロック30、はんだ層50、パワー半導体80、はんだ層60の外周部に電流が集中しやすい。さらに、エミッタ電極10とコレクタ電極20との間を流れる電流は、エミッタ電極10の電流の入力部から、コレクタ電極20の電流の出力部との間において電気抵抗が小さい経路に集中する。その結果、電極接続部の主に外周部のある一部分に電流が集中しやすくなる傾向がある。パワー半導体80の形状等によっては、電流が集中する領域は変動する。
より詳細には、エミッタ電極10及びコレクタ電極20はパワー半導体80と比較して非常に面積が大きい。そのため、エミッタ電極10からパワー半導体80へ電流が流入する際、及び、パワー半導体80からエミッタ電極20へ電流が流入する際には、はんだ層40、Cuブロック30、はんだ層50、パワー半導体80、はんだ層60の外周部に電流が集中しやすい。さらに、エミッタ電極10とコレクタ電極20との間を流れる電流は、エミッタ電極10の電流の入力部から、コレクタ電極20の電流の出力部との間において電気抵抗が小さい経路に集中する。その結果、電極接続部の主に外周部のある一部分に電流が集中しやすくなる傾向がある。パワー半導体80の形状等によっては、電流が集中する領域は変動する。
本実施形態に係る半導体装置100において、電流密度が高くなる領域は、図3に示すように、領域Aである。ここで、図3は、実施形態に係る半導体装置100のエミッタ電極10において電流密度が高くなる領域を表す断面図である。例えば領域Aは、エミッタ電極10の幅が5mmであれば、エミッタ電極10の外周から0.5mm内側の位置に生じている。
そのため、電流密度が高くなるエミッタ電極10とコレクタ電極20の外周部の電気抵抗を高くするために、図4に示すようにエミッタ電極10、コレクタ電極20、Cuブロック30の外周部には、凹部12、22、32、34が形成されている。ここで、図4は、コレクタ電極20の拡大図である。D1は、はんだ層60の厚さである。凹部22は、はんだ層60と対向する面のうちコレクタ電極20において電流密度が高くなる部位に、コレクタ電極20の上面から下面に向けて形成されている。凹部12、32、34についても同様に、はんだ層40、50に形成されている。
上記のように形成された凹部12、22、32、34には、はんだが充填されることによって、凹部12、22、32、34に対向する領域では、他の領域よりもはんだ層が厚く形成されている。
ここで、凹部12、22、32、34が形成された後に、エミッタ電極10、コレクタ電極20、Cuブロック30の表面にめっきを施すことで、耐腐食性向上を図っている。凹部12、22、32、34形成前でなく凹部12、22、32、34形成後にめっきを施すことによって、めっき加工後に型抜きがされることによるめっきのひび割れを防止している。
凹部12、22、32、34の積層方向における深さは、エミッタ電極10やコレクタ電極20やCuブロック30における電流密度に応じて、シミュレーションによって決定される。
例えば、シミュレーションの結果、コレクタ電極20の外周部であって電流密度が最も高くなる部分の電流密度が、コレクタ電極20の内周部の電流密度の2倍であれば凹部22の深さをはんだ層60の厚さD1と等しい値D1とする。つまり、凹部22に対向する領域に形成されるはんだ層60bは、凹部22に対向していない領域に形成されるはんだ層60aと比較して、積層方向における厚みが2倍になるように形成する。これによって、電流密度がその他の領域と比較して2倍高い領域において、電気抵抗を2倍にすることで、電流密度の偏りを抑制することができる。凹部12、32、34についても凹部22と同様に電流密度に応じてシミュレーションにより厚さを決定し、形成することができる。
上述した半導体装置100によれば、エミッタ電極10やコレクタ電極20やCuブロック30において、電流密度が高くなる領域に凹部12、22、32、34が形成される。よって、その後にエミッタ電極10やコレクタ電極20やCuブロック30を接合する際に形成されるはんだは凹部12、22、32、34内にも充填されることで、はんだ層が形成されていることから、結果として、凹部12、22、32、34に対向する、電流密度が高くなる領域のはんだ層を、その他の領域と比較して積層方向の厚みを厚くすることができる。これによって、凹部12、22、32、34に対向する領域はその他の領域と比較して、電気抵抗が高くなり、電流が凹部12、22、32、34に対向する領域に偏ることを抑制できる。そのため、図1に記載する半導体装置100において、コレクタ電極20からエミッタ電極10に電流が流れる際に、電気抵抗が高くなっているコレクタ電極20やエミッタ電極10の外周部、つまり凹部12、22、32、34に電流が偏ることを抑制でき、エレクトロマイグレーションを抑制できる。
また、エミッタ電極10やコレクタ電極20において、電流密度が高くなる領域に凹部12、22、32、34を形成することで、凹部12、22、32、34に対向する領域のはんだ層
を厚く形成していることから、新たな工程を追加することなく、エレクトロマイグレーションを抑制することができる。より詳細には、凹部12、22、32、34は、エミッタ電極10やコレクタ電極20を型抜きする際に同時に形成することも可能であるため、作業が煩雑になるということも抑制することができる。
を厚く形成していることから、新たな工程を追加することなく、エレクトロマイグレーションを抑制することができる。より詳細には、凹部12、22、32、34は、エミッタ電極10やコレクタ電極20を型抜きする際に同時に形成することも可能であるため、作業が煩雑になるということも抑制することができる。
(その他の実施例)
また、上記に示す半導体装置100において、エレクトロマイグレーション発生箇所については、図1に記載のエミッタ電極10とコレクタ電極20との間に形成されたはんだ層40、50、60であると示したが、これに限らない。Cuブロック30が形成されておらず、はんだ層を介してエミッタ電極10がパワー半導体80と接続されているようなものであってもよい。
また、上記に示す半導体装置100において、エレクトロマイグレーション発生箇所については、図1に記載のエミッタ電極10とコレクタ電極20との間に形成されたはんだ層40、50、60であると示したが、これに限らない。Cuブロック30が形成されておらず、はんだ層を介してエミッタ電極10がパワー半導体80と接続されているようなものであってもよい。
さらに、Cuブロック30及びパワー半導体80を介さず、エミッタ電極10とコレクタ電極20とが接続されるような場合においてもエレクトロマイグレーションが発生する。そのため、エミッタ電極10の下面とコレクタ電極20の上面に、それぞれ凹部12、22を形成するようなものであってもよい。
上記のように電流密度が高くなる部分に凹部12、22を形成することによっても、凹部12、22のはんだ層120を厚く形成し電気抵抗が高い部分を形成することができる。これによってエレクトロマイグレーションを抑制可能である。
また、本実施形態に記載した凹部12、22、32、34は、段差であってもよい。
また、本実施形態に記載した凹部12、22、32、34は、段差であってもよい。
凹部12、22、32、34は、エミッタ電極10、コレクタ電極20、Cuブロック30の外周部に形成されているとしたが、外縁にそっておらず、外縁よりも中心側によっていてもよい。ここで、外周部とは、エミッタ電極10、コレクタ電極20、Cuブロック300を上面視した際に中心と外縁とを結ぶ線分の中点よりも外縁側にある領域を少なくとも含むものとする。
以上、実施例について詳細に説明したが、これらは例示にすぎず、特許請求の範囲を限定するものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例をさまざまに変形、変更したものが含まれる。
本明細書または図面に説明した技術要素は、単独あるいは各種の組み合わせによって技術有用性を発揮するものであり、出願時請求項記載の組み合わせに限定されるものではない。
10 エミッタ電極
12、22、32、34 凹部
20 コレクタ電極
30 Cuブロック
40、50、60 はんだ層
80 パワー半導体
100 半導体装置
12、22、32、34 凹部
20 コレクタ電極
30 Cuブロック
40、50、60 はんだ層
80 パワー半導体
100 半導体装置
Claims (6)
- 第1の電極と、
前記第1の電極と対向する第2の電極と、
前記第1の電極と前記第2の電極との間に介在するパワー半導体と、
前記第1の電極と前記パワー半導体との間に介在する第1のはんだ層と、
前記第2の電極と前記パワー半導体との間に介在する第2のはんだ層と、
を有する半導体装置であって、
前記第1の電極において外周部と対向する領域における前記第1のはんだ層、または前記第2電極において外周部と対向する領域における前記第2のはんだ層の少なくともいずれかは、前記電流密度が高くなる部分と対向しない領域における前記第1のはんだ層または前記第2のはんだ層のそれぞれの厚さよりも厚いこと、
を特徴とする半導体装置。 - 前記第1のはんだ層と対向し前記第1の電極において外周部または前記第2のはんだ層と対向し前記第2の電極において外周部の少なくともいずれかに凹部が形成されていること、
を特徴とする請求項1に記載の半導体装置。 - 前記第1の電極と前記パワー半導体との間に介在する金属ブロックを、
更に備え、
前記第1のはんだ層は、
前記第1の電極と前記金属ブロックとの間に介在する第1のはんだ領域と、
前記金属ブロックと前記パワー半導体との間に介在する第2のはんだ領域と、
からなり、
前記金属ブロックの外周部と対向する領域における前記第1のはんだ領域または第2のはんだ領域は、外周部と対向しない領域における前記第1のはんだ領域または第2のはんだ領域のそれぞれの厚さよりも厚いこと、
を特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置。 - 少なくとも前記第1のはんだ領域または前記第2のはんだ領域のいずれかと対向する前記金属ブロックにおいて外周部に、凹部が形成されていること、
を特徴とする請求項3に記載の半導体装置。 - 前記凹部の深さは前記はんだ層の積層方向における厚みと等しいことを特徴とする請求項2または4のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記凹部の深さは最も電流密度が低い部分と最も電流密度が高い部分との電流密度に基づいて決定されることを特徴とする請求項2または4のいずれかに記載の半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015040787A JP2016162902A (ja) | 2015-03-02 | 2015-03-02 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015040787A JP2016162902A (ja) | 2015-03-02 | 2015-03-02 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016162902A true JP2016162902A (ja) | 2016-09-05 |
Family
ID=56845473
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015040787A Pending JP2016162902A (ja) | 2015-03-02 | 2015-03-02 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2016162902A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9806635B2 (en) | 2015-08-27 | 2017-10-31 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Flyback diode and on-board power source device |
JP7275762B2 (ja) | 2019-03-29 | 2023-05-18 | 株式会社ジェイテクト | 操舵制御装置 |
-
2015
- 2015-03-02 JP JP2015040787A patent/JP2016162902A/ja active Pending
Cited By (2)
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US9806635B2 (en) | 2015-08-27 | 2017-10-31 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Flyback diode and on-board power source device |
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