JP2016157114A - Curable composition comprising quantum dots, and color filter and image display device produced using the same - Google Patents

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ジュン ワン,ヒュン
イル クワン,ボン
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イル クワン,ボン
ホ キム,ジュ
Ju Ho Kim
ホ キム,ジュ
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a curable composition comprising quantum dots which allow production of an excellent color filter while uniformly dispersing quantum dot particles without problems such as light efficiency degradation and impaired photosensitive properties during a production process of the color filter.SOLUTION: The present invention provides a color filter produced from such a curable composition comprising quantum dots, and an image display device comprising the same.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、量子ドットを含む硬化性組成物、これを利用して製造されたカラーフィルター及び画像表示装置に関する。   The present invention relates to a curable composition containing quantum dots, a color filter produced using the same, and an image display device.

カラーフィルターは、白色光から赤色、緑色、青色の3種の色を抽出して、微細な画素単位を可能にする薄膜フィルム型光学部品であって、1つの画素のサイズが数十から数百マイクロメーター程度である。このようなカラーフィルターは、それぞれの画素間の境界部分を遮光するために透明基板上に定められたパターンで形成されたブラックマトリックス層及びそれぞれの画素を形成するために複数の色(通常、赤色(R)、緑色(G)及び青色(B))の3原色を定められた手順に配置した画素部が順に積層された構造を取っている。一般的に、カラーフィルターは、染色法、電着法、印刷法、顔料分散法等によって3種以上の色相を透明基板上にコーティングして製造することができ、最近には、顔料分散型の感光性樹脂を利用した顔料分散法が主流をなす。   The color filter is a thin film type optical component that extracts three kinds of colors of red, green, and blue from white light and enables a fine pixel unit. The size of one pixel is several tens to several hundreds. It is about a micrometer. Such a color filter has a black matrix layer formed in a pattern defined on a transparent substrate in order to shield a boundary portion between each pixel and a plurality of colors (usually red) to form each pixel. (R), green (G), and blue (B)) have a structure in which pixel portions arranged in a predetermined procedure are sequentially stacked. Generally, a color filter can be manufactured by coating three or more hues on a transparent substrate by a dyeing method, an electrodeposition method, a printing method, a pigment dispersion method, and the like. The pigment dispersion method using a photosensitive resin is the mainstream.

カラーフィルターを具現する方法中の1つである顔料分散法は、黒色マトリックスが設けられた透明な基材の上に着色剤を含めてアルカリ可溶性樹脂、光重合単量体、光重合開始剤、エポキシ樹脂、溶剤、その他添加剤を含む感光性樹脂組成物をコーティングし、形成しようとする形態のパターンを露光した後、非露光部位を溶剤で除去して、熱硬化させる一連の過程を繰り返すことによって、着色薄膜を形成する方法であって、携帯電話、ノートパソコン、モニター、テレビ等のLCDを製造するのに活発に応用されている。近年、さまざまな長所を有する顔料分散法を利用したカラーフィルター用感光性樹脂組成物においても、優れたパターン特性だけでなく、高い色再現率とともに高輝度及び高明暗比等、さらに向上した性能が要求されていることが現況である。   A pigment dispersion method, which is one of the methods for embodying a color filter, includes a colorant on a transparent substrate provided with a black matrix, an alkali-soluble resin, a photopolymerization monomer, a photopolymerization initiator, After coating a photosensitive resin composition containing an epoxy resin, solvent, and other additives, exposing the pattern in the form to be formed, removing the non-exposed areas with a solvent and repeating the process of thermosetting The method of forming a colored thin film is actively applied to manufacture LCDs for mobile phones, notebook computers, monitors, televisions, and the like. In recent years, even in photosensitive resin compositions for color filters using a pigment dispersion method having various advantages, not only excellent pattern characteristics, but also high performance such as high luminance and high contrast ratio as well as high color reproduction ratio. What is required is the current situation.

しかし、色再現は、光源から照射された光がカラーフィルターを透過して具現されるものであるが、この過程で、光の一部がカラーフィルターに吸収されるので、光効率が低下し、また、色フィルターとしての顔料特性に起因して完璧な色の再現には足りないという根本的な限界がある。   However, the color reproduction is realized by the light emitted from the light source being transmitted through the color filter, but in this process, part of the light is absorbed by the color filter, so the light efficiency decreases, In addition, there is a fundamental limitation that perfect color reproduction is insufficient due to the pigment characteristics as a color filter.

また、特許文献1には、光源と、前記光源から出射される光が入射される表示パネルとを含み、前記表示パネルは、多数の色変換部を含み、前記色変換部は、前記光の波長を変換させる多数の波長変換粒子と、前記光で所定の波長帯の光を吸収する多数のカラーフィルター粒子とを含む表示装置を開示している。   Patent Document 1 includes a light source and a display panel on which light emitted from the light source is incident. The display panel includes a number of color conversion units, and the color conversion unit A display device is disclosed that includes a large number of wavelength converting particles that convert wavelengths and a large number of color filter particles that absorb light in a predetermined wavelength band with the light.

しかし、前記従来技術は、量子ドットが含まれた点は類似しているが、感光性樹脂組成物の含量に対する具体的な説明がなく、高い色再現率及び輝度を有する表示装置のみについて開示しているので、感光性樹脂組成物に対する追加的な開発が必要である。   However, the prior art is similar in that quantum dots are included, but there is no specific explanation for the content of the photosensitive resin composition, and only a display device having a high color reproduction rate and brightness is disclosed. Therefore, additional development for the photosensitive resin composition is necessary.

韓国特許公開第10−2013−0000506号公報Korean Patent Publication No. 10-2013-0000506

本発明は、量子ドット粒子を均一に分散させながら、カラーフィルターの製造工程中に光効率の低下及び感光特性の不良のような問題がなく、優れたカラーフィルターを製造できる量子ドットを含む硬化性組成物を提供することを目的とする。   The present invention is a curable composition comprising quantum dots that can produce excellent color filters without causing problems such as a decrease in light efficiency and poor photosensitivity during the color filter production process while uniformly dispersing the quantum dot particles. An object is to provide a composition.

また、本発明は、このような量子ドットを含む硬化性組成物で製造されたカラーフィルター及びこれを含む画像表示装置を提供することを目的とする。   Moreover, an object of this invention is to provide the color filter manufactured with the curable composition containing such a quantum dot, and an image display apparatus containing the same.

前記目的を達成するための本発明の実施例による量子ドットを含む硬化性組成物は、バインダー及び量子ドットを含み、前記バインダーは、下記化学式1、化学式2及びこれらの組み合わせを1つ以上含む。   In order to achieve the above object, the curable composition including quantum dots according to an embodiment of the present invention includes a binder and quantum dots, and the binder includes one or more of the following chemical formula 1, chemical formula 2, and combinations thereof.

[化学式1]
[Chemical Formula 1]

(前記化学式1で、
は、水素またはC1〜C6アルキル基を示し、
は、酸素、−NH−または

基を示し、
は、C1〜C30のアルキレン基、C1〜C30のアルキレンオキシ基またはC1〜C30のエチルオキシカルボニルアミノエチル基を示し、
は、不飽和二重結合を含有する基をそれぞれ示す。)
(In Formula 1 above,
R 1 represents hydrogen or a C1-C6 alkyl group,
R 2 represents oxygen, —NH— or

Group,
R 3 represents a C1-C30 alkylene group, a C1-C30 alkyleneoxy group, or a C1-C30 ethyloxycarbonylaminoethyl group,
R 4 represents a group containing an unsaturated double bond. )

[化学式2]
[Chemical formula 2]

(前記化学式2で、
〜Rは、それぞれ独立に、互いに同じかまたは異なり、水素またはC1〜C6アルキル基を示し、
は、酸素、−NH−または

基を示し、
は、C1〜C30のアルキレン基、C1〜C30のアルキレンオキシ基またはC1〜C30のエチルオキシカルボニルアミノエチル基を示し、
は、不飽和二重結合を含有する基をそれぞれ示し、
Xは、0<X<100の値を示す。)
(In Formula 2 above,
R 5 to R 6 are each independently the same or different and each represents hydrogen or a C1-C6 alkyl group;
R 7 is oxygen, —NH— or

Group,
R 8 represents a C1-C30 alkylene group, a C1-C30 alkyleneoxy group, or a C1-C30 ethyloxycarbonylaminoethyl group,
R 9 represents a group containing an unsaturated double bond,
X represents a value of 0 <X <100. )

前述したように、本発明による量子ドットを含む硬化性組成物は、特定化合物のバインダーを含むことによって、色再現性及び輝度特性に優れた高品質のカラーフィルターを提供するできる効果がある。   As described above, the curable composition containing the quantum dots according to the present invention has an effect of providing a high-quality color filter excellent in color reproducibility and luminance characteristics by including a specific compound binder.

また、本発明は、前記量子ドットを含む硬化性組成物で製造されたカラーフィルター及びこれを含む画像表示装置を提供できる効果がある。   Moreover, this invention has the effect which can provide the color filter manufactured with the curable composition containing the said quantum dot, and an image display apparatus containing this.

本発明による量子ドットを含む硬化性組成物は、バインダー及び量子ドットを含み、前記バインダーは、下記化学式1または化学式2であることを特徴とする。   The curable composition comprising quantum dots according to the present invention comprises a binder and quantum dots, wherein the binder is represented by the following chemical formula 1 or chemical formula 2.

また、本発明の量子ドットを含む硬化性組成物は、前記バインダー及び量子ドットとともに、ポジチブ型で構成される場合には、o−ナフトキノンジアジド化合物を、ネガティブ型で構成する場合には、1つ以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーまたはオリゴマーと光重合開始剤をさらに含有して構成することができる。必要に応じて、架橋剤等の他の成分をさらに含有してもよい。また、前記ポジチブ型で構成する場合に、前記モノマーまたはオリゴマー、光重合開始剤をさらに含むことができる。   In addition, the curable composition containing the quantum dots of the present invention, together with the binder and quantum dots, has one o-naphthoquinonediazide compound when the positive type is used, and one when the negative type is used. A monomer or oligomer having the above ethylenically unsaturated group and a photopolymerization initiator may be further contained. You may further contain other components, such as a crosslinking agent, as needed. Moreover, when comprised by the said positive type | mold, the said monomer or oligomer and a photoinitiator can further be included.

まず、本発明の量子ドットを含む硬化性組成物は、化学式1のバインダーを含むことができ、ガラス転移温度が−20〜250℃であることができる。この際、バインダーは、重合性側鎖を有する共重合体である。   First, the curable composition including the quantum dots of the present invention may include a binder of Chemical Formula 1, and a glass transition temperature may be -20 to 250 ° C. In this case, the binder is a copolymer having a polymerizable side chain.

[化学式1]
[Chemical Formula 1]

前記化学式1で、
は、水素またはC1〜C6アルキル基を示す。より好ましくは、Rは、膜の強度、弾性率、粘弾性、耐熱性、現像性、ポリマーのガラス転移温度(Tg)、溶解性、合成適性等を考慮して自由に選択できる。
In Formula 1,
R 1 represents hydrogen or a C1-C6 alkyl group. More preferably, R 1 can be freely selected in consideration of film strength, elastic modulus, viscoelasticity, heat resistance, developability, glass transition temperature (Tg) of polymer, solubility, suitability for synthesis, and the like.

は、酸素、−NH−または

基を示す。より好ましくは、Rは、膜の強度、弾性率、粘弾性、耐熱性、現像性、合成適性、ポリマーのガラス転移温度(Tg)、溶解性等を考慮して自由に選択できる。
R 2 represents oxygen, —NH— or

Indicates a group. More preferably, R 2 can be freely selected in consideration of film strength, elastic modulus, viscoelasticity, heat resistance, developability, synthesis suitability, polymer glass transition temperature (Tg), solubility, and the like.

は、C1〜C30のアルキレン基、C1〜C30のアルキレンオキシ基またはC1〜C30のエチルオキシカルボニルアミノエチル基を示す。Rは、C1〜C25のアルキレン基、C1〜C25のアルキレンオキシ基またはC1〜C25のエチルオキシカルボニルアミノエチル基が好ましく、C1〜C20のアルキレン基、C1〜C20のアルキルオキシ基またはC1〜C20のエチルオキシカルボニルアミノエチル基がさらに好ましく、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、エチレンオキシ基、ジエチレンオキシ基、トリエチレンオキシ基、エチルオキシカルボニルアミノエチル基が特に好ましい。これら基は、置換基を有していてよい。この際、前記Rの置換基としては、C1〜C20のアルキル基が好ましく、そのうち、C1〜C15のアルキル基がより好ましく、C1〜C10のアルキル基がさらに好ましく、C1〜C7のアルキル基が特に好ましい。前記置換基として、具体的には、原料及び合成適性等を考慮すれば、メチル基、エチル基、分岐または直鎖のプロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基が最も好ましい。但し、アルコール系水酸基は、ガラス転移温度(Tg)を低下させる場合があるので、好ましい例から除かれる。 R 3 represents a C1-C30 alkylene group, a C1-C30 alkyleneoxy group, or a C1-C30 ethyloxycarbonylaminoethyl group. R 3 is preferably a C1 to C25 alkylene group, a C1 to C25 alkyleneoxy group or a C1 to C25 ethyloxycarbonylaminoethyl group, a C1 to C20 alkylene group, a C1 to C20 alkyloxy group or a C1 to C20. The ethyloxycarbonylaminoethyl group is more preferably methylene group, ethylene group, propylene group, butylene group, ethyleneoxy group, diethyleneoxy group, triethyleneoxy group, and ethyloxycarbonylaminoethyl group. These groups may have a substituent. In this case, the substituent of R 3 is preferably a C1-C20 alkyl group, more preferably a C1-C15 alkyl group, still more preferably a C1-C10 alkyl group, and a C1-C7 alkyl group. Particularly preferred. Specifically, considering the raw materials and suitability for synthesis, the substituent is most preferably a methyl group, an ethyl group, a branched or straight chain propyl group, a butyl group, a pentyl group, and a hexyl group. However, alcoholic hydroxyl groups are excluded from the preferred examples because they may lower the glass transition temperature (Tg).

は、不飽和二重結合を含有する基を示す。具体的には、ビニルオキシ基、アリルオキシ基、(メタ)アクリロイルオキシ基、4−ビニルフェニルオキシ基、4−ビニルフェニルメチルオキシ基、ビニルエステル基等が好ましい。そのうち、Rとしては、ビニルオキシ基、アリルオキシ基、(メタ)アクリロイルオキシ基、4−ビニルフェニルメチルオキシ基、ビニルエステル基がより好ましく、アリルオキシ基、(メタ)アクリロイルオキシ基、4−ビニルフェニルメチルオキシ基が特に好ましい。 R 4 represents a group containing an unsaturated double bond. Specifically, a vinyloxy group, an allyloxy group, a (meth) acryloyloxy group, a 4-vinylphenyloxy group, a 4-vinylphenylmethyloxy group, a vinyl ester group, and the like are preferable. Among them, as R 4 , a vinyloxy group, an allyloxy group, a (meth) acryloyloxy group, a 4-vinylphenylmethyloxy group, and a vinyl ester group are more preferable, and an allyloxy group, a (meth) acryloyloxy group, and 4-vinylphenylmethyl. An oxy group is particularly preferred.

化学式1で表される構造単位を含有する本発明におけるバインダーのガラス転移温度(Tg)は、バインダー自体の分子量、分子構造、水素結合性相互作用の利用等によって調整可能であり、併用するバインダーのガラス転移温度(Tg)、併用するバインダー及び他の成分との親和性、系全体の粘弾性等を考慮して決定される。バインダーのガラス転移温度(Tg)が過度に低い場合、形成されたパターンの耐熱性が低下し、熱フローのような問題が発生する。また、塗布膜の粘着性が増加し、作業性が低下する等の問題も発生する。このことから、アルコール系水酸基をバインダー中に含有することは好ましくない。また、アルコール系水酸基は、比較的水素結合性相互作用が弱いため、この観点から、大きい効果を発揮できない場合が多い。   The glass transition temperature (Tg) of the binder in the present invention containing the structural unit represented by Chemical Formula 1 can be adjusted by the molecular weight of the binder itself, the molecular structure, the use of hydrogen bonding interaction, and the like. It is determined in consideration of the glass transition temperature (Tg), the affinity with the binder used together and other components, the viscoelasticity of the entire system, and the like. When the glass transition temperature (Tg) of the binder is excessively low, the heat resistance of the formed pattern is lowered, and problems such as heat flow occur. In addition, problems such as increased adhesiveness of the coating film and reduced workability occur. For this reason, it is not preferable to contain an alcoholic hydroxyl group in the binder. In addition, since alcoholic hydroxyl groups have relatively weak hydrogen bonding interactions, there are many cases where a large effect cannot be exhibited from this viewpoint.

本発明におけるバインダーのガラス転移温度(Tg)は、−20〜250℃の範囲にあることが好ましく、−15〜250℃の範囲にあることがさらに好ましく、−10〜250℃の範囲にあることが特に好ましい。また、本発明におけるバインダーは、他のバインダーと併用してもよい。また、前記以外のバインダーについては後述する。   The glass transition temperature (Tg) of the binder in the present invention is preferably in the range of -20 to 250 ° C, more preferably in the range of -15 to 250 ° C, and in the range of -10 to 250 ° C. Is particularly preferred. Moreover, you may use the binder in this invention together with another binder. In addition, binders other than those described above will be described later.

本発明におけるバインダーの分子量は、重量平均分子量であり、500〜10,000,000Da(ダルトン(dalton):分子量の単位)が好ましく、1,000〜5,000,000Daがさらに好ましく、2,000〜5,000,000Daが特に好ましい。   The molecular weight of the binder in the present invention is a weight average molecular weight, preferably 500 to 10,000,000 Da (dalton: unit of molecular weight), more preferably 1,000 to 5,000,000 Da, and 2,000. ˜5,000,000 Da is particularly preferred.

化学式1で表される構造単位とともに、本発明におけるバインダーを構成する成分(すなわち、共重合成分)としては、(2元以上の)共重合が可能なら、特に限定されない。   The component (that is, copolymerization component) constituting the binder in the present invention together with the structural unit represented by Chemical Formula 1 is not particularly limited as long as copolymerization (two or more) is possible.

前記共重合成分としては、例えば、日本国特開昭59−44615号、日本国特公昭54−34327号、日本国特公昭58−12577号、日本国特公昭54−25957号、日本国特開昭59−53836号、日本国特開昭59−71048号公報の明細書に記載されているようなメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、(無水)マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体、部分アミド化マレイン酸共重合体に使用されているモノマー、(メタ)アクリレート類、(メタ)アクリルアミド類、ビニル基を有する芳香族炭化水素環類、ビニル基を有するヘテロ芳香族環類、無水マレイン酸、イタコン酸エステル類、クロトン酸エステル類、(メタ)アクリロニトリル、(メタ)クロトンニトリル、各種スチレン類、各種ベンゾイルオキシエチレン類、各種アセトキシエチレン類、ビニルカルバゾール類、ビニルピロリドン等が挙げれる。   Examples of the copolymer component include, for example, JP-A 59-44615, JP-B 54-34327, JP-B 58-12777, JP-B 54-25957, and JP Methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer as described in the specifications of JP-A-59-53836 and JP-A-59-71048, (Anhydrous) Maleic acid copolymer, Partially esterified maleic acid copolymer, Monomer used in partially amidated maleic acid copolymer, (Meth) acrylates, (Meth) acrylamides, Fragrance with vinyl group Aromatic hydrocarbon rings, heteroaromatic rings having a vinyl group, maleic anhydride, itaconic acid esters, crotonic acid esters, (meth) acrylonitrile, (meth ) Crotononitrile, various styrenes, various benzoyloxy ethylenes, various acetoxy ethylene, vinyl carbazole, vinyl pyrrolidone, and the like are exemplified.

これらのうち、前記共重合成分としては、(メタ)アクリル酸、C1〜C25の(シクロ)アルキル(メタ)アクリレート、C1〜C25のビシクロ環を有する(メタ)アクリレート、C1〜C25のアラルキル(メタ)アクリレート、C1〜C25のアリール(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、C1〜C25の2級または3級の(シクロ)アルキル(メタ)アクリルアミド、C1〜C25の2級または3級のビシクロ環を有する(メタ)アクリルアミド、C1〜C25の2級または3級のアラルキル(メタ)アクリルアミド、C1〜C25の2級または3級のアリール(メタ)アクリルアミド、C1〜C25の(メタ)アクリロイルモルホリン、ビニル基を有する置換もしくは無置換のC1〜C25の芳香族炭化水素環、ビニル基を有する置換もしくは無置換の炭素C1〜C25のヘテロ芳香族環、無水マレイン酸、置換もしくは無置換のC1〜C25の(α−メチル−)スチレン、ビニルイミダゾール、ビニルトリアゾール、無水マレイン酸、置換もしくは無置換のC1〜C25の部分エステル化マレイン酸共重合体、置換もしくは無置換のC1〜C25の部分アミド化マレイン酸、メチルジャスモネート(Methyl Jasmonate)、イタコン酸、C1〜C25のイタコン酸(シクロ)アルキルエステル、C1〜C25のビシクロ環を有するイタコン酸エステル、C1〜C25のイタコン酸アラルキルエステル、C1〜C25のイタコン酸アリールエステル、クロトン酸、C1〜C25のクロトン酸(シクロ)アルキルエステル、C1〜C25のビシクロ環を有するクロトン酸エステル、C1〜C25のクロトン酸アラルキルエステル、C1〜C25のクロトン酸アリールエステル、C1〜C25のベンゾイルオキシエチレン類、C1〜C25のアセトキシエチレン類、(メタ)アクリロニトリル、(メタ)クロトンニトリル、C1〜C25のビニルカルバゾール、ビニルピロリドンが好ましい。   Among these, as the copolymer component, (meth) acrylic acid, C1-C25 (cyclo) alkyl (meth) acrylate, (meth) acrylate having a C1-C25 bicyclo ring, C1-C25 aralkyl (meth) ) Acrylate, C1-C25 aryl (meth) acrylate, (meth) acrylamide, C1-C25 secondary or tertiary (cyclo) alkyl (meth) acrylamide, C1-C25 secondary or tertiary bicyclo ring. (Meth) acrylamide having C1 to C25 secondary or tertiary aralkyl (meth) acrylamide, C1 to C25 secondary or tertiary aryl (meth) acrylamide, C1 to C25 (meth) acryloylmorpholine, vinyl group A substituted or unsubstituted C1-C25 aromatic hydrocarbon ring having Substituted or unsubstituted carbon C1-C25 heteroaromatic ring having an alkyl group, maleic anhydride, substituted or unsubstituted C1-C25 (α-methyl-) styrene, vinylimidazole, vinyltriazole, maleic anhydride, Substituted or unsubstituted C1-C25 partially esterified maleic acid copolymer, substituted or unsubstituted C1-C25 partially amidated maleic acid, methyl jasmonate, itaconic acid, C1-C25 itacone Acid (cyclo) alkyl ester, itaconic acid ester having C1-C25 bicyclo ring, C1-C25 itaconic acid aralkyl ester, C1-C25 itaconic acid aryl ester, crotonic acid, C1-C25 crotonic acid (cyclo) alkyl Ester, C1-C25 Bisshi Crotonic acid ester having B-ring, C1-C25 crotonic acid aralkyl ester, C1-C25 crotonic acid aryl ester, C1-C25 benzoyloxyethylenes, C1-C25 acetoxyethylenes, (meth) acrylonitrile, (meta ) Crotonnitrile, C1-C25 vinyl carbazole and vinyl pyrrolidone are preferred.

これらのうち、(メタ)アクリル酸、C1〜C20の(シクロ)アルキル(メタ)アクリレート、C1〜C20のビシクロ環を有する(メタ)アクリレート、C1〜C20のアラルキル(メタ)アクリレート、C1〜C20のアリール(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、C1〜C20の2級または3級の(シクロ)アルキル(メタ)アクリルアミド、C1〜C20の2級または3級のビシクロ環を有する(メタ)アクリルアミド、C1〜C20の2級または3級のアラルキル(メタ)アクリルアミド、C1〜C20の2級または3級のアリール(メタ)アクリルアミド;C1〜C20の(メタ)アクリロイルモルホリン、ビニル基を有する置換もしくは無置換のC1〜C20の芳香族炭化水素環、ビニル基を有する置換もしくは無置換のC1〜C20のヘテロ芳香族環、無水マレイン酸、置換もしくは無置換のC1〜C20の部分エステル化マレイン酸共重合体、置換もしくは無置換のC1〜C20の部分アミド化マレイン酸、置換もしくは無置換のC1〜C20の(α−メチル−)スチレン類、メチルジャスモネート、イタコン酸、C1〜C20のイタコン酸(シクロ)アルキルエステル、C1〜C20のビシクロ環を有するイタコン酸エステル、C1〜C20のイタコン酸アラルキルエステル、C1〜C20のイタコン酸アリールエステル、クロトン酸、C1〜C20のクロトン酸(シクロ)アルキルエステル、C1〜C20のビシクロ環を有するクロトン酸エステル、C1〜C20のクロトン酸アラルキルエステル、C1〜C20のクロトン酸アリールエステル、C1〜C20のベンゾイルオキシエチレン類、C1〜C20のアセトキシエチレン類、C1〜C20のビニルカルバゾール、ビニルピロリドン;(メタ)アクリロニトリル、(メタ)クロトンニトリルがより好ましい。   Among these, (meth) acrylic acid, C1-C20 (cyclo) alkyl (meth) acrylate, C1-C20 bicyclo ring (meth) acrylate, C1-C20 aralkyl (meth) acrylate, C1-C20 Aryl (meth) acrylate, (meth) acrylamide, C1-C20 secondary or tertiary (cyclo) alkyl (meth) acrylamide, C1-C20 secondary or tertiary bicyclo ring (meth) acrylamide, C1 -C20 secondary or tertiary aralkyl (meth) acrylamide, C1-C20 secondary or tertiary aryl (meth) acrylamide; C1-C20 (meth) acryloylmorpholine, substituted or unsubstituted with a vinyl group C1-C20 aromatic hydrocarbon ring, substituted or substituted with vinyl group Unsubstituted C1-C20 heteroaromatic ring, maleic anhydride, substituted or unsubstituted C1-C20 partially esterified maleic acid copolymer, substituted or unsubstituted C1-C20 partially amidated maleic acid, substituted Or unsubstituted C1-C20 (α-methyl-) styrenes, methyl jasmonate, itaconic acid, C1-C20 itaconic acid (cyclo) alkyl ester, C1-C20 itaconic acid ester having a bicyclo ring, C1 ~ C20 itaconic acid aralkyl ester, C1 ~ C20 itaconic acid aryl ester, crotonic acid, C1 ~ C20 crotonic acid (cyclo) alkyl ester, C1 ~ C20 crotonic acid ester having bicyclo ring, C1 ~ C20 crotonic acid Aralkyl ester, C1-C20 crotonic acid aryl ester C1-C20 benzoyloxyethylenes, C1-C20 acetoxyethylenes, C1-C20 vinylcarbazole, vinylpyrrolidone; (meth) acrylonitrile, (meth) crotononitrile are more preferred.

また、これらのうち、(メタ)アクリル酸、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、直鎖または分岐のプロピル(メタ)アクリレート、直鎖または分岐のブチル(メタ)アクリレート、直鎖または分岐のペンチル(メタ)アクリレート、ノーマルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ノーマルヘプチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノーマルオクチル(メタ)アクリレート、ノーマルデシル(メタ)アクリレート、ノルマルドデシル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ノルボルナンメチル(メタ)アクリレート、ノルボルネンメチル(メタ)アクリレート;ベンジル(メタ)アクリレート、ナフチルメチル(メタ)アクリレート、アントラセンメチル(メタ)アクリレート、フェニルエチル(メタ)アクリレート;フェニル(メタ)アクリレート、ナフチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、(ジ)メチル(メタ)アクリルアミド、(ジ)エチル(メタ)アクリルアミド、直鎖または分岐の(ジ)プロピル(メタ)アクリルアミド、直鎖または分岐の(ジ)ブチル(メタ)アクリルアミド、直鎖または分岐の(ジ)ペンチル(メタ)アクリルアミド、(ジ)ノーマルヘキシル(メタ)アクリルアミド、(ジ)シクロヘキシル(メタ)アクリルアミド、(ジ−)2−エチルヘキシル(メタ)アクリルアミド;アダマンチル(メタ)アクリルアミド、ノルアダマンチル(メタ)アクリルアミド;ベンジル(メタ)アクリルアミド、ナフチルエチル(メタ)アクリルアミド、フェニルエチル(メタ)アクリルアミド;(ジ)フェニル(メタ)アクリルアミド、ナフチル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロイルモルホリン、ピペリジルアクリルアミド、ピロリジルアクリルアミド、(α−メチル)スチレン、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニルトリアゾール、無水マレイン酸、メチルジャスモネート;イタコン酸;クロトン酸、メチルクロトネート、エチルクロトネート、直鎖または分岐のプロピルクロトネート、直鎖または分岐のブチルクロトネート、直鎖または分岐のペンチルクロトネート、ノーマルヘキシルクロトネート、シクロヘキシルクロトネート、ノーマルヘプチルクロトネート、2−エチルヘキシルクロトネート、ノーマルオクチルクロトネート、ノーマルデシルクロトネート、ノーマルドデシルクロトネート;アダマンチルクロトネート、イソボルニルクロトネート、ノルボルナンメチルクロトネート、ノルボルネンメチルクロトネート;ベンジルクロトネート、ナフチルメチルクロトネート、アントラセンメチルクロトネート、フェニルエチルクロトネート;フェニルクロトネート、ナフチルクロトネート、ベンゾイルオキシエチレン、アセトキシエチレン、ビニルカルバゾール、ビニルピロリドン等が特に好ましい。   Of these, (meth) acrylic acid, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, linear or branched propyl (meth) acrylate, linear or branched butyl (meth) acrylate, linear or branched Pentyl (meth) acrylate, normal hexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, normal heptyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, normal octyl (meth) acrylate, normal decyl (meth) acrylate, normal Dodecyl (meth) acrylate, adamantyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, norbornanemethyl (meth) acrylate, norbornenemethyl (meth) acrylate; benzyl (meth) acrylate , Naphthylmethyl (meth) acrylate, anthracenemethyl (meth) acrylate, phenylethyl (meth) acrylate; phenyl (meth) acrylate, naphthyl (meth) acrylate, (meth) acrylamide, (di) methyl (meth) acrylamide, (Di) ethyl (meth) acrylamide, linear or branched (di) propyl (meth) acrylamide, linear or branched (di) butyl (meth) acrylamide, linear or branched (di) pentyl (meth) acrylamide , (Di) normal hexyl (meth) acrylamide, (di) cyclohexyl (meth) acrylamide, (di-) 2-ethylhexyl (meth) acrylamide; adamantyl (meth) acrylamide, noradamantyl (meth) acrylamide; benzyl (meth) Acrylamide, naphthylethyl (meth) acrylamide, phenylethyl (meth) acrylamide; (di) phenyl (meth) acrylamide, naphthyl (meth) acrylamide, (meth) acryloylmorpholine, piperidylacrylamide, pyrrolidylacrylamide, (α-methyl) styrene , Vinylpyridine, vinylimidazole, vinyltriazole, maleic anhydride, methyl jasmonate; itaconic acid; crotonic acid, methyl crotonate, ethyl crotonate, linear or branched propyl crotonate, linear or branched butyl crotonate , Linear or branched pentyl crotonate, normal hexyl crotonate, cyclohexyl crotonate, normal heptyl crotonate, 2-ethylhexyl crotonate, normal Octyl crotonate, normal decyl crotonate, normal dodecyl crotonate; adamantyl crotonate, isobornyl crotonate, norbornane methyl crotonate, norbornene methyl crotonate; benzyl crotonate, naphthyl methyl crotonate, anthracene methyl crotonate, phenylethyl Crotonate; phenylcrotonate, naphthylcrotonate, benzoyloxyethylene, acetoxyethylene, vinylcarbazole, vinylpyrrolidone and the like are particularly preferable.

また、前記のカルボキシル基は、金属塩よりなってもよい。   The carboxyl group may be made of a metal salt.

前記置換基としては、C1〜C20のアルキル基、C1〜C20のアルコキシ基、C1〜C20のアラルキル基、C1〜C20のアリール基、C1〜C20のアシルオキシ基、C1〜C20のアシル基、C1〜C20のアルコキシカルボニル基、C1〜C20のアリールカルボニル基、C1〜C20のジアルキルアミノ基、C1〜C20のアルキルアミノ基、ハロゲン原子、シアノ基、フリル基、フルフリル基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロフルフリル基、アルキルチオ基、トリメチルシリル基、トリフルオロメチル基、カルボキシル基、チエニル基、モルホリノ基、モルホリノカルボニル基等が好ましい。   Examples of the substituent include a C1 to C20 alkyl group, a C1 to C20 alkoxy group, a C1 to C20 aralkyl group, a C1 to C20 aryl group, a C1 to C20 acyloxy group, a C1 to C20 acyl group, and a C1 to C20 acyl group. C20 alkoxycarbonyl group, C1-C20 arylcarbonyl group, C1-C20 dialkylamino group, C1-C20 alkylamino group, halogen atom, cyano group, furyl group, furfuryl group, tetrahydrofuryl group, tetrahydrofurfuryl group An alkylthio group, a trimethylsilyl group, a trifluoromethyl group, a carboxyl group, a thienyl group, a morpholino group, a morpholinocarbonyl group, and the like are preferable.

これらのうち、前記置換基としては、C1〜C15のアルキル基、C1〜C15のアルコキシ基、C1〜C15のアラルキル基、C1〜C15のアリール基、C1〜C15のアシルオキシ基、C1〜C15のアシル基、C1〜C15のアルコキシカルボニル基、C1〜C15のアリールカルボニル基、C1〜C15のジアルキルアミノ基、C1〜C15のアルキルアミノ基、ハロゲン原子、シアノ基、フリル基、フルフリル基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロフルフリル基、アルキルチオ基、トリメチルシリル基、トリフルオロメチル基、カルボキシル基、チエニル基、モルホリノ基、モルホリノカルボニル基等がより好ましい。   Among these, the substituent includes a C1-C15 alkyl group, a C1-C15 alkoxy group, a C1-C15 aralkyl group, a C1-C15 aryl group, a C1-C15 acyloxy group, and a C1-C15 acyl group. Group, C1-C15 alkoxycarbonyl group, C1-C15 arylcarbonyl group, C1-C15 dialkylamino group, C1-C15 alkylamino group, halogen atom, cyano group, furyl group, furfuryl group, tetrahydrofuryl group, A tetrahydrofurfuryl group, an alkylthio group, a trimethylsilyl group, a trifluoromethyl group, a carboxyl group, a thienyl group, a morpholino group, a morpholinocarbonyl group and the like are more preferable.

また、前記置換基としては、メチル基、エチル基、直鎖または分岐のプロピル基、直鎖または分岐のブチル基、直鎖または分岐のペンチル基、ノーマルヘキシル基、シクロヘキシル基、ノーマルヘプチル基、2−エチルヘキシル基、ノーマルオクチル基、ノーマルデシル基、ノルマルドデシル基、メチルオキシ基、エチルオキシ基、直鎖または分岐のプロピルオキシ基、直鎖または分岐のブチルオキシ基、直鎖または分岐のペンチルオキシ基、ノーマルヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ノーマルヘプチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、ノーマルオクチルオキシ基、ノーマルデシルオキシ基、ノーマルドデシルオキシ基、ベンジル基、ペネチル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基、フェニル基、ナフチル基、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、直鎖または分岐のプロピルカルボニルオキシ基、直鎖または分岐のブチルカルボニルオキシ基、直鎖または分岐のペンチルカルボニルオキシ基、ノーマルヘキシルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、ノーマルヘプチルカルボニルオキシ基、2−エチルヘキシルカルボニルオキシ基、ノーマルオクチルカルボニルオキシ基、ノーマルデシルカルボニルオキシ基、ノーマルドデシルカルボニルオキシ基、メチルカルボニル基(アセチル基)、エチルカルボニル基、直鎖または分岐のプロピルカルボニル基、直鎖または分岐のブチルカルボニル基、直鎖または分岐のペンチルカルボニル基、ノーマルヘキシルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、ノーマルヘプチルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基、ノーマルオクチルカルボニル基、ノーマルデシルカルボニル基、ノーマルドデシルカルボニル基、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、直鎖または分岐のプロピルオキシカルボニル基、直鎖または分岐のブチルオキシカルボニル基、直鎖または分岐のペンチルオキシカルボニル基、ノーマルヘキシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、ノーマルヘプチルオキシカルボニル基、2−エチルヘキシルオキシカルボニル基、ノーマルオクチルオキシカルボニル基、ノーマルデシルオキシカルボニル基、ノーマルドデシルオキシカルボニル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基;(ジ)メチルアミノ基、(ジ)エチルアミノ基、直鎖または分岐の(ジ)プロピルアミノ基、直鎖または分岐の(ジ)ブチルアミノ基、直鎖または分岐の(ジ)ペンチルアミノ基、(ジ)ノーマルヘキシルアミノ基、(ジ)シクロヘキシルアミノ基、(ジ)ノーマルヘプチルアミノ基、(ジ)2−エチルヘキシルアミノ基;フッ素原子、塩素原子、臭素原子;シアノ基、フリル基、フルフリル基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロフルフリル基、アルキルチオ基、トリメチルシリル基、トリフルオロメチル基、カルボキシル基、チエニル基、モルホリノ基、モルホリノカルボニル基等が特に好ましい。   Examples of the substituent include a methyl group, an ethyl group, a linear or branched propyl group, a linear or branched butyl group, a linear or branched pentyl group, a normal hexyl group, a cyclohexyl group, a normal heptyl group, 2 -Ethylhexyl group, normal octyl group, normal decyl group, normal dodecyl group, methyloxy group, ethyloxy group, linear or branched propyloxy group, linear or branched butyloxy group, linear or branched pentyloxy group, normal Hexyloxy group, cyclohexyloxy group, normal heptyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, normal octyloxy group, normal decyloxy group, normal dodecyloxy group, benzyl group, penetyl group, naphthylmethyl group, naphthylethyl group, phenyl group , Naphthyl group, meth A carbonyloxy group, an ethylcarbonyloxy group, a linear or branched propylcarbonyloxy group, a linear or branched butylcarbonyloxy group, a linear or branched pentylcarbonyloxy group, a normal hexylcarbonyloxy group, a cyclohexylcarbonyloxy group, Normal heptylcarbonyloxy group, 2-ethylhexylcarbonyloxy group, normal octylcarbonyloxy group, normal decylcarbonyloxy group, normal dodecylcarbonyloxy group, methylcarbonyl group (acetyl group), ethylcarbonyl group, linear or branched propylcarbonyl Group, linear or branched butylcarbonyl group, linear or branched pentylcarbonyl group, normal hexylcarbonyl group, cyclohexylcarbonyl group, normal heptyl Carbonyl group, 2-ethylhexylcarbonyl group, normal octylcarbonyl group, normal decylcarbonyl group, normal dodecylcarbonyl group, methyloxycarbonyl group, ethyloxycarbonyl group, linear or branched propyloxycarbonyl group, linear or branched butyl Oxycarbonyl group, linear or branched pentyloxycarbonyl group, normal hexyloxycarbonyl group, cyclohexyloxycarbonyl group, normal heptyloxycarbonyl group, 2-ethylhexyloxycarbonyl group, normal octyloxycarbonyl group, normal decyloxycarbonyl group, Normal dodecyloxycarbonyl group, benzoyl group, naphthylcarbonyl group; (di) methylamino group, (di) ethylamino group, linear or branched (di ) Propylamino group, linear or branched (di) butylamino group, linear or branched (di) pentylamino group, (di) normal hexylamino group, (di) cyclohexylamino group, (di) normal heptylamino Group, (di) 2-ethylhexylamino group; fluorine atom, chlorine atom, bromine atom; cyano group, furyl group, furfuryl group, tetrahydrofuryl group, tetrahydrofurfuryl group, alkylthio group, trimethylsilyl group, trifluoromethyl group, carboxyl A group, a thienyl group, a morpholino group, a morpholinocarbonyl group and the like are particularly preferable.

また、これらの置換基は、前記の置換基でさらに置換されていてもいい。但し、アルコール系水酸基は、ガラス転移温度(Tg)を低下させる場合があるので、好ましい置換基の例から除かれる。   Further, these substituents may be further substituted with the above-described substituents. However, alcoholic hydroxyl groups are excluded from the preferred substituent examples because they may lower the glass transition temperature (Tg).

また、(メタ)アクリロニトリル、(メタ)クロトンニトリルは、特に好ましい共重合成分(共重合モノマー)の例として挙げられる。   In addition, (meth) acrylonitrile and (meth) crotononitrile are examples of particularly preferable copolymerization components (copolymerization monomers).

前記共重合成分としては、その他の親水性を有するモノマーとして、リン酸、リン酸エステル、4級アンモニウム塩、エチレンオキシ鎖、プロピレンオキシ鎖、スルホン酸及びその塩、モルホリノエチル基等を含有するモノマー等が有用である。   As the copolymer component, monomers having other hydrophilic properties such as phosphoric acid, phosphate ester, quaternary ammonium salt, ethyleneoxy chain, propyleneoxy chain, sulfonic acid and its salt, morpholinoethyl group, etc. Etc. are useful.

前記スルホン酸基、カルボン酸基は、金属塩よりなってもよい。   The sulfonic acid group and carboxylic acid group may be made of a metal salt.

本発明におけるバインダーにおいて、共重合するモノマーの種類や数は、特に限定されないが、1〜12種が好ましく、1〜8種がより好ましく、1〜5種が特に好ましい。   In the binder of the present invention, the type and number of monomers to be copolymerized are not particularly limited, but 1 to 12 types are preferable, 1 to 8 types are more preferable, and 1 to 5 types are particularly preferable.

以下、本発明の化学式1の形態におけるバインダーの具体例を化学式1−1〜化学式1−24で示すが、本発明は、これらに限定されるのではない。   Hereinafter, although the specific example of the binder in the form of Chemical formula 1 of this invention is shown by Chemical formula 1-1-Chemical formula 1-24, this invention is not limited to these.

[化学式1−1]
ガラス転移温度(Tg)=120℃
[Chemical Formula 1-1]
Glass transition temperature (Tg) = 120 ° C.

[化学式1−2]
ガラス転移温度(Tg)=130℃
[Chemical formula 1-2]
Glass transition temperature (Tg) = 130 ° C.

[化学式1−3]
ガラス転移温度(Tg)=160℃
[Chemical formula 1-3]
Glass transition temperature (Tg) = 160 ° C.

[化学式1−4]
ガラス転移温度(Tg)=160℃
[Chemical formula 1-4]
Glass transition temperature (Tg) = 160 ° C.

[化学式1−5]
ガラス転移温度(Tg)=135℃
[Chemical formula 1-5]
Glass transition temperature (Tg) = 135 ° C.

[化学式1−6]
ガラス転移温度(Tg)=150℃
[Chemical formula 1-6]
Glass transition temperature (Tg) = 150 ° C.

[化学式1−7]
ガラス転移温度(Tg)=−1.3℃
[Chemical formula 1-7]
Glass transition temperature (Tg) = − 1.3 ° C.

[化学式1−8]
ガラス転移温度(Tg)=−19.3℃
[Chemical formula 1-8]
Glass transition temperature (Tg) = − 19.3 ° C.

[化学式1−9]
ガラス転移温度(Tg)=120℃
[Chemical formula 1-9]
Glass transition temperature (Tg) = 120 ° C.

[化学式1−10]
ガラス転移温度(Tg)=130℃
[Chemical formula 1-10]
Glass transition temperature (Tg) = 130 ° C.

[化学式1−11]
ガラス転移温度(Tg)=140℃
[Chemical formula 1-11]
Glass transition temperature (Tg) = 140 ° C.

[化学式1−12]
ガラス転移温度(Tg)=140℃
[Chemical formula 1-12]
Glass transition temperature (Tg) = 140 ° C.

[化学式1−13]
ガラス転移温度(Tg)=160℃
[Chemical formula 1-13]
Glass transition temperature (Tg) = 160 ° C.

[化学式1−14]
ガラス転移温度(Tg)=130℃
[Chemical formula 1-14]
Glass transition temperature (Tg) = 130 ° C.

[化学式1−15]
ガラス転移温度(Tg)=140℃
[Chemical formula 1-15]
Glass transition temperature (Tg) = 140 ° C.

[化学式1−16]
ガラス転移温度(Tg)=140℃
[Chemical formula 1-16]
Glass transition temperature (Tg) = 140 ° C.

[化学式1−17]
ガラス転移温度(Tg)=150℃
[Chemical formula 1-17]
Glass transition temperature (Tg) = 150 ° C.

[化学式1−18]
ガラス転移温度(Tg)=140℃
[Chemical formula 1-18]
Glass transition temperature (Tg) = 140 ° C.

[化学式1−19]
ガラス転移温度(Tg)=130℃
[Chemical formula 1-19]
Glass transition temperature (Tg) = 130 ° C.

[化学式1−20]
ガラス転移温度(Tg)=120℃
[Chemical formula 1-20]
Glass transition temperature (Tg) = 120 ° C.

[化学式1−21]
ガラス転移温度(Tg)=120℃
[Chemical formula 1-21]
Glass transition temperature (Tg) = 120 ° C.

[化学式1−22]
ガラス転移温度(Tg)=130℃
[Chemical formula 1-22]
Glass transition temperature (Tg) = 130 ° C.

[化学式1−23]
ガラス転移温度(Tg)=160℃
[Chemical formula 1-23]
Glass transition temperature (Tg) = 160 ° C.

[化学式1−24]
ガラス転移温度(Tg)=120℃
[Chemical formula 1-24]
Glass transition temperature (Tg) = 120 ° C.

次に、本発明の量子ドットを含む硬化性組成物は、化学式2のバインダーを含むことができ、ガラス転移温度が−20〜250℃であることができる。   Next, the curable composition containing the quantum dots of the present invention may include a binder of Formula 2, and may have a glass transition temperature of -20 to 250 ° C.

化学式2で表される化合物を含有することによって、光(放射線)照射時の硬化性を向上させることができ、硬化度の高いパターンを形成できる。したがって、高解像度であり、POB工程中に発生するラジカルから量子ドットの表面に保護基の役目をすることによって、優れた輝度特性を示すことができる。   By containing the compound represented by Chemical Formula 2, curability at the time of light (radiation) irradiation can be improved, and a pattern having a high degree of curing can be formed. Therefore, it has high resolution and can exhibit excellent luminance characteristics by acting as a protecting group from the radicals generated during the POB process to the surface of the quantum dots.

[化学式2]
[Chemical formula 2]

化学式2で、R及びRは、それぞれ独立に、互いに同じかまたは異なり、水素またはC1−C6アルキル基を示す。 In Formula 2, R 5 and R 6 are each independently the same or different and represent hydrogen or a C1-C6 alkyl group.

は、酸素、−NH−または

基を示す。
R 7 is oxygen, —NH— or

Indicates a group.

は、C1−C30のアルキレン基、C1−C30のアルキレンオキシ基またはC1−C30のエチルオキシカルボニルアミノエチル基を示す。 R 8 represents a C1-C30 alkylene group, a C1-C30 alkyleneoxy group, or a C1-C30 ethyloxycarbonylaminoethyl group.

前記Rで表されるアルキレン基、アルキレンオキシ基、及びエチルオキシカルボニルアミノエチル基のうち、いずれもC1〜C25のものが好ましく、C1〜C20のものがより好ましく、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、エチレンオキシ基、ジエチレンオキシ基、トリエチレンオキシ基、エチルオキシカルボニルアミノエチル基が特に好ましい。これら基は、置換基を有していてもいい。前記Rにおける置換基としては、C1〜C20のアルキル基またはOH基が好ましく、そのうち、C1〜C15のアルキル基またはOH基がより好ましく、C1〜C10のアルキル基またはOH基がさらに好ましく、C1〜C7のアルキル基またはOH基が特に好ましい。このうち、原料及び合成適性等を考慮すれば、メチル基、エチル基、分岐または直鎖のプロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、OH基が最も好ましい。 Alkylene group represented by R 8, alkyleneoxy group, and among the ethyloxycarbonyl aminoethyl group, both preferably having C1~C25, more preferably those of C1 to C20, methylene group, ethylene group, propylene Group, butylene group, ethyleneoxy group, diethyleneoxy group, triethyleneoxy group, and ethyloxycarbonylaminoethyl group are particularly preferred. These groups may have a substituent. The substituent for R 8 is preferably a C1-C20 alkyl group or OH group, more preferably a C1-C15 alkyl group or OH group, more preferably a C1-C10 alkyl group or OH group, and C1. A C7 alkyl group or an OH group is particularly preferred. Among these, in view of raw materials and synthesis suitability, a methyl group, an ethyl group, a branched or linear propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, and an OH group are most preferable.

は、不飽和二重結合を含有する基を示す。 R 9 represents a group containing an unsaturated double bond.

前記Rは、不飽和二重結合を含有する基を示し、ビニルオキシ基、アリルオキシ基、(メタ)アクリロイルオキシ基、4−ビニルフェニルオキシ基、4−ビニルフェニルメチルオキシ基、スチリル基、ビニルエステル基及びビニルエーテル基よりなる群から選択される基が好ましい。そのうち、ビニルオキシ基、アリルオキシ基、(メタ)アクリロイルオキシ基、4−ビニルフェニルメチルオキシ基、ビニルエステル基がより好ましく、アリルオキシ基、(メタ)アクリロイルオキシ基、4−ビニルフェニルメチルオキシ基が特に好ましい。 R 9 represents a group containing an unsaturated double bond, vinyloxy group, allyloxy group, (meth) acryloyloxy group, 4-vinylphenyloxy group, 4-vinylphenylmethyloxy group, styryl group, vinyl ester. Groups selected from the group consisting of groups and vinyl ether groups are preferred. Among them, vinyloxy group, allyloxy group, (meth) acryloyloxy group, 4-vinylphenylmethyloxy group, and vinyl ester group are more preferable, and allyloxy group, (meth) acryloyloxy group, and 4-vinylphenylmethyloxy group are particularly preferable. .

前記Xは、0<X<100の値を示す。より好ましくは、Xは、膜の強度、弾性率、粘弾性、耐熱性、合成適性、ポリマーのガラス転移温度(Tg)、溶解性、現像性、合成適性、膜の現像性、現像液の濃度、量子ドット及びその他成分との相互作用強度等を考慮して適宜選択することができる。そのうち、Xは、5〜95の値が好ましく、10〜90の値がより好ましく、15〜85の値が特に好ましい。   X represents a value of 0 <X <100. More preferably, X represents film strength, elastic modulus, viscoelasticity, heat resistance, synthesis suitability, polymer glass transition temperature (Tg), solubility, developability, synthesis suitability, film developability, developer concentration. , And can be appropriately selected in consideration of the interaction strength with the quantum dots and other components. Among them, X is preferably a value of 5 to 95, more preferably a value of 10 to 90, and particularly preferably a value of 15 to 85.

前記化学式2で表される化合物の分子量としては、重量平均分子量で、500〜10,000,000Da(ダルトン:分子量の単位)が好ましく、100〜5,000,000Daがより好ましく、2,000〜5,000,000Daが特に好ましい。   The molecular weight of the compound represented by Chemical Formula 2 is preferably a weight average molecular weight of 500 to 10,000,000 Da (Dalton: unit of molecular weight), more preferably 100 to 5,000,000 Da, and 2,000 to 5,000,000 Da is particularly preferred.

前記バインダーは、特に水可溶性またはアルカリ可溶性であることが好ましい。ここで、アルカリ可溶性というのは、下記のアルカリ性化合物の水溶液、またはこれらに水と混和性の任意の有機溶媒を混合したものに可溶であることを言う。   The binder is particularly preferably water-soluble or alkali-soluble. Here, alkali-soluble means that it is soluble in an aqueous solution of the following alkaline compound or a mixture of these with an organic solvent miscible with water.

以下、前記化学式2で表される化合物の具体例を列挙するが、本発明は、これらに限定されるものではない。   Hereinafter, although the specific example of the compound represented by said Chemical formula 2 is enumerated, this invention is not limited to these.

前記化学式1または化学式2で表される化合物を含むバインダーは、量子ドットを含む硬化性組成物の全体固形分(質量)に対して10〜90質量%が好ましく、15〜80質量%がより好ましい。   10-90 mass% is preferable with respect to the total solid content (mass) of the curable composition containing a quantum dot, and the binder containing the compound represented by the said Chemical formula 1 or Chemical formula 2 is more preferable 15-80 mass%. .

前記バインダーの含有量が前記範囲未満なら、光(放射線)の照射による硬化度の向上効果が不十分であり、耐熱性、解像度及び硬化部の残膜率や未硬化部の現像性等が効果が低下することがある。また、前記範囲を超過すれば、その他成分の含有量が過度に低下し、現像性や着色性等を損傷させる場合がある。   If the content of the binder is less than the above range, the effect of improving the degree of curing by irradiation with light (radiation) is insufficient, and the heat resistance, resolution, remaining film ratio of the cured part, developability of the uncured part, etc. are effective. May decrease. On the other hand, if the above range is exceeded, the content of other components may be excessively lowered, and developability and colorability may be damaged.

本発明の硬化性樹脂組成物は、光ルミネセンス量子ドット粒子を含む。   The curable resin composition of the present invention includes photoluminescent quantum dot particles.

量子ドットというのは、ナノサイズの半導体物質である。原子が分子を成し、分子は、クラスタという小さいと分子の集合体を構成し、ナノ粒子を成す。このようなナノ粒子が特に半導体特性を帯びているとき、これを量子ドットと言う。量子ドットは、外部からエネルギーを受けて浮き上がった状態に至れば、自体的に該当するエネルギーバンドギャップによるエネルギーを放出する。   Quantum dots are nano-sized semiconductor materials. When atoms form molecules, and molecules are small, called clusters, they form an assembly of molecules and form nanoparticles. When such nanoparticles have semiconductor characteristics, they are called quantum dots. When the quantum dot is lifted by receiving energy from the outside, the quantum dot releases energy by its own energy band gap.

本発明の硬化性組成物は、このような光ルミネセンス量子ドット粒子を含み、これから製造されたカラーフィルターは、光の照射によって発光(光ルミネセンス)することができる。カラーフィルターを含む通常の画像表示装置においては、白色光がカラーフィルターを透過してカラーが具現され、この過程で、光の一部がカラーフィルターに吸収されるので、光効率が低下する。しかし、本発明の硬化性組成物で製造されたカラーフィルターを含む場合には、カラーフィルターが光源の光によって自体発光するので、優れた光効率を具現できる。また、色相を有する光が放出されるので、色再現性に優れ、光ルミネセンスにより全方向に光が放出されるので、視野角をも改善できる。   The curable composition of the present invention contains such photoluminescent quantum dot particles, and a color filter produced therefrom can emit light (photoluminescence) by irradiation with light. In a normal image display device including a color filter, white light is transmitted through the color filter to realize a color. In this process, a part of the light is absorbed by the color filter, so that the light efficiency is lowered. However, when the color filter manufactured with the curable composition of the present invention is included, the color filter emits itself by the light of the light source, so that excellent light efficiency can be realized. In addition, since light having a hue is emitted, the color reproducibility is excellent, and light is emitted in all directions by photoluminescence, so that the viewing angle can be improved.

本発明による量子ドット粒子は、光による刺激で発光できる量子ドット粒子なら、特に限定されず、例えばII−VI族半導体化合物;III−V族半導体化合物;IV−VI族半導体化合物;IV族元素またはこれを含む化合物;及びこれらの組み合わせよりなる群から選択されることができる。これらは、単独または2種以上混合して使用できる。前記II−VI族半導体化合物は、CdS、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、ZnO、HgS、HgSe、HgTe及びこれらの混合物よりなる群から選択される二元素化合物;CdSeS、CdSeTe、CdSTe、ZnSeS、ZnSeTe、ZnSTe、HgSeS、HgSeTe、HgSTe、CdZnS、CdZnSe、CdZnTe、CdHgS、CdHgSe、CdHgTe、HgZnS、HgZnSe、HgZnTe及びこれらの混合物よりなる群から選択される三元素化合物;及びCdZnSeS、CdZnSeTe、CdZnSTe、CdHgSeS、CdHgSeTe、CdHgSTe、HgZnSeS、HgZnSeTe、HgZnSTe及びこれらの混合物よりなる群から選択される四元素化合物よりなる群から選択されることができ、前記III−V族半導体化合物は、GaN、GaP、GaAs、GaSb、AlN、AlP、AlAs、AlSb、InN、InP、InAs、InSb及びこれらの混合物よりなる群から選択される二元素化合物;GaNP、GaNAs、GaNSb、GaPAs、GaPSb、AlNP、AlNAs、AlNSb、AlPAs、AlPSb、InNP、InNAs、InNSb、InPAs、InPSb、GaAlNP及びこれらの混合物よりなる群から選択される三元素化合物;及びGaAlNAs、GaAlNSb、GaAlPAs、GaAlPSb、GaInNP、GaInNAs、GaInNSb、GaInPAs、GaInPSb、InAlNP、InAlNAs、InAlNSb、InAlPAs、InAlPSb及びこれらの混合物よりなる群から選択される四元素化合物よりなる群から選択されることができ、前記IV−VI族半導体化合物は、SnS、SnSe、SnTe、PbS、PbSe、PbTe及びこれらの混合物よりなる群から選択される二元素化合物;SnSeS、SnSeTe、SnSTe、PbSeS、PbSeTe、PbSTe、SnPbS、SnPbSe、SnPbTe及びこれらの混合物よりなる群から選択される三元素化合物;及びSnPbSSe、SnPbSeTe、SnPbSTe及びこれらの混合物よりなる群から選択される四元素化合物よりなる群から選択されることができ、前記IV族元素またはこれを含む化合物は、Si、Ge、及びこれらの混合物よりなる群から選択される元素化合物;及びSiC、SiGe、及びこれらの混合物よりなる群から選択される二元素化合物よりなる群から選択されることができる。   The quantum dot particle according to the present invention is not particularly limited as long as it is a quantum dot particle that can emit light when stimulated by light. For example, a II-VI group semiconductor compound; a III-V group semiconductor compound; a IV-VI group semiconductor compound; A compound comprising the same; and combinations thereof. These can be used alone or in admixture of two or more. The II-VI group semiconductor compound is a two-element compound selected from the group consisting of CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, ZnO, HgS, HgSe, HgTe, and mixtures thereof; CdSeS, CdSeTe, CdSTe, ZnSeS 3dCe, selected from the group consisting of ZnO, ZnSeTe, ZnSTe, HgSeS, HgSeTe, HgSTe, CdZnS, CdZnSe, CdZnTe, CdHgS, CdHgSe, CdHgTe, HdZnS, HgZnSe, HgZnTe, and mixtures thereof; Four elements selected from the group consisting of CdHgSeS, CdHgSeTe, CdHgSTe, HgZnSeS, HgZnSeTe, HgZnSTe and mixtures thereof The group III-V semiconductor compound may be selected from the group consisting of GaN, GaP, GaAs, GaSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, InN, InP, InAs, InSb, and mixtures thereof. A binary element selected from the group consisting of: GNP, GNAs, GNSb, GaPAs, GaPSb, AlNP, AlNAs, AlNSb, AlPAs, AlPSb, InNP, InNAs, InNSb, InPAs, InPSb, GaAlNP and mixtures thereof Ternary compounds; and GaAlNAs, GaAlNSb, GaAlPAs, GaAlPSb, GaInNP, GaInNAs, GaInNSb, GaInPAs, GaInPSb, InAlNP, InAlNAs, InAlNS , InAlPAs, InAlPSb, and a mixture thereof. The IV-VI semiconductor compound may be selected from the group consisting of SnS, SnSe, SnTe, PbS, PbSe, PbTe, and the like. Two elemental compounds selected from the group consisting of these mixtures; SnSeS, SnSeTe, SnSTe, PbSeS, PbSeTe, PbSTe, SnPbS, SnPbSe, SnPbTe and three elemental compounds selected from the mixture thereof; and SnPbSSe, SnPbSe , SnPbSTe and a group consisting of quaternary compounds selected from the group consisting of these, wherein the group IV element or the compound containing it is selected from the group consisting of Si, Ge, and mixtures thereof Selected And an elemental compound selected from the group consisting of SiC, SiGe, and mixtures thereof.

量子ドット粒子は、均質な(homogeneous)単一構造;コア−シェル(core−shell)、グラディエント(gradient)構造等のような二重構造;またはこれらの混合構造であることができる。コア−シェル(core−shell)の二重構造で、それぞれのコア(core)とシェル(shell)を成す物質は、前記言及された互いに異なる半導体化合物よりなることができる。例えば、前記コアは、CdSe、CdS、ZnS、ZnSe、CdTe、CdSeTe、CdZnS、PbSe、AgInZnS及びZnOよりなる群から選択された1つ以上の物質を含むことができるが、これに限定されるものではない。前記シェルは、CdSe、ZnSe、ZnS、ZnTe、CdTe、PbS、TiO、SrSe及びHgSeよりなる群から選択された1つ以上の物質を含むことができるが、これに限定されるものではない。通常のカラーフィルターの製造に使用される着色感光性樹脂組成物が色相具現のために赤色、緑色、青色の着色剤を含む如き、光ルミネセンス量子ドット粒子も、赤色量子ドット粒子、緑色量子ドット粒子及び青色量子ドット粒子に分類されることができ、本発明による量子ドット粒子は、赤色量子ドット粒子、緑色量子ドット粒子または青色量子ドット粒子であることができる。   Quantum dot particles can be a homogenous single structure; a double structure such as a core-shell, a gradient structure, etc .; or a mixed structure thereof. The core-shell dual structure and the core and shell materials may be composed of the above-mentioned different semiconductor compounds. For example, the core may include one or more materials selected from the group consisting of, but not limited to, CdSe, CdS, ZnS, ZnSe, CdTe, CdSeTe, CdZnS, PbSe, AgInZnS, and ZnO. is not. The shell may include one or more materials selected from the group consisting of CdSe, ZnSe, ZnS, ZnTe, CdTe, PbS, TiO, SrSe, and HgSe, but is not limited thereto. Photoluminescent quantum dot particles, such as red, green, and blue colorants used for the production of ordinary color filters, include red, green, and blue colorants for the purpose of hue. The quantum dot particles according to the present invention may be red quantum dot particles, green quantum dot particles, or blue quantum dot particles.

量子ドット粒子は、湿式化学工程(wet chemical process)、有機金属化学蒸着工程または分子線エピタキシ工程によって合成できる。湿式化学工程は、有機溶剤に前駆体物質を入れて粒子を成長させる方法である。結晶が成長するとき、有機溶剤が自然に量子ドット結晶の表面に配位され、分散剤の役目をして、結晶の成長を調節するので、有機金属化学蒸着(MOCVD、metal organic chemical vapor deposition)や分子線エピタキシ(MBE、molecular beam epitaxy)のような気相蒸着法より容易且つ安価の工程を通じてナノ粒子の成長を制御できる。   Quantum dot particles can be synthesized by a wet chemical process, a metal organic chemical vapor deposition process or a molecular beam epitaxy process. The wet chemical process is a method of growing particles by putting a precursor substance in an organic solvent. When the crystal grows, the organic solvent is naturally coordinated on the surface of the quantum dot crystal and acts as a dispersant to regulate the growth of the crystal, so metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) In addition, the growth of nanoparticles can be controlled through a process that is easier and less expensive than vapor deposition such as molecular beam epitaxy (MBE).

本発明による量子ドット粒子の含量は、特に限定されず、例えば感光性樹脂組成物の固形分の全体重量にうち3〜80重量%で含まれることが好ましく、5〜70重量%で含まれることがより好ましい。前記量子ドット粒子の含量が前記範囲未満なら、発光効率が非常に弱く、前記範囲を超過すれば、相対的に他の組成の含量が不足して、画素パターンを形成しにくい問題がある。   The content of the quantum dot particles according to the present invention is not particularly limited. For example, the content is preferably 3 to 80% by weight, and preferably 5 to 70% by weight, based on the total solid content of the photosensitive resin composition. Is more preferable. If the content of the quantum dot particles is less than the above range, the light emission efficiency is very weak. If the content exceeds the above range, the content of other compositions is relatively insufficient, and it is difficult to form a pixel pattern.

本発明の量子ドットを含む硬化性組成物は、前記化学式1または化学式2で表される化合物と併用可能な他のバインダーをさらに含むことができる。   The curable composition containing the quantum dot of the present invention may further contain another binder that can be used in combination with the compound represented by Chemical Formula 1 or Chemical Formula 2.

他のバインダーとしては、アルカリ可溶性なら特に限定されないが、耐熱性、現像性、入手性等の観点から選択されることが好ましい。   Other binders are not particularly limited as long as they are alkali-soluble, but are preferably selected from the viewpoints of heat resistance, developability, availability, and the like.

前記アルカリ可溶性のバインダーとしては、線状有機高分子重合体で、有機溶剤に可溶性であり、弱アルカリ水溶液で現像できるものが好ましい。このような線状有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸を有するポリマー、例えば日本国特開昭59−44615号、日本国特公昭54−34327号、日本国特公昭58−12577号、日本国特公昭54−25957号、日本国特開昭59−53836号、日本国特開昭59−71048号公報に記載されたメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等や、側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体が利用される。   The alkali-soluble binder is preferably a linear organic polymer, soluble in an organic solvent, and developable with a weak alkaline aqueous solution. Examples of such linear organic high molecular polymers include polymers having a carboxylic acid in the side chain, such as Japanese Patent Publication No. 59-44615, Japanese Patent Publication No. 54-34327, Japanese Patent Publication No. 58-12577. Methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer described in Japanese Patent Publication No. 54-25957, Japanese Unexamined Patent Publication No. 59-53836, Japanese Unexamined Patent Publication No. 59-71048. Polymers, crotonic acid copolymers, maleic acid copolymers, partially esterified maleic acid copolymers, etc., and acidic cellulose derivatives having a carboxylic acid in the side chain are used.

その他、水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させたもの等や、ポリヒドロキシスチレン系樹脂、ポリシロキサン系樹脂、ポリ(2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート)、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキシド、ポリビニルアルコール等も有用である。   In addition, those obtained by adding an acid anhydride to a polymer having a hydroxyl group, polyhydroxystyrene resins, polysiloxane resins, poly (2-hydroxyethyl (meth) acrylate), polyvinylpyrrolidone, polyethylene oxide, polyvinyl alcohol, etc. Is also useful.

また、第1の形態においては、前述した化学式1で表される構造単位とともに、本発明におけるバインダーを構成する成分(すなわち、共重合成分)よりなるバインダーが有用に使用される。   Further, in the first embodiment, a binder composed of components (that is, copolymerization components) constituting the binder in the present invention is usefully used together with the structural unit represented by the chemical formula 1 described above.

また、親水性を有するモノマーを共重合したものであってもよく、例えば、アルコキシアルキル(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、2級または3級のアルキルアクリルアミド、ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート、モルホリン(メタ)アクリレート、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム、ビニルイミダゾール、ビニルトリアゾール、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、分岐または直鎖のプロピル(メタ)アクリレート、分岐または直鎖のブチル(メタ)アクリレート、フェノキシヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等、その他のテトラヒドロフルフリル基、リン酸、リン酸エステル、4級アンモニウム塩、エチルオキシ鎖、プロピレンオキシ鎖、スルホン酸及びその塩、モルホリノエチル基等を含有するモノマー等が挙げられる。   Moreover, what copolymerized the monomer which has hydrophilic property may be sufficient, for example, alkoxyalkyl (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, glycerol (meth) acrylate, (meth) acrylamide, N-methylol acrylamide, Secondary or tertiary alkylacrylamide, dialkylaminoalkyl (meth) acrylate, morpholine (meth) acrylate, N-vinylpyrrolidone, N-vinylcaprolactam, vinylimidazole, vinyltriazole, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate Branched or linear propyl (meth) acrylate, branched or linear butyl (meth) acrylate, phenoxyhydroxypropyl (meth) acrylate, etc. Group, phosphoric acid, phosphoric acid esters, quaternary ammonium salts, ethyloxy chain, a propyleneoxy chain, sulfonic acid and its salts, monomers containing a morpholinoethyl group.

第1の形態においては、化学式1で表される構造単位を含有するガラス転移温度(Tg)が−20〜250℃の範囲にある、本発明におけるバインダーと併用する他のバインダーは、系の粘弾性やガラス転移温度(Tg)を所望の範囲に維持できる場合には、アルコール系水酸基を含有してもよい。   In the first embodiment, the glass transition temperature (Tg) containing the structural unit represented by Chemical Formula 1 is in the range of −20 to 250 ° C., and the other binder used in combination with the binder in the present invention is the viscosity of the system. In the case where the elasticity and glass transition temperature (Tg) can be maintained in a desired range, an alcoholic hydroxyl group may be contained.

また、本発明においては、架橋効率を向上させる観点から、重合性基を側鎖に有していてもよく、アリル基、(メタ)アクリル基、アリルオキシアルキル基等を側鎖に有するポリマー等も有用である。重合性基を側鎖に有するポリマーの例としては、KSレジスト−106(大阪有機化学工業株式会社製品)、サイクロマーPシリーズ(ダイセル化学工業株式会社製品)等が挙げられる。   Further, in the present invention, from the viewpoint of improving the crosslinking efficiency, the polymer may have a polymerizable group in the side chain, an allyl group, a (meth) acryl group, an allyloxyalkyl group or the like in the side chain. Is also useful. Examples of the polymer having a polymerizable group in the side chain include KS resist-106 (product of Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), Cyclomer P series (product of Daicel Chemical Industries, Ltd.) and the like.

また、硬化被膜の強度をさらに向上させる観点からは、アルコール可溶性ナイロンや2、2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。   From the viewpoint of further improving the strength of the cured film, alcohol-soluble nylon, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, and the like are also useful.

これら様々なバインダーのうち、耐熱性の観点から、ポリヒドロキシスチレン系樹脂、ポリシロキサン系樹脂、アクリル系樹脂、アクリルアミド係樹脂、アクリル/アクリルアミド共重合体樹脂が好ましく、現像性制御の観点から、アクリル系樹脂、アクリルアミド系樹脂、アクリル/アクリルアミド共重合体樹脂が好ましい。また、第1の観点のバインダーとともに使用される場合は、化学式1で表される構造単位とともに、高分子化合物を構成する成分(すなわち、共重合成分)よりなるバインダーが好ましい。   Of these various binders, from the viewpoint of heat resistance, polyhydroxystyrene resins, polysiloxane resins, acrylic resins, acrylamide resins, and acrylic / acrylamide copolymer resins are preferable. A resin, an acrylamide resin, and an acrylic / acrylamide copolymer resin are preferable. Moreover, when used with the binder of the 1st viewpoint, the binder which consists of a component (namely, copolymerization component) which comprises a high molecular compound with the structural unit represented by Chemical formula 1 is preferable.

前記アクリル系樹脂としては、ベンジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド等から選択されるモノマーよりなる共重合体及びKSレジスト−106(大阪有機化学工業株式会社製品)、サイクロマーPシリーズ等が好ましい。   Examples of the acrylic resin include a copolymer composed of monomers selected from benzyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid, hydroxyethyl (meth) acrylate, (meth) acrylamide, and the like, and KS resist-106 (Osaka Organic Chemical). Kogyo Co., Ltd. product), cyclomer P series and the like are preferable.

また、アルカリ可溶性フェノール樹脂も有用である。前記アルカリ可溶性フェノール樹脂としては、例えば、ノボラック樹脂またはビニル重合体等が挙げられる。   Alkali-soluble phenol resins are also useful. Examples of the alkali-soluble phenol resin include novolak resins and vinyl polymers.

前記ノボラック樹脂としては、例えば、フェノール類とアルデヒド類を酸触媒の存在下で縮合させて得られるものが挙げられる。フェノール類としては、例えば、フェノール、クレゾール、エチルフェノール、ブチルフェノール、キシレノール、フェニルフェノール、カテコール、レゾルシノール、ピロガロール、ナフトール、ビスフェノールA等が挙げられる。これらフェノール類は、単独でまたは2種以上を縮合させて使用できる。アルデヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベンゾアルデヒド等が挙げられる。   Examples of the novolak resin include those obtained by condensing phenols and aldehydes in the presence of an acid catalyst. Examples of phenols include phenol, cresol, ethylphenol, butylphenol, xylenol, phenylphenol, catechol, resorcinol, pyrogallol, naphthol, bisphenol A, and the like. These phenols can be used alone or in a combination of two or more. Examples of aldehydes include formaldehyde, paraformaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, benzaldehyde and the like.

前記ノボラック樹脂の具体例としては、メタクレゾール、パラクレゾールまたはこれらの混合物とホルマリンの縮合生成物が挙げられる。これらノボラック樹脂は、分別等の手段を使用して分子量分布を調節してもいい。また、ビスフェノールCまたはビスフェノールA等のフェノール性水酸基を有する低分子量成分を前記ノボラック樹脂に混合してもよい。   Specific examples of the novolak resin include a condensation product of metacresol, paracresol or a mixture thereof and formalin. The molecular weight distribution of these novolak resins may be adjusted using a means such as fractionation. Moreover, you may mix the low molecular weight component which has phenolic hydroxyl groups, such as bisphenol C or bisphenol A, in the said novolak resin.

前記他のバインダーの重量平均分子量(GPC法で測定されたポリスチレン換算値)としては、500〜10,000,000Da(ダルトン:分子量の単位)が好ましく、1,000〜5,000,000Daがより好ましく、2,000〜5,000,000Daが特に好ましい。   The weight average molecular weight (polystyrene conversion value measured by GPC method) of the other binder is preferably 500 to 10,000,000 Da (Dalton: unit of molecular weight), more preferably 1,000 to 5,000,000 Da. 2,000 to 5,000,000 Da is preferable.

また、前記他のバインダーは、本発明におけるバインダーと併用して使用されるものであり、本発明におけるバインダーだけの使用により性能を充分に発揮できる場合は、使用しなくてもよい。   The other binder is used in combination with the binder in the present invention, and may not be used if the performance can be sufficiently exhibited by using only the binder in the present invention.

また、本発明における化学式1または化学式2で表されるバインダーと他のバインダーを併用する場合、前記他のバインダーの本発明の量子ドットを含む硬化性組成物中の使用量は、組成物中の全体固形分に対して0〜90質量%が好ましく、0〜80質量%がより好ましく、0〜70質量%が特に好ましい。   Moreover, when using together the binder represented by Chemical formula 1 or Chemical formula 2 in this invention and another binder, the usage-amount in the curable composition containing the quantum dot of this invention of the said other binder is the amount in a composition. 0-90 mass% is preferable with respect to the total solid content, 0-80 mass% is more preferable, and 0-70 mass% is especially preferable.

本発明の量子ドットを含む硬化性組成物は、さらに高感度で硬化させた膜を得ることができるように架橋剤をさらに含むことができる。   The curable composition containing the quantum dots of the present invention can further contain a crosslinking agent so as to obtain a film cured with higher sensitivity.

本発明に使用可能な架橋剤としては、架橋反応によって膜硬化を行うものなら特に限定されず、例えばエポキシ樹脂(a)、メチロール基(b)、アルコキシメチル基、及びアシルオキシメチル基から選択される1つ以上の置換基で置換されたメラミン化合物、グアナミン化合物、グリコールウリル化合物またはウレア化合物、メチロール基(c)、アルコキシメチル基、及びアシルオキシメチル基から選択される1つ以上の置換基で置換されたフェノール化合物、ナフトール化合物またはヒドロキシアントラセン化合物が挙げられる。そのうち、多感応エポキシ樹脂が好ましい。   The crosslinking agent that can be used in the present invention is not particularly limited as long as the film is cured by a crosslinking reaction, and is selected from, for example, an epoxy resin (a), a methylol group (b), an alkoxymethyl group, and an acyloxymethyl group. Substituted with one or more substituents selected from melamine compounds, guanamine compounds, glycoluril compounds or urea compounds, methylol groups (c), alkoxymethyl groups, and acyloxymethyl groups substituted with one or more substituents Phenol compounds, naphthol compounds or hydroxyanthracene compounds. Of these, multi-sensitive epoxy resins are preferred.

前記架橋剤(a)としては、エポキシ基を有し、且つ架橋性を有するものなら、いずれでもよく、例えば、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ブタンジオールジグリシジルエーテル、ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ジヒドロキシビフェニルジグリシジルエーテル、フタル酸ジグリシジルエステル、N、N−ジグリシジルアニリン等の2価のグリシジル基含有低分子化合物、同一の形態で、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、トリメチロールフェノールトリグリシジルエーテル、TrisP−PAトリグリシジルエーテル等と代表される3価のグリシジル基含有低分子化合物、同一の形態で、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、テトラメチロールビスフェノールAテトラグリシジルエーテル等と代表される4価のグリシジル基含有低分子化合物、同一の形態で、ジペンタエリスリトールペンタグリシジルエテール、ジペンタエリスリトールヘキサグリシジルエーテル等の多価グリシジル基含有低分子化合物、ポリグリシジル(メタ)アクリレート、2、2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1、2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサン付加物等と代表されるグリシジル基含有高分子化合物等であることができる。   The cross-linking agent (a) may be any one having an epoxy group and a cross-linking property. For example, bisphenol A diglycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, butanediol diglycidyl ether, hexanediol diester Divalent glycidyl group-containing low molecular weight compounds such as glycidyl ether, dihydroxybiphenyl diglycidyl ether, diglycidyl phthalate, N, N-diglycidyl aniline, trimethylolpropane triglycidyl ether, trimethylolphenol tri Trivalent glycidyl group-containing low molecular weight compounds represented by glycidyl ether, TrisP-PA triglycidyl ether, etc., in the same form, pentaerythritol tetraglycidyl ether, tetramethylol bis Tetravalent glycidyl group-containing low molecular weight compounds represented by enol A tetraglycidyl ether, etc., polyvalent glycidyl group-containing low molecular weight compounds such as dipentaerythritol pentaglycidyl ether and dipentaerythritol hexaglycidyl ether in the same form, Polyglycidyl (meth) acrylate, 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol 1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane adduct, etc. Can be.

前記架橋剤(b)に含有されるメチロール基、アルコキシメチル基、アシルオキシメチル基が置換している数としては、メラミン化合物の場合、2〜6、グリコールウリル化合物、グアナミン化合物、ウレア化合物の場合は、2〜4であるが、好ましくは、メラミン化合物の場合、5〜6、グリコールウリル化合物、グアナミン化合物、ウレア化合物の場合は、3〜4である。   The number of methylol groups, alkoxymethyl groups, and acyloxymethyl groups substituted in the crosslinking agent (b) is 2 to 6, in the case of melamine compounds, in the case of glycoluril compounds, guanamine compounds, and urea compounds. 2 to 4, preferably 5 to 6 in the case of a melamine compound, and 3 to 4 in the case of a glycoluril compound, a guanamine compound and a urea compound.

以下、前記架橋剤(b)のメラミン化合物、グアナミン化合物、グリコールウリル化合物及びウレア化合物を一般的に架橋剤(b)に関する(メチロール基、アルコキシメチル基またはアシルオキシメチル基含有)化合物と言う。   Hereinafter, the melamine compound, guanamine compound, glycoluril compound and urea compound of the crosslinking agent (b) are generally referred to as compounds (containing methylol group, alkoxymethyl group or acyloxymethyl group) relating to the crosslinking agent (b).

前記架橋剤(b)に関するメチロール基含有化合物は、架橋剤(b)に関するアルコキシメチル基含有化合物をアルコールの中で塩酸、硫酸、硝酸、メタンスルホン酸等の酸触媒の存在下で加熱することによって得られる。前記架橋剤(b)に関するアシルオキシメチル基含有化合物は、架橋剤(b)に関するメチロール基含有化合物を塩基性触媒の存在下でアシルクロライドと混合撹拌することで得られる。   The methylol group-containing compound relating to the crosslinking agent (b) is obtained by heating the alkoxymethyl group-containing compound relating to the crosslinking agent (b) in an alcohol in the presence of an acid catalyst such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid or methanesulfonic acid. can get. The acyloxymethyl group-containing compound relating to the crosslinking agent (b) can be obtained by mixing and stirring the methylol group-containing compound relating to the crosslinking agent (b) with an acyl chloride in the presence of a basic catalyst.

以下、前記置換基を有する架橋剤(b)に関する化合物の具体例を列挙する。   Hereinafter, specific examples of the compound relating to the crosslinking agent (b) having the substituent are listed.

前記メラミン化合物として、例えば、ヘキサメチロールメラミン、ヘキサメトキシメチルメラミン、ヘキサメチロールメラミンのメチロール基の1〜5個がメトキシメチル化された化合物またはその混合物、ヘキサメトキシエチルメラミン、ヘキサアシルオキシメチルメラミン、ヘキサメチロールメラミンのメチロール基の1〜5個がアシルオキシメチル化された化合物またはその混合物等が挙げられる。   Examples of the melamine compound include hexamethylol melamine, hexamethoxymethyl melamine, a compound in which 1 to 5 methylol groups of hexamethylol melamine are methoxymethylated or a mixture thereof, hexamethoxyethyl melamine, hexaacyloxymethyl melamine, hexamethylol. Examples thereof include compounds in which 1 to 5 methylol groups of melamine are acyloxymethylated or mixtures thereof.

前記グアナミン化合物として、例えば、テトラメチロールグアナミン、テトラメトキシメチルグアナミン、テトラメチロールグアナミンの1〜3個のメチロール基をメトキシメチル化した化合物またはその混合物、テトラメトキシエチルグアナミン、テトラアシルオキシメチルグアナミン、テトラメチロールグアナミンの1〜3個のメチロール基をアシルオキシメチル化した化合物またはその混合物等が挙げられる。   Examples of the guanamine compound include tetramethylol guanamine, tetramethoxymethyl guanamine, a compound obtained by methoxymethylating 1 to 3 methylol groups of tetramethylol guanamine or a mixture thereof, tetramethoxyethyl guanamine, tetraacyloxymethyl guanamine, tetramethylol guanamine. Or a compound obtained by acyloxymethylating 1 to 3 methylol groups, or a mixture thereof.

前記グリコールウリル化合物としては、例えば、テトラメチロールグリコールウリル、テトラメトキシメチルグリコールウリル、テトラメチロールグリコールウリルのメチロール基の1〜3個をメトキシメチル化した化合物またはその混合物、テトラメチロールグリコールウリルのメチロール基の1〜3個をアシルオキシメチル化した化合物またはその混合物等が挙げられる。   Examples of the glycoluril compound include tetramethylol glycoluril, tetramethoxymethylglycoluril, a compound obtained by methoxymethylating 1 to 3 methylol groups of tetramethylolglycoluril, or a mixture thereof, or a methylol group of tetramethylolglycoluril. Examples thereof include compounds in which 1 to 3 are acyloxymethylated or a mixture thereof.

前記ウレア化合物として、例えば、テトラメチロールウレア、テトラメトキシメチルウレア、テトラメチロールウレアの1〜3個のメチロール基をメトキシメチル化した化合物またはその混合物、テトラメトキシエチルウレア等が挙げられる。   Examples of the urea compound include tetramethylol urea, tetramethoxymethyl urea, a compound obtained by methoxymethylating 1 to 3 methylol groups of tetramethylol urea, a mixture thereof, and tetramethoxyethyl urea.

これら架橋剤(b)に関する化合物は、単独で使用してもよく、組み合わせて使用してもよい。前記架橋剤(c)、すなわちメチロール基、アルコキシメチル基、及びアシルオキシメチル基から選択される1つ以上の基で置換されたフェノール化合物、ナフトール化合物またはヒドロキシアントラセン化合物は、前記架橋剤(b)の場合と同一に、熱架橋によってオーバーコート(overcoat)されたフォトレジストとのインタミキシング(intermixing)を抑制するとともに、膜強度をさらに高めるものである。以下、これら化合物を一般的に架橋剤(c)に関するメチロール基、アルコキシメチル基またはアシルオキシメチル基含有化合物と言う場合がある。   These compounds relating to the crosslinking agent (b) may be used alone or in combination. The crosslinking agent (c), that is, a phenol compound, a naphthol compound, or a hydroxyanthracene compound substituted with one or more groups selected from a methylol group, an alkoxymethyl group, and an acyloxymethyl group is the crosslinking agent (b). As in the case, it suppresses intermixing with the photoresist overcoated by thermal crosslinking and further increases the film strength. Hereinafter, these compounds may be generally referred to as methylol group, alkoxymethyl group or acyloxymethyl group-containing compound related to the crosslinking agent (c).

前記架橋剤(c)に含有されるメチロール基、アシルオキシメチル基またはアルコキシメチル基の数としては、1分子当たり最小2個が必要であり、熱架橋性及び保存安定性の観点から、骨格となるフェノール化合物の2位置、4位置がすべて置換されている化合物が好ましい。また、骨格となるナフトール化合物、ヒドロキシアントラセン化合物も、OH基のオルト位置、パラ位置がすべて置換されている化合物が好ましい。前記フェノール化合物の3位置または5位置は、未置換であってもよく、置換基を有していてもよい。前記ナフトール化合物においても、OH基のオルト位置以外は、未置換であってもよく、置換基を有していてもよい。   The number of methylol groups, acyloxymethyl groups or alkoxymethyl groups contained in the cross-linking agent (c) must be at least 2 per molecule, and it becomes a skeleton from the viewpoint of thermal crosslinkability and storage stability. Compounds in which the 2-position and 4-position of the phenol compound are all substituted are preferred. Further, the naphthol compound and hydroxyanthracene compound as the skeleton are preferably compounds in which all of the ortho position and para position of the OH group are substituted. The 3-position or 5-position of the phenol compound may be unsubstituted or may have a substituent. Also in the naphthol compound, except for the ortho position of the OH group, it may be unsubstituted or may have a substituent.

前記架橋剤(c)に関するメチロール基含有化合物は、フェノール性OH基の2位置または4位置が水素原子である化合物を原料として使用し、これを水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド等の塩基性触媒の存在下でホルマリンと反応させることによって得られる。   The methylol group-containing compound related to the crosslinking agent (c) is a compound in which the phenolic OH group is a hydrogen atom at the 2-position or 4-position, and this is used as sodium hydroxide, potassium hydroxide, ammonia, tetraalkylammonium. It can be obtained by reacting with formalin in the presence of a basic catalyst such as hydroxide.

前記架橋剤(c)に関するアルコキシメチル基含有化合物は、架橋剤(c)に関するメチロール基含有化合物をアルコールの中で塩酸、硫酸、硝酸、メタンスルホン酸等の酸触媒の存在下で加熱することによって得られる。   The alkoxymethyl group-containing compound relating to the crosslinking agent (c) is obtained by heating the methylol group-containing compound relating to the crosslinking agent (c) in the presence of an acid catalyst such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, methanesulfonic acid in alcohol. can get.

前記架橋剤(c)に関するアシルオキシメチル基含有化合物は、架橋剤(c)に関するメチロール基含有化合物を塩基性触媒の存在下でアシルクロライドと反応させることによって得られる。   The acyloxymethyl group-containing compound relating to the crosslinking agent (c) can be obtained by reacting the methylol group-containing compound relating to the crosslinking agent (c) with an acyl chloride in the presence of a basic catalyst.

架橋剤(c)における骨格化合物としては、フェノール性OH基のオルト位置またはパラ位置が未置換のフェノール化合物、ナフトール、ヒドロキシアントラセン化合物等が挙げられ、例えば、フェノール、クレゾールの各異性体、2、3−キシレノール、2、5−キシレノール、3、4−キシレノール、3、5−キシレノール、ビスフェノールA等のビスフェノール類、4、4'−ビスヒドロキシビフェニル、TrisPPA(本州化学工業株式会社製品)、ナフトール、ジヒドロキシナフタレン、2、7−ジヒドロキシアントラセン等が使用される。   Examples of the skeletal compound in the crosslinking agent (c) include phenol compounds in which the ortho-position or para-position of the phenolic OH group is unsubstituted, naphthol, hydroxyanthracene compounds, and the like, for example, phenol, cresol isomers, 2, 3-xylenol, 2,5-xylenol, 3,4-xylenol, 3,5-xylenol, bisphenols such as bisphenol A, 4,4′-bishydroxybiphenyl, TrisPPA (product of Honshu Chemical Industry Co., Ltd.), naphthol, Dihydroxynaphthalene, 2,7-dihydroxyanthracene and the like are used.

前記架橋剤(c)の具体例としては、フェノール化合物として、例えば、トリメチロールフェノール、トリ(メトキシメチル)フェノール、トリメチロールフェノールの1〜2個のメチロール基をメトキシメチル化した化合物、トリメチロール−3−クレゾール、トリ(メトキシメチル)−3−クレゾール、トリメチロール−3−クレゾールの1〜2個のメチロール基をメトキシメチル化した化合物、2、6−ジメチロール−4−クレゾール等のジメチロールクレゾール、テトラメチロールビスフェノールA、テトラメトキシメチルビスフェノールA、テトラメチロールビスフェノールAの1〜3個のメチロール基をメトキシメチル化した化合物、テトラメチロール−4、4’−ビスヒドロキシビフェニル、テトラメトキシメチル−4、4’−ビスヒドロキシビフェニル、TrisP−PAのヘキサメチロール体、TrisP−PAのヘキサメトキシメチル体、TrisP−PAのヘキサメチロール体の1〜5個のメチロール基をメトキシメチル化した化合物、ビスヒドロキシメチルナフタレンジオール等であることができる。   Specific examples of the crosslinking agent (c) include, as a phenol compound, for example, trimethylolphenol, tri (methoxymethyl) phenol, a compound obtained by methoxymethylating one or two methylol groups of trimethylolphenol, trimethylol- Compounds obtained by methoxymethylating 1 to 2 methylol groups of 3-cresol, tri (methoxymethyl) -3-cresol, trimethylol-3-cresol, dimethylol cresol such as 2,6-dimethylol-4-cresol, Tetramethylol bisphenol A, tetramethoxymethyl bisphenol A, a compound obtained by methoxymethylating 1 to 3 methylol groups of tetramethylol bisphenol A, tetramethylol-4, 4′-bishydroxybiphenyl, tetramethoxymethyl-4, 4 ′ Bishydroxybiphenyl, TrisP-PA hexamethylol body, TrisP-PA hexamethoxymethyl body, TrisP-PA hexamethylol body compound having 1 to 5 methylol groups methoxymethylated, Bishydroxymethylnaphthalenediol, etc. Can be.

また、ヒドロキシアントラセン化合物としては、例えば、1、6−ジヒドロキシメチル−2、7−ジヒドロキシアントラセン等が挙げられ、アシルオキシメチル基含有化合物として、例えば、前記メチロール基含有化合物のメチロール基を、一部または全部アシルオキシメチル化した化合物等が挙げられる。   Examples of the hydroxyanthracene compound include 1,6-dihydroxymethyl-2,7-dihydroxyanthracene, and the acyloxymethyl group-containing compound includes, for example, a part of the methylol group of the methylol group-containing compound or Examples include compounds that are all acyloxymethylated.

これら化合物のうち好ましいものとしては、トリメチロールフェノール、ビスヒドロキシメチル−p−クレゾール、テトラメチロールビスフェノールA、TrisP−PA(本州化学工業株式会社製品)のヘキサメチロール体またはそれらのメチロール基がアルコキシメチル基及びメチロール基とアルコキシメチル基の両方で置換されたフェノール化合物であることができる。   Among these compounds, trimethylol phenol, bishydroxymethyl-p-cresol, tetramethylol bisphenol A, TrisP-PA (product of Honshu Chemical Industry Co., Ltd.) hexamethylol or their methylol group is an alkoxymethyl group. And a phenol compound substituted with both a methylol group and an alkoxymethyl group.

これら架橋剤(c)に関する化合物は、単独で使用してもよく、組み合わせて使用してもよい。   These compounds relating to the crosslinking agent (c) may be used alone or in combination.

本発明においては、前記架橋剤を必ず含有する必要はない。含有する場合、架橋剤(a)〜(c)の量子ドットを含む硬化性組成物における全体含有量としては、素材によって異なるが、前記硬化性組成物の固形分(質量)に対して0〜70重量%が好ましく、0〜50重量%がより好ましく、0〜30重量%が最も好ましい。   In the present invention, it is not always necessary to contain the crosslinking agent. When contained, the total content in the curable composition containing the quantum dots of the crosslinking agents (a) to (c) varies depending on the material, but is 0 to the solid content (mass) of the curable composition. 70% by weight is preferred, 0-50% by weight is more preferred, and 0-30% by weight is most preferred.

本発明の量子ドットを含む硬化性組成物は、1つ以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーまたはオリゴマーをさらに含むことができる。   The curable composition comprising the quantum dots of the present invention can further comprise a monomer or oligomer having one or more ethylenically unsaturated groups.

1つ以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーまたはオリゴマーとしては、1つ以上の付加重合可能なエチレン性二重結合を有する、常圧下で100℃以上の沸点を有する化合物が好ましい。後述する光重合開始剤等とともに含有することによって、本発明の量子ドットを含む硬化性組成物をネガティブ型で構成することができ、また、硬化性をさらに向上させる観点から、ポジチブ型の量子ドットを含む硬化性組成物に含有してもよい。   The monomer or oligomer having one or more ethylenically unsaturated groups is preferably a compound having one or more addition-polymerizable ethylenic double bonds and a boiling point of 100 ° C. or higher under normal pressure. By containing it together with a photopolymerization initiator, which will be described later, the curable composition containing the quantum dot of the present invention can be constituted in a negative type, and from the viewpoint of further improving the curability, a positive type quantum dot You may contain in the curable composition containing this.

その例として、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート等の単官能のアクリレートやメタアクリレート;ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、グリセリンやトリメチロールエタン等の多官能アルコールにエチレンオキシドやプロピレンオキシドを付加させた後、(メタ)アクリレート化したもの、日本国特公昭48−41708号、日本国特公昭50−6034号、日本国特開昭51−37193号各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類、日本国特開昭48−64183号、日本国特公昭49−43191号、日本国特公昭52−30490号の各公報に記載しているポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタアクリレート及びこれらの混合物が挙げられる。また、日本接着協会誌Vol.20、No.7の300〜308頁に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものが挙げられる。   Examples include monofunctional acrylates and methacrylates such as polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, and phenoxyethyl (meth) acrylate; polyethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolethanetri (meta ) Acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, hexanediol (meth) ) Acrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, tri (acryloyloxyethyl) iso Polyfunctional alcohols such as nurate, glycerin and trimethylolethane added with ethylene oxide or propylene oxide and then (meth) acrylated, Japanese Patent Publication No. 48-41708, Japanese Patent Publication No. 50-6034, Japan Urethane acrylates as described in JP-A-51-37193, JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490 Examples thereof include polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates and epoxy acrylates which are reaction products of epoxy resin and (meth) acrylic acid, and mixtures thereof. In addition, Japan Adhesion Association magazine Vol. 20, no. No. 7, pages 300 to 308 are introduced as photocurable monomers and oligomers.

本発明の量子ドットを含む硬化性組成物は、光重合開始剤をさらに含むことができる。   The curable composition containing the quantum dot of this invention can further contain a photoinitiator.

光重合開始剤は、本発明の染料含有硬化性組成物をネガティブ型で構成する場合に、前記モノマー等とともに含有し、また、ポジチブ型で構成する場合に、必要に応じて含有される。光重合開始剤としては、前記モノマーまたはオリゴマーを重合させることができるものなら、特に限定されないが、特性、開始効率、吸収波長、入手性、費用等の観点から選択されることが好ましい。   The photopolymerization initiator is contained together with the monomer or the like when the dye-containing curable composition of the present invention is configured as a negative type, and is included as necessary when configured as a positive type. The photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it can polymerize the monomer or oligomer, but is preferably selected from the viewpoints of characteristics, initiation efficiency, absorption wavelength, availability, cost, and the like.

前記光重合開始剤としては、例えば、ハロメチルオキサジアゾール化合物及びハロメチル−s−トリアジン化合物から選択される1つ以上の活性ハロゲン化合物、3−アリール−置換クマリン化合物、ロフィン二量体、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物及びその誘導体、シクロペンタジエン−ベンゼン−鉄錯体及びその塩、オキシム系化合物等である。   Examples of the photopolymerization initiator include one or more active halogen compounds selected from halomethyloxadiazole compounds and halomethyl-s-triazine compounds, 3-aryl-substituted coumarin compounds, lophine dimers, and benzophenone compounds. Acetophenone compounds and derivatives thereof, cyclopentadiene-benzene-iron complexes and salts thereof, oxime compounds, and the like.

ハロメチルオキサジアゾ化合物である活性ハロゲン化合物としては、日本国特公昭57−6096号公報に記載された2−ハロメチル−5−ビニル−1、3、4−オキサジアゾール化合物等や、2−トリクロロメチル−5−スチリル−1、3、4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(p−シアノスチリル)−1、3、4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(p−メトキシスチリル)−1、3、4−オキサジアゾール等である。   Examples of the active halogen compounds that are halomethyl oxadiazo compounds include 2-halomethyl-5-vinyl-1,3,4-oxadiazole compounds described in Japanese Patent Publication No. 57-6096, 2-trichloro, and the like. Methyl-5-styryl-1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (p-cyanostyryl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (p- Methoxystyryl) -1,3,4-oxadiazole and the like.

ハロメチル−s−トリアジン系化合物である活性ハロゲン化合物としては、日本国特公昭59−1281号公報に記載されたビニルハロメチル−s−トリアジン化合物、日本国特開昭53−133428号公報に記載された2−(ナフト−1−イル)−4、6−ビスハロメチル−s−トリアジン化合物及び4−(p−アミノフェニル)−2、6−ジハロメチル−s−トリアジン化合物等である。   Examples of the active halogen compound which is a halomethyl-s-triazine compound include vinyl halomethyl-s-triazine compounds described in Japanese Patent Publication No. 59-1281, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 53-133428. And 2- (naphth-1-yl) -4,6-bishalomethyl-s-triazine compound and 4- (p-aminophenyl) -2,6-dihalomethyl-s-triazine compound.

具体的には、2、4−ビス(トリクロロメチル)−6−p−メトキシスチリル−s−トリアジン、2、6−ビス(トリクロロメチル)−4−(3、4−メチレンジオキシフェニル)−1、3、5−トリアジン、2、6−ビス(トリクロロメチル)−4−(4−メトキシフェニル)−1、3、5−トリアジン、2、4−ビス(トリクロロメチル)−6−(1−p−ジメチルアミノフェニル−1、3−ブタジエニル)−s−トリアジン、2−トリクロロメチル−4−アミノ6−p−メトキシスチリル−s−トリアジン、2−(ナフト−1−イル)−4、6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(4−メトキシ−ナフト−1−イル)−4、6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(4−エトキシ−ナフト−1−イル)−4、6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(4−ブトキシ−ナフト−1−イル)−4、6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−〔4−(2−メトキシエチル)−ナフト−1−イル〕−4、6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−〔4−(2−エトキシエチル)−ナフト−1−イル〕−4、6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−〔4−(2−ブトキシエチル)−ナフト−1−イル〕−4、6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(2−メトキシ−ナフト−1−イル)−4、6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(6−メトキシ−5−メチル−ナフト−2−イル)−4、6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(6−メトキシナフト−2−イル)−4、6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(5−メトキシ−ナフト−1−イル)−4、6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(4、7−ジメトキシ−ナフト−1−イル)−4、6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(6−エトキシ−ナフト−2−イル)−4、6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(4、5−ジメトキシ−ナフト−1−イル)−4、6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、4−〔p−N、N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−2、6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−メチル−p−N、N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−2、6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔p−N、N−ジ(クロロエチル)アミノフェニル〕−2、6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−メチル−p−N、N−ジ(クロロエチル)アミノフェニル〕−2、6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(p−N−クロロエチルアミノフェニル)−2、6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(p−N−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル)−2、6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔p−N、N−ジ(フェニル)アミノフェニル〕−2、6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(p−N−クロロエチルカルボニルアミノフェニル)−2、6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔p−N−(p−メトキシフェニル)カルボニルアミノフェニル〕−2、6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔m−N、N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−2、6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔m−ブロモ−p−N、N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−2、6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔m−クロロ−p−N、N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−2、6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔m−フルオロ−p−N、N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−2、6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−ブロモ−p−N、N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−2、6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−クロロ−p−N、N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−2、6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−フルオロ−p−N、N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−2、6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−ブロモ−p−N、N−ジ(クロロエチル)アミノフェニル〕−2、6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−クロロ−p−N、N−ジ(クロロエチル)アミノフェニル〕−2、6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−フルオロ−p−N、N−ジ(クロロエチル)アミノフェニル〕−2、6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔m−ブロモ−p−N、N−ジ(クロロエチル)アミノフェニル〕−2、6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔m−クロロ−p−N、N−ジ(クロロエチル)アミノフェニル〕−2、6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔m−フルオロ−p−N−ジ(クロロエチル)アミノフェニル〕−2、6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(m−ブロモ−p−N−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル)−2、6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(m−クロロ−p−N−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル)−2、6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(m−フルオロ−p−N−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル)−2、6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(o−ブロモ−p−N−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル)−2、6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(o−クロロ−p−N−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル)−2、6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(o−フルオロ−p−N−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル)−2、6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(m−ブロモ−p−N−クロロエチルアミノフェニル)−2、6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(m−クロロ−p−N−クロロエチルアミノフェニル)−2、6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(m−フルオロ−p−N−クロロエチルアミノフェニル)−2、6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(o−ブロモ−p−N−クロロエチルアミノフェニル)−2、6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(o−クロロ−p−N−クロロエチルアミノフェニル)−2、6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(o−フルオロ−p−N−クロロエチルアミノフェニル)−2、6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン等がある。   Specifically, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-p-methoxystyryl-s-triazine, 2,6-bis (trichloromethyl) -4- (3,4-methylenedioxyphenyl) -1 3,5-triazine, 2,6-bis (trichloromethyl) -4- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (1-p -Dimethylaminophenyl-1,3-butadienyl) -s-triazine, 2-trichloromethyl-4-amino 6-p-methoxystyryl-s-triazine, 2- (naphth-1-yl) -4,6-bis -Trichloromethyl-s-triazine, 2- (4-methoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (4-ethoxy-naphth-1-yl) -4 6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (4-butoxy-naphth-1-yl) -4, 6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- [4- (2-methoxyethyl)- Naphth-1-yl] -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- [4- (2-ethoxyethyl) -naphth-1-yl] -4,6-bis-trichloromethyl-s- Triazine, 2- [4- (2-butoxyethyl) -naphth-1-yl] -4, 6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (2-methoxy-naphth-1-yl) -4, 6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (6-methoxy-5-methyl-naphth-2-yl) -4, 6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (6-methoxynaphtho- 2-yl)- , 6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (5-methoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (4,7-dimethoxy-naphtho- 1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (6-ethoxy-naphth-2-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (4, 5-Dimethoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 4- [pN, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloro Methyl) -s-triazine, 4- [o-methyl-pN, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [pN , N -Di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-methyl-pN, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di ( Trichloromethyl) -s-triazine, 4- (p-N-chloroethylaminophenyl) -2, 6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (pN-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2 6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [p-N, N-di (phenyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (p-N -Chloroethylcarbonylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [pN- (p-methoxyphenyl) carbonylaminophenyl] -2, -Di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-N, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-bromo -PN, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-chloro-pN, N-di (ethoxycarbonylmethyl) Aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-fluoro-pN, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -S-triazine, 4- [o-bromo-pN, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4 [O-chloro-pN, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-fluoro-pN, N-di ( Ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-bromo-pN, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloro Methyl) -s-triazine, 4- [o-chloro-pN, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-fluoro-p -N, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-bromo-pN, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2, 6 -Di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-chloro-p-N, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m -Fluoro-pN-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (m-bromo-pN-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6 -Di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (m-chloro-pN-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (m-fluoro- p-N-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o-bromo-pN-ethoxycarbonylmethyl) Aminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o-chloro-pN-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o-fluoro-pN-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (m-bromo-pN-chloroethylaminophenyl) -2 , 6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (m-chloro-pN-chloroethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (m-fluoro -PN-chloroethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o-bromo-pN-chloroethylaminopheny) ) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o-chloro-pN-chloroethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- ( o-fluoro-pN-chloroethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine and the like.

その他、みどり化学株式会社製のTAZシリーズ(例えば、TAZ−107、TAZ−110、TAZ−104、TAZ−109、TAZ−140、TAZ−204、TAZ−113、TAZ−123)、PANCHIM社製のTシリーズ(例えば、T−OMS、T−BMP、T−R、T−B)、チバガイギー社製のイルガキュアシリズ(例えば、イルガキュア651、イルガキュア184、イルガキュア500、イルガキュア1000、イルガキュア149、イルガキュア819、イルガキュア261)、ダロキュアシリズ(例えば、ダロキュア1173)、4、4'−ビス(ジエチルアミノ)−ベンゾフェノン、2−(o−ベンゾイルオキシム)−1−[4−(フェニルチオ)フェニル]−1、2−オクタンジオン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−4−モルホリノブチロフェノン、2、2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−(o−クロロフェニル)−4、5−ジフェニルイミダゾリル二量体、2−(o−フルオロフェニル)−4、5−ジフェニルイミダゾリル二量体、2−(o−メトキシフェニル)−4、5−ジフェニルイミダゾリル二量体、2−(p−メトキシフェニル)−4、5−ジフェニルイミダゾリル二量体、2−(p−ジメトキシフェニル)−4、5−ジフェニルイミダゾリル二量体、2−(2、4−ジメトキシフェニル)−4、5−ジフェニルイミダゾリル二量体、2−(p−メチルメルカプトフェニル)−4、5−ジフェニルイミダゾリル二量体、ベンゾインイソプロピルエーテル等も有用に使用される。   In addition, TAZ series (for example, TAZ-107, TAZ-110, TAZ-104, TAZ-109, TAZ-140, TAZ-204, TAZ-113, TAZ-123) manufactured by Midori Chemical Co., Ltd., manufactured by PANCHIM T series (for example, T-OMS, T-BMP, TR, T-B), Irgacure series manufactured by Ciba Geigy (for example, Irgacure 651, Irgacure 184, Irgacure 500, Irgacure 1000, Irgacure 149, Irgacure 819, Irgacure 261), Darocuride (eg, Darocur 1173), 4,4′-bis (diethylamino) -benzophenone, 2- (o-benzoyloxime) -1- [4- (phenylthio) phenyl] -1,2-octanedione 2-benzyl-2-di Methylamino-4-morpholinobutyrophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2- (o-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2- (o-fluorophenyl) -4,5- Diphenylimidazolyl dimer, 2- (o-methoxyphenyl) -4, 5-diphenylimidazolyl dimer, 2- (p-methoxyphenyl) -4, 5-diphenylimidazolyl dimer, 2- (p-dimethoxy Phenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2- (2,4-dimethoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2- (p-methylmercaptophenyl) -4,5-diphenylimidazolyl Dimers, benzoin isopropyl ether, and the like are also usefully used.

これら光重合開始剤には、増減剤や光安定剤を併用できる。   These photopolymerization initiators can be used in combination with an increase / decrease agent or a light stabilizer.

その具体例として、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、9−フルオレノン、2−クロロ−9−フルオレノン、2−メチル−9−フルオレノン、9−アントロン、2−ブロモ−9−アントロン、2−エチル−9−アントロン、9、10−アントラキノン、2−エチル−9、10−アントラキノン、2−t−ブチル−9、10−アントラキノン、2、6−ジクロロ−9、10−アントラキノン、キサントン(xanthone)、2−メチルキサントン、2−メトキシキサントン、2−エトキシキサントン、チオキサントン、2、4−ジエチルチオキサントン、アクリドン、10−ブチル−2−クロロアクリドン、ベンジル、ジベンザルアセトン、p−(ジメチルアミノ)フェニルスチリルケトン、p−(ジメチルアミノ)フェニル−p−メチルスチリルケトン、ベンゾフェノン、p−(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン(またはミヒラーケトン)、p−(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、ベンゾアントロン等や日本国特公昭51−48516号公報に記載のベンゾチアゾール系化合物等や、チヌビン1130、チヌビン400等が挙げられる。   Specific examples thereof include benzoin, benzoin methyl ether, 9-fluorenone, 2-chloro-9-fluorenone, 2-methyl-9-fluorenone, 9-anthrone, 2-bromo-9-anthrone, and 2-ethyl-9-anthrone. 9,10-anthraquinone, 2-ethyl-9,10-anthraquinone, 2-t-butyl-9,10-anthraquinone, 2,6-dichloro-9,10-anthraquinone, xanthone, 2-methylxanthone 2-methoxyxanthone, 2-ethoxyxanthone, thioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, acridone, 10-butyl-2-chloroacridone, benzyl, dibenzalacetone, p- (dimethylamino) phenylstyryl ketone, p -(Dimethylamino) phenyl-p- Tyrstyryl ketone, benzophenone, p- (dimethylamino) benzophenone (or Michler's ketone), p- (diethylamino) benzophenone, benzoanthrone, benzothiazole compounds described in Japanese Patent Publication No. 51-48516, etc., and tinuvin 1130 , Tinuvin 400 and the like.

本発明の量子ドットを含む硬化性組成物には、前述した光重合開始剤以外に他の公知の開始剤を使用できる。   In addition to the photopolymerization initiator described above, other known initiators can be used for the curable composition containing the quantum dots of the present invention.

具体的には、米国特許第2,367,660号明細書に開示されているビシナールポリケトルアルドニル化合物、米国特許第2,367,661号及び同第2,367,670号明細書に開示されているα−カルボニル化合物、米国特許第2,448,828号明細書に開示されているアシロインエーテル、米国特許第2,722,512号明細書に開示されているα−炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、米国特許第3,046,127号及び同第2,951,758号明細書に開示されている多核キノン化合物、米国特許第3,549,367号明細書に開示されているトリアリルイミダゾールダイマー/p−アミノフェニルケトンの組み合わせ、日本国特公昭51−48516号公報に開示されているベンゾチアゾール系化合物/トリハロメチル−s−トリアジン系化合物等が挙げられる。   Specifically, the vicinal polykettle aldonyl compound disclosed in US Pat. No. 2,367,660, US Pat. Nos. 2,367,661 and 2,367,670 are disclosed. Disclosed α-carbonyl compounds, acyloin ethers disclosed in US Pat. No. 2,448,828, α-hydrocarbons disclosed in US Pat. No. 2,722,512 Substituted aromatic acyloin compounds, polynuclear quinone compounds disclosed in US Pat. Nos. 3,046,127 and 2,951,758, disclosed in US Pat. No. 3,549,367 Triarylimidazole dimer / p-aminophenyl ketone combination, benzothiazole compound disclosed in Japanese Patent Publication No. 51-48516 Product / trihalomethyl-s-triazine compound and the like.

前記光重合開始剤は、本発明の量子ドットを含む硬化性組成物のうち固形分の全体重量に対して0.01〜50重量%が好ましく、1〜30重量%がより好ましく、1〜20重量%が特に好ましい。光重合開始剤が前記範囲の未満である場合、重合が進行されにくく、前記範囲を超過すれば、重合率は大きくなるが、分子量が低くなって、膜強度が弱くなる場合がある。   The photopolymerization initiator is preferably 0.01 to 50% by weight, more preferably 1 to 30% by weight, and more preferably 1 to 20% by weight based on the total weight of the solid content in the curable composition containing the quantum dots of the present invention. Weight percent is particularly preferred. When the photopolymerization initiator is less than the above range, the polymerization is difficult to proceed. When the photopolymerization initiator exceeds the above range, the polymerization rate increases, but the molecular weight decreases, and the film strength may decrease.

本発明の量子ドットを含む硬化性組成物は、熱重合防止剤をさらに含むことができる。例えば、ヒドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4、4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2、2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2−メルカプトベンゾイミダゾール等がある。   The curable composition containing the quantum dots of the present invention can further contain a thermal polymerization inhibitor. For example, hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), 2, 2 ' -Methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2-mercaptobenzimidazole and the like.

本発明の量子ドットを含む硬化性組成物は、量子ドットを含む硬化性組成物をポジチブ型で構成する場合、ナフトキノンジアジド化合物をさらに含むことができる。ナフトキノンジアジド化合物としては、例えば、o−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステルまたはスルホン酸アミドまたはo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステルまたはスルホン酸アミド等がある。これらのエステルまたはアミドは、例えば、日本国特開平2−84650号公報及び日本国特開平3−49437号公報に化学式1として記載されているフェノール化合物等を使用して公知の方法で製造できる。   The curable composition containing the quantum dot of the present invention can further contain a naphthoquinonediazide compound when the curable composition containing the quantum dot is composed of a positive type. Examples of the naphthoquinone diazide compound include o-naphthoquinone diazide-5-sulfonic acid ester or sulfonic acid amide, o-naphthoquinone diazide-4-sulfonic acid ester, or sulfonic acid amide. These esters or amides can be produced by a known method using, for example, a phenol compound described as Chemical Formula 1 in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-84650 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-49437.

前記アルカリ可溶性フェノール樹脂及び架橋剤は、通常、溶剤中に全体質量に対してそれぞれ2〜50重量%及び2〜30重量%程度の比率で溶解させる。また、前記ナフトキノンジアジド化合物及び染料は、通常、前記アルカリ可溶性樹脂及び架橋剤を含有する溶液に対してそれぞれ2〜30重量%及び2〜50重量%程度の比率で添加する。また、カラーフィルター用レジスト組成物には、例えば、均一な塗布性を付与するための平滑剤等のような前記技術分野において実用されている各種の添加剤をさらに添加することもできる。   The alkali-soluble phenol resin and the crosslinking agent are usually dissolved in a solvent at a ratio of about 2 to 50% by weight and 2 to 30% by weight, respectively, with respect to the total mass. The naphthoquinonediazide compound and the dye are usually added at a ratio of about 2 to 30% by weight and 2 to 50% by weight, respectively, with respect to the solution containing the alkali-soluble resin and the crosslinking agent. Moreover, various additives currently used in the said technical field like the smoothing agent for providing uniform applicability | paintability etc. can also be further added to the resist composition for color filters, for example.

本発明の量子ドットを含む硬化性組成物は、溶剤を含むことができ、前記溶剤は、特に限定されないが、特に、量子ドット、バインダーの溶解性、塗布性、安全性を考慮して選択するのが好ましい。   The curable composition containing the quantum dots of the present invention may contain a solvent, and the solvent is not particularly limited, and is selected in particular in consideration of the solubility, applicability, and safety of the quantum dots and the binder. Is preferred.

前記溶剤としては、エステル類、例えば酢酸エチル、酢酸−n−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、アルキルエステル類、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル等;3−オキシプロピオン酸メチル、3−オキシプロピオン酸エチル等の3−オキシプロピオン酸アルキルエステル類、例えば3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル等;2−オキシプロピオン酸メチル、2−オキシプロピオン酸エチル、2−オキシプロピオン酸プロピル等の2−オキシプロピオン酸アルキルエステル類、例えば、2−メトキシプロピオン酸メチル、2−メトキシプロピオン酸エチル、2−メトキシプロピオン酸プロピル、2−エトキシプロピオン酸メチル、2−エトキシプロピオン酸エチル、2−オキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−オキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、2−メトキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−エトキシ−2−メチルプロピオン酸エチル等;ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸メチル、2−オキソブタン酸エチル等;エーテル類、例えばジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート等;ケトン類、例えばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等;芳香族炭化水素類、例えばトルエン、キシレン等が好ましい。   Examples of the solvent include esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, amyl formate, isoamyl acetate, isobutyl acetate, butyl propionate, isopropyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate, alkyl esters, methyl lactate, Ethyl lactate, methyl oxyacetate, ethyl oxyacetate, butyl oxyacetate, methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, methyl ethoxyacetate, ethyl ethoxyacetate, etc .; methyl 3-oxypropionate, ethyl 3-oxypropionate, etc. Alkyl esters of 3-oxypropionic acid such as methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, etc .; methyl 2-oxypropionate, 2-oxo 2-oxypropionic acid alkyl esters such as ethyl propionate and propyl 2-oxypropionate, such as methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, propyl 2-methoxypropionate, methyl 2-ethoxypropionate , Ethyl 2-ethoxypropionate, methyl 2-oxy-2-methylpropionate, ethyl 2-oxy-2-methylpropionate, methyl 2-methoxy-2-methylpropionate, 2-ethoxy-2-methylpropionic acid Ethyl etc .; methyl pyruvate, ethyl pyruvate, propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, methyl 2-oxobutanoate, ethyl 2-oxobutanoate, etc .; ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, ether Lenglycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol methyl ether, propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, propylene Glycol propyl ether acetate and the like; ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, and 3-heptanone; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene are preferable.

これらのうち、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、2−ヘプタノン、シクロヘキサノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート等がより好ましい。   Of these, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2-heptanone, cyclohexanone, ethyl carbitol acetate, butyl Carbitol acetate, propylene glycol methyl ether, propylene glycol methyl ether acetate and the like are more preferable.

本発明の量子ドットを含む硬化性組成物は、各種添加物、例えば、充填剤、前記以外の高分子化合物、界面活性剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤等をさらに含むことができる。   The curable composition containing the quantum dots of the present invention includes various additives such as fillers, polymer compounds other than those described above, surfactants, adhesion promoters, antioxidants, ultraviolet absorbers, anti-aggregation agents, and the like. Further can be included.

前記各種添加物の具体例としては、ガラス、アルミナ等の充填剤;ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリフルオロアルキルアクリレート等の結着樹脂以外の高分子化合物;非イオン系、陽イオン系、陰イオン系等の界面活性剤;ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2−(3、4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等の密着促進剤;2、2−チオビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2、6−ジ−t−ブチルフェノール等の酸化防止剤;2−(3−t−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノン等の紫外線吸収剤;及びポリアクリル酸ナトリウム等の凝集防止剤が挙げられる。   Specific examples of the various additives include fillers such as glass and alumina; polymer compounds other than binder resins such as polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene glycol monoalkyl ether, and polyfluoroalkyl acrylate; Surfactants such as cationic and anionic surfactants; vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N -(2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4) -Epoxycyclohexyl) ethyltrimeth Adhesion promoters such as silane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane; 2,2-thiobis (4-methyl- 6-t-butylphenol), 2,6-di-t-butylphenol and other antioxidants; 2- (3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole, alkoxybenzophenone, etc. And an anti-aggregation agent such as sodium polyacrylate.

また、非画像部のアルカリ溶解性を促進し、本発明による染料含有硬化性組成物の現像性の更なる向上を図る場合には、前記組成物に有機カルボン酸、好ましくは、分子量1000以下の低分子量有機カルボン酸の添加を行うことができる。   Further, when promoting the alkali solubility of the non-image area and further improving the developability of the dye-containing curable composition according to the present invention, the composition has an organic carboxylic acid, preferably a molecular weight of 1000 or less. Addition of a low molecular weight organic carboxylic acid can be performed.

具体的には、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ピバル酸、カプロン酸、ジエチル酢酸、エナント酸、カプリル酸等の脂肪族モノカルボン酸;シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ブラシル酸、メチルマロン酸、エチルマロン酸、ジメチルマロン酸、メチルコハク酸、テトラメチルコハク酸、シトラコン酸等の脂肪族ジカルボン酸;トリカルバリル酸、アコニット酸、カンホロン酸等の脂肪族トリカルボン酸;安息香酸、トルイル酸、クミン酸、ヘメリト酸、メシチレン酸等の芳香族モノカルボン酸;フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリト酸、トリメシン酸、メロファン酸、ピロメリト酸等の芳香族ポリカルボン酸;フェニル酢酸、ヒドロアトロパ酸、ヒドロケイ皮酸、マンデル酸、フェニルコハク酸、アトロパ酸、ケイ皮酸、ケイ皮酸メチル、ケイ皮酸ベンジル、シンナミリデン酢酸、クマル酸、ウンベル酸等のその他のカルボン酸が挙げられる。   Specifically, for example, aliphatic monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, pivalic acid, caproic acid, diethyl acetic acid, enanthic acid, caprylic acid; oxalic acid, malonic acid, succinic acid, Aliphatic dicarboxylic acids such as glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, brassic acid, methylmalonic acid, ethylmalonic acid, dimethylmalonic acid, methylsuccinic acid, tetramethylsuccinic acid, citraconic acid; Aliphatic tricarboxylic acids such as tricarballylic acid, aconitic acid, camphoric acid; aromatic monocarboxylic acids such as benzoic acid, toluic acid, cumic acid, hemelitic acid, mesitylene acid; phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, Aromatic polycarboxylic acids such as trimesic acid, melophanoic acid, pyromellitic acid; phenylacetic acid Hydratropic acid, hydrocinnamic acid, mandelic acid, phenyl succinic acid, atropic acid, cinnamic acid, methyl cinnamate, benzyl cinnamate, cinnamylidene acetic acid, coumaric acid, other carboxylic acids such as umbellic acid.

本発明は、前記量子ドットを含む硬化性組成物で製造されたカラーフィルターを提供する。   The present invention provides a color filter manufactured with a curable composition containing the quantum dots.

本発明のカラーフィルターは、画像表示装置に適用される場合に、表示装置光源の光によって発光するので、優れた光効率を具現できる。また、色相を有する光が放出されるものなので、色再現性に優れ、光ルミネセンスにより全方向に光が放出されるので、視野角をも改善できる。   When the color filter of the present invention is applied to an image display device, it emits light by the light of the display device light source, so that it can realize excellent light efficiency. Further, since light having a hue is emitted, the color reproducibility is excellent, and light is emitted in all directions by photoluminescence, so that the viewing angle can be improved.

カラーフィルターは、基板と、前記基板の上部に形成されたパターン層とを含む。   The color filter includes a substrate and a pattern layer formed on the substrate.

基板は、カラーフィルター自体基板であることができ、またはディスプレイ装置等にカラーフィルターが位置する部位であってもよく、特に制限されない。前記基板は、ガラス、シリコーン(Si)、シリコーン酸化物(SiO)または高分子基板であることができ、前記高分子基板は、ポリエーテルスルホン(polyethersulfone、PES)またはポリカーボネート(polycarbonate、PC)等であることができる。 The substrate may be the color filter itself, or may be a part where the color filter is located in a display device or the like, and is not particularly limited. The substrate may be glass, silicone (Si), silicone oxide (SiO x ), or a polymer substrate, and the polymer substrate may be polyethersulfone (PES) or polycarbonate (PC). Can be.

パターン層は、本発明の量子ドットを含む硬化性組成物を含む層であって、前記量子ドットを含む硬化性組成物を塗布し、所定のパターンで露光、現像及び熱硬化して形成された層であることができる。   The pattern layer is a layer containing a curable composition containing the quantum dots of the present invention, and is formed by applying the curable composition containing the quantum dots, exposing, developing and heat-curing in a predetermined pattern. Can be layers.

前記量子ドットを含む硬化性組成物で形成されたパターン層は、赤色量子ドット粒子を含有する赤色パターン層、緑色量子ドット粒子を含有する緑色パターン層、及び青色量子ドット粒子を含有する青色パターン層を具備できる。光の照射時に、赤色パターン層は赤色光を放出し、緑色パターン層は緑色光を放出し、青色パターン層は青色光を放出する。   The pattern layer formed of the curable composition containing quantum dots includes a red pattern layer containing red quantum dot particles, a green pattern layer containing green quantum dot particles, and a blue pattern layer containing blue quantum dot particles. Can be provided. Upon irradiation with light, the red pattern layer emits red light, the green pattern layer emits green light, and the blue pattern layer emits blue light.

このような場合に、画像表示装置への適用時に、光源の放出光が特に限定されないが、優れた色再現性の側面から、青色光を放出する光源を使用できる。   In such a case, the light emitted from the light source is not particularly limited when applied to the image display device, but a light source that emits blue light can be used from the aspect of excellent color reproducibility.

本発明の他の一具現例によれば、前記パターン層は、赤色パターン層、緑色パターン層及び青色パターン層のうち2種の色相のパターン層のみを具備してもよい。このような場合には、前記パターン層は、量子ドット粒子を含有しない透明パターン層をさらに具備する。   According to another embodiment of the present invention, the pattern layer may include only a pattern layer having two hues among a red pattern layer, a green pattern layer, and a blue pattern layer. In such a case, the pattern layer further includes a transparent pattern layer that does not contain quantum dot particles.

2種色相のパターン層のみを具備する場合には、含まない残りの色相を示す波長の光を放出する光源を使用できる。例えば、赤色パターン層及び緑色パターン層を含む場合には、青色光を放出する光源を使用できる。このような場合に、赤色量子ドット粒子は赤色光を放出し、緑色量子ドット粒子は緑色光を放出し、透明パターン層は青色光がそのまま透過して青色を示す。   In the case where only two types of hue pattern layers are provided, a light source that emits light having a wavelength indicating the remaining hue not included can be used. For example, when a red pattern layer and a green pattern layer are included, a light source that emits blue light can be used. In such a case, the red quantum dot particles emit red light, the green quantum dot particles emit green light, and the transparent pattern layer transmits blue light as it is to show blue.

前記のような基板及びパターン層を含むカラーフィルターは、各パターンの間に形成された隔壁をさらに含むことができ、ブラックマトリックスをさらに含むことができる。また、カラーフィルターのパターン層の上部に形成された保護膜をさらに含むことができる。   The color filter including the substrate and the pattern layer may further include a barrier rib formed between the patterns and may further include a black matrix. In addition, a protective film formed on the pattern layer of the color filter may be further included.

また、本発明は、前記カラーフィルターを含む画像表示装置を提供する。   The present invention also provides an image display device including the color filter.

本発明のカラーフィルターは、通常の液晶表示装置だけでなく、電界発光表示装置、プラズマ表示装置、電界放出表示装置等様々な画像表示装置に適用可能である。   The color filter of the present invention can be applied not only to a normal liquid crystal display device but also to various image display devices such as an electroluminescence display device, a plasma display device, and a field emission display device.

本発明の画像表示装置は、赤色量子ドット粒子を含有する赤色パターン層、緑色量子ドット粒子を含有する緑色パターン層、及び青色量子ドット粒子を含有する青色パターン層を含むカラーフィルターを具備できる。このような場合に、画像表示装置への適用時に、光源の放出光が特に限定されないが、優れた色再現性の側面から、好ましくは、青色光を放出する光源を使用できる   The image display device of the present invention can include a color filter including a red pattern layer containing red quantum dot particles, a green pattern layer containing green quantum dot particles, and a blue pattern layer containing blue quantum dot particles. In such a case, the light emitted from the light source is not particularly limited when applied to the image display device. However, from the aspect of excellent color reproducibility, a light source that emits blue light can be preferably used.

本発明の他の一具現例によれば、本発明の画像表示装置は、赤色パターン層、緑色パターン層及び青色パターン層のうち2種の色相のパターン層のみを含むカラーフィルターを具備してもよい。このような場合には、前記カラーフィルターは、量子ドット粒子を含有しない透明パターン層をさらに具備する。   According to another exemplary embodiment of the present invention, the image display apparatus of the present invention may include a color filter including only a pattern layer having two hues among a red pattern layer, a green pattern layer, and a blue pattern layer. Good. In such a case, the color filter further includes a transparent pattern layer that does not contain quantum dot particles.

2種の色相のパターン層のみを具備する場合には、含まない残りの色相を示す波長の光を放出する光源を使用できる。例えば、赤色パターン層及び緑色パターン層を含む場合には、青色光を放出する光源を使用できる。このような場合に、赤色量子ドット粒子は赤色光を放出し、緑色量子ドット粒子は緑色光を放出し、透明パターン層は、青色光がそのまま透過して青色を示す。   In the case where only two types of hue pattern layers are provided, a light source that emits light having a wavelength indicating the remaining hue not included can be used. For example, when a red pattern layer and a green pattern layer are included, a light source that emits blue light can be used. In such a case, the red quantum dot particles emit red light, the green quantum dot particles emit green light, and the transparent pattern layer transmits blue light as it is to show blue.

本発明の画像表示装置は、光効率に優れていて、高い輝度を示し、色再現性に優れ、広い視野角を有する。   The image display device of the present invention has excellent light efficiency, high luminance, excellent color reproducibility, and a wide viewing angle.

以下、本発明の理解を助けるために好ましい実施例を提示するが、これら実施例は、本発明を例示するものに過ぎず、添付の特許請求範囲を制限するものではなく、本発明の範疇及び技術思想の範囲内で実施例に対する多様な変更及び修正が可能であることは、当業者にとって明白なことであり、このような変形及び修正が添付の特許請求範囲に属することは当然なことである。   The following examples are presented to assist in understanding the present invention, but these examples are merely illustrative of the invention and are not intended to limit the scope of the appended claims. It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications to the embodiments can be made within the scope of the technical idea, and such variations and modifications should be included in the appended claims. is there.

製造例1.CdSe(コア)/ZnS(シェル)構造の光ルミネセンス緑色量子ドット粒子Aの合成
CdO(0.4mmol)と亜鉛アセテート(Zinc acetate)(4mmol)、オレイン酸(Oleic acid)(5.5mL)を1−オクタデセン(1−Octadecene)(20mL)と一緒に反応器に入れ、150℃に加熱して反応させた。その後、亜鉛にオレイン酸が置換されることによって生成された酢酸(acetic acid)を除去するために、前記反応物を100mTorrの真空の下に20分間放置した。そして、310℃の熱を加えて透明な混合物を得た後、これを20分間310℃に維持した後、0.4mmolのSe粉末と2.3mmolのS粉末を3mLのトリオクチルホスフィン(trioctylphosphine)に溶解させたSe及びS溶液をCd(OA)及びZn(OA)溶液が入っている反応器に速く注入した。これから得た混合物を310℃で5分間成長させた後、氷水浴(ice bath)を利用して成長を中断させた。そして、エタノールで沈澱させて遠心分離機を利用して量子ドットを分離し、余分の不純物は、クロロホルム(chloroform)とエタノールを利用して洗浄することによって、オレイン酸で安定化された、コア粒径とシェル厚さの和が3〜5nmである粒子らが分布されたCdSe(コア)/ZnS(シェル)構造の量子ドット粒子Aを収得した。
Production Example 1 Synthesis of CdSe (core) / ZnS (shell) structure photoluminescent green quantum dot particles A CdO (0.4 mmol), zinc acetate (4 mmol), oleic acid (5.5 mL) 1-Octadecene (1-Octadecene) (20 mL) was placed in a reactor and heated to 150 ° C. for reaction. Thereafter, the reaction was left under a vacuum of 100 mTorr for 20 minutes in order to remove acetic acid generated by replacing oleic acid with zinc. Then, after heating at 310 ° C. to obtain a transparent mixture, this was maintained at 310 ° C. for 20 minutes, and then 0.4 mmol of Se powder and 2.3 mmol of S powder were added to 3 mL of trioctylphosphine. The Se and S solution dissolved in was rapidly injected into the reactor containing the Cd (OA) 2 and Zn (OA) 2 solutions. The resulting mixture was grown at 310 ° C. for 5 minutes, and then the growth was interrupted using an ice bath. Then, the quantum dots are separated using ethanol, precipitated with ethanol, and the excess impurities are washed with chloroform and ethanol to stabilize the core particles stabilized with oleic acid. Quantum dot particles A having a CdSe (core) / ZnS (shell) structure in which particles having a sum of diameter and shell thickness of 3 to 5 nm were distributed were obtained.

製造例2−1.アルカリ可溶性樹脂(D−1)の合成
撹拌器、温度計付き還流冷却管、滴下ロート及び窒素導入管を具備したフラスコにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート182gを入れ、フラスコ内の雰囲気を空気から窒素に充填した後、100℃に昇温後、メタクリル酸68.8g、シクロヘキシルメタクリレート36.4g及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート136gを投入し、t−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキシルカーボネート3.2gを添加した溶液を滴下ロートから2時間にわたってフラスコに滴下し、100℃で5時間さらに撹拌を進行した。引き続いて、フラスコ内の雰囲気を窒素から空気に置換し、グリシジルメタクリレート71g、トリスジメチルアミノメチルフェノール0.9g及びヒドロキノン0.145gをフラスコ内に投入し、110℃で6時間反応を継続し、固形分の酸価が100mgKOH/gである樹脂D−1を得た。GPCによって測定したポリスチレン換算の重量平均分子量は、17000であり、分子量分布(Mw/Mn)は2.2であった。示差走査熱量計でガラス転移温度を測定した結果、120℃であった。
Production Example 2-1. 182 g of propylene glycol monomethyl ether acetate is placed in a flask equipped with a synthetic stirrer of alkali-soluble resin (D-1), a reflux condenser with a thermometer, a dropping funnel and a nitrogen introduction tube, and the atmosphere in the flask is filled with nitrogen from air. Then, after raising the temperature to 100 ° C., 68.8 g of methacrylic acid, 36.4 g of cyclohexyl methacrylate and 136 g of propylene glycol monomethyl ether acetate were added, and a solution added with 3.2 g of t-butylperoxy-2-ethylhexyl carbonate was dropped. The mixture was added dropwise from the funnel to the flask over 2 hours, and further stirred at 100 ° C. for 5 hours. Subsequently, the atmosphere in the flask was changed from nitrogen to air, 71 g of glycidyl methacrylate, 0.9 g of trisdimethylaminomethylphenol and 0.145 g of hydroquinone were put into the flask, and the reaction was continued at 110 ° C. for 6 hours, Resin D-1 having an acid value of 100 mgKOH / g was obtained. The weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by GPC was 17000, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.2. It was 120 degreeC as a result of measuring glass transition temperature with a differential scanning calorimeter.

製造例2−2.アルカリ可溶性樹脂(D−2)の合成
撹拌器、温度計付き還流冷却管、滴下ロート及び窒素導入管を具備したフラスコにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート182gを入れ、フラスコ内の雰囲気を空気から窒素に充填した後、100℃に昇温後、メタクリル酸68.8g、トリシクロデカン骨格のモノメタクリレート(日立化成(株)製造FA−513M)44.0g及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート136gを投入し、t−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキシルカーボネート3.2gを添加した溶液を滴下ロートから2時間にわたってフラスコに滴下し、100℃で5時間さらに撹拌を進行した。引き続いて、フラスコ内の雰囲気を窒素から空気に置換し、グリシジルメタクリレート71g、トリスジメチルアミノメチルフェノール0.9g及びヒドロキノン0.145gをフラスコ内に投入し、110℃で6時間反応を継続し、固形分の酸価が110mgKOH/gである樹脂D−2を得た。GPCによって測定したポリスチレン換算の重量平均分子量は、15300であり、分子量分布(Mw/Mn)は、2.3であった。示差走査熱量計でガラス転移温度を測定した結果、130℃であった。
Production Example 2-2. 182 g of propylene glycol monomethyl ether acetate is placed in a flask equipped with a synthetic stirrer of alkali-soluble resin (D-2), a reflux condenser with a thermometer, a dropping funnel and a nitrogen introduction tube, and the atmosphere in the flask is filled with nitrogen from air. After raising the temperature to 100 ° C., 68.8 g of methacrylic acid, 44.0 g of monomethacrylate having a tricyclodecane skeleton (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd. FA-513M) and 136 g of propylene glycol monomethyl ether acetate were added. A solution to which 3.2 g of butylperoxy-2-ethylhexyl carbonate was added was dropped into the flask from the dropping funnel over 2 hours, and further stirred at 100 ° C. for 5 hours. Subsequently, the atmosphere in the flask was changed from nitrogen to air, 71 g of glycidyl methacrylate, 0.9 g of trisdimethylaminomethylphenol and 0.145 g of hydroquinone were put into the flask, and the reaction was continued at 110 ° C. for 6 hours, Resin D-2 having an acid value of 110 mgKOH / g was obtained. The weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by GPC was 15300, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.3. It was 130 degreeC as a result of measuring glass transition temperature with a differential scanning calorimeter.

製造例2−3.アルカリ可溶性樹脂(D−3)の合成
撹拌器、温度計付き還流冷却管、滴下ロート及び窒素導入管を具備したフラスコにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート182gを入れ、フラスコ内の雰囲気を空気から窒素に充填した後、100℃に昇温後、メタクリル酸47.3g、1−アクリロイルオキシ−3−ヒドロキシアダマンタン(アルドリチ(株))99.9g及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート300gを投入し、t−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキシルカーボネート3.2gを添加した溶液を滴下ロートから2時間にわたってフラスコに滴下し、100℃で5時間さらに撹拌を進行した。引き続いて、フラスコ内の雰囲気を窒素から空気に置換し、グリシジルメタクリレート35.5g、トリスジメチルアミノメチルフェノール0.9g及びヒドロキノン0.145gをフラスコ内に投入し、110℃で6時間反応を継続し、固形分の酸価が95mgKOH/gである樹脂D−3を得た。GPCによって測定したポリスチレン換算の重量平均分子量は、18300であり、分子量分布(Mw/Mn)は、2.3であった。示差走査熱量計でガラス転移温度を測定した結果、160℃であった。
Production Example 2-3. 182 g of propylene glycol monomethyl ether acetate is placed in a flask equipped with a synthetic stirrer of alkali-soluble resin (D-3), a reflux condenser with a thermometer, a dropping funnel and a nitrogen introduction tube, and the atmosphere in the flask is filled with nitrogen from air. Then, after raising the temperature to 100 ° C., 47.3 g of methacrylic acid, 99.9 g of 1-acryloyloxy-3-hydroxyadamantane (Aldrich) and 300 g of propylene glycol monomethyl ether acetate were added, and t-butylperoxy- A solution to which 3.2 g of 2-ethylhexyl carbonate was added was dropped into the flask over 2 hours from the dropping funnel, and further stirred at 100 ° C. for 5 hours. Subsequently, the atmosphere in the flask was changed from nitrogen to air, 35.5 g of glycidyl methacrylate, 0.9 g of trisdimethylaminomethylphenol and 0.145 g of hydroquinone were charged into the flask, and the reaction was continued at 110 ° C. for 6 hours. Resin D-3 having an acid value of solid content of 95 mgKOH / g was obtained. The weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by GPC was 18300, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.3. It was 160 degreeC as a result of measuring glass transition temperature with a differential scanning calorimeter.

製造例2−4.アルカリ可溶性樹脂(D−4)の合成
撹拌器、温度計付き還流冷却管、滴下ロート及び窒素導入管を具備したフラスコにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート250gを入れ、フラスコ内の雰囲気を空気から窒素に充填した後、100℃に昇温後、メタクリル酸25.8g、1−アクリロイルオキシ−3−ヒドロキシアダマンタン(アルドリチ(株))50.4g、アクリロフェノン56.7g及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート110gを投入し、アゾビスイソブチロニトリル3.6gを添加した溶液を滴下ロートから2時間にわたってフラスコに滴下し、100℃で5時間さらに撹拌を進行し、固形分の酸価が115mgKOH/gである樹脂D−4を得た。GPCによって測定したポリスチレン換算の重量平均分子量は、19000であり、分子量分布(Mw/Mn)は、2.3であった。示差走査熱量計でガラス転移温度を測定した結果、160℃であった。
Production Example 2-4. 250 g of propylene glycol monomethyl ether acetate is placed in a flask equipped with a synthetic stirrer of alkali-soluble resin (D-4), a reflux condenser with a thermometer, a dropping funnel and a nitrogen introduction tube, and the atmosphere in the flask is filled with nitrogen from air. Then, after raising the temperature to 100 ° C., 25.8 g of methacrylic acid, 50.4 g of 1-acryloyloxy-3-hydroxyadamantane (Aldrich), 56.7 g of acrylophenone and 110 g of propylene glycol monomethyl ether acetate are added. A solution having 3.6 g of azobisisobutyronitrile added dropwise to the flask over 2 hours from a dropping funnel and further stirred at 100 ° C. for 5 hours, and a solid content acid value of 115 mgKOH / g D-4 was obtained. The weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by GPC was 19000, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.3. It was 160 degreeC as a result of measuring glass transition temperature with a differential scanning calorimeter.

製造例2−5.アルカリ可溶性樹脂(D−5)の合成
撹拌器、温度計付き還流冷却管、滴下ロート及び窒素導入管を具備したフラスコにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート250gを入れ、フラスコ内の雰囲気を空気から窒素に充填した後、100℃に昇温後、メタクリル酸25.8g、1−アクリロイルオキシ−3−ヒドロキシアダマンタン(アルドリチ(株))44.4g、アクリロフェノン44.8g、メチルメタクリル酸10.0g及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート110gを投入し、アゾビスイソブチロニトリル3.6gを添加した溶液を滴下ロートから2時間にわたってフラスコに滴下し、100℃で5時間さらに撹拌を進行し、固形分の酸価が115mgKOH/gである樹脂D−5を得た。GPCによって測定したポリスチレン換算の重量平均分子量は、19000であり、分子量分布(Mw/Mn)は、2.2であった。示差走査熱量計でガラス転移温度を測定した結果、135℃であった。
Production Example 2-5. 250g of propylene glycol monomethyl ether acetate is placed in a flask equipped with a synthetic stirrer of alkali-soluble resin (D-5), a reflux condenser with a thermometer, a dropping funnel and a nitrogen introduction tube, and the atmosphere in the flask is filled with nitrogen from air. Then, after raising the temperature to 100 ° C., 25.8 g of methacrylic acid, 14.4 acryloyloxy-3-hydroxyadamantane (Aldrich) 44.4 g, 44.8 g acrylophenone, 10.0 g methyl methacrylic acid and propylene A solution in which 110 g of glycol monomethyl ether acetate was added, and 3.6 g of azobisisobutyronitrile was added dropwise to the flask over 2 hours from the dropping funnel, and further stirred at 100 ° C. for 5 hours. Resin D-5 having a weight of 115 mgKOH / g was obtained. The weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by GPC was 19000, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.2. It was 135 degreeC as a result of measuring glass transition temperature with a differential scanning calorimeter.

製造例2−6.アルカリ可溶性樹脂(D−6)の合成
撹拌器、温度計付き還流冷却管、滴下ロート及び窒素導入管を具備したフラスコにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート250gを入れ、フラスコ内の雰囲気を空気から窒素に充填した後、100℃に昇温後、メタクリル酸25.8g、2−ノルボルネン18.8g、アクリロフェノン44.8g、メチルメタクリル酸10.0g及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート110gを投入し、アゾビスイソブチロニトリル3.6gを添加した溶液を滴下ロートから2時間にわたってフラスコに滴下し、100℃で5時間さらに撹拌を進行し、固形分の酸価が105mgKOH/gである樹脂D−6を得た。GPCによって測定したポリスチレン換算の重量平均分子量は、16300であり、分子量分布(Mw/Mn)は、2.4であった。示差走査熱量計でガラス転移温度を測定した結果、150℃であった。
Production Example 2-6. 250 g of propylene glycol monomethyl ether acetate was put into a flask equipped with a synthetic stirrer of alkali-soluble resin (D-6), a reflux condenser with a thermometer, a dropping funnel and a nitrogen introduction tube, and the atmosphere in the flask was filled with nitrogen from air. After raising the temperature to 100 ° C., 25.8 g of methacrylic acid, 18.8 g of 2-norbornene, 44.8 g of acrylophenone, 10.0 g of methyl methacrylic acid and 110 g of propylene glycol monomethyl ether acetate were added, and azobisiso A solution to which 3.6 g of butyronitrile was added was dropped into the flask from the dropping funnel over 2 hours, and further stirred at 100 ° C. for 5 hours to obtain a resin D-6 having a solid acid value of 105 mgKOH / g. It was. The polystyrene equivalent weight average molecular weight measured by GPC was 16,300, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.4. It was 150 degreeC as a result of measuring glass transition temperature with a differential scanning calorimeter.

製造例2−7.アルカリ可溶性樹脂(D−7)の合成
撹拌器、温度計付き還流冷却管、滴下ロート及び窒素導入管を具備したフラスコにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート180gを入れ、フラスコ内の雰囲気を空気から窒素に充填した後、80℃に昇温後、メチルメタクリル酸20.0g、n−ブチルアクリレート55.2g、グリシジルメタクリレート30g及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート71gを投入し、t−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキシルカーボネート3.2gを添加した溶液を滴下ロートから2時間にわたってフラスコに滴下し、100℃で5時間さらに撹拌を進行した。引き続いて、フラスコ内の雰囲気を窒素から空気に置換し、メタクリル酸36.0g、トリスジメチルアミノメチルフェノール0.9g及びヒドロキノン0.145gをフラスコ内に投入し、100℃で6時間反応した。その後、反応液の温度を常温に下降し、コハク酸無水物4.5部を投入し、80℃で6時間反応し、固形分の酸価が80mgKOH/gである樹脂D−7を得た。GPCによって測定したポリスチレン換算の重量平均分子量は、15200であり、分子量分布(Mw/Mn)は、2.1であった。示差走査熱量計でガラス転移温度を測定した結果、−1.3℃であった。
Production Example 2-7. 180 g of propylene glycol monomethyl ether acetate is placed in a flask equipped with a synthetic stirrer of alkali-soluble resin (D-7), a reflux condenser with a thermometer, a dropping funnel and a nitrogen introduction tube, and the atmosphere in the flask is filled with nitrogen from air. Then, after raising the temperature to 80 ° C., 20.0 g of methyl methacrylic acid, 55.2 g of n-butyl acrylate, 30 g of glycidyl methacrylate and 71 g of propylene glycol monomethyl ether acetate were added, and t-butyl peroxy-2-ethylhexyl carbonate was added. The solution to which 2 g was added was dropped into the flask from the dropping funnel over 2 hours, and further stirred at 100 ° C. for 5 hours. Subsequently, the atmosphere in the flask was changed from nitrogen to air, and 36.0 g of methacrylic acid, 0.9 g of trisdimethylaminomethylphenol and 0.145 g of hydroquinone were charged into the flask, and reacted at 100 ° C. for 6 hours. Thereafter, the temperature of the reaction solution was lowered to room temperature, 4.5 parts of succinic anhydride was added, and the mixture was reacted at 80 ° C. for 6 hours to obtain Resin D-7 having an acid value of 80 mg KOH / g as a solid content. . The weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by GPC was 15200, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.1. It was -1.3 degreeC as a result of measuring glass transition temperature with a differential scanning calorimeter.

製造例2−8.アルカリ可溶性樹脂(D−8)の合成
撹拌器、温度計付き還流冷却管、滴下ロート及び窒素導入管を具備したフラスコにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート180gを入れ、フラスコ内の雰囲気を空気から窒素に充填した後、80℃に昇温後、メチルメタクリル酸20.0g、2−エチルヘキシルアクリレート55.2g、グリシジルメタクリレート30g及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート71gを投入し、t−ブチルペルオキシ−2−エチルヘキシルカーボネート3.2gを添加した溶液を滴下ロートから2時間にわたってフラスコに滴下し、100℃で5時間さらに撹拌を進行した。引き続いて、フラスコ内の雰囲気を窒素から空気に置換し、メタクリル酸36.0g、トリスジメチルアミノメチルフェノール0.9g及びヒドロキノン0.145gをフラスコ内に投入し、100℃で6時間反応した。その後、反応液の温度を常温に下降し、コハク酸無水物4.5部を投入し、80℃で6時間反応し、固形分の酸価が45mgKOH/gである樹脂D−8を得た。GPCによって測定したポリスチレン換算の重量平均分子量は、7500であり、分子量分布(Mw/Mn)は、2.1であった。示差走査熱量計でガラス転移温度を測定した結果、−19.3℃であった。
Production Example 2-8. 180 g of propylene glycol monomethyl ether acetate is placed in a flask equipped with a synthetic stirrer of alkali-soluble resin (D-8), a reflux condenser with a thermometer, a dropping funnel and a nitrogen introduction tube, and the atmosphere in the flask is filled with nitrogen from air. Then, after raising the temperature to 80 ° C., 20.0 g of methyl methacrylic acid, 55.2 g of 2-ethylhexyl acrylate, 30 g of glycidyl methacrylate and 71 g of propylene glycol monomethyl ether acetate were added, and t-butylperoxy-2-ethylhexyl carbonate was added. The solution to which 2 g was added was dropped into the flask from the dropping funnel over 2 hours, and further stirred at 100 ° C. for 5 hours. Subsequently, the atmosphere in the flask was changed from nitrogen to air, and 36.0 g of methacrylic acid, 0.9 g of trisdimethylaminomethylphenol and 0.145 g of hydroquinone were charged into the flask, and reacted at 100 ° C. for 6 hours. Thereafter, the temperature of the reaction solution was lowered to room temperature, 4.5 parts of succinic anhydride was added, and the mixture was reacted at 80 ° C. for 6 hours to obtain Resin D-8 having a solid content acid value of 45 mgKOH / g. . The weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by GPC was 7500, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.1. It was -19.3 degreeC as a result of measuring glass transition temperature with a differential scanning calorimeter.

製造例2−9.アルカリ可溶性樹脂(D−9)の合成
撹拌器、温度計付き還流冷却管、滴下ロート及び窒素導入管を具備したフラスコにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート182gを入れ、フラスコ内の雰囲気を空気から窒素に充填した後、100℃に昇温後、ベンジルメタクリレート105.7g、メタクリル酸17.2g、2−ヒドロキシエチルメタクリル酸26.0g及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート136gを投入し、アゾビスイソブチロニトリル3.6gを添加した溶液を滴下ロートから2時間にわたってフラスコに滴下し、100℃で3時間さらに撹拌を進行し、固形分の酸価が60mgKOH/gである樹脂D−9を得た。GPCによって測定したポリスチレン換算の重量平均分子量は、18000であり、分子量分布(Mw/Mn)は、2.2であった。示差走査熱量計でガラス転移温度を測定した結果、80℃であった。
Production Example 2-9. 182 g of propylene glycol monomethyl ether acetate is placed in a flask equipped with a synthetic stirrer of alkali-soluble resin (D-9), a reflux condenser with a thermometer, a dropping funnel and a nitrogen introduction tube, and the atmosphere in the flask is filled with nitrogen from air. After raising the temperature to 100 ° C., 105.7 g of benzyl methacrylate, 17.2 g of methacrylic acid, 26.0 g of 2-hydroxyethyl methacrylic acid, and 136 g of propylene glycol monomethyl ether acetate were added, and azobisisobutyronitrile 3. The solution to which 6 g was added was dropped into the flask from the dropping funnel over 2 hours, and further stirred at 100 ° C. for 3 hours to obtain Resin D-9 having a solid acid value of 60 mgKOH / g. The weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by GPC was 18000, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.2. It was 80 degreeC as a result of measuring glass transition temperature with a differential scanning calorimeter.

製造例2−10.アルカリ可溶性樹脂(D−10)の合成
撹拌器、温度計付き還流冷却管、滴下ロート及び窒素導入管を具備したフラスコにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート182gを入れ、フラスコ内の雰囲気を空気から窒素に充填した後、100℃に昇温後、ベンジルメタクリレート105.7g、メタクリル酸34.4g及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート136gを投入し、アゾビスイソブチロニトリル3.6gを添加した溶液を滴下ロートから2時間にわたってフラスコに滴下し、100℃で3時間さらに撹拌を進行し、固形分の酸価が130mgKOH/gである樹脂D−10を得た。GPCによって測定したポリスチレン換算の重量平均分子量は、17000であり、分子量分布(Mw/Mn)は、2.2であった。示差走査熱量計でガラス転移温度を測定した結果、100℃であった。
Production Example 2-10. 182 g of propylene glycol monomethyl ether acetate is placed in a flask equipped with a synthetic stirrer of alkali-soluble resin (D-10), a reflux condenser with a thermometer, a dropping funnel and a nitrogen introduction tube, and the atmosphere in the flask is filled with nitrogen from air. Then, after raising the temperature to 100 ° C., 105.7 g of benzyl methacrylate, 34.4 g of methacrylic acid and 136 g of propylene glycol monomethyl ether acetate were added, and a solution containing 3.6 g of azobisisobutyronitrile was added from the dropping funnel. The mixture was dropped into the flask over time, and further stirred at 100 ° C. for 3 hours to obtain Resin D-10 having an acid value of solid content of 130 mgKOH / g. The weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by GPC was 17000, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.2. It was 100 degreeC as a result of measuring glass transition temperature with a differential scanning calorimeter.

製造例2−11.アルカリ可溶性樹脂(D−11)の合成
撹拌器、温度計付き還流冷却管、滴下ロート及び窒素導入管を具備したフラスコにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート182gを入れ、フラスコ内の雰囲気を空気から窒素に充填した後、100℃に昇温後、n−ブチルメタクリレート76.8g、メタクリル酸17.2g、2−ヒドロキシエチルメタクリル酸26.0g及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート136gを投入し、アゾビスイソブチロニトリル3.6gを添加した溶液を滴下ロートから2時間にわたってフラスコに滴下し、100℃で3時間さらに撹拌を進行し、固形分の酸価が62mgKOH/gである樹脂D−11を得た。GPCによって測定したポリスチレン換算の重量平均分子量は、15500であり、分子量分布(Mw/Mn)は、2.2であった。示差走査熱量計でガラス転移温度を測定した結果、−20℃であった。
Production Example 2-11. 182 g of propylene glycol monomethyl ether acetate is placed in a flask equipped with a synthetic stirrer of alkali-soluble resin (D-11), a reflux condenser with a thermometer, a dropping funnel and a nitrogen introduction tube, and the atmosphere in the flask is filled with nitrogen from air. After heating to 100 ° C., 76.8 g of n-butyl methacrylate, 17.2 g of methacrylic acid, 26.0 g of 2-hydroxyethyl methacrylic acid and 136 g of propylene glycol monomethyl ether acetate were added, and azobisisobutyronitrile was added. The solution to which 3.6 g was added was dropped from the dropping funnel into the flask over 2 hours, and further stirred at 100 ° C. for 3 hours to obtain Resin D-11 having a solid content acid value of 62 mgKOH / g. The weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by GPC was 15500, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.2. It was -20 degreeC as a result of measuring glass transition temperature with a differential scanning calorimeter.

製造例2−12.アルカリ可溶性樹脂(D−12)の合成
撹拌器、温度計付き還流冷却管、滴下ロート及び窒素導入管を具備したフラスコにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート100gを入れ、フラスコ内の雰囲気を空気から窒素に充填した後、80℃に昇温後、2−エチルヘキシルアクリレート10.2g、4−メチルスチレン0.7g、グリシジルメタクリレート76g、n−ドデシルメルカプト3g及びプロピレングリコールモノメチルエーテル100gを投入し、アゾビスイソブチロニトリル5gを添加した溶液を滴下ロートから2時間にわたってフラスコに滴下し、80℃で4時間さらに撹拌を進行した。引き続いて、フラスコ内の雰囲気を窒素から空気に置換し、トリエチルアミン0.2g、4−メトキシフェノール0.1g、アクリル酸10.4gをフラスコ内に投入し、100℃で6時間反応した。その後、反応液の温度を常温に下降し、コハク酸無水物2.7gを投入し、80℃で6時間反応し、固形分の酸価が16.45mgKOH/gである樹脂D−12を得た。GPCによって測定したポリスチレン換算の重量平均分子量は、5450であり、分子量分布(Mw/Mn)は、2.1であった。示差走査熱量計でガラス転移温度を測定した結果、−28.4℃であった。
Production Example 2-12. 100 g of propylene glycol monomethyl ether acetate is placed in a flask equipped with a synthetic stirrer of alkali-soluble resin (D-12), a reflux condenser with a thermometer, a dropping funnel and a nitrogen introduction tube, and the atmosphere in the flask is filled with nitrogen from air. Then, after raising the temperature to 80 ° C., 10.2 g of 2-ethylhexyl acrylate, 0.7 g of 4-methylstyrene, 76 g of glycidyl methacrylate, 3 g of n-dodecyl mercapto and 100 g of propylene glycol monomethyl ether were added, and azobisisobutyro The solution to which 5 g of nitrile was added was dropped into the flask over 2 hours from the dropping funnel, and stirring was further continued at 80 ° C. for 4 hours. Subsequently, the atmosphere in the flask was changed from nitrogen to air, and 0.2 g of triethylamine, 0.1 g of 4-methoxyphenol and 10.4 g of acrylic acid were put into the flask, and reacted at 100 ° C. for 6 hours. Thereafter, the temperature of the reaction solution is lowered to room temperature, 2.7 g of succinic anhydride is added, and the reaction is performed at 80 ° C. for 6 hours to obtain a resin D-12 having an acid value of 16.45 mgKOH / g as a solid content. It was. The polystyrene equivalent weight average molecular weight measured by GPC was 5450, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.1. It was -28.4 degreeC as a result of measuring glass transition temperature with a differential scanning calorimeter.

実施例1〜8及び比較例1〜4:自発光型感光性樹脂組成物の製造
下記表1及び表2に記載されたように、それぞれ、成分を混合した後、全体固形分が20重量%となるように、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで希釈した後、充分に撹拌し、自発光型感光性樹脂組成物を得た。
Examples 1-8 and Comparative Examples 1-4: Manufacture of a self-luminous photosensitive resin composition As described in Table 1 and Table 2 below, after mixing the components, the total solid content was 20% by weight. Then, after diluting with propylene glycol monomethyl ether acetate, the mixture was sufficiently stirred to obtain a self-luminous photosensitive resin composition.

カラーフィルター(Glass基板)の製造例
前記実施例1〜8と比較例1〜4で製造された自発光型感光性樹脂組成物を利用してカラーフィルターを製造した。すなわち、前記それぞれの自発光型感光性樹脂組成物をスピンコーティング法でガラス基板の上に塗布した後、加熱板の上に載置し、100℃の温度で3分間維持し、薄膜を形成した。引き続いて、前記薄膜の上に横x縦20mmx20mmの正四角形の透過パターンと1μm〜100μmのライン/スペースパターンを有する試験フォトマスクを載置し、試験フォトマスクとの間隔を100μmにして紫外線を照射した。
Production Example of Color Filter (Glass Substrate) A color filter was produced using the self-luminous photosensitive resin composition produced in Examples 1-8 and Comparative Examples 1-4. That is, each of the self-luminous photosensitive resin compositions was applied onto a glass substrate by spin coating, and then placed on a heating plate and maintained at a temperature of 100 ° C. for 3 minutes to form a thin film. . Subsequently, a test photomask having a regular square transmission pattern of horizontal x vertical 20 mm x 20 mm and a line / space pattern of 1 μm to 100 μm is placed on the thin film, and an ultraviolet ray is irradiated at an interval of 100 μm from the test photomask. did.

この際、紫外線光源は、ウシオ電機(株)製の超高圧水銀ランプ(商品名USH−250D)を利用して大気の雰囲気の下に200mJ/cmの露光量(365nm)で光照射し、特別な光学フィルターは使用しなかった。前記で紫外線が照射された薄膜をpH 10.5のKOH水溶液現像溶液に80秒間浸漬して現像した。この薄膜が施されたガラス板を蒸留水を使用して洗浄した後、窒素ガスを吹いて乾燥し、150℃の加熱オーブンで10分間加熱し、カラーフィルターパターンを製造した。前記で製造された自発光カラーパターンのフィルム厚さは、3.0μmであった。 At this time, the ultraviolet light source is irradiated with light at an exposure amount (365 nm) of 200 mJ / cm 2 in an atmospheric atmosphere using an ultrahigh pressure mercury lamp (trade name USH-250D) manufactured by Ushio Electric Co., Ltd. No special optical filter was used. The thin film irradiated with ultraviolet rays was immersed in a KOH aqueous solution developing solution having a pH of 10.5 for 80 seconds for development. The glass plate provided with this thin film was washed with distilled water, dried by blowing nitrogen gas, and heated in a heating oven at 150 ° C. for 10 minutes to produce a color filter pattern. The film thickness of the self-luminous color pattern manufactured as described above was 3.0 μm.

微細パターンの測定
前記自発光画素が形成されたカラーフィルターのうち100μmのライン/スペースパターンマスクを介して得られた、パターンのサイズをOM装備(ECLIPSE LV100POL、ニコン社製造)を通じてパターンサイズを測定した。
Measurement of fine pattern The pattern size obtained through the 100 μm line / space pattern mask of the color filter on which the self-luminous pixels were formed was measured through OM equipment (ECLIPSE LV100POL, manufactured by Nikon Corporation). .

微細パターン(Δμm)=(ライン/スペースパターンマスクsize、100μm)−(測定された画素パターンsize)   Fine pattern (Δ μm) = (line / space pattern mask size, 100 μm) − (measured pixel pattern size)

微細パターンの値が10μmより大きければ、微細画素の具現が困難になり、マイナス値を有すれば、工程不良を引き起こすことができる。   If the value of the fine pattern is larger than 10 μm, it is difficult to implement a fine pixel, and if it has a negative value, a process failure can be caused.

発光強度(Intensity)の測定
前記自発光画素が形成されたカラーフィルターのうち20mmx20mmの正四角形のパターンで形成されたパターン(Pattern)部に365nm Tube型4W UV照射器(VL−4LC、VILBER LOURMAT)を用いて光変換された領域を測定し、実施例1〜8及び比較例1〜4は、550nm領域での発光強度(Intensity)をSpectrum meter(Ocean Optics社製)を利用して測定した。測定された発光強度(Intensity)が高いほど、優れた自発光特性を発揮するものと判断することができ、発光強度(Intensity)の測定結果は、下記表3に示した。また、ハードベーク(hard bake)を230℃で60分間進行し、ハードベーク前の発光強度(Intensity)とハードベーク後の発光強度(Intensity)を測定し、発光効率が維持される水準を確認し、表3に発光強度維持率で示した。
Measurement of light intensity (Intensity) 365 nm Tube type 4W UV irradiator (VL-4LC, VILBER LOURMAT) on a pattern (Pattern) portion formed of a regular square pattern of 20 mm × 20 mm among the color filters in which the self-luminous pixels are formed. In Examples 1-8 and Comparative Examples 1-4, the emission intensity (Intensity) in the 550 nm region was measured using a spectrum meter (manufactured by Ocean Optics). It can be determined that the higher the measured luminescence intensity (Intensity), the more excellent self-luminous properties are exhibited, and the measurement results of the luminescence intensity (Intensity) are shown in Table 3 below. Moreover, hard bake (hard bake) is carried out at 230 ° C. for 60 minutes, the emission intensity (Intensity) before hard baking and the emission intensity (Intensity) after hard baking are measured, and the level at which the luminous efficiency is maintained is confirmed. Table 3 shows the emission intensity maintenance rate.

表3に示されたように、本発明において提示する実施例1〜実施例8に使用されたバインダーを含むことによって、発光強度及び発光強度維持率が増加し、微細パターンが製作可能であり、高解像度のカラーフィルターを製作できる優れた感光性樹脂組成物を得ることができる。   As shown in Table 3, by including the binders used in Examples 1 to 8 presented in the present invention, the emission intensity and emission intensity maintenance ratio are increased, and a fine pattern can be produced. An excellent photosensitive resin composition capable of producing a high-resolution color filter can be obtained.

比較例1〜3及び実施例1〜8を参照すれば、末端に二重結合を有し、架橋能力があり、量子ドット及び量子ドット表面のリガンドとの相溶性を有するバインダーを使用する場合、量子ドットの表面に保護基の役目をすることによって、工程中に優れた発光強度を有し、消光幅が少ない効果を確認できる。また、比較例4及び実施例7〜8を参照すれば、発光強度が高いとしても、ガラス転移温度(Tg)が−20℃以下では、高解像度の微細パターンの形成が不可能なので、実用が不可能であることを確認できる。   Referring to Comparative Examples 1 to 3 and Examples 1 to 8, when using a binder having a double bond at the end, a crosslinking ability, and compatibility with the quantum dot and the ligand on the surface of the quantum dot, By acting as a protecting group on the surface of the quantum dot, it is possible to confirm the effect of having excellent emission intensity and a small extinction width during the process. Further, referring to Comparative Example 4 and Examples 7 to 8, even if the emission intensity is high, if the glass transition temperature (Tg) is −20 ° C. or less, it is impossible to form a high-resolution fine pattern. It can be confirmed that it is impossible.

Claims (7)

バインダー及び量子ドットを含み、
前記バインダーは、下記化学式1、化学式2及びこれらの組み合わせを1つ以上含むことを特徴とする量子ドットを含む硬化性組成物:
[化学式1]

(前記化学式1で、
は、水素またはC1〜C6アルキル基を示し、
は、酸素、−NH−または

基を示し、
は、C1〜C30のアルキレン基、C1〜C30のアルキレンオキシ基またはC1〜C30のエチルオキシカルボニルアミノエチル基を示し、
は、不飽和二重結合を含有する基をそれぞれ示す。)
[化学式2]

(前記化学式2で、
〜Rは、それぞれ独立に、互いに同じかまたは異なり、水素またはC1〜C6アルキル基を示し、
は、酸素、−NH−または

基を示し、
は、C1〜C30のアルキレン基、C1〜C30のアルキレンオキシ基またはC1〜C30のエチルオキシカルボニルアミノエチル基を示し、
は、不飽和二重結合を含有する基をそれぞれ示し、
Xは、0<X<100の値を示す。)
Including a binder and quantum dots,
The binder includes one or more of the following chemical formula 1, chemical formula 2, and combinations thereof, and a curable composition containing quantum dots:
[Chemical Formula 1]

(In Formula 1 above,
R 1 represents hydrogen or a C1-C6 alkyl group,
R 2 represents oxygen, —NH— or

Group,
R 3 represents a C1-C30 alkylene group, a C1-C30 alkyleneoxy group, or a C1-C30 ethyloxycarbonylaminoethyl group,
R 4 represents a group containing an unsaturated double bond. )
[Chemical formula 2]

(In Formula 2 above,
R 5 to R 6 are each independently the same or different and each represents hydrogen or a C1-C6 alkyl group;
R 7 is oxygen, —NH— or

Group,
R 8 represents a C1-C30 alkylene group, a C1-C30 alkyleneoxy group, or a C1-C30 ethyloxycarbonylaminoethyl group,
R 9 represents a group containing an unsaturated double bond,
X represents a value of 0 <X <100. )
前記バインダーは、
ガラス転移温度が−20〜250℃であることを特徴とする請求項1に記載の量子ドットを含む硬化性組成物。
The binder is
The curable composition containing quantum dots according to claim 1, wherein the glass transition temperature is -20 to 250 ° C.
前記量子ドットを含む硬化性組成物のうち固形分の全体重量部に対して、
前記バインダー10〜90重量%及び前記量子ドット3〜80重量%を含み、
光重合化合物及び光重合開始剤を残部として含むことを特徴とする請求項1または2に記載の量子ドットを含む硬化性組成物。
Of the curable composition containing the quantum dots, with respect to the total weight part of solids,
10 to 90 wt% of the binder and 3 to 80 wt% of the quantum dots,
The curable composition containing quantum dots according to claim 1 or 2, wherein the remainder contains a photopolymerization compound and a photopolymerization initiator.
前記量子ドットは、
赤色量子ドット、緑色量子ドットまたは青色量子ドットであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の量子ドットを含む硬化性組成物。
The quantum dots are
It is a red quantum dot, a green quantum dot, or a blue quantum dot, The curable composition containing the quantum dot in any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned.
前記量子ドットは、コアが、CdSe、CdS、ZnS、ZnSe、ZnTe、CdTe、CdSeTe、CdZnS、PbSe、AgInZnS、HgS、HgSe、HgTe、GaN、GaP、GaAs、InP、InAs及びZnOよりなる群から選択された1つ以上の物質を含み、シェルが、CdSe、ZnSe、ZnS、ZnTe、CdTe、PbS、TiO、SrSe及びHgSeよりなる群から選択された1つ以上の物質を含むことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の量子ドットを含む硬化性組成物。   The quantum dot has a core selected from the group consisting of CdSe, CdS, ZnS, ZnSe, ZnTe, CdTe, CdSeTe, CdZnS, PbSe, AgInZnS, HgS, HgSe, HgTe, GaN, GaP, GaAs, InP, InAs, and ZnO. And wherein the shell comprises one or more materials selected from the group consisting of CdSe, ZnSe, ZnS, ZnTe, CdTe, PbS, TiO, SrSe, and HgSe. The curable composition containing the quantum dot in any one of claim | item 1-4. 請求項1〜5のいずれかに記載の量子ドットを含む硬化性組成物で製造されることを特徴とするカラーフィルター。   A color filter manufactured with a curable composition comprising the quantum dots according to claim 1. 請求項6に記載のカラーフィルターを含むことを特徴とする画像表示装置。   An image display device comprising the color filter according to claim 6.
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