JP2016155884A - 変性セルロース誘導体の製造方法、変性セルロース誘導体、光学フィルム、円偏光板及び表示装置 - Google Patents
変性セルロース誘導体の製造方法、変性セルロース誘導体、光学フィルム、円偏光板及び表示装置 Download PDFInfo
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Abstract
【課題】製造工程における取扱いが容易で、有機溶媒及び他の樹脂との相溶性が高い変性セルロース誘導体及びその製造方法の提供。【解決手段】一般式(1)で表される構造を有する化合物と、芳香族イソシアネート、芳香族イソチオシアネート、芳香族カルボン酸無水物及び芳香族カルボン酸クロリドから選ばれる化合物とを反応させて、変性セルロース誘導体を製造する変性セルロースの製造方法であって、前記精製溶媒が炭素数3〜5の範囲のアルコールを含有する製造方法。(R20、R30及びR60は独立に水素、アルキル等;L20、L30及びL60は独立に単結合、エーテル、カルボニル等;p0は平均重合度で、10〜2000の整数。)【選択図】なし
Description
本発明は、変性セルロース誘導体の製造方法、変性セルロース誘導体、光学フィルム、円偏光板及び表示装置に関する。より詳しくは、製造工程における取り扱いが容易で、他の樹脂と相溶性の高い変性セルロース誘導体の製造方法及び当該方法により製造された変性セルロース誘導体等に関する。
光学フィルムに求められる特性として、光学性能の他に、耐光性や耐熱性等の耐久性が重要である。位相差フィルム等の光学フィルムに用いられるポリマーとして、セルロースエステル等のセルロース誘導体の他に、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー等のポリマーが知られており、セルロース誘導体を使用するフィルムは、光学性能に優れ、かつ耐熱性も高いことから、広く利用されてきた。
最近では、λ/4位相差フィルムなど、高度に光学値を制御することが要求されるため、セルロース誘導体に不足する性能を補うための添加剤を加えたり、セルロース誘導体に修飾基を置換したりする等の工夫が必要となっている。
例えば、特許文献1には、フィルム延伸時の添加剤の配向度を上げるために、構造形状が棒状の化合物を添加剤として用いることが記載されているが、棒状化合物はセルロース誘導体との相溶性が悪く、成膜した際にヘイズが生じてしまうという問題があった。
セルロース誘導体に修飾基を導入する方法としては、例えば、特許文献2や特許文献3に記載の方法があるが、フィルムの主成分であるセルロース誘導体を修飾するため、コストが増加する上に、修飾反応後に残存する不純物がフィルム性能に大きく影響するため、精製負荷が大きく、性能がぶれやすいという問題があった。
例えば、特許文献1には、フィルム延伸時の添加剤の配向度を上げるために、構造形状が棒状の化合物を添加剤として用いることが記載されているが、棒状化合物はセルロース誘導体との相溶性が悪く、成膜した際にヘイズが生じてしまうという問題があった。
セルロース誘導体に修飾基を導入する方法としては、例えば、特許文献2や特許文献3に記載の方法があるが、フィルムの主成分であるセルロース誘導体を修飾するため、コストが増加する上に、修飾反応後に残存する不純物がフィルム性能に大きく影響するため、精製負荷が大きく、性能がぶれやすいという問題があった。
一般に、変性したセルロース誘導体は、貧溶媒を使って沈殿又は再沈殿により精製する際に、セルロース誘導体が凝集して塊状になりやすいため、精製効果が低い上に、生産工程における空気輸送ができない形状になってしまっていた。
また、セルロース誘導体の精製方法に関しては、例えば、特許文献4のような報告があるが、生成物の取り出し形状は塊状となるため、精製効率が悪くコストがかかる上に、取扱い性にも問題があった。
また、セルロース誘導体の精製方法に関しては、例えば、特許文献4のような報告があるが、生成物の取り出し形状は塊状となるため、精製効率が悪くコストがかかる上に、取扱い性にも問題があった。
セルロース樹脂の取り出し形状に関しては、特許文献5や特許文献6に記載のとおり、無置換のセルロースからカルボキシメチルセルロースを製造する際に生成するナトリウム塩を、2−プロパノール水溶液に分散させて粒状セルロースエーテルを得る報告例がある。
ナトリウム塩にすることで再沈殿されやすくなり不純物が除去されやすくなるが、セルロースエステル誘導体を製造する場合に、生成物をナトリウム塩に変換するにはエステルを加水分解しなければならず、無駄な製造工程が増えるだけであり、現実的ではない。
ナトリウム塩にすることで再沈殿されやすくなり不純物が除去されやすくなるが、セルロースエステル誘導体を製造する場合に、生成物をナトリウム塩に変換するにはエステルを加水分解しなければならず、無駄な製造工程が増えるだけであり、現実的ではない。
更に、逆波長分散性を発現させるために、修飾基として芳香族基を有する置換基を導入すると、セルロース誘導体の疎水性が高くなり、溶媒への溶解性の低下や、他の樹脂とブレンドしようとしても相溶せずに析出してしまうという問題も生じている。
以上のように、これまでに変性セルロース誘導体を微粉末状固体として取り出す製造方法は報告例がない。また、芳香族基を有するような疎水性のセルロース誘導体を微粉末状にすることにより、溶媒溶解性に加え、他樹脂との相溶性をも改良させるという技術は知られていなかった。
以上のように、これまでに変性セルロース誘導体を微粉末状固体として取り出す製造方法は報告例がない。また、芳香族基を有するような疎水性のセルロース誘導体を微粉末状にすることにより、溶媒溶解性に加え、他樹脂との相溶性をも改良させるという技術は知られていなかった。
本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、製造工程における取扱いが容易で、有機溶媒及び他の樹脂との相溶性が高い変性セルロース誘導体の製造方法及び当該製造方法により製造された変性セルロース誘導体を提供することである。さらに、当該変性セルロース誘導体を使用することにより、優れた逆波長分散性及びλ/4の位相差を発現する光学フィルム、円偏光板及び表示装置を提供することである。
本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、逆波長分散性を向上させるために様々な置換基をセルロース誘導体に導入した際に、取り出し形状をコントロールできる精製条件を繰り返し検討した。
鋭意検討の結果、変性セルロース誘導体を取り出す場合に、精製溶媒として炭素数3〜5のアルコールを含む溶媒を使用することで、粉体として取り出せることを見いだした。更に、該範囲の炭素数を有する変性セルロース誘導体は、溶媒への溶解性が向上するだけでなく、多様な樹脂との相溶性が非常に高くなることも見いだした。また、前記変性セルロース誘導体を光学フィルムに適用したところ、逆波長分散性に優れ、λ/4の位相差を発現することを発見し、本発明に至った。
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
鋭意検討の結果、変性セルロース誘導体を取り出す場合に、精製溶媒として炭素数3〜5のアルコールを含む溶媒を使用することで、粉体として取り出せることを見いだした。更に、該範囲の炭素数を有する変性セルロース誘導体は、溶媒への溶解性が向上するだけでなく、多様な樹脂との相溶性が非常に高くなることも見いだした。また、前記変性セルロース誘導体を光学フィルムに適用したところ、逆波長分散性に優れ、λ/4の位相差を発現することを発見し、本発明に至った。
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
1.下記一般式(1)で表される構造を有する化合物と、
下記化合物群から選ばれる化合物と、
を反応させて、変性セルロース誘導体を製造する変性セルロースの製造方法であって、
精製溶媒が、炭素数3〜5の範囲のアルコールを含有することを特徴とする変性セルロース誘導体の製造方法。
下記化合物群から選ばれる化合物と、
を反応させて、変性セルロース誘導体を製造する変性セルロースの製造方法であって、
精製溶媒が、炭素数3〜5の範囲のアルコールを含有することを特徴とする変性セルロース誘導体の製造方法。
(一般式(1)中、R20、R30及びR60は、それぞれ独立に、水素原子、脂肪族基及び芳香族基を表す。L20、L30及びL60は、それぞれ独立に、単結合、−O−、−CO−及び−(Lw−O)q−からなる群から選ばれる1種以上の基から形成される2価の連結基を表す。Lwは、アルキレン基を表し、qは、1〜10の整数を表す。p0は、平均重合度を表し、10〜2000の整数を表す。)
(Ra、Rb、Rc及びRdは、それぞれ芳香族基を表す。)
2.前記アルコールが、2−プロパノールであることを特徴とする第1項に記載の変性セルロース誘導体の製造方法。
3.第1項又は第2項に記載の変性セルロース誘導体の製造方法により製造されることを特徴とする変性セルロース誘導体。
4.下記一般式(1)で表される構造を有する化合物と、下記化合物群から選ばれる化合物と、を反応させて変性セルロース誘導体を製造する製造工程で、
炭素数3〜5のアルコールを精製に用いることで得られる、下記一般式(2)で表される構造を有することを特徴とする変性セルロース誘導体。
炭素数3〜5のアルコールを精製に用いることで得られる、下記一般式(2)で表される構造を有することを特徴とする変性セルロース誘導体。
(一般式(1)中、R20、R30及びR60は、それぞれ独立に、水素原子又は脂肪族基を表す。L20、L30及びL60は、それぞれ独立に、単結合、−O−、−CO−及び−(Lw−O)q−からなる群から選ばれる1種以上の基から形成される2価の連結基を表す。Lwは、アルキレン基を表し、qは、1〜10の整数を表す。p0は、平均重合度を表し、10〜2000の整数を表す。)
(式中、R22、R32及びR62は、それぞれ独立に水素原子、脂肪族基又は芳香族基を表す。L22、L32及びL62は、それぞれ独立に、単結合、−O−、−CO−及び−(Lw−O)q−からなる群から選ばれる1種以上の基から形成される2価の連結基を表す。Lwは、アルキレン基を表し、qは、1〜10の整数を表す。p2は、平均重合度を表し、10〜2000の整数を表す。ただし、R22、R32及びR62のうち少なくとも一つは、Ra、Rb、Rc又はRdを表し、−L22−(Ra、Rb、Rc又はRd)、−L32−(Ra、Rb、Rc又はRd)及び−L62−(Ra、Rb、Rc又はRd)による置換度は、下記式(i)及び下記式(ii)を満たす。
式(i):〔−L62−(Ra、Rb、Rc又はRd)による置換度〕>〔−L22−(Ra、Rb、Rc又はRd)による置換度〕
式(ii):〔−L62−(Ra、Rb、Rc又はRd)による置換度〕>〔−L32−(Ra、Rb、Rc又はRd)による置換度〕
ここで、−L22−(Ra、Rb、Rc又はRd)、−L32−(Ra、Rb、Rc又はRd)及び−L62−(Ra、Rb、Rc又はRd)による置換度とは、無水グルコースユニットに対して、2位、3位及び6位の三つの炭素原子のそれぞれに結合しているヒドロキシ基の水素原子が置換されている個数の平均値を表す。)
式(i):〔−L62−(Ra、Rb、Rc又はRd)による置換度〕>〔−L22−(Ra、Rb、Rc又はRd)による置換度〕
式(ii):〔−L62−(Ra、Rb、Rc又はRd)による置換度〕>〔−L32−(Ra、Rb、Rc又はRd)による置換度〕
ここで、−L22−(Ra、Rb、Rc又はRd)、−L32−(Ra、Rb、Rc又はRd)及び−L62−(Ra、Rb、Rc又はRd)による置換度とは、無水グルコースユニットに対して、2位、3位及び6位の三つの炭素原子のそれぞれに結合しているヒドロキシ基の水素原子が置換されている個数の平均値を表す。)
5.第3項又は第4項に記載の変性セルロース誘導体を含有することを特徴とする光学フィルム。
6.長手方向に対して40〜50°の範囲内に遅相軸を有することを特徴とする第5項に記載の光学フィルム。
7.第5項又は第6項に記載の光学フィルムに偏光子が貼り合わせされていることを特徴とする円偏光板。
8.第5項又は第6項に記載の光学フィルムが、具備されていることを特徴とする表示装置。
本発明の上記手段により、製造工程における取扱いが容易で、有機溶媒及び他の樹脂との相溶性が高い変性セルロース誘導体の製造方法及び当該製造方法により製造された変性セルロース誘導体を提供することができる。さらに、当該変性セルロース誘導体を使用することにより、優れた逆波長分散性及びλ/4の位相差を発現する光学フィルム、円偏光板及び表示装置を提供することができる。
本発明の効果の発現機構又は作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。
本発明の変性セルロース誘導体の製造方法は、炭素数3〜5のアルコールを使用する点を特徴としている。変性セルロース誘導体が炭素数3〜5のアルコールに対して溶解するために、炭素数3〜5のアルコールと貧溶媒が存在する溶媒中では、沈殿が形成される際に、変性セルロース誘導体が溶ける速度と析出する速度とのバランスが良い状態に保たれ、細かい微粉末状に析出し、かつ、凝集することがないと考えられる。
本発明の変性セルロース誘導体の製造方法は、炭素数3〜5のアルコールを使用する点を特徴としている。変性セルロース誘導体が炭素数3〜5のアルコールに対して溶解するために、炭素数3〜5のアルコールと貧溶媒が存在する溶媒中では、沈殿が形成される際に、変性セルロース誘導体が溶ける速度と析出する速度とのバランスが良い状態に保たれ、細かい微粉末状に析出し、かつ、凝集することがないと考えられる。
また、フィルムの生産工程において、樹脂を空気輸送する場合に、樹脂形状が大きく不均一であると、輸送速度と量が不安定になるため、工程に適していない。本発明におけるセルロース誘導体は空気輸送に適した形状を有しており、取扱い性に優れる。また、細かく均一な粒子である効果により、有機溶媒に溶解しやすく、更には、他の樹脂との相溶性に優れ、他の樹脂をブレンドすることにより、多くの機能を持たせることが可能となり、様々な用途への利用が期待できる。
その上、沈殿又は再沈殿によって得られる生成物の形状が細かい微粉末状であることにより、精製時に溶媒と接触する表面積が大きいため、精製効率が上がり、副生物や溶媒等の不純物の取り込みが低減される。特に、副生物が不純物として残存する変性セルロース誘導体を光学フィルムとして使用した場合に、異物の原因になったり、光学性能の劣化や耐候性劣化、延伸時の延伸不良の要因となりうるため、不純物の取り込み低減は性能向上に有用である。
本発明の変性セルロース誘導体の製造方法は、前記一般式(1)で表される構造を有する化合物と、前記化合物群から選ばれる化合物と、を反応させて、変性セルロース誘導体を製造する変性セルロースの製造方法であって、精製溶媒が、炭素数3〜5の範囲のアルコールを含有することを特徴とする。また、本発明の変性セルロース誘導体は、前記一般式(1)で表される構造を有する化合物と、前記化合物群から選ばれる化合物と、を反応させて変性セルロース誘導体を製造する製造工程で、炭素数3〜5のアルコールを精製に用いることで得られる、前記一般式(2)で表される構造を有することを特徴とする。
これらの特徴は、請求項1から請求項8までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。
これらの特徴は、請求項1から請求項8までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。
本発明の実施態様としては、溶解度や精製条件を広く選択できる等の種々の観点から、前記アルコールが、2−プロパノールであることが好ましい。
また、本発明の変性セルロース誘導体は、本発明の効果発現の観点から、本発明の変性セルロース誘導体の製造方法により製造されることが好ましい。
さらに、本発明の光学フィルムは、本発明の変性セルロース誘導体を含有することが、優れた逆波長分散性及びλ/4の位相差を発現することができる点から好ましい。
本発明の光学フィルムは、長手方向に対して40〜50°の範囲内に遅相軸を有することが好ましい。これにより、本発明の光学フィルムは、λ/4位相差フィルムに好適に用いることができる。
本発明の円偏光板は、光学フィルムに偏光子が貼り合わせされて好適に具備され得る。
本発明の表示装置は、本発明の光学フィルムが、好適に具備され得る。
本発明の表示装置は、本発明の光学フィルムが、好適に具備され得る。
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、数値範囲を表す「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用している。
〈一般式(1)で表される化合物〉
本発明の変性セルロース誘導体の製造方法は、下記一般式(1)で表される構造を有する化合物を用いることを特徴とする。
本発明の変性セルロース誘導体の製造方法は、下記一般式(1)で表される構造を有する化合物を用いることを特徴とする。
一般式(1)において、R20、R30及びR60は、それぞれ独立に水素原子又は脂肪族基を表す。L20、L30及びL60はそれぞれ独立に、単結合、−O−、−CO−及び−(Lw−O)q−からなる群から選ばれる1種以上の基から形成される2価の連結基を表す。Lwは、アルキレン基を表し、qは、1〜10の整数を表す。p0は、平均重合度を表し、10〜2000の整数を表す。
R20、R30及びR60で表される脂肪族基としては、例えば、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等)、シクロアルキル基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基等)、アルキニル基(例えば、エチニル基、プロパルギル基等)が挙げられる。R20、R30及びR60で表される脂肪族基として、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基である。
L20、L30及びL60として、好ましくは、−O−、−CO−である。
L20、L30及びL60として、好ましくは、−O−、−CO−である。
〈化合物群から選ばれる化合物〉
本発明の変性セルロース誘導体の製造方法は、下記化合物群から選ばれる化合物を用いることを特徴とする。
本発明の変性セルロース誘導体の製造方法は、下記化合物群から選ばれる化合物を用いることを特徴とする。
Ra、Rb、Rc及びRdはそれぞれ、芳香族基を表す。
Ra、Rb、Rc及びRdで表される芳香族基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、インダニル基、インデニル基、フルオレニル基、アントラセニル基又はアズレニニル基などの芳香族炭化水素基;チエニル基、フリル基、ピリジル基、ピリミジル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、トリアゾリル基、ベンゾチオフェニル基、ベンゾフラニル基、ベンゾチエニル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基又はベンゾトリアゾリル基などの芳香族複素環基;などが挙げられる。中でも、フェニル基、ナフチル基、チエニル基、ピリジル基が好ましい。
Ra、Rb、Rc及びRdで表される芳香族基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、インダニル基、インデニル基、フルオレニル基、アントラセニル基又はアズレニニル基などの芳香族炭化水素基;チエニル基、フリル基、ピリジル基、ピリミジル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、トリアゾリル基、ベンゾチオフェニル基、ベンゾフラニル基、ベンゾチエニル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基又はベンゾトリアゾリル基などの芳香族複素環基;などが挙げられる。中でも、フェニル基、ナフチル基、チエニル基、ピリジル基が好ましい。
〈変性セルロース誘導体〉
本発明の変性セルロース誘導体は、前記一般式(1)で表される構造を有する化合物と、前記化合物群から選ばれる化合物と、を反応させて、炭素数3〜5の範囲のアルコールを含有する精製溶媒を用いることに製造されることを特徴とする。
また、本発明の変性セルロース誘導体は、下記一般式(2)で表される構造を有することを特徴とする。
本発明の変性セルロース誘導体は、前記一般式(1)で表される構造を有する化合物と、前記化合物群から選ばれる化合物と、を反応させて、炭素数3〜5の範囲のアルコールを含有する精製溶媒を用いることに製造されることを特徴とする。
また、本発明の変性セルロース誘導体は、下記一般式(2)で表される構造を有することを特徴とする。
式中、R22、R32及びR62は、それぞれ独立に水素原子、脂肪族基又は芳香族基を表す。L22、L32及びL62は、それぞれ独立に、単結合、−O−、−CO−及び−(Lw−O)q−からなる群から選ばれる1種以上の基から形成される2価の連結基を表す。Lwは、アルキレン基を表し、qは、1〜10の整数を表す。p2は、平均重合度を表し、10〜2000の整数を表す。ただし、R22、R32及びR62のうち少なくとも一つは、Ra、Rb、Rc又はRdを表し、−L22−(Ra、Rb、Rc又はRd)、−L32−(Ra、Rb、Rc又はRd)及び−L62−(Ra、Rb、Rc又はRd)による置換度は、下記式(i)及び下記式(ii)を満たす。
式(i):〔−L62−(Ra、Rb、Rc又はRd)による置換度〕>〔−L22−(Ra、Rb、Rc又はRd)による置換度〕
式(ii):〔−L62−(Ra、Rb、Rc又はRd)による置換度〕>〔−L32−(Ra、Rb、Rc又はRd)による置換度〕
ここで、−L22−(Ra、Rb、Rc又はRd)、−L32−(Ra、Rb、Rc又はRd)及び−L62−(Ra、Rb、Rc又はRd)による置換度とは、無水グルコースユニットに対して、2位、3位及び6位の三つの炭素原子のそれぞれに結合しているヒドロキシ基の水素原子が置換されている個数の平均値を表す。
式(i):〔−L62−(Ra、Rb、Rc又はRd)による置換度〕>〔−L22−(Ra、Rb、Rc又はRd)による置換度〕
式(ii):〔−L62−(Ra、Rb、Rc又はRd)による置換度〕>〔−L32−(Ra、Rb、Rc又はRd)による置換度〕
ここで、−L22−(Ra、Rb、Rc又はRd)、−L32−(Ra、Rb、Rc又はRd)及び−L62−(Ra、Rb、Rc又はRd)による置換度とは、無水グルコースユニットに対して、2位、3位及び6位の三つの炭素原子のそれぞれに結合しているヒドロキシ基の水素原子が置換されている個数の平均値を表す。
本発明における変性セルロース誘導体の粉体の形としては、できるだけ球状に近い形状を有することが好ましい。かさ比重としては、0.30〜0.80が好ましい。
かさ比重が0.30以上とすることで、粉体が舞うことを抑制することができ、貯蔵時の偏折、排出口等での閉塞、凝集などによる計量精度の低下などを抑制することができる。
かさ比重が0.80以下であることで、貯蔵時に圧密状態となり排出できなくなったり、搬送性が悪く空気輸送が困難になったり、更には、溶解性の低下を抑制できる。
かさ比重が0.30以上とすることで、粉体が舞うことを抑制することができ、貯蔵時の偏折、排出口等での閉塞、凝集などによる計量精度の低下などを抑制することができる。
かさ比重が0.80以下であることで、貯蔵時に圧密状態となり排出できなくなったり、搬送性が悪く空気輸送が困難になったり、更には、溶解性の低下を抑制できる。
本発明で得られる変性セルロース誘導体は、球状の微粉末固体として取り出すことができるため貯留サイロからの排出性に加え、計量設備や押出機等へ空気輸送等により移送する際の移送配管のフランジ部分や僅かな隙間への滞留を効果的に抑制でき、移送不良や計量精度の低下等の問題を効果的に防止することができる。また、輸送コストの低減などをもはかりうる。
本発明において、かさ比重とは、粉粒体の単位体積当たりの質量のことである。
かさ比重は、JIS K 3362−2008 「8.2 見掛け密度」に記載の方法に従って求めることができる。なお、測定器としては蔵持科学器機製作所社製のかさ比重測定器を用いた。粒径分布による偏りをなくすため十分に混合された試料100.0を、ダンパーを閉めた漏斗に入れた後、速やかにダンパーを開け、試料を受器に落とした。受器から盛り上がった試料をガラス棒で擦り落とした後、試料の入った受器の重さを0.1gまで正確に量った。次式に従い、かさ密度を算出した。なお、かさ密度測定時の架橋重合体粒子又は水膨潤性架橋重合体組成物の固形分(湿量基準)は80質量%より多い状態で測定した。測定時の温度は25±2℃であり、相対湿度は30〜50%であった。
かさ密度(g/mL)=(C−A)/B
A:受器の重さ(g)
B:受器の内容量(mL)
C:試料の入った受器の重さ(g)
本発明において、かさ比重とは、粉粒体の単位体積当たりの質量のことである。
かさ比重は、JIS K 3362−2008 「8.2 見掛け密度」に記載の方法に従って求めることができる。なお、測定器としては蔵持科学器機製作所社製のかさ比重測定器を用いた。粒径分布による偏りをなくすため十分に混合された試料100.0を、ダンパーを閉めた漏斗に入れた後、速やかにダンパーを開け、試料を受器に落とした。受器から盛り上がった試料をガラス棒で擦り落とした後、試料の入った受器の重さを0.1gまで正確に量った。次式に従い、かさ密度を算出した。なお、かさ密度測定時の架橋重合体粒子又は水膨潤性架橋重合体組成物の固形分(湿量基準)は80質量%より多い状態で測定した。測定時の温度は25±2℃であり、相対湿度は30〜50%であった。
かさ密度(g/mL)=(C−A)/B
A:受器の重さ(g)
B:受器の内容量(mL)
C:試料の入った受器の重さ(g)
《変性セルロース誘導体の合成方法》
前記一般式(1)で表される化合物と、イソシアネート、チオシアネート、酸無水物及び酸クロライドからなる群から選ばれる官能基を分子内に1個以上有する芳香族化合物との反応により、変性セルロース誘導体を合成する合成方法について説明する。
本発明における反応に使用できる反応溶媒は、前記一般式(1)で表される化合物と、前記化合物群から選ばれる化合物が溶解する有機溶媒であれば特に制限はされない。
前記一般式(1)で表される化合物と、イソシアネート、チオシアネート、酸無水物及び酸クロライドからなる群から選ばれる官能基を分子内に1個以上有する芳香族化合物との反応により、変性セルロース誘導体を合成する合成方法について説明する。
本発明における反応に使用できる反応溶媒は、前記一般式(1)で表される化合物と、前記化合物群から選ばれる化合物が溶解する有機溶媒であれば特に制限はされない。
具体例としては、アセトン、塩化メチレン、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAC)、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルイミダゾリジノン(DMI)、アセトニトリル、プロピオニトリル、N−メチルホルムアミド(NMF)、N,N−ジエチルホルムアミド、N−メチルアセトアミド(NMAC)、N−メチルプロピオンアミド(NMPR)、N,N,N′,N′−テトラメチル尿素(TMU)、N−メチルピロリドン(NMP)、N,N′−ジメチルプロピレン尿素(DMPU)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、スルホランなどを挙げることができる。
これら有機溶媒の中でも、特に、DMF、DMAC、DMI、NMPは、良好な反応性を示す。これらの有機溶媒は、いずれも沸点が100℃以上であり、かつ比較的化学的に安定な化合物であり、温和な条件で良好に反応が進行する。
これら有機溶媒の中でも、特に、DMF、DMAC、DMI、NMPは、良好な反応性を示す。これらの有機溶媒は、いずれも沸点が100℃以上であり、かつ比較的化学的に安定な化合物であり、温和な条件で良好に反応が進行する。
本発明において、反応系中に塩基を添加してもよい。塩基としては、例えば、ピリジン、ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルアミン、トリイソプロピルアミン等の第三級アミン及び無機塩基を用いることができる。塩基がない条件であっても反応させることもできる。ただし、着色の懸念や精製負荷を考慮すると、塩基は使用しない方が好ましい。本発明においては、塩基を使用しなくても、前記溶媒中で加熱するだけで、反応は進行する。
反応温度は一般式(1)で表される化合物の種類や、イソシアネート、チオシアネート、酸無水物及び酸クロライドからなる群から選ばれる官能基を分子内に1個以上有する芳香族化合物の種類、反応溶媒の種類によって調整することができるが、好ましくは、10〜100℃、好ましくは、40〜80℃である。10℃以上では、前記化合物群から選ばれる化合物の反応性が最適であり、反応時間がかかりすぎることもない。また、100℃以下であることで、反応溶液中で生成物が分解したり、着色度が上昇したりすることを抑制することができる。
反応温度は一般式(1)で表される化合物の種類や、イソシアネート、チオシアネート、酸無水物及び酸クロライドからなる群から選ばれる官能基を分子内に1個以上有する芳香族化合物の種類、反応溶媒の種類によって調整することができるが、好ましくは、10〜100℃、好ましくは、40〜80℃である。10℃以上では、前記化合物群から選ばれる化合物の反応性が最適であり、反応時間がかかりすぎることもない。また、100℃以下であることで、反応溶液中で生成物が分解したり、着色度が上昇したりすることを抑制することができる。
前記化合物群から選ばれる化合物の反応系への添加方法としては特に制限はない。例えば、一括添加する方法及び逐次添加(連続的又は間欠的に添加)する方法が挙げられる。本発明においては、反応の制御が容易である点で、逐次添加(連続的又は間欠的に添加)することが好ましい。添加する際には、ニートであっても、反応溶媒等で希釈して添加してもよい。副反応を抑制するという点において、反応溶媒で希釈してから添加することが好ましい。
前記一般式(1)で表される構造を有する化合物と前記化合物群から選ばれる化合物との反応から得られる変性セルロース誘導体は、沈殿又は再沈殿等の操作により単離、精製される。
反応溶液からの沈殿又は再沈殿等の操作の際に用いる精製溶媒としては、炭素数3〜5のアルコールを含んでいれば、他の溶媒の組み合わせは任意のものでよい。
反応溶液からの沈殿又は再沈殿等の操作の際に用いる精製溶媒としては、炭素数3〜5のアルコールを含んでいれば、他の溶媒の組み合わせは任意のものでよい。
精製溶媒としては、炭素を3〜5個有するアルコールであれば、制限はされない。具体的には、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、ネオペンチルアルコール、イソブチルアルコール、tert−アミルアルコール、イソペンチルアルコール、sec−ブチルカルビノール、3−ペンタノール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、トリメチロールエタン、1,3−ブタンジオール、3−メチル−2−ブタノール、1,5−ペンタンジオール、ペンタエリトリトール、3,3,3−トリフルオロ−1−プロパノール、4,4,4−トリフルオロ−1−ブタノール、2,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロパノール、2,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロパノール、4,4,5,5,5−ペンタフルオロ−1−ペンタノール、2,2,3,3−テトラフルオロ−1−プロパノール、2,2,3,3−テトラフルオロ−1,4−ブタンジオール、2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロ−1−ブタノール、2,2,3,3,4,4−ヘキサフルオロ−1,5−ペンタンジオール、1H,1H−ノナフルオロ−1−ペンタノール、3−クロロ−2,2−ジメチル−1−プロパノール、アセトンシアンヒドリン、2−シアノエタノール、3−ヒドロキシグルタロニトリル等が挙げられる。好ましくは、1−プロパノール、2−プロパノール、3,3,3−トリフルオロ−1−プロパノールであり、より好ましくは、2−プロパノールである。
炭素数3〜5のアルコールを使わずに、細かい粉末状固体を得る方法はいくつかあり、代表的な方法として、例えば、粉砕による微粉末化、噴霧乾燥等が挙げられる。
粉砕として用いられる方法としては、ボールミル、震動ミル、ハンマーミル等が代表的である。しかし、こうした粉砕方法は、粉砕時に摩擦熱が発生し、その熱により水分の蒸発等が生じて化合物や高分子が変質することが多く、特に、細かい微粉体を得るためには長時間の粉砕が必要となって、熱の影響は大きくなる。また、機械部品の摩耗による異物混入のおそれもある等、問題点が多い。
粉砕として用いられる方法としては、ボールミル、震動ミル、ハンマーミル等が代表的である。しかし、こうした粉砕方法は、粉砕時に摩擦熱が発生し、その熱により水分の蒸発等が生じて化合物や高分子が変質することが多く、特に、細かい微粉体を得るためには長時間の粉砕が必要となって、熱の影響は大きくなる。また、機械部品の摩耗による異物混入のおそれもある等、問題点が多い。
噴霧乾燥により得られる粉粒体は、微粒子の凝集体であるため、乾燥機から取り出す際の空気輸送ライン移送時や、得られた微粒子中の粗粒を除去するための粉砕や分級操作により、凝集粒子の破壊が起こる。この結果、かさ比重や流動性が低下し、作業性が悪化する。また、微粉末の飛散により作業環境が悪くなる。
そこで本発明の製造方法においては、精製溶媒が、炭素数3〜5のアルコールを含むことを特徴とする。
炭素数3〜5のアルコールは、変性セルロース誘導体に対する溶解度が適当な範囲となるために変性セルロース誘導体が微粉末固体として取り出せること、水との親和性が高いために水を混合させた貧溶媒を用いることが可能なため精製条件が広く選択できること、沸点が低めで常圧でも留去できること、副生物や反応溶媒の溶解性が高い点から使用している。
炭素数3〜5のアルコールは、変性セルロース誘導体に対する溶解度が適当な範囲となるために変性セルロース誘導体が微粉末固体として取り出せること、水との親和性が高いために水を混合させた貧溶媒を用いることが可能なため精製条件が広く選択できること、沸点が低めで常圧でも留去できること、副生物や反応溶媒の溶解性が高い点から使用している。
炭素数が2以下のアルコールを精製溶媒に使用した場合には、高分子の一部が溶解したり膨潤したりして、沈殿又は再沈殿精製時に固体として析出しにくくなり、析出したとしても、形状がゲル状になってしまい、濾過できない。
炭素数6以上のアルコールを精製溶媒に使用した場合には、疎水性が高すぎるため、セルロース誘導体の溶解性が低下し、沈殿又は再沈殿時に析出してくる固体は分散せずに塊状になってしまう。また、炭素数が6以上のアルコールは、沸点が高く常圧では留去が困難になるため、精製後の溶媒除去がコストアップにつながる。
以上のように、炭素数3〜5のアルコールを精製溶媒として使用しない方法では、固体の形状が好ましくないため、搬送性や取扱い性、溶解性等に問題が残る。
炭素数6以上のアルコールを精製溶媒に使用した場合には、疎水性が高すぎるため、セルロース誘導体の溶解性が低下し、沈殿又は再沈殿時に析出してくる固体は分散せずに塊状になってしまう。また、炭素数が6以上のアルコールは、沸点が高く常圧では留去が困難になるため、精製後の溶媒除去がコストアップにつながる。
以上のように、炭素数3〜5のアルコールを精製溶媒として使用しない方法では、固体の形状が好ましくないため、搬送性や取扱い性、溶解性等に問題が残る。
組み合わせて用いることができる溶媒としては、例えば、ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素や、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素や、ベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素や、メチレン、クロロホルム、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素や、ニトロメタン等のニトロ化炭化水素や、アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリルや、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等のエーテルや、アセトン、メチルエチルケトン等のケトンや、酢酸等のカルボン酸や、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステルや、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、エチレンカーボネート等のカーボネートや、2−プロピルアルコール以外のアルコール(メタノール、エタノール、1−プロピルアルコール、ブタノール等)や水が挙げられる。
沈殿又は再沈殿等に使用する精製溶媒の使用量は、効率や収率等を考慮して適宜選択できるが、一般には、反応溶液100質量部に対して、100〜1000質量部(1〜10倍)、好ましくは200〜800質量部(2〜8倍)である。
沈殿又は再沈殿等の操作をする際の温度としては、効率や操作性を考慮して適宜選択できるが、通常0〜50℃程度、好ましくは室温付近(例えば20〜35℃程度)である。再沈殿操作は、撹拌槽等の慣用の混合容器を用い、バッチ式、連続式等の公知の方法により行うことができる。
沈殿又は再沈殿等の操作をする際の温度としては、効率や操作性を考慮して適宜選択できるが、通常0〜50℃程度、好ましくは室温付近(例えば20〜35℃程度)である。再沈殿操作は、撹拌槽等の慣用の混合容器を用い、バッチ式、連続式等の公知の方法により行うことができる。
沈殿工程においては、例えば、反応溶液中に炭素数3〜5のアルコールを含む精製溶媒を滴下する方法がある。滴下速度は特に限定されず、適宜決めればよい。
再沈殿工程においては、例えば、炭素数3〜5のアルコールを含む精製溶媒をあらかじめ反応器に仕込み、好ましくは反応器内の炭素数3〜5のアルコールを含む溶媒をかき混ぜながら、製造した反応溶液又は良溶媒で適当な溶液粘度に希釈した反応溶液を精製溶媒中に滴下する。滴下速度は特に限定されず、適宜決めればよい。反応溶液は精製溶媒に一時に混合してもよい。
沈殿又は再沈殿等の操作時における反応溶液又は炭素数3〜5のアルコールを含む溶媒の温度は、通常、常温程度、具体的には0〜30℃であるが、特に限定されず、適宜決めればよい。
再沈殿工程においては、例えば、炭素数3〜5のアルコールを含む精製溶媒をあらかじめ反応器に仕込み、好ましくは反応器内の炭素数3〜5のアルコールを含む溶媒をかき混ぜながら、製造した反応溶液又は良溶媒で適当な溶液粘度に希釈した反応溶液を精製溶媒中に滴下する。滴下速度は特に限定されず、適宜決めればよい。反応溶液は精製溶媒に一時に混合してもよい。
沈殿又は再沈殿等の操作時における反応溶液又は炭素数3〜5のアルコールを含む溶媒の温度は、通常、常温程度、具体的には0〜30℃であるが、特に限定されず、適宜決めればよい。
沈殿又は再沈殿等によって得られた変性セルロース誘導体は、通常、濾過、遠心分離等の慣用の固液分離に付し、乾燥して使用に供される。濾過は、耐溶剤性のろ材を用い、必要であれば加圧下で行ってもよい。乾燥は、常圧又は減圧下(好ましくは減圧下)、30〜100℃程度、好ましくは40〜80℃程度の温度で行われる。
<置換度の分析>
本発明に係る変性セルロース誘導体の各変性置換基の置換度を求めるためには、最も簡便な方法として核磁気共鳴分析装置を用いることができる。すなわち、本発明に係る変性セルロース誘導体は、1H−NMRを用いて各変性置換基別の置換度を測定することができる。
代表的な例として、フェニルカルバメート置換セルロースアセテートについて具体的に説明する。
フェニルカルバメートセルロースアセテートを重クロロホルムや重ジクロロメタン又は重ジメチルホルムアミド等の溶媒に適当量溶解した上で、ケミカルシフトが7〜8ppm付近の芳香族基由来のプロトンのシグナル強度と、ケミカルシフトが2〜3ppm付近のアセチル基のメチルプロトンとを測定し、これらの強度比から、アシル基置換度及びフェニルカルバメート基置換度を算出することができる。
なお、本発明における置換度とは、例えば、一般式(1)で表される構造を有する化合物における、2位、3位及び6位のヒドロキシ基の−L20−R20、−L30−R30、−L60−R60の基による置換度を表すものとする。
本発明に係る変性セルロース誘導体の各変性置換基の置換度を求めるためには、最も簡便な方法として核磁気共鳴分析装置を用いることができる。すなわち、本発明に係る変性セルロース誘導体は、1H−NMRを用いて各変性置換基別の置換度を測定することができる。
代表的な例として、フェニルカルバメート置換セルロースアセテートについて具体的に説明する。
フェニルカルバメートセルロースアセテートを重クロロホルムや重ジクロロメタン又は重ジメチルホルムアミド等の溶媒に適当量溶解した上で、ケミカルシフトが7〜8ppm付近の芳香族基由来のプロトンのシグナル強度と、ケミカルシフトが2〜3ppm付近のアセチル基のメチルプロトンとを測定し、これらの強度比から、アシル基置換度及びフェニルカルバメート基置換度を算出することができる。
なお、本発明における置換度とは、例えば、一般式(1)で表される構造を有する化合物における、2位、3位及び6位のヒドロキシ基の−L20−R20、−L30−R30、−L60−R60の基による置換度を表すものとする。
[光学フィルム]
本発明の光学フィルムは、前述の本発明の変性セルロース誘導体を含有することを特徴とし、さらには、λ/4位相差フィルムであることが好ましい。
本発明の光学フィルムにおいては、長尺状フィルムであり、長手方向に対し40〜50°の範囲内に遅相軸を有することが好ましい。
このように長尺方向に対する遅相軸の角度を40〜50°の範囲内とする方法としては、成膜された延伸前のフィルムに対して、後述する斜め延伸を行う方法を挙げることができる。
本発明の光学フィルムは、前述の本発明の変性セルロース誘導体を含有することを特徴とし、さらには、λ/4位相差フィルムであることが好ましい。
本発明の光学フィルムにおいては、長尺状フィルムであり、長手方向に対し40〜50°の範囲内に遅相軸を有することが好ましい。
このように長尺方向に対する遅相軸の角度を40〜50°の範囲内とする方法としては、成膜された延伸前のフィルムに対して、後述する斜め延伸を行う方法を挙げることができる。
なお、本発明における「光学フィルム」とは、透過光に対して所望の位相差を付与する光学的な機能を有するフィルムをいい、光学的機能としては、例えば、ある特定の波長の直線偏光を楕円偏光や円偏光に変換する、又は楕円偏光や円偏光を直線偏光に変換する機能等が挙げられる。
また、特に「λ/4位相差フィルム」とは、所定の光の波長(通常、可視光領域)に対して、フィルムの面内位相差が約1/4となる特性を備えた光学フィルムをいう。
また、特に「λ/4位相差フィルム」とは、所定の光の波長(通常、可視光領域)に対して、フィルムの面内位相差が約1/4となる特性を備えた光学フィルムをいう。
〈光学フィルムの特性〉
本発明の光学フィルム(以下、本発明の位相差フィルムともいう。)は、可視光の波長の範囲において円偏光を得るため、可視光の波長の範囲において、おおむね波長の1/4の位相差を有する広帯域λ/4位相差フィルムであることが好ましい。
本発明の光学フィルム(以下、本発明の位相差フィルムともいう。)は、可視光の波長の範囲において円偏光を得るため、可視光の波長の範囲において、おおむね波長の1/4の位相差を有する広帯域λ/4位相差フィルムであることが好ましい。
本発明の位相差フィルムの面内位相差Roλ及び膜厚方向の位相差Rtλは、下記式(A)で表される。なお、λは各位相差を測定する波長(nm)を表す。本発明で用いる位相差の値は、例えば、Axometrics社製のAxoscanを用いて、23℃、相対湿度55%の環境下で、各波長での複屈折率を測定することにより算出することができる。
式(A)
Roλ=(nxλ−nyλ)×d
Rtλ=〔(nxλ+nyλ)/2−nzλ〕×d
上記式(A)において、λは測定に用いた光波長(nm)を表し、nx、ny、nzは、それぞれ23℃、相対湿度55%の環境下で測定され、nxはフィルムの面内の最大の屈折率(遅相軸方向の屈折率)を表し、nyはフィルム面内で遅相軸に直交する方向の屈折率を表し、nzはフィルム面内に垂直な厚さ方向の屈折率を表し、dはフィルムの厚さ(nm)を表す。
式(A)
Roλ=(nxλ−nyλ)×d
Rtλ=〔(nxλ+nyλ)/2−nzλ〕×d
上記式(A)において、λは測定に用いた光波長(nm)を表し、nx、ny、nzは、それぞれ23℃、相対湿度55%の環境下で測定され、nxはフィルムの面内の最大の屈折率(遅相軸方向の屈折率)を表し、nyはフィルム面内で遅相軸に直交する方向の屈折率を表し、nzはフィルム面内に垂直な厚さ方向の屈折率を表し、dはフィルムの厚さ(nm)を表す。
ここで、光波長λ(nm)における位相差フィルムの面内位相差をRoλとしたとき、本発明の位相差フィルムでは、光波長550nmで測定したフィルム面内の位相差値Ro550が120〜160nmの範囲内で、光波長450nm及び550nmでそれぞれ測定したフィルム面内の位相差値Ro450とRo550との比の値Ro450/Ro550が0.65〜0.99の範囲内であることが好ましい。
本発明で規定する位相差値Ro550は、120〜160nmの範囲内であることが好ましく、より好ましくは130〜150nmの範囲内であり、さらに好ましくは135〜145nmの範囲内である。
本発明の光学フィルムにおいて、Ro550が120〜160nmの範囲内であれば、波長550nmにおける位相差がおおむね1/4波長となり、このような特性を備えた光学フィルムを用いて円偏光板を作製し、例えば、表示装置にこの円偏光板を具備することにより、様々な使用環境における性能安定性を向上させることができる点で好ましい。
本発明の光学フィルムにおいて、Ro550が120〜160nmの範囲内であれば、波長550nmにおける位相差がおおむね1/4波長となり、このような特性を備えた光学フィルムを用いて円偏光板を作製し、例えば、表示装置にこの円偏光板を具備することにより、様々な使用環境における性能安定性を向上させることができる点で好ましい。
また、本発明の光学フィルムにおいては、波長分散特性の指針であるフィルム面内の位相差値Ro450とRo550との比の値であるRo450/Ro550が、0.65〜0.99の範囲内であることが好ましく、より好ましくは0.70〜0.94の範囲内であり、さらに好ましくは0.75〜0.89の範囲内である。Ro450/Ro550が0.65〜0.99の範囲内であれば、位相差が適度な逆波長分散特性を発現し、長尺円偏光板を作製した場合には、広い帯域の光に対して反射防止効果が得られる。
一方、膜厚方向の位相差Rtλは、光波長550nmで測定した位相差Rt550が60〜200nmの範囲内であることが好ましく、70〜150nmの範囲内であることがより好ましく、70〜100nmの範囲内であることがさらに好ましい。Rt550が60〜200nmの範囲内であれば、大画面で斜めから見た場合の色相の変化を防止することができる。
一方、膜厚方向の位相差Rtλは、光波長550nmで測定した位相差Rt550が60〜200nmの範囲内であることが好ましく、70〜150nmの範囲内であることがより好ましく、70〜100nmの範囲内であることがさらに好ましい。Rt550が60〜200nmの範囲内であれば、大画面で斜めから見た場合の色相の変化を防止することができる。
<光学フィルムの各種添加剤>
本発明の光学フィルムには、本発明の変性セルロース誘導体のほかに、様々な機能を付与する目的で、各種添加剤を含有させることができる。
本発明に適用可能な添加剤は、特に制限はなく、本発明の目的効果を損なわない範囲で、例えば、位相差上昇剤、波長分散改良剤、劣化抑制剤、紫外線吸収剤、マット剤及び可塑剤等を用いることができる。
以下に、本発明の光学フィルムに適用可能な代表的添加剤について示す。
本発明の光学フィルムには、本発明の変性セルロース誘導体のほかに、様々な機能を付与する目的で、各種添加剤を含有させることができる。
本発明に適用可能な添加剤は、特に制限はなく、本発明の目的効果を損なわない範囲で、例えば、位相差上昇剤、波長分散改良剤、劣化抑制剤、紫外線吸収剤、マット剤及び可塑剤等を用いることができる。
以下に、本発明の光学フィルムに適用可能な代表的添加剤について示す。
(紫外線吸収剤)
本発明の光学フィルムにおいては、紫外線吸収剤を含有することができる。
紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることができるが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平10−182621号公報、特開平8−337574号公報に記載の紫外線吸収剤、特開平6−148430号公報に記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。
本発明の光学フィルムを、位相差フィルムのほかに、偏光板の保護フィルムとして用いる場合、紫外線吸収剤としては、偏光子や有機EL素子の劣化防止の観点から、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ有機EL素子の表示性の観点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ない特性を備えていることが好ましい。
紫外線吸収剤の添加量は、変性セルロース誘導体に対して0.1〜5.0質量%の範囲内であることが好ましく、0.5〜5.0質量%の範囲内であることがさらに好ましい。
本発明の光学フィルムにおいては、紫外線吸収剤を含有することができる。
紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることができるが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平10−182621号公報、特開平8−337574号公報に記載の紫外線吸収剤、特開平6−148430号公報に記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。
本発明の光学フィルムを、位相差フィルムのほかに、偏光板の保護フィルムとして用いる場合、紫外線吸収剤としては、偏光子や有機EL素子の劣化防止の観点から、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ有機EL素子の表示性の観点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ない特性を備えていることが好ましい。
紫外線吸収剤の添加量は、変性セルロース誘導体に対して0.1〜5.0質量%の範囲内であることが好ましく、0.5〜5.0質量%の範囲内であることがさらに好ましい。
本発明に有用なベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−t−ブチル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−[2′−ヒドロキシ−3′−(3″,4″,5″,6″−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5′−メチルフェニル]ベンゾトリアゾール、2,2−メチレンビス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール]、2−(2′−ヒドロキシ−3′−t−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール、オクチル−3−[3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル]プロピオネートと2−エチルヘキシル−3−[3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル]プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。
また、市販品として、「チヌビン(TINUVIN)109」、「チヌビン(TINUVIN)171」、「チヌビン(TINUVIN)326」、「チヌビン(TINUVIN)328」(以上、商品名、BASFジャパン社製)を好ましく使用できる。
また、市販品として、「チヌビン(TINUVIN)109」、「チヌビン(TINUVIN)171」、「チヌビン(TINUVIN)326」、「チヌビン(TINUVIN)328」(以上、商品名、BASFジャパン社製)を好ましく使用できる。
(劣化抑制剤)
本発明の光学フィルムには、劣化防止剤、例えば、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル重合禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン類等を添加してもよい。劣化抑制剤については、例えば、特開平3−199201号公報、同5−197073号公報、同5−194789号公報、同5−271471号公報、同6−107854号公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、劣化防止剤の添加による効果が発現し、フィルム表面への劣化防止剤のブリードアウト(滲み出し)を抑制する観点から、光学フィルムの作製に用いる高分子組成物溶液(ドープ)の0.01〜1質量%の範囲内であることが好ましく、0.01〜0.2質量%の範囲内であることがさらに好ましい。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン(略称:BHT)、トリベンジルアミン(略称:TBA)を挙げることができる。
本発明の光学フィルムには、劣化防止剤、例えば、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル重合禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン類等を添加してもよい。劣化抑制剤については、例えば、特開平3−199201号公報、同5−197073号公報、同5−194789号公報、同5−271471号公報、同6−107854号公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、劣化防止剤の添加による効果が発現し、フィルム表面への劣化防止剤のブリードアウト(滲み出し)を抑制する観点から、光学フィルムの作製に用いる高分子組成物溶液(ドープ)の0.01〜1質量%の範囲内であることが好ましく、0.01〜0.2質量%の範囲内であることがさらに好ましい。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン(略称:BHT)、トリベンジルアミン(略称:TBA)を挙げることができる。
(マット剤微粒子)
本発明の光学フィルムには、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。
当該マット剤微粒子としては、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。これらのマット剤微粒子の中では、ケイ素を含むものが、濁度(ヘイズ)が低くなる点で好ましく、特に、二酸化ケイ素が好ましい。
二酸化ケイ素の微粒子は、一次平均粒子サイズが1〜20nmの範囲内であり、かつ見かけ比重が70g/リットル以上であるものが好ましい。一次平均粒子サイズは、さらには5〜16nmの範囲内のものが光学フィルムのヘイズを下げることができる観点から好ましい。見かけ比重は、さらには90〜200g/リットルの範囲内であることが好ましく、100〜200g/リットルの範囲内であることが特に好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
本発明の光学フィルムには、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。
当該マット剤微粒子としては、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。これらのマット剤微粒子の中では、ケイ素を含むものが、濁度(ヘイズ)が低くなる点で好ましく、特に、二酸化ケイ素が好ましい。
二酸化ケイ素の微粒子は、一次平均粒子サイズが1〜20nmの範囲内であり、かつ見かけ比重が70g/リットル以上であるものが好ましい。一次平均粒子サイズは、さらには5〜16nmの範囲内のものが光学フィルムのヘイズを下げることができる観点から好ましい。見かけ比重は、さらには90〜200g/リットルの範囲内であることが好ましく、100〜200g/リットルの範囲内であることが特に好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
これらの微粒子は、通常、平均粒子サイズが0.05〜2.0μmの範囲内となる二次粒子を形成する。二次粒子は、光学フィルム中では、一次粒子の凝集体として存在し、光学フィルム表面に0.05〜2.0μmの凹凸を形成させる。
二次平均粒子サイズは0.05〜1.0μmの範囲内が好ましく、0.1〜0.7μmの範囲内がさらに好ましく、0.1〜0.4μmの範囲内が特に好ましい。一次粒子及び二次粒子サイズは、光学フィルム中の微粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒子サイズとした。また、場所を変えて粒子200個を観察し、その平均値をもって平均粒子サイズとする。
二次平均粒子サイズは0.05〜1.0μmの範囲内が好ましく、0.1〜0.7μmの範囲内がさらに好ましく、0.1〜0.4μmの範囲内が特に好ましい。一次粒子及び二次粒子サイズは、光学フィルム中の微粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒子サイズとした。また、場所を変えて粒子200個を観察し、その平均値をもって平均粒子サイズとする。
二酸化ケイ素の微粒子は、例えば、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600(以上、日本アエロジル(株)製、商品名)等の市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルR976及びR811(以上、日本アエロジル(株)製、商品名)で市販されており、使用することができる。
これらの中でも、アエロジル200V及びアエロジルR972Vが、一次平均粒子サイズが20nm以下であり、かつ見かけ比重が70g/リットル以上である二酸化ケイ素の微粒子であり、光学フィルムのヘイズを低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましい。
これらの中でも、アエロジル200V及びアエロジルR972Vが、一次平均粒子サイズが20nm以下であり、かつ見かけ比重が70g/リットル以上である二酸化ケイ素の微粒子であり、光学フィルムのヘイズを低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましい。
前記マット剤微粒子は、以下の方法により調製して、光学フィルムに適用することが好ましい。すなわち、溶媒とマット剤微粒子を撹拌混合したマット剤微粒子分散液をあらかじめ調製し、このマット剤微粒子分散液を、別途用意した高分子組成物濃度が5質量%未満である各種添加剤溶液に添加して撹拌溶解した後、さらに本発明の変性セルロース誘導体と混合する方法が好ましい。
マット剤微粒子の表面は疎水化処理が施されているため、疎水性を有する添加剤が添加されると、マット剤微粒子表面に添加剤が吸着され、これを核として、添加剤の凝集物が発生しやすい。
したがって、相対的に親水的な添加剤をあらかじめマット剤微粒子分散液と混合した後、疎水的な添加剤を混合することにより、マット剤表面での添加剤の凝集を抑制することができ、ヘイズが低く、液晶表示装置に組み込んだ際の黒表示における光漏れが少なく好ましい。
マット剤微粒子の表面は疎水化処理が施されているため、疎水性を有する添加剤が添加されると、マット剤微粒子表面に添加剤が吸着され、これを核として、添加剤の凝集物が発生しやすい。
したがって、相対的に親水的な添加剤をあらかじめマット剤微粒子分散液と混合した後、疎水的な添加剤を混合することにより、マット剤表面での添加剤の凝集を抑制することができ、ヘイズが低く、液晶表示装置に組み込んだ際の黒表示における光漏れが少なく好ましい。
マット剤微粒子分散剤と添加剤溶液の混合及び高分子組成物ドープとの混合には、インラインミキサーを使用することが好ましい。
本発明はこれらの方法に限定されないが、二酸化ケイ素微粒子を溶媒等と混合して分散するときの二酸化ケイ素の濃度は5〜30質量%の範囲内が好ましく、10〜25質量%の範囲内がさらに好ましく、15〜20質量%の範囲内が特に好ましい。分散濃度が高い方が同量の添加量に対する濁度が低くなり、ヘイズや凝集物の発生を抑制することができるため好ましい。最終的な高分子組成物のドープ溶液中でのマット剤の添加量は0.001〜1.0質量%の範囲内が好ましく、0.005〜0.5質量%の範囲内がさらに好ましく、0.01〜0.1質量%の範囲内が特に好ましい。
本発明はこれらの方法に限定されないが、二酸化ケイ素微粒子を溶媒等と混合して分散するときの二酸化ケイ素の濃度は5〜30質量%の範囲内が好ましく、10〜25質量%の範囲内がさらに好ましく、15〜20質量%の範囲内が特に好ましい。分散濃度が高い方が同量の添加量に対する濁度が低くなり、ヘイズや凝集物の発生を抑制することができるため好ましい。最終的な高分子組成物のドープ溶液中でのマット剤の添加量は0.001〜1.0質量%の範囲内が好ましく、0.005〜0.5質量%の範囲内がさらに好ましく、0.01〜0.1質量%の範囲内が特に好ましい。
[変性セルロース誘導体を含有する光学フィルムの製造方法]
本発明の光学フィルムを製造する方法としては、特段の制限はないが、ソルベントキャスト法(溶液成膜法)により製造する方法が好ましい。ソルベントキャスト法は、変性セルロース誘導体を有機溶媒に溶解した溶液(ドープ)を用いて光学フィルムを製造する。
ドープの調製に用いる有機溶媒は、炭素原子数が3〜12のエーテル類、炭素原子数が3〜12のケトン類、炭素原子数が3〜12のエステル類及び炭素原子数が1〜6のハロゲン化炭化水素類から選ばれる溶媒を用いることが好ましい。
本発明の光学フィルムを製造する方法としては、特段の制限はないが、ソルベントキャスト法(溶液成膜法)により製造する方法が好ましい。ソルベントキャスト法は、変性セルロース誘導体を有機溶媒に溶解した溶液(ドープ)を用いて光学フィルムを製造する。
ドープの調製に用いる有機溶媒は、炭素原子数が3〜12のエーテル類、炭素原子数が3〜12のケトン類、炭素原子数が3〜12のエステル類及び炭素原子数が1〜6のハロゲン化炭化水素類から選ばれる溶媒を用いることが好ましい。
エーテル類、ケトン類及びエステル類は、環状構造を有していてもよい。エーテル類、ケトン類及びエステル類の官能基(すなわち、−O−、−CO−及び−COO−)のいずれかを二つ以上有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。有機溶媒は、アルコール性ヒドロキシ基のような他の官能基を有していてもよい。2種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する溶媒の上記の好ましい炭素原子数の範囲内であることが好ましい。
炭素原子数が3〜12のエーテル類の例としては、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール等が挙げられる。
炭素原子数が3〜12のケトン類の例としては、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等が挙げられる。
炭素原子数が3〜12のエステル類の例としては、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート、ペンチルアセテート等が挙げられる。
2種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、2−エトキシエチルアセテート、2−メトキシエタノール、2−ブトキシエタノール等が挙げられる。
炭素原子数が3〜12のケトン類の例としては、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等が挙げられる。
炭素原子数が3〜12のエステル類の例としては、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート、ペンチルアセテート等が挙げられる。
2種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、2−エトキシエチルアセテート、2−メトキシエタノール、2−ブトキシエタノール等が挙げられる。
ハロゲン化炭化水素類の炭素原子数は、1又は2であることが好ましく、1であることが最も好ましい。ハロゲン化炭化水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている割合は、25〜75モル%の範囲内であることが好ましく、30〜70モル%の範囲内であることがより好ましく、35〜65モル%の範囲内であることがさらに好ましく、40〜60モル%に範囲内であることが特に好ましい。ジクロロメタンが、代表的なハロゲン化炭化水素である。
前記ドープの調製には、ジクロロメタンとアルコール類との混合溶媒を用いることが好ましく、ジクロロメタンに対するアルコール類の比率は1〜50質量%の範囲内が好ましく、5〜40質量%の範囲内が好ましく、8〜30質量%の範囲内が特に好ましい。アルコールとしては、メタノール、エタノール、n−ブタノールが好ましく、2種類以上のアルコールを混合して使用してもよい。
前記ドープは、0℃以上の温度(常温又は高温)条件下で、一般的な方法で、調製することができる。溶液の調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法及び装置を用いて実施することができる。なお、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化炭化水素(特にジクロロメタン)を用いることが好ましい。
前記ドープは、0℃以上の温度(常温又は高温)条件下で、一般的な方法で、調製することができる。溶液の調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法及び装置を用いて実施することができる。なお、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化炭化水素(特にジクロロメタン)を用いることが好ましい。
前記ドープ中の変性セルロース誘導体の割合は、5〜40質量%の範囲内であるのが好ましく、10〜30質量%の範囲内であることがさらに好ましい。有機溶媒(主溶媒)中には、上記した各種添加剤を添加しておいてもよい。
前記ドープは、常温(0〜40℃)で変性セルロース誘導体と有機溶媒とを撹拌することにより調製することができる。高濃度の溶液は、加圧及び加熱条件下で撹拌してもよい。具体的には、変性セルロース誘導体と有機溶媒とを加圧容器に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以上、かつ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら撹拌する。
加熱温度は、通常は40℃以上であり、好ましくは60〜200℃の範囲内であり、さらに好ましくは80〜110℃の範囲内である。
前記ドープは、常温(0〜40℃)で変性セルロース誘導体と有機溶媒とを撹拌することにより調製することができる。高濃度の溶液は、加圧及び加熱条件下で撹拌してもよい。具体的には、変性セルロース誘導体と有機溶媒とを加圧容器に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以上、かつ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら撹拌する。
加熱温度は、通常は40℃以上であり、好ましくは60〜200℃の範囲内であり、さらに好ましくは80〜110℃の範囲内である。
各成分はあらかじめ粗混合してから容器に投入してもよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は撹拌できる機構を供えている必要がある。窒素ガス等の不活性気体を注入して容器内を加圧することができる。また、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用して加圧してもよい。または、容器を密閉後、各成分を加圧下で添加してもよい。
加熱する場合、容器の外周部より加熱する方法が好ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いることができる。また、容器の外部にプレートヒーターを設ける方法、容器の外周部に配管を設置して配管内に加熱した液体を循環させることにより容器全体を加熱することもできる。
また、容器内部に撹拌翼を設けて、これを用いて撹拌することが好ましい。撹拌翼は、容器の壁付近に達する長さのものが好ましい。撹拌翼の末端には、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けることが好ましい。
加熱する場合、容器の外周部より加熱する方法が好ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いることができる。また、容器の外部にプレートヒーターを設ける方法、容器の外周部に配管を設置して配管内に加熱した液体を循環させることにより容器全体を加熱することもできる。
また、容器内部に撹拌翼を設けて、これを用いて撹拌することが好ましい。撹拌翼は、容器の壁付近に達する長さのものが好ましい。撹拌翼の末端には、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けることが好ましい。
容器には、圧力計、温度計等の計器類を設置してもよい。容器内で各成分を溶媒中に溶解する。調製したドープは冷却後容器から取り出すか、又は取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。
冷却溶解法により、溶液を調製することもできる。冷却溶解法では、通常の溶解方法では溶解させることが困難な有機溶媒中にも、変性セルロース誘導体を溶解させることができる。なお、通常の溶解方法で変性セルロース誘導体を溶解できる溶媒であっても、冷却溶解法を適用することにより、迅速で均一な溶液が得られる効果がある。
冷却溶解法により、溶液を調製することもできる。冷却溶解法では、通常の溶解方法では溶解させることが困難な有機溶媒中にも、変性セルロース誘導体を溶解させることができる。なお、通常の溶解方法で変性セルロース誘導体を溶解できる溶媒であっても、冷却溶解法を適用することにより、迅速で均一な溶液が得られる効果がある。
冷却溶解法では、最初に、室温で有機溶媒中に変性セルロース誘導体を撹拌しながら徐々に添加する。変性セルロース誘導体の量は、この混合物中に5〜40質量%の範囲内で含まれるように調整することが好ましい。変性セルロース誘導体の量は、10〜30質量%の範囲内であることがさらに好ましい。さらに、混合物中には前述の任意の添加剤を添加しておいてもよい。
次に、混合物を−100〜−10℃(好ましくは−80〜−10℃、さらに好ましくは−50〜−20℃、特に好ましくは−50〜−30℃)の範囲内で冷却する。
冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴(−75℃)や冷却したジエチレングリコール溶液(−30〜−20℃)中で実施できる。冷却により、変性セルロース誘導体と有機溶媒の混合物は固化する。
次に、混合物を−100〜−10℃(好ましくは−80〜−10℃、さらに好ましくは−50〜−20℃、特に好ましくは−50〜−30℃)の範囲内で冷却する。
冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴(−75℃)や冷却したジエチレングリコール溶液(−30〜−20℃)中で実施できる。冷却により、変性セルロース誘導体と有機溶媒の混合物は固化する。
冷却速度は、4℃/分以上であることが好ましく、8℃/分以上であることがさらに好ましく、12℃/分以上であることが特に好ましい。冷却速度は、速いほど好ましいが、10000℃/秒が理論的な上限であり、1000℃/秒が技術的な上限であり、そして100℃/秒が実用的な上限である。
なお、冷却速度は、冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を、冷却を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時間で割った値である。
冷却溶解法においては、冷却時の結露による水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが好ましい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、加温時に減圧すると、溶解時間を短縮することができる。加圧及び減圧を実施するためには、耐圧性容器を用いることが好ましい。
なお、冷却速度は、冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を、冷却を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時間で割った値である。
冷却溶解法においては、冷却時の結露による水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが好ましい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、加温時に減圧すると、溶解時間を短縮することができる。加圧及び減圧を実施するためには、耐圧性容器を用いることが好ましい。
さらに、これを0〜200℃(好ましくは0〜150℃、さらに好ましくは0〜120℃、より好ましくは0〜50℃)の範囲内に加温すると、有機溶媒中に変性セルロース誘導体が溶解する。昇温は、室温中に放置するだけでもよく、温浴中で加温してもよい。
加温速度は、4℃/分以上であることが好ましく、8℃/分以上であることがさらに好ましく、12℃/分以上であることがより好ましい。加温速度は、速いほど好ましいが、10000℃/秒が理論的な上限であり、1000℃/秒が技術的な上限であり、そして100℃/秒が実用的な上限である。なお、加温速度は、加温を開始する時の温度と最終的な加温温度との差を、加温を開始してから最終的な加温温度に達するまでの時間で割った値である。
加温速度は、4℃/分以上であることが好ましく、8℃/分以上であることがさらに好ましく、12℃/分以上であることがより好ましい。加温速度は、速いほど好ましいが、10000℃/秒が理論的な上限であり、1000℃/秒が技術的な上限であり、そして100℃/秒が実用的な上限である。なお、加温速度は、加温を開始する時の温度と最終的な加温温度との差を、加温を開始してから最終的な加温温度に達するまでの時間で割った値である。
以上のようにして、均一な溶液が得られる。なお、溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視により溶液の外観を観察するだけで判断することができる。
調製した芳香族カルバメート置換高分子及び芳香族化合物を含有する溶液(ドープ)から、ソルベントキャスト法により変性セルロース誘導体を有する光学フィルムを製造する。
調製した芳香族カルバメート置換高分子及び芳香族化合物を含有する溶液(ドープ)から、ソルベントキャスト法により変性セルロース誘導体を有する光学フィルムを製造する。
<溶液成膜法>
本発明の光学フィルムは、上述のように溶液成膜法によって製造することが好ましい態様である。
溶液成膜法では、本発明で規定する特性を満たす変性セルロース誘導体及び各種添加剤等を有機溶媒に加熱溶解させてドープを調製する工程、調製したドープをベルト状又はドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、剥離したウェブを延伸又は収縮する工程、さらに乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻き取る工程等が含まれる。
本発明の光学フィルムは、上述のように溶液成膜法によって製造することが好ましい態様である。
溶液成膜法では、本発明で規定する特性を満たす変性セルロース誘導体及び各種添加剤等を有機溶媒に加熱溶解させてドープを調製する工程、調製したドープをベルト状又はドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、剥離したウェブを延伸又は収縮する工程、さらに乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻き取る工程等が含まれる。
ドープは、ドラム又はバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が18〜35%の範囲内となるように濃度を調整することが好ましい。ドラム又はバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。
ドープは、表面温度が10℃以下のドラム又はバンド上に流延することが好ましい。
ドープは、表面温度が10℃以下のドラム又はバンド上に流延することが好ましい。
ソルベントキャスト法における乾燥方法については、米国特許第2336310号明細書、同第2367603号明細書、同第2492078号明細書、同第2492977号明細書、同第2492978号明細書、同第2607704号明細書、同第2739069号明細書及び同第2739070号明細書、英国特許第640731号明細書及び同第736892号明細書、特公昭45−4554号公報、同49−5614号公報、特開昭60−176834号公報、同60−203430号公報及び同62−115035号公報に記載がある。
ドラム又はバンド上での乾燥は、流延膜に対し空気又は窒素等の不活性ガスを送風することにより行うことができる。
ドラム又はバンド上での乾燥は、流延膜に対し空気又は窒素等の不活性ガスを送風することにより行うことができる。
調製したドープを用いて2層以上の流延を行いフィルム化することもできる。この場合、ソルベントキャスト法により変性セルロース誘導体のフィルムを作製することが好ましい。ドープは、ドラム又はバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。
流延前のドープは、固形分量が5〜40%の範囲内となるように濃度を調整することが好ましい。
ドラム又はバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。
流延前のドープは、固形分量が5〜40%の範囲内となるように濃度を調整することが好ましい。
ドラム又はバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。
<延伸工程>
本発明の光学フィルム(位相差フィルム)は、上記のとおり、光波長550nmで測定した面内位相差Ro550が120〜160nmの範囲内であることが好ましいが、上記のようにして成膜した光学フィルムを延伸することによって、その特性を付与することができる。
本発明に適用が可能な延伸方法は、特に限定されず、例えば、複数のローラーに周速差をつけ、その間で、複数のローラー間での周速差を利用して縦方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に従って広げて縦方向に延伸する方法、同様に横方向に広げて横方向に延伸する方法、又は縦横同時に広げて縦横両方向に延伸する方法を、単独又は組み合わせて採用することができる。
本発明の光学フィルム(位相差フィルム)は、上記のとおり、光波長550nmで測定した面内位相差Ro550が120〜160nmの範囲内であることが好ましいが、上記のようにして成膜した光学フィルムを延伸することによって、その特性を付与することができる。
本発明に適用が可能な延伸方法は、特に限定されず、例えば、複数のローラーに周速差をつけ、その間で、複数のローラー間での周速差を利用して縦方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に従って広げて縦方向に延伸する方法、同様に横方向に広げて横方向に延伸する方法、又は縦横同時に広げて縦横両方向に延伸する方法を、単独又は組み合わせて採用することができる。
すなわち、成膜方向に対して横方向に延伸しても、縦方向に延伸しても、両方向に延伸してもよく、さらに両方向に延伸する場合は同時延伸であっても、逐次延伸であってもよい。なお、いわゆるテンター方式の場合、リニアドライブ方式でクリップ部分を駆動すると滑らかな延伸が行うことができ、破断等の危険性が減少できるので好ましい。
延伸工程としては、通常、幅手方向(TD方向)に延伸し、搬送方向(MD方向)に収縮する場合が多いが、収縮させる際、斜め方向に搬送させると主鎖方向を合わせ易くなるため、位相差発現効果はさらに大きい。収縮率は搬送させる角度によって決めることができる。
延伸工程としては、通常、幅手方向(TD方向)に延伸し、搬送方向(MD方向)に収縮する場合が多いが、収縮させる際、斜め方向に搬送させると主鎖方向を合わせ易くなるため、位相差発現効果はさらに大きい。収縮率は搬送させる角度によって決めることができる。
図1は、斜め延伸における収縮倍率を説明する模式図である。
図1において、光学フィルムFを参照符号A2の方向に斜め延伸する際に、光学フィルムFは、斜め屈曲されることでM2に収縮する。すなわち、光学フィルムFを把持した把持具が屈曲角度θで屈曲せずにそのまま進行する場合、所定の時間で長さM1′だけ進行するはずである。しかしながら、実際には、屈曲角度θで屈曲し、M1(ただし、M1=M1′)だけ進行する。このとき、フィルムの入り方向(延伸方向(TD方向)A1と直交する方向)には、把持具はM2だけ進行しているため、光学フィルムFは、長さM3(ただし、M3=M1−M2)だけ収縮したこととなる。
このとき、収縮率(%)は、
収縮率(%)=(M1−M2)/M1×100で表される。屈曲角度をθとすると、
M2=M1×sin(π−θ)となり、収縮率は、
収縮率(%)=(1−sin(π−θ))×100で表される。
図1において、光学フィルムFを参照符号A2の方向に斜め延伸する際に、光学フィルムFは、斜め屈曲されることでM2に収縮する。すなわち、光学フィルムFを把持した把持具が屈曲角度θで屈曲せずにそのまま進行する場合、所定の時間で長さM1′だけ進行するはずである。しかしながら、実際には、屈曲角度θで屈曲し、M1(ただし、M1=M1′)だけ進行する。このとき、フィルムの入り方向(延伸方向(TD方向)A1と直交する方向)には、把持具はM2だけ進行しているため、光学フィルムFは、長さM3(ただし、M3=M1−M2)だけ収縮したこととなる。
このとき、収縮率(%)は、
収縮率(%)=(M1−M2)/M1×100で表される。屈曲角度をθとすると、
M2=M1×sin(π−θ)となり、収縮率は、
収縮率(%)=(1−sin(π−θ))×100で表される。
図1において、参照符号11は延伸方向(TD方向)であり、参照符号13は搬送方向(MD方向)であり、参照符号14は遅相軸を示している。
長尺円偏光板の生産性を考慮すると、本発明の光学フィルム(位相差フィルム)は、搬送方向に対する配向角が45±2°であることが、偏光フィルムとのロールtoロールでの貼合が可能となり好ましい。
長尺円偏光板の生産性を考慮すると、本発明の光学フィルム(位相差フィルム)は、搬送方向に対する配向角が45±2°であることが、偏光フィルムとのロールtoロールでの貼合が可能となり好ましい。
(斜め延伸装置による延伸)
次いで、45°の方向に延伸する斜め延伸方法について、さらに説明する。
本発明の光学フィルムの製造方法において、延伸にする光学フィルムに斜め方向の配向を付与する方法として、斜め延伸装置を用いることが好ましい。
本発明に適用可能な斜め延伸装置としては、レールパターンを多様に変化させることにより、フィルムの配向角を自在に設定でき、フィルムの配向軸をフィルム幅方向にわたって左右均等に高精度に配向させることができ、かつ、高精度でフィルム厚さやリターデーションを制御できるフィルム延伸装置であることが好ましい。
次いで、45°の方向に延伸する斜め延伸方法について、さらに説明する。
本発明の光学フィルムの製造方法において、延伸にする光学フィルムに斜め方向の配向を付与する方法として、斜め延伸装置を用いることが好ましい。
本発明に適用可能な斜め延伸装置としては、レールパターンを多様に変化させることにより、フィルムの配向角を自在に設定でき、フィルムの配向軸をフィルム幅方向にわたって左右均等に高精度に配向させることができ、かつ、高精度でフィルム厚さやリターデーションを制御できるフィルム延伸装置であることが好ましい。
図2は、本発明の光学フィルムの製造に適用可能な斜め延伸装置のレールパターンの一例を示した概略図である。なお、ここに示す図2は一例であって、本発明にて適用可能な延伸装置はこれに限定されるものではない。
一般的に、斜め延伸装置においては、図2に示されるように、長尺のフィルム原反の繰出方向D1は、延伸後の延伸フィルムの巻取方向D2と異なっており、繰出角度θiを成している。繰出し角度θiは、0°を超え90°未満の範囲で、所望の角度に任意に設定することができる。
なお、本明細書において、長尺とは、フィルムの幅に対し、少なくとも5倍程度以上の長さを有するものをいい、好ましくは10倍又はそれ以上の長さを有するものをいう。
一般的に、斜め延伸装置においては、図2に示されるように、長尺のフィルム原反の繰出方向D1は、延伸後の延伸フィルムの巻取方向D2と異なっており、繰出角度θiを成している。繰出し角度θiは、0°を超え90°未満の範囲で、所望の角度に任意に設定することができる。
なお、本明細書において、長尺とは、フィルムの幅に対し、少なくとも5倍程度以上の長さを有するものをいい、好ましくは10倍又はそれ以上の長さを有するものをいう。
長尺のフィルム原反は、斜め延伸装置入口(図中Aの位置)において、その両端を左右の把持具(テンター)によって把持され、把持具の走行に伴い走行される。左右の把持具は、斜め延伸装置入口(図中Aの位置)で、フィルムの進行方向(繰出方向D1)に対して略垂直な方向に相対している左右の把持具Ci、Coは、左右非対称なレールRi、Ro上を走行し、延伸終了時の位置(図中Bの位置)で、テンターで把持したフィルムを開放する。
このとき、斜め延伸装置入口(図中Aの位置)で相対していた左右の把持具は、左右非対称なレールRi、Ro上を走行するにつれて、Ri側を走行する把持具Ciは、Ro側を走行する把持具Coに対して進行する位置関係となる。
このとき、斜め延伸装置入口(図中Aの位置)で相対していた左右の把持具は、左右非対称なレールRi、Ro上を走行するにつれて、Ri側を走行する把持具Ciは、Ro側を走行する把持具Coに対して進行する位置関係となる。
すなわち、斜め延伸装置入口(フィルムの把持具による把持開始位置)Aで、フィルムの繰出方向D1に対してほぼ垂直な方向に相対していた把持具Ci、Coが、フィルムの延伸終了時の位置Bにある状態で、該把持具Ci、Coを結んだ直線がフィルムの巻取方向D2に対してほぼ垂直な方向に対して角度θLだけ傾斜している。
以上の方法に従って、フィルム原反が斜め延伸されることとなる。ここでほぼ垂直とは、90±1°の範囲にあることを示す。
さらに詳しく説明すると、本発明の光学フィルムを製造する方法においては、上記で説明した斜め延伸可能なテンターを用いて斜め延伸を行うことが好ましい。
さらに詳しく説明すると、本発明の光学フィルムを製造する方法においては、上記で説明した斜め延伸可能なテンターを用いて斜め延伸を行うことが好ましい。
この延伸装置は、フィルム原反を、延伸可能な任意の温度に加熱し、斜め延伸する装置である。
この延伸装置は、加熱ゾーンと、フィルムを搬送するための把持具が走行する左右で一対のレールと、該レール上を走行する多数の把持具とを備えている。
延伸装置の入口部に順次供給されるフィルムの両端を、把持具で把持し、加熱ゾーン内にフィルムを導き、延伸装置の出口部で把持具からフィルムを開放する。把持具から開放されたフィルムは巻芯に巻き取られる。一対のレールは、それぞれ無端状の連続軌道を有し、延伸装置の出口部でフィルムの把持を開放した把持具は、外側を走行して順次入口部に戻されるようになっている。
この延伸装置は、加熱ゾーンと、フィルムを搬送するための把持具が走行する左右で一対のレールと、該レール上を走行する多数の把持具とを備えている。
延伸装置の入口部に順次供給されるフィルムの両端を、把持具で把持し、加熱ゾーン内にフィルムを導き、延伸装置の出口部で把持具からフィルムを開放する。把持具から開放されたフィルムは巻芯に巻き取られる。一対のレールは、それぞれ無端状の連続軌道を有し、延伸装置の出口部でフィルムの把持を開放した把持具は、外側を走行して順次入口部に戻されるようになっている。
なお、延伸装置のレールパターンは左右で非対称な形状となっており、製造すべき長尺延伸フィルムに与える配向角、延伸倍率等に応じて、そのレールパターンは手動で、又は自動で調整できるようになっている。
本発明で用いられる斜め延伸装置では、各レール部及びレール連結部の位置を自由に設定し、レールパターンを任意に変更できることが好ましい(図2中の○部は連結部の一例を示している)。
本発明で用いられる斜め延伸装置では、各レール部及びレール連結部の位置を自由に設定し、レールパターンを任意に変更できることが好ましい(図2中の○部は連結部の一例を示している)。
本発明において、延伸装置の把持具は、前後の把持具と一定間隔を保って、一定速度で走行する。把持具の走行速度は適宜選択できるが、通常、1〜100m/分の範囲内である。
左右一対の把持具の走行速度の差は、走行速度の通常1%以下、好ましくは0.5%以下、より好ましくは0.1%以下である。これは、延伸工程出口でフィルムの左右に進行速度差があると、延伸工程出口においてシワや寄りが発生するため、左右の把持具の速度差は、実質的に同速度であることが求められるためである。
一般的な延伸装置等では、チェーンを駆動するスプロケットの歯の周期、駆動モーターの周波数等に応じ、秒以下のオーダーで発生する速度ムラがあり、しばしば数%のムラを生ずるが、これらは本発明で述べる速度差には該当しない。
左右一対の把持具の走行速度の差は、走行速度の通常1%以下、好ましくは0.5%以下、より好ましくは0.1%以下である。これは、延伸工程出口でフィルムの左右に進行速度差があると、延伸工程出口においてシワや寄りが発生するため、左右の把持具の速度差は、実質的に同速度であることが求められるためである。
一般的な延伸装置等では、チェーンを駆動するスプロケットの歯の周期、駆動モーターの周波数等に応じ、秒以下のオーダーで発生する速度ムラがあり、しばしば数%のムラを生ずるが、これらは本発明で述べる速度差には該当しない。
本発明に適用可能な延伸装置において、特にフィルムの搬送が斜めになる箇所には、把持具の軌跡を規制するレールにしばしば大きい屈曲率が求められる。急激な屈曲による把持具同士の干渉、又は局所的な応力集中を避ける目的から、屈曲部では把持具の軌跡が曲線を描くようにすることが好ましい。
本発明において、長尺フィルム原反は斜め延伸装置入口(図中Aの位置)において、その両端を左右の把持具によって順次把持されて、把持具の走行に伴い走行される。斜め延伸装置入口(図中Aの位置)で、フィルム進行方向(繰出方向D1)に対してほぼ垂直な方向に相対している左右の把持具は、左右非対称なレール上を走行し、予熱ゾーン、延伸ゾーン、熱固定ゾーンを有する加熱ゾーンを通過する。
予熱ゾーンとは、加熱ゾーン入口部において、両端を把持した把持具の間隔が一定の間隔を保ったまま走行する区間をさす。
延伸ゾーンとは、両端を把持した把持具の間隔が開きだし、所定の間隔になるまでの区間をさす。延伸ゾーンでは、上記のような斜め延伸が行われるが、必要に応じて斜め延伸前後において縦方向又は横方向に延伸してもよい。斜め延伸の場合、屈曲時に遅相軸とは垂直の方向であるMD方向(進相軸方向)への収縮を伴う。
延伸ゾーンとは、両端を把持した把持具の間隔が開きだし、所定の間隔になるまでの区間をさす。延伸ゾーンでは、上記のような斜め延伸が行われるが、必要に応じて斜め延伸前後において縦方向又は横方向に延伸してもよい。斜め延伸の場合、屈曲時に遅相軸とは垂直の方向であるMD方向(進相軸方向)への収縮を伴う。
本発明の光学フィルムにおいて、延伸処理に続いて、収縮処理を施すことにより、マトリックス樹脂である変性セルロース誘導体の主鎖からずれた光学調整剤の配向を、延伸方向と垂直な方向(進相軸方向)に収縮させることにより、光学調整剤の配向状態を回転させ、光学調整剤の主軸をマトリックス樹脂である変性セルロース誘導体の主鎖に合わせることができる。その結果、紫外線領域280nmにおける進相軸方向の屈折率ny280を高めることが可能となり、可視光領域の順波長分散の傾きを急峻にすることができる。
熱固定ゾーンとは、延伸ゾーンより後の把持具の間隔が再び一定となる期間において、両端の把持具が互いに平行を保ったまま走行する区間をさす。熱固定ゾーンを通過した後に、ゾーン内の温度がフィルムを構成する熱可塑性樹脂のガラス転移温度Tg以下に設定される区間(冷却ゾーン)を通過してもよい。このとき、冷却によるフィルムの縮みを考慮して、あらかじめ対向する把持具間隔を狭めるようなレールパターンとしてもよい。
各ゾーンの温度は、熱可塑性樹脂のガラス転移温度Tgに対し、予熱ゾーンの温度はTg〜(Tg+30)℃の範囲内で、延伸ゾーンの温度はTg〜(Tg+30)℃の範囲内で、冷却ゾーンの温度は(Tg−30)℃〜Tgの範囲内で設定することが好ましい。
なお、幅方向の厚さムラを制御するために、延伸ゾーンにおいて幅方向に温度差をつけてもよい。延伸ゾーンにおいて幅方向に温度差をつけるには、温風を恒温室内に送り込むノズルの開度を幅方向で差をつけるように調整する方法や、ヒーターを幅方向に並べて加熱制御する等の公知の手法を用いることができる。
なお、幅方向の厚さムラを制御するために、延伸ゾーンにおいて幅方向に温度差をつけてもよい。延伸ゾーンにおいて幅方向に温度差をつけるには、温風を恒温室内に送り込むノズルの開度を幅方向で差をつけるように調整する方法や、ヒーターを幅方向に並べて加熱制御する等の公知の手法を用いることができる。
予熱ゾーン、延伸ゾーン、収縮ゾーン及び冷却ゾーンの長さは適宜選択でき、延伸ゾーンの長さに対して、予熱ゾーンの長さは通常100〜150%の範囲内であり、固定ゾーンの長さは通常50〜100%の範囲内である。
延伸工程における延伸倍率(W/Wo)は、好ましくは1.3〜3.0の範囲内であり、より好ましくは1.5〜2.8の範囲内である。延伸倍率がこの範囲にあると幅方向の厚さムラを小さくすることができる。
斜め延伸装置の延伸ゾーンにおいて、幅方向で延伸温度に差をつけると幅方向の厚さムラをさらに改善することが可能になる。なお、Woは延伸前のフィルムの幅、Wは延伸後のフィルムの幅を表す。
延伸工程における延伸倍率(W/Wo)は、好ましくは1.3〜3.0の範囲内であり、より好ましくは1.5〜2.8の範囲内である。延伸倍率がこの範囲にあると幅方向の厚さムラを小さくすることができる。
斜め延伸装置の延伸ゾーンにおいて、幅方向で延伸温度に差をつけると幅方向の厚さムラをさらに改善することが可能になる。なお、Woは延伸前のフィルムの幅、Wは延伸後のフィルムの幅を表す。
本発明において適用可能な斜め延伸方法としては、上記図2に示した方法のほかに、図3の(a)〜(c)、図4の(a)及び(b)に示す延伸方法を挙げることができる。
図3は、本発明に適用可能な製造方法の一例(長尺フィルム原反ローラーから繰り出してから斜め延伸する例)を示す概略図であり、一旦ロール状に巻き取られた長尺フィルム原反を繰り出して斜め延伸するパターンを示す。
図4は、本発明に適用可能な他の製造方法の一例(長尺フィルム原反を巻き取らずに連続的に斜め延伸する例)を示す概略図であり、長尺フィルム原反を巻き取ることなく連続的に斜め延伸工程を行うパターンを示す。
図3及び図4において、符号15は斜め延伸装置、符号16はフィルム繰り出し装置、符号17は搬送方向変更装置、符号18は巻取装置、符号19は成膜装置を示している。それぞれの図において、同じものを示す符号については省略している場合がある。
図3は、本発明に適用可能な製造方法の一例(長尺フィルム原反ローラーから繰り出してから斜め延伸する例)を示す概略図であり、一旦ロール状に巻き取られた長尺フィルム原反を繰り出して斜め延伸するパターンを示す。
図4は、本発明に適用可能な他の製造方法の一例(長尺フィルム原反を巻き取らずに連続的に斜め延伸する例)を示す概略図であり、長尺フィルム原反を巻き取ることなく連続的に斜め延伸工程を行うパターンを示す。
図3及び図4において、符号15は斜め延伸装置、符号16はフィルム繰り出し装置、符号17は搬送方向変更装置、符号18は巻取装置、符号19は成膜装置を示している。それぞれの図において、同じものを示す符号については省略している場合がある。
フィルム繰り出し装置16は、斜め延伸装置入口に対して所定角度でフィルムを送り出せるように、スライド及び旋回可能となっているか、スライド可能となっており搬送方向変更装置17により斜め延伸装置入口にフィルムを送り出せるようになっていることが好ましい。
図3の(a)〜(c)は、フィルム繰り出し装置16及び搬送方向変更装置17の配置をそれぞれ変更したパターンを示している。
図4の(a)及び(b)は、成膜装置19により成膜されたフィルムを直接斜め延伸装置15に繰り出すパターンを示している。
フィルム繰り出し装置16及び搬送方向変更装置17をこのような構成とすることにより、より製造装置全体の幅を狭くすることが可能となるほか、フィルムの送り出し位置及び角度を細かく制御することが可能となり、膜厚、光学値のバラツキが小さい長尺延伸フィルムを得ることが可能となる。また、フィルム繰り出し装置16及び搬送方向変更装置17を移動可能とすることにより、左右のクリップのフィルムへの噛込み不良を有効に防止することができる。
図3の(a)〜(c)は、フィルム繰り出し装置16及び搬送方向変更装置17の配置をそれぞれ変更したパターンを示している。
図4の(a)及び(b)は、成膜装置19により成膜されたフィルムを直接斜め延伸装置15に繰り出すパターンを示している。
フィルム繰り出し装置16及び搬送方向変更装置17をこのような構成とすることにより、より製造装置全体の幅を狭くすることが可能となるほか、フィルムの送り出し位置及び角度を細かく制御することが可能となり、膜厚、光学値のバラツキが小さい長尺延伸フィルムを得ることが可能となる。また、フィルム繰り出し装置16及び搬送方向変更装置17を移動可能とすることにより、左右のクリップのフィルムへの噛込み不良を有効に防止することができる。
巻取装置18は、斜め延伸装置出口に対して所定角度でフィルムを引き取れるように配置することにより、フィルムの引取り位置及び角度を細かく制御することが可能となり、膜厚、光学値のバラツキが小さい長尺延伸フィルムを得ることが可能となる。そのため、フィルムのシワの発生を有効に防止することができるとともに、フィルムの巻取性が向上するため、フィルムを長尺で巻き取ることが可能となる。
本発明において、延伸後のフィルムの引取り張力T(N/m)は、100N/m<T<300N/m、好ましくは150N/m<T<250N/mの範囲内で調整することである。
本発明において、延伸後のフィルムの引取り張力T(N/m)は、100N/m<T<300N/m、好ましくは150N/m<T<250N/mの範囲内で調整することである。
<溶融成膜法>
本発明の光学フィルム(λ/4位相差フィルム)は、上記説明した溶液成膜法のほかに、溶融成膜法によって成膜してもよい。
溶融成膜法は、変性セルロース誘導体及び可塑剤等の添加剤を含む組成物を、流動性を呈する温度まで加熱溶融し、その後、流動性の熱可塑性樹脂を含む溶融物として流延する成形方法である。
加熱溶融する成形法としては、例えば、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法等に分類することができる。これらの成形法の中では、機械的強度及び表面精度等の点から、溶融押出成形法が好ましい。
本発明の光学フィルム(λ/4位相差フィルム)は、上記説明した溶液成膜法のほかに、溶融成膜法によって成膜してもよい。
溶融成膜法は、変性セルロース誘導体及び可塑剤等の添加剤を含む組成物を、流動性を呈する温度まで加熱溶融し、その後、流動性の熱可塑性樹脂を含む溶融物として流延する成形方法である。
加熱溶融する成形法としては、例えば、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法等に分類することができる。これらの成形法の中では、機械的強度及び表面精度等の点から、溶融押出成形法が好ましい。
溶融押出成形法に用いる複数の原材料は、通常、あらかじめ混錬してペレット化しておくことが好ましい。
ペレット化は、公知の方法で行うことができ、例えば、乾燥高分子組成物や可塑剤、その他添加剤をフィーダーで押出機に供給し、一軸や二軸の押出機を用いて混錬し、ダイからストランド状に押し出し、水冷又は空冷し、カッティングすることで得ることができる。
添加剤は、押出機に供給する前に混合しておいてもよく、又はそれぞれ個別のフィーダーで供給してもよい。
なお、マット剤微粒子や酸化防止剤等の少量の添加剤は、均一に混合するため、事前に混合しておくことが好ましい。
ペレット化は、公知の方法で行うことができ、例えば、乾燥高分子組成物や可塑剤、その他添加剤をフィーダーで押出機に供給し、一軸や二軸の押出機を用いて混錬し、ダイからストランド状に押し出し、水冷又は空冷し、カッティングすることで得ることができる。
添加剤は、押出機に供給する前に混合しておいてもよく、又はそれぞれ個別のフィーダーで供給してもよい。
なお、マット剤微粒子や酸化防止剤等の少量の添加剤は、均一に混合するため、事前に混合しておくことが好ましい。
ペレット化に用いる押出機は、剪断力を抑え、樹脂が劣化(分子量低下、着色、ゲル生成等)しないように、ペレット化可能でなるべく低温で加工する方式が好ましい。例えば、二軸押出機の場合、深溝タイプのスクリューを用いて、同方向に回転させることが好ましい。混錬の均一性から、噛み合いタイプが好ましい。
以上のようにして得られたペレットを用いてフィルム成膜を行う。もちろん、ペレット化せず、原材料の粉末をそのままフィーダーに投入して押出機に供給し、加熱溶融した後、そのままフィルム成膜することも可能である。
上記ペレットを一軸や二軸タイプの押出機を用いて、押し出す際の溶融温度としては200〜300℃の範囲内とし、リーフディスクタイプのフィルター等で濾過して異物を除去した後、Tダイからフィルム状に流延し、冷却ローラーと弾性タッチローラーでフィルムをニップし、冷却ローラー上で固化させる。
供給ホッパーから押出機へ導入する際は、真空下又は減圧下や不活性ガス雰囲気下で行って、酸化分解等を防止することが好ましい。
上記ペレットを一軸や二軸タイプの押出機を用いて、押し出す際の溶融温度としては200〜300℃の範囲内とし、リーフディスクタイプのフィルター等で濾過して異物を除去した後、Tダイからフィルム状に流延し、冷却ローラーと弾性タッチローラーでフィルムをニップし、冷却ローラー上で固化させる。
供給ホッパーから押出機へ導入する際は、真空下又は減圧下や不活性ガス雰囲気下で行って、酸化分解等を防止することが好ましい。
押し出し流量は、ギヤポンプを導入する等して安定に行うことが好ましい。また、異物の除去に用いるフィルターは、ステンレス繊維焼結フィルターが好ましく用いられる。ステンレス繊維焼結フィルターは、ステンレス繊維体が複雑に絡み合った状態を作り出した上で圧縮し、接触箇所を焼結して一体化したもので、その繊維の太さと圧縮量により密度を変え、濾過精度を調整できる。
可塑剤や微粒子等の添加剤は、あらかじめ樹脂と混合しておいてもよいし、押出機の途中で練り込んでもよい。均一に添加するために、スタチックミキサー等の混合装置を用いることが好ましい。
可塑剤や微粒子等の添加剤は、あらかじめ樹脂と混合しておいてもよいし、押出機の途中で練り込んでもよい。均一に添加するために、スタチックミキサー等の混合装置を用いることが好ましい。
冷却ローラーと弾性タッチローラーでフィルムをニップする際のタッチローラー側のフィルム温度は、フィルムのTg〜(Tg+110)℃の範囲内とすることが好ましい。
このような目的で使用する弾性体表面を有する弾性タッチローラーとしては、公知の弾性タッチローラーを使用することができる。弾性タッチローラーは、挟圧回転体ともいい、市販されているものを用いることもできる。
冷却ローラーからフィルムを剥離する際は、張力を制御してフィルムの変形を防止することが好ましい。
このような目的で使用する弾性体表面を有する弾性タッチローラーとしては、公知の弾性タッチローラーを使用することができる。弾性タッチローラーは、挟圧回転体ともいい、市販されているものを用いることもできる。
冷却ローラーからフィルムを剥離する際は、張力を制御してフィルムの変形を防止することが好ましい。
上記のようにして得られたフィルムは、冷却ローラーに接する工程を通過した後、延伸操作により延伸及び収縮処理を施すことができる。
延伸及び収縮する方法は、上記のような公知のローラー延伸装置や斜め延伸装置等を好ましく用いることができる。延伸温度は、通常フィルムを構成する樹脂のTg〜(Tg+60)℃の温度範囲で行われることが好ましい。
延伸及び収縮する方法は、上記のような公知のローラー延伸装置や斜め延伸装置等を好ましく用いることができる。延伸温度は、通常フィルムを構成する樹脂のTg〜(Tg+60)℃の温度範囲で行われることが好ましい。
巻き取る前に、製品となる幅に端部をスリットして裁ち落とし、巻き取る際の貼り付きや擦り傷防止のために、ナール加工(エンボッシング加工)を両端に施してもよい。
ナール加工の方法は、凸凹のパターンを側面に有する金属リングを加熱や加圧により加工することができる。なお、フィルム両端部のクリップの把持部分は通常、フィルムが変形しており製品として使用できないので切除されて、再利用される。
ナール加工の方法は、凸凹のパターンを側面に有する金属リングを加熱や加圧により加工することができる。なお、フィルム両端部のクリップの把持部分は通常、フィルムが変形しており製品として使用できないので切除されて、再利用される。
本発明の光学フィルムは、遅相軸と、後述する偏光子の透過軸若しくは吸収軸との角度が実質的に45°になるように積層することにより、円偏光板とすることができる。
なお、本発明でいう「実質的に45°」とは、40〜50°の範囲内であることをいう。
上記した本発明の光学フィルムの面内の遅相軸と偏光子の透過軸若しくは吸収軸との角度とは、41〜49°の範囲内であることが好ましく、42〜48°の範囲内であることがより好ましく、43〜47°の範囲内であることがさらに好ましく、44〜46°の範囲内であることが特に好ましい。
なお、本発明でいう「実質的に45°」とは、40〜50°の範囲内であることをいう。
上記した本発明の光学フィルムの面内の遅相軸と偏光子の透過軸若しくは吸収軸との角度とは、41〜49°の範囲内であることが好ましく、42〜48°の範囲内であることがより好ましく、43〜47°の範囲内であることがさらに好ましく、44〜46°の範囲内であることが特に好ましい。
[円偏光板]
本発明の円偏光板は、長尺状の保護フィルム、長尺状の偏光子及び長尺状の本発明の光学フィルム(λ/4位相差フィルム)をこの順に有する長尺ロールを断裁して作製されることが好ましい。
本発明の円偏光板は、本発明の光学フィルムを用いて作製され、特に、λ/4位相差フィルムを用いて作製されることが好ましいため、後述する表示装置等に適用することにより、可視光の全波長において、有機EL素子の金属電極の鏡面反射を遮蔽する効果を発現し得ることができる。その結果、観察時の映り込みを防止することができるとともに、黒色表現を向上させることができる。
本発明の円偏光板は、長尺状の保護フィルム、長尺状の偏光子及び長尺状の本発明の光学フィルム(λ/4位相差フィルム)をこの順に有する長尺ロールを断裁して作製されることが好ましい。
本発明の円偏光板は、本発明の光学フィルムを用いて作製され、特に、λ/4位相差フィルムを用いて作製されることが好ましいため、後述する表示装置等に適用することにより、可視光の全波長において、有機EL素子の金属電極の鏡面反射を遮蔽する効果を発現し得ることができる。その結果、観察時の映り込みを防止することができるとともに、黒色表現を向上させることができる。
また、本発明の円偏光板は、紫外線吸収機能を備えていることが好ましい。
視認側の保護フィルムが紫外線吸収機能を備えていると、偏光子と有機EL素子の両方を紫外線に対する保護効果を発現できる観点から好ましい。
さらに、発光体側の位相差フィルムも紫外線吸収機能を備えていると、有機EL素子を具備する表示装置に用いた場合に、より有機EL素子の劣化を抑制し得る。
視認側の保護フィルムが紫外線吸収機能を備えていると、偏光子と有機EL素子の両方を紫外線に対する保護効果を発現できる観点から好ましい。
さらに、発光体側の位相差フィルムも紫外線吸収機能を備えていると、有機EL素子を具備する表示装置に用いた場合に、より有機EL素子の劣化を抑制し得る。
また、本発明の円偏光板は、遅相軸の角度(すなわち配向角θ)を長手方向に対して「実質的に45°」となるように調整した本発明の光学フィルム(λ/4位相差フィルム)を用いることで、一貫した製造ラインにより接着剤層の形成及び偏光子と位相差フィルムとの貼り合わせが可能となる。
具体的には、偏光膜を延伸して偏光子を作製する工程を終えた後、続いて行われる乾燥工程中又は乾燥工程後に、偏光子と位相差フィルムを貼合する工程を組み込むことでき、それぞれを連続的に供給することができ、かつ、貼合後もロール状態で巻き取ることにより、次工程に一貫した製造ラインでつなげることができる。
具体的には、偏光膜を延伸して偏光子を作製する工程を終えた後、続いて行われる乾燥工程中又は乾燥工程後に、偏光子と位相差フィルムを貼合する工程を組み込むことでき、それぞれを連続的に供給することができ、かつ、貼合後もロール状態で巻き取ることにより、次工程に一貫した製造ラインでつなげることができる。
なお、偏光子と位相差フィルムを貼合する際に、同時に保護フィルムもロール状態で供給し、連続的に貼合することもできる。性能及び生産効率の観点からは、偏光子に位相差フィルムと保護フィルムとを同時に貼合する方が好ましい。すなわち、偏光膜を延伸して偏光子を作製する工程を終えた後、続いて行われる乾燥工程中又は乾燥工程後に、両側の面にそれぞれ保護フィルムと位相差フィルムを接着剤により貼合し、ロール状態の円偏光板を得ることも可能である。
本発明の円偏光板は、偏光子を本発明の光学フィルム(λ/4位相差フィルム)と保護フィルムによって挟持されることが好ましく、該保護フィルムの視認側に硬化層が積層されることが好ましい。
当該円偏光板は、液晶表示装置や有機EL画像表示装置に具備することができるが、有機EL画像表示装置に適用することにより、有機EL発光体の金属電極の鏡面反射を遮蔽する効果を発現する。
本発明の円偏光板は、偏光子を本発明の光学フィルム(λ/4位相差フィルム)と保護フィルムによって挟持されることが好ましく、該保護フィルムの視認側に硬化層が積層されることが好ましい。
当該円偏光板は、液晶表示装置や有機EL画像表示装置に具備することができるが、有機EL画像表示装置に適用することにより、有機EL発光体の金属電極の鏡面反射を遮蔽する効果を発現する。
〈保護フィルム〉
当該円偏光板は、偏光子を本発明の光学フィルムと保護フィルムとによって挟持されることが好ましい。
このような保護フィルムとしては、他のセルロースエステル含有フィルムが好適に用いられ、例えば、市販のセルロースエステルフィルム(例えば、コニカミノルタタックKC8UX、KC5UX、KC4UX、KC8UCR3、KC4SR、KC4BR、KC4CR、KC4DR、KC4FR、KC4KR、KC8UY、KC6UY、KC4UY、KC4UE、KC8UE、KC8UY−HA、KC2UA、KC4UA、KC6UAKC、2UAH、KC4UAH、KC6UAH、以上コニカミノルタ(株)製、フジタックT40UZ、フジタックT60UZ、フジタックT80UZ、フジタックTD80UL、フジタックTD60UL、フジタックTD40UL、フジタックR02、フジタックR06、以上富士フイルム(株)製)が好ましく用いられる。
保護フィルムの厚さは、特に制限されないが、10〜200μm程度とすることができ、好ましくは10〜100μmの範囲内であり、より好ましくは10〜70μmの範囲内である。
当該円偏光板は、偏光子を本発明の光学フィルムと保護フィルムとによって挟持されることが好ましい。
このような保護フィルムとしては、他のセルロースエステル含有フィルムが好適に用いられ、例えば、市販のセルロースエステルフィルム(例えば、コニカミノルタタックKC8UX、KC5UX、KC4UX、KC8UCR3、KC4SR、KC4BR、KC4CR、KC4DR、KC4FR、KC4KR、KC8UY、KC6UY、KC4UY、KC4UE、KC8UE、KC8UY−HA、KC2UA、KC4UA、KC6UAKC、2UAH、KC4UAH、KC6UAH、以上コニカミノルタ(株)製、フジタックT40UZ、フジタックT60UZ、フジタックT80UZ、フジタックTD80UL、フジタックTD60UL、フジタックTD40UL、フジタックR02、フジタックR06、以上富士フイルム(株)製)が好ましく用いられる。
保護フィルムの厚さは、特に制限されないが、10〜200μm程度とすることができ、好ましくは10〜100μmの範囲内であり、より好ましくは10〜70μmの範囲内である。
(偏光子)
偏光子は、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、その例には、ポリビニルアルコール系偏光フィルムが含まれる。
ポリビニルアルコール系偏光フィルムには、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと、二色性染料を染色させたものとがある。
偏光子は、ポリビニルアルコールフィルムを一軸延伸した後、染色するか又はポリビニルアルコールフィルムを染色した後、一軸延伸して、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理をさらに行って得ることができる。
偏光子の膜厚は、5〜30μmの範囲内が好ましく、5〜15μmの範囲内であることがより好ましい。
偏光子は、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、その例には、ポリビニルアルコール系偏光フィルムが含まれる。
ポリビニルアルコール系偏光フィルムには、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと、二色性染料を染色させたものとがある。
偏光子は、ポリビニルアルコールフィルムを一軸延伸した後、染色するか又はポリビニルアルコールフィルムを染色した後、一軸延伸して、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理をさらに行って得ることができる。
偏光子の膜厚は、5〜30μmの範囲内が好ましく、5〜15μmの範囲内であることがより好ましい。
ポリビニルアルコールフィルムとしては、特開2003−248123号公報、特開2003−342322号公報等に記載のエチレン単位の含有量1〜4モル%、重合度2000〜4000、ケン化度99.0〜99.99モル%のエチレン変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。また、特開2011−100161号公報、特許第4691205号公報、特許第4804589号公報に記載の方法で、偏光子を作製し本発明の光学フィルムと貼り合わせて偏光板を作製することが好ましい。
〈接着剤〉
本発明の光学フィルムと偏光子との貼り合わせは、特に限定はないが、当該光学フィルムをケン化処理した後、完全ケン化型のポリビニルアルコール系接着剤を用いて行うことができる。
また、活性光線硬化性接着剤等を用いて貼り合わせることもできるが、得られる接着剤層の弾性率が高く、偏光板の変形を抑制しやすい点等から、光硬化性接着剤を用いる貼り合わせであることが好ましい。
本発明の光学フィルムと偏光子との貼り合わせは、特に限定はないが、当該光学フィルムをケン化処理した後、完全ケン化型のポリビニルアルコール系接着剤を用いて行うことができる。
また、活性光線硬化性接着剤等を用いて貼り合わせることもできるが、得られる接着剤層の弾性率が高く、偏光板の変形を抑制しやすい点等から、光硬化性接着剤を用いる貼り合わせであることが好ましい。
光硬化性接着剤の好ましい例としては、特開2011−028234号公報に開示されているような、(α)カチオン重合性化合物、(β)光カチオン重合開始剤、(γ)380nmより長い波長の光に極大吸収を示す光増感剤、及び(δ)ナフタレン系光増感助剤の各成分を含有する光硬化性接着剤組成物が挙げられる。ただし、これ以外の光硬化性接着剤が用いられてもよい。
[偏光板の製造方法]
以下、光硬化性接着剤を用いた偏光板の製造方法の一例を説明する。
偏光板は、(1)光学フィルムの偏光子を接着する面を易接着処理する前処理工程、(2)偏光子と光学フィルムとの接着面のうち少なくとも一方に、下記の光硬化性接着剤を塗布する接着剤塗布工程、(3)得られた接着剤層を介して偏光子と光学フィルムとを貼り合わせる貼合工程、及び(4)接着剤層を介して偏光子と光学フィルムとが貼り合わされた状態で接着剤層を硬化させる硬化工程、を含む製造方法によって製造することができる。(1)の前処理工程は、必要に応じて実施すればよい。
以下、光硬化性接着剤を用いた偏光板の製造方法の一例を説明する。
偏光板は、(1)光学フィルムの偏光子を接着する面を易接着処理する前処理工程、(2)偏光子と光学フィルムとの接着面のうち少なくとも一方に、下記の光硬化性接着剤を塗布する接着剤塗布工程、(3)得られた接着剤層を介して偏光子と光学フィルムとを貼り合わせる貼合工程、及び(4)接着剤層を介して偏光子と光学フィルムとが貼り合わされた状態で接着剤層を硬化させる硬化工程、を含む製造方法によって製造することができる。(1)の前処理工程は、必要に応じて実施すればよい。
<前処理工程>
前処理工程では、光学フィルムの、偏光子との接着面に易接着処理を行う。
偏光子の両面にそれぞれ光学フィルムを接着させる場合は、それぞれの光学フィルムの、偏光子との接着面に易接着処理を行う。
易接着処理としては、コロナ処理、プラズマ処理等が挙げられる。
前処理工程では、光学フィルムの、偏光子との接着面に易接着処理を行う。
偏光子の両面にそれぞれ光学フィルムを接着させる場合は、それぞれの光学フィルムの、偏光子との接着面に易接着処理を行う。
易接着処理としては、コロナ処理、プラズマ処理等が挙げられる。
<接着剤塗布工程>
接着剤塗布工程では、偏光子と光学フィルムとの接着面のうち少なくとも一方に、上記光硬化性接着剤を塗布する。
偏光子又は光学フィルムの表面に直接光硬化性接着剤を塗布する場合、その塗布方法に特別な限定はない。例えば、ドクターブレード、ワイヤーバー、ダイコーター、カンマコーター、グラビアコーター等、種々の塗工方式が利用できる。
また、偏光子と光学フィルムの間に、光硬化性接着剤を流延させた後、ローラー等で加圧して均一に押し広げる方法も利用できる。
接着剤塗布工程では、偏光子と光学フィルムとの接着面のうち少なくとも一方に、上記光硬化性接着剤を塗布する。
偏光子又は光学フィルムの表面に直接光硬化性接着剤を塗布する場合、その塗布方法に特別な限定はない。例えば、ドクターブレード、ワイヤーバー、ダイコーター、カンマコーター、グラビアコーター等、種々の塗工方式が利用できる。
また、偏光子と光学フィルムの間に、光硬化性接着剤を流延させた後、ローラー等で加圧して均一に押し広げる方法も利用できる。
<貼合工程>
こうして光硬化性接着剤を塗布した後、貼合工程に供される。
この貼合工程では、例えば、先の塗布工程で偏光子の表面に光硬化性接着剤を塗布した場合、そこに光学フィルムが重ね合わされる。先の塗布工程で光学フィルムの表面に光硬化性接着剤を塗布した場合は、そこに偏光子が重ね合わされる。
また、偏光子と光学フィルムの間に光硬化性接着剤を流延させた場合は、その状態で偏光子と光学フィルムとが重ね合わされる。偏光子の両面に光学フィルムを接着する場合であって、両面とも光硬化性接着剤を用いる場合は、偏光子の両面にそれぞれ、光硬化性接着剤を介して光学フィルムが重ね合わされる。そして、通常は、この状態で両面(偏光子の片面に光学フィルムを重ね合わせた場合は、偏光子側と光学フィルム側、また偏光子の両面に光学フィルムを重ね合わせた場合は、その両面の光学フィルム側)からロール等で挟んで加圧することになる。
ロールの材質は、金属やゴム等を用いることが可能である。両面に配置されるローラーは、同じ材質であってもよいし、異なる材質であってもよい。
こうして光硬化性接着剤を塗布した後、貼合工程に供される。
この貼合工程では、例えば、先の塗布工程で偏光子の表面に光硬化性接着剤を塗布した場合、そこに光学フィルムが重ね合わされる。先の塗布工程で光学フィルムの表面に光硬化性接着剤を塗布した場合は、そこに偏光子が重ね合わされる。
また、偏光子と光学フィルムの間に光硬化性接着剤を流延させた場合は、その状態で偏光子と光学フィルムとが重ね合わされる。偏光子の両面に光学フィルムを接着する場合であって、両面とも光硬化性接着剤を用いる場合は、偏光子の両面にそれぞれ、光硬化性接着剤を介して光学フィルムが重ね合わされる。そして、通常は、この状態で両面(偏光子の片面に光学フィルムを重ね合わせた場合は、偏光子側と光学フィルム側、また偏光子の両面に光学フィルムを重ね合わせた場合は、その両面の光学フィルム側)からロール等で挟んで加圧することになる。
ロールの材質は、金属やゴム等を用いることが可能である。両面に配置されるローラーは、同じ材質であってもよいし、異なる材質であってもよい。
<硬化工程>
硬化工程では、未硬化の光硬化性接着剤に活性エネルギー線を照射して、エポキシ化合物やオキセタン化合物を含む接着剤層を硬化させる。それにより、光硬化性接着剤を介して重ね合わせた偏光子と光学フィルムとを接着させる。
偏光子の片面に光学フィルムを貼合する場合、活性エネルギー線は、偏光子側又は光学フィルム側のいずれから照射してもよい。
また、偏光子の両面に光学フィルムを貼合する場合、偏光子の両面にそれぞれ光硬化性接着剤を介して光学フィルムを重ね合わせた状態で、いずれか一方の光学フィルム側から活性エネルギー線を照射し、両面の光硬化性接着剤を同時に硬化させるのが有利である。
活性エネルギー線としては、可視光線、紫外線、X線、電子線等を用いることができ、取扱いが容易で硬化速度も十分であることから、一般的には、電子線又は紫外線が好ましく用いられる。
硬化工程では、未硬化の光硬化性接着剤に活性エネルギー線を照射して、エポキシ化合物やオキセタン化合物を含む接着剤層を硬化させる。それにより、光硬化性接着剤を介して重ね合わせた偏光子と光学フィルムとを接着させる。
偏光子の片面に光学フィルムを貼合する場合、活性エネルギー線は、偏光子側又は光学フィルム側のいずれから照射してもよい。
また、偏光子の両面に光学フィルムを貼合する場合、偏光子の両面にそれぞれ光硬化性接着剤を介して光学フィルムを重ね合わせた状態で、いずれか一方の光学フィルム側から活性エネルギー線を照射し、両面の光硬化性接着剤を同時に硬化させるのが有利である。
活性エネルギー線としては、可視光線、紫外線、X線、電子線等を用いることができ、取扱いが容易で硬化速度も十分であることから、一般的には、電子線又は紫外線が好ましく用いられる。
電子線の照射条件は、前記接着剤を硬化しうる条件であれば、任意の適切な条件を採用できる。例えば、電子線照射は、加速電圧が好ましくは5〜300kVの範囲内であり、さらに好ましくは10〜250kVの範囲内である。加速電圧が上記範囲内であれば、電子線が接着剤まで届き、確実に硬化させることができ、また、試料を通る浸透力が強すぎて電子線が跳ね返り、透明光学フィルムや偏光子にダメージを与えるおそれもない。
照射線量としては、5〜100kGyの範囲内、さらに好ましくは10〜75kGyの範囲内である。照射線量が上記範囲内であれば、接着剤が十分に硬化し、また、透明光学フィルムや偏光子にダメージを与えることなく、機械的強度の低下や黄変を防止し、所定の光学特性を得ることができる。
照射線量としては、5〜100kGyの範囲内、さらに好ましくは10〜75kGyの範囲内である。照射線量が上記範囲内であれば、接着剤が十分に硬化し、また、透明光学フィルムや偏光子にダメージを与えることなく、機械的強度の低下や黄変を防止し、所定の光学特性を得ることができる。
紫外線の照射条件は、前記接着剤を硬化しうる条件であれば、任意の適切な条件を採用できる。紫外線の照射量は積算光量で50〜1500mJ/cm2の範囲内であることが好ましく、100〜500mJ/cm2の範囲内であるのがさらに好ましい。
以上のようにして得られた偏光板において、接着剤層の厚さは、特に限定されないが、通常0.01〜10μmの範囲内であり、好ましくは0.5〜5μmの範囲内である。
以上のようにして得られた偏光板において、接着剤層の厚さは、特に限定されないが、通常0.01〜10μmの範囲内であり、好ましくは0.5〜5μmの範囲内である。
[表示装置]
本発明の表示装置は、本発明の光学フィルムを具備して作製される。
また、本発明の表示装置は、本発明の位相差フィルムを用いた円偏光板と、有機EL素子とを備えることが好ましい。本発明の位相差フィルムを用いることで、観察する際の映り込みを防止することができ、黒色表現が向上した有機EL表示装置を得ることができるためである。
表示装置の画面サイズは、特に限定されず、20インチ以上とすることができる。
図5は、本発明の表示装置が有機EL素子を備える場合の構成の概略的な説明図である。本発明の表示装置の構成は、図5に示されるものに何ら限定されるものではない。
本発明の表示装置は、本発明の光学フィルムを具備して作製される。
また、本発明の表示装置は、本発明の位相差フィルムを用いた円偏光板と、有機EL素子とを備えることが好ましい。本発明の位相差フィルムを用いることで、観察する際の映り込みを防止することができ、黒色表現が向上した有機EL表示装置を得ることができるためである。
表示装置の画面サイズは、特に限定されず、20インチ以上とすることができる。
図5は、本発明の表示装置が有機EL素子を備える場合の構成の概略的な説明図である。本発明の表示装置の構成は、図5に示されるものに何ら限定されるものではない。
図5に示されるように、ガラスやポリイミド等を用いた透明基板101上に、順に金属電極102、TFT103、有機発光層104、透明電極(ITO等)105、絶縁層106、封止層107、フィルム108(省略可)を有する有機EL素子B上に、偏光子110をλ/4位相差フィルム109と保護フィルム111によって挟持した長尺円偏光板Cを設けて、表示装置Aを構成する。
保護フィルム111には、硬化層112が積層されていることが好ましい。
硬化層112は、表示装置の表面のキズを防止するだけではなく、長尺円偏光板による反りを防止する効果を有する。
さらに、硬化層上には、反射防止層113を有していてもよい。
上記有機EL素子自体の厚さは、1μm程度である。
硬化層112は、表示装置の表面のキズを防止するだけではなく、長尺円偏光板による反りを防止する効果を有する。
さらに、硬化層上には、反射防止層113を有していてもよい。
上記有機EL素子自体の厚さは、1μm程度である。
一般に、有機EL素子を具備する表示装置は、透明基板上に金属電極と有機発光層と透明電極とを順に積層して発光体である素子(有機EL素子)を形成している。
ここで、有機発光層は、種々の有機薄膜の積層体であり、例えば、トリフェニルアミン誘導体等からなる正孔注入層と、アントラセン等の蛍光性の有機固体からなる発光層との積層体や、このような発光層とペリレン誘導体等からなる電子注入層の積層体や、これらの正孔注入層、発光層、及び電子注入層の積層体等、種々の組み合わせを持った構成が知られている。
ここで、有機発光層は、種々の有機薄膜の積層体であり、例えば、トリフェニルアミン誘導体等からなる正孔注入層と、アントラセン等の蛍光性の有機固体からなる発光層との積層体や、このような発光層とペリレン誘導体等からなる電子注入層の積層体や、これらの正孔注入層、発光層、及び電子注入層の積層体等、種々の組み合わせを持った構成が知られている。
表示装置は、透明電極と金属電極とに電圧を印加することによって、有機発光層に正孔と電子と注入され、これら正孔と電子との再結合によって生じるエネルギーが蛍光物質を励起し、励起された蛍光物質が基底状態に戻るときに光を放射する、という原理で発光する。途中の再結合というメカニズムは、一般のダイオードと同様であり、このことからも予想できるように、電流と発光強度は印加電圧に対して整流性を伴う強い非線形性を示す。
表示装置においては、有機発光層での発光を取り出すために、少なくとも一方の電極が透明であることが必要であり、通常、酸化インジウムスズ(ITO)等の透明導電体で形成した透明電極を陽極として用いていることが好ましい。
一方、電子注入を容易にして発光効率を上げるには、陰極に仕事関数の小さな物質を用いることが重要で、通常Mg−Ag、Al−Li等の金属電極を用いている。
一方、電子注入を容易にして発光効率を上げるには、陰極に仕事関数の小さな物質を用いることが重要で、通常Mg−Ag、Al−Li等の金属電極を用いている。
上記した位相差フィルムを有する円偏光板は、画面サイズが20インチ以上、すなわち対角線距離が、50.8cm以上の大型画面からなる表示装置に適用することができる。
このような構成の表示装置において、有機発光層は、厚さ10nm程度と極めて薄い膜で形成されている。そのため、有機発光層も透明電極と同様、光をほぼ完全に透過する。その結果、非発光時に透明基板の表面から入射し、透明電極と有機発光層とを透過して金属電極で反射した光が、再び透明基板の表面側へと出るため、外部から視認したとき、表示装置の表示面が鏡面のように見える。
このような構成の表示装置において、有機発光層は、厚さ10nm程度と極めて薄い膜で形成されている。そのため、有機発光層も透明電極と同様、光をほぼ完全に透過する。その結果、非発光時に透明基板の表面から入射し、透明電極と有機発光層とを透過して金属電極で反射した光が、再び透明基板の表面側へと出るため、外部から視認したとき、表示装置の表示面が鏡面のように見える。
電圧の印加によって発光する有機発光層の表面側に透明電極を備えるとともに、有機発光層の裏面側に金属電極を備えてなる有機EL素子を含む表示装置において、透明電極の表面側(視認側)に偏光板を設けるとともに、これら透明電極と偏光板との間に位相差板を設けることができる。
位相差フィルム及び偏光板は、外部から入射して金属電極で反射してきた光を偏光する作用を有するため、その偏光作用によって金属電極の鏡面を外部から視認させないという効果がある。
特に、位相差フィルムをλ/4位相差フィルムで構成し、かつ偏光子と位相差フィルムとの偏光方向のなす角を45°又は135°に調整すれば、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。
位相差フィルム及び偏光板は、外部から入射して金属電極で反射してきた光を偏光する作用を有するため、その偏光作用によって金属電極の鏡面を外部から視認させないという効果がある。
特に、位相差フィルムをλ/4位相差フィルムで構成し、かつ偏光子と位相差フィルムとの偏光方向のなす角を45°又は135°に調整すれば、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。
すなわち、この表示装置に入射する外部光は、偏光子により直線偏光成分のみが透過し、この直線偏光は位相差板により一般に楕円偏光となるが、特に位相差フィルムがλ/4位相差フィルムでしかも偏光子と位相差フィルムとの偏光方向のなす角が45°又は135°のときには円偏光となる。
この円偏光は、透明基板、透明電極、有機薄膜を透過し、金属電極で反射して、再び有機薄膜、透明電極、透明基板を透過して、位相差フィルムに再び直線偏光となる。そして、この直線偏光は、偏光板の偏光方向と直交しているので、偏光板を透過できない。その結果、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。
この円偏光は、透明基板、透明電極、有機薄膜を透過し、金属電極で反射して、再び有機薄膜、透明電極、透明基板を透過して、位相差フィルムに再び直線偏光となる。そして、この直線偏光は、偏光板の偏光方向と直交しているので、偏光板を透過できない。その結果、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量%」を表す。また、以下に示す置換度は、いずれも平均値を表す。
《実施例1:変性セルロース誘導体の合成と精製》
本発明の変性セルロース誘導体の原料(一般式(1)で表される構造を有する化合物)とその置換度及び分子量を表1に示す。原料である一般式(1)で表される構造を有する化合物は市販の製品であり、組成を表1に示した。また、一般式(1)で表される構造を有する化合物と前記化合物群から選ばれる化合物(以下、「反応化合物」ともいう。)、反応後であって未精製の変性セルロース誘導体(A−1〜A−50)の変性置換基とその置換度を表2−1及び表2−2に示す。
本発明の変性セルロース誘導体の原料(一般式(1)で表される構造を有する化合物)とその置換度及び分子量を表1に示す。原料である一般式(1)で表される構造を有する化合物は市販の製品であり、組成を表1に示した。また、一般式(1)で表される構造を有する化合物と前記化合物群から選ばれる化合物(以下、「反応化合物」ともいう。)、反応後であって未精製の変性セルロース誘導体(A−1〜A−50)の変性置換基とその置換度を表2−1及び表2−2に示す。
本発明の変性セルロース誘導体の合成例及び精製方法の一例として合成例1〜8を示す。一方、比較例の変性セルロース誘導体の合成例及び精製方法の一例として比較例1及び2を示す。
〔合成例1:変性セルロース誘導体P−1の合成〕(精製方法I)
冷却管、窒素導入管、撹拌機及び温度計を備えた500mLの四つ口フラスコに、60℃で12時間真空乾燥したセルロースアセテート(M−1)50.0gを入れ、N−メチルピロリドン300mLを加えた。反応溶液を25℃まで放冷した後に、窒素を導入し、フェニルイソシアネート(東京化成工業製)6.3gとN−メチルピロリドン10mLの溶液を滴下ロートから30分間かけて滴下した。
冷却管、窒素導入管、撹拌機及び温度計を備えた500mLの四つ口フラスコに、60℃で12時間真空乾燥したセルロースアセテート(M−1)50.0gを入れ、N−メチルピロリドン300mLを加えた。反応溶液を25℃まで放冷した後に、窒素を導入し、フェニルイソシアネート(東京化成工業製)6.3gとN−メチルピロリドン10mLの溶液を滴下ロートから30分間かけて滴下した。
次に、撹拌しながら120℃に昇温した後、4時間反応させた。その後、25℃まで放冷した後、反応液に、2−プロパノール300mLを入れ、かき混ぜた。溶液を50℃まで加熱し、水100mLを滴下し、1時間かき混ぜた。30℃まで放冷し、水50mLを滴下し、更に1時間かき混ぜて、固体を生成させた。溶液を室温まで放冷した後に、固体を濾別し、メタノール50mLで洗浄し、60℃で8時間真空乾燥することによって、49.0gの変性セルロース誘導体P−1を得た。
〔合成例2:変性セルロース誘導体P−10の合成〕(精製方法I)
冷却管、窒素導入管、撹拌機及び温度計を備えた500mLの四つ口フラスコに、60℃で12時間真空乾燥したセルロースアセテート(M−1)50.0gを入れ、ジメチルイミダゾリジノン250mLを加えた。反応溶液を25℃まで放冷した後に、窒素を導入し、フェニルイソシアネート(東京化成工業製)5.2gとジメチルイミダゾリジノン5mLの溶液を滴下ロートから30分間かけて滴下した。
冷却管、窒素導入管、撹拌機及び温度計を備えた500mLの四つ口フラスコに、60℃で12時間真空乾燥したセルロースアセテート(M−1)50.0gを入れ、ジメチルイミダゾリジノン250mLを加えた。反応溶液を25℃まで放冷した後に、窒素を導入し、フェニルイソシアネート(東京化成工業製)5.2gとジメチルイミダゾリジノン5mLの溶液を滴下ロートから30分間かけて滴下した。
次に、撹拌しながら120℃に昇温した後、5時間反応させた。その後、25℃まで放冷した後、反応液に、2−プロパノール300mLを入れ、かき混ぜた。溶液を50℃まで加熱し、水100mLを滴下し、1時間かき混ぜた。溶液を35℃まで放冷して、水50mLを滴下し、1時間かき混ぜて、固体を生成させた。固体を濾別し、メタノール50mLで洗浄し、60℃で8時間真空乾燥することによって、47.5gの変性セルロース誘導体P−10を得た。
〔合成例3:変性セルロース誘導体P−22の合成〕(精製方法I)
冷却管、窒素導入管、撹拌機及び温度計を備えた500mLの四つ口フラスコに、60℃で12時間真空乾燥したセルロースアセテート(M−2)50.0gを入れ、N−メチルピロリドン250mLを加えた。反応溶液を25℃まで放冷した後に、窒素を導入し、フェニルイソシアネート(東京化成工業製)7.0gとN−メチルピロリドン8mLの溶液を滴下ロートから30分間かけて滴下した。
冷却管、窒素導入管、撹拌機及び温度計を備えた500mLの四つ口フラスコに、60℃で12時間真空乾燥したセルロースアセテート(M−2)50.0gを入れ、N−メチルピロリドン250mLを加えた。反応溶液を25℃まで放冷した後に、窒素を導入し、フェニルイソシアネート(東京化成工業製)7.0gとN−メチルピロリドン8mLの溶液を滴下ロートから30分間かけて滴下した。
次に、撹拌しながら120℃に昇温した後、4時間反応させた。その後、25℃まで放冷した後、反応液に、2−プロパノール300mLを入れ、かき混ぜた。溶液を50℃まで加熱し、水100mLを滴下し、1時間かき混ぜた。溶液を30℃まで放冷した後に、水50mLを滴下し、1時間かき混ぜた後に、放冷して、固体を生成させた。固体を濾別し、メタノール50mLで洗浄し、60℃で8時間真空乾燥することによって、48.2gの変性セルロース誘導体P−22を得た。
〔合成例4:変性セルロース誘導体P−8の合成〕(精製方法I)
冷却管、窒素導入管、撹拌機及び温度計を備えた500mLの四つ口フラスコに、60℃で12時間真空乾燥したセルロースアセテート(M−3)50.0gを入れ、N−メチルピロリドン250mLを加えた。反応溶液を25℃まで放冷した後に、窒素を導入し、フェニルイソシアネート(東京化成工業製)10.3gとN−メチルピロリドン10mLの溶液を滴下ロートから30分間かけて滴下した。
冷却管、窒素導入管、撹拌機及び温度計を備えた500mLの四つ口フラスコに、60℃で12時間真空乾燥したセルロースアセテート(M−3)50.0gを入れ、N−メチルピロリドン250mLを加えた。反応溶液を25℃まで放冷した後に、窒素を導入し、フェニルイソシアネート(東京化成工業製)10.3gとN−メチルピロリドン10mLの溶液を滴下ロートから30分間かけて滴下した。
次に、撹拌しながら120℃に昇温した後、8時間反応させた。その後、25℃まで放冷した後、反応液に、3,3,3−トリフルオロ−1−プロパノール300mLを入れ、かき混ぜた。溶液を50℃まで加熱し、水100mLを滴下し、1時間かき混ぜた。更に、水100mLを滴下し、1時間かき混ぜた後に、放冷して、固体を生成させた。固体を濾別し、メタノール50mLで洗浄し、60℃で8時間真空乾燥することによって、50.8gの変性セルロース誘導体P−8を得た。
〔合成例5:変性セルロース誘導体P−4の合成〕(精製方法I)
冷却管、窒素導入管、撹拌機及び温度計を備えた500mLの四つ口フラスコに、60℃で12時間真空乾燥したセルロースアセテート(M−1)50.0gを入れ、N−メチルピロリドン250mLを加えた。反応溶液を25℃まで放冷した後に、窒素を導入し、フェニルイソシアネート(東京化成工業製)6.9gとN−メチルピロリドン8mLの溶液を滴下ロートから30分間かけて滴下した。
冷却管、窒素導入管、撹拌機及び温度計を備えた500mLの四つ口フラスコに、60℃で12時間真空乾燥したセルロースアセテート(M−1)50.0gを入れ、N−メチルピロリドン250mLを加えた。反応溶液を25℃まで放冷した後に、窒素を導入し、フェニルイソシアネート(東京化成工業製)6.9gとN−メチルピロリドン8mLの溶液を滴下ロートから30分間かけて滴下した。
次に、撹拌しながら120℃に昇温した後、8時間反応させた。その後、25℃まで放冷した後、反応液に、1−ブタノール300mLを入れ、かき混ぜた。溶液を50℃まで加熱し、水100mLを滴下し、1時間かき混ぜた。更に、水50mLを滴下し、1時間かき混ぜた後に、放冷して、固体を生成させた。固体を濾別し、メタノール50mLで洗浄し、60℃で8時間真空乾燥することによって、48.2gの変性セルロース誘導体P−4を得た。
〔合成例6:変性セルロース誘導体P−18の合成〕(精製方法I)
冷却管、窒素導入管、撹拌機及び温度計を備えた500mLの四つ口フラスコに、60℃で12時間真空乾燥したセルロースアセテート(M−1)50.0gを入れ、N−メチルピロリドン300mLを加えた。反応溶液を25℃まで放冷した後に、窒素を導入し、塩化ベンゾイル(関東化学製)8.2gとN−メチルピロリドン10mLの溶液を滴下ロートから30分間かけて滴下した。
冷却管、窒素導入管、撹拌機及び温度計を備えた500mLの四つ口フラスコに、60℃で12時間真空乾燥したセルロースアセテート(M−1)50.0gを入れ、N−メチルピロリドン300mLを加えた。反応溶液を25℃まで放冷した後に、窒素を導入し、塩化ベンゾイル(関東化学製)8.2gとN−メチルピロリドン10mLの溶液を滴下ロートから30分間かけて滴下した。
次に、撹拌しながら80℃に昇温した後、3時間反応させた。その後、25℃まで放冷した後、反応液に、2−プロパノール200mLを入れ、かき混ぜた。溶液を50℃まで加熱し、水100mLを滴下し、1時間かき混ぜた。更に、水100mLを滴下し、1時間かき混ぜた後に、放冷して、固体を生成させた。固体を濾別し、メタノール50mLで洗浄し、60℃で8時間真空乾燥することによって、47.2gの変性セルロース誘導体P−18を得た。
〔合成例7:変性セルロース誘導体P−3の合成〕(精製方法I)
冷却管、窒素導入管、撹拌機及び温度計を備えた500mLの四つ口フラスコに、60℃で12時間真空乾燥したセルロースアセテート(M−2)50.0gを入れ、N−メチルピロリドン300mLを加えた。反応溶液を25℃まで放冷した後に、窒素を導入し、無水安息香酸(関東化学製)14.5gとN−メチルピロリドン10mLの溶液を滴下ロートから30分間かけて滴下した。
次に、撹拌しながら60℃に昇温した後、8時間反応させた。その後、25℃まで放冷した後、反応液に、2−プロパノール300mLを入れ、かき混ぜた。溶液を50℃まで加熱し、水100mLを滴下し、1時間かき混ぜた。更に、メタノール100mLを滴下し、1時間かき混ぜた後に、放冷して、固体を生成させた。固体を濾別し、メタノール50mLで洗浄し、60℃で8時間真空乾燥することによって、47.2gの変性セルロース誘導体P−3を得た。
冷却管、窒素導入管、撹拌機及び温度計を備えた500mLの四つ口フラスコに、60℃で12時間真空乾燥したセルロースアセテート(M−2)50.0gを入れ、N−メチルピロリドン300mLを加えた。反応溶液を25℃まで放冷した後に、窒素を導入し、無水安息香酸(関東化学製)14.5gとN−メチルピロリドン10mLの溶液を滴下ロートから30分間かけて滴下した。
次に、撹拌しながら60℃に昇温した後、8時間反応させた。その後、25℃まで放冷した後、反応液に、2−プロパノール300mLを入れ、かき混ぜた。溶液を50℃まで加熱し、水100mLを滴下し、1時間かき混ぜた。更に、メタノール100mLを滴下し、1時間かき混ぜた後に、放冷して、固体を生成させた。固体を濾別し、メタノール50mLで洗浄し、60℃で8時間真空乾燥することによって、47.2gの変性セルロース誘導体P−3を得た。
さらに、本発明の変性セルロース誘導体については以下に示す合成方法も使用することができる。
〔合成例8:変性セルロース誘導体P−1の合成−2〕(精製方法I)
冷却管、窒素導入管、撹拌機及び温度計を備えた500mLの四つ口フラスコに、60℃で12時間真空乾燥したセルロースアセテート(M−1)50.0gを入れ、N−メチルピロリドン300mLを加えた。反応溶液を25℃まで放冷した後に、窒素を導入し、フェニルイソシアネート(東京化成工業製)6.3gとN−メチルピロリドン10mLの溶液を滴下ロートから30分間かけて滴下した。
冷却管、窒素導入管、撹拌機及び温度計を備えた500mLの四つ口フラスコに、60℃で12時間真空乾燥したセルロースアセテート(M−1)50.0gを入れ、N−メチルピロリドン300mLを加えた。反応溶液を25℃まで放冷した後に、窒素を導入し、フェニルイソシアネート(東京化成工業製)6.3gとN−メチルピロリドン10mLの溶液を滴下ロートから30分間かけて滴下した。
次に、撹拌しながら120℃に昇温した後、4時間反応させた。その後、25℃まで放冷した後、反応液に、2−プロパノール250mLと水100mLの混合溶媒を入れ、かき混ぜた。溶液を50℃まで加熱し、1時間かき混ぜた。溶液を25℃まで放冷し、水100mLを滴下して、1時間かき混ぜ、固体を生成させた。固体を濾別し、メタノール50mLで洗浄し、60℃で8時間真空乾燥することによって、48.3gの変性セルロース誘導体P−1を得た。
〔合成例9:変性セルロース誘導体P−1の合成−3〕(精製方法I)
冷却管、窒素導入管、撹拌機及び温度計を備えた500mLの四つ口フラスコに、60℃で12時間真空乾燥したセルロースアセテート(M−1)50.0gを入れ、N−メチルピロリドン300mLを加えた。反応溶液を25℃まで放冷した後に、窒素を導入し、フェニルイソシアネート(東京化成工業製)6.3gとN−メチルピロリドン10mLの溶液を滴下ロートから30分間かけて滴下した。
冷却管、窒素導入管、撹拌機及び温度計を備えた500mLの四つ口フラスコに、60℃で12時間真空乾燥したセルロースアセテート(M−1)50.0gを入れ、N−メチルピロリドン300mLを加えた。反応溶液を25℃まで放冷した後に、窒素を導入し、フェニルイソシアネート(東京化成工業製)6.3gとN−メチルピロリドン10mLの溶液を滴下ロートから30分間かけて滴下した。
次に、撹拌しながら120℃に昇温した後、4時間反応させた。その後、25℃まで放冷した後、反応液を、2−プロパノール250mLと水100mLの混合溶媒に滴下した。溶液を50℃まで加熱し、1時間かき混ぜた。溶液を25℃まで放冷し、更に水200mLを滴下して、1時間かき混ぜ、固体を生成させた。析出した固体を濾別し、メタノール80mLで洗浄し、60℃で8時間真空乾燥することによって、50.2gの変性セルロース誘導体P−1を得た。
〔合成例10:変性セルロース誘導体P−5の合成〕(精製方法II)
冷却管、窒素導入管、撹拌機及び温度計を備えた500mLの四つ口フラスコに、60℃で12時間真空乾燥したセルロースアセテート(M−1)50.0gを入れ、N−メチルピロリドン300mLを加えた。反応溶液を25℃まで放冷した後に、窒素を導入し、フェニルイソシアネート(東京化成工業製)6.3gとN−メチルピロリドン10mLの溶液を滴下ロートから30分間かけて滴下した。
冷却管、窒素導入管、撹拌機及び温度計を備えた500mLの四つ口フラスコに、60℃で12時間真空乾燥したセルロースアセテート(M−1)50.0gを入れ、N−メチルピロリドン300mLを加えた。反応溶液を25℃まで放冷した後に、窒素を導入し、フェニルイソシアネート(東京化成工業製)6.3gとN−メチルピロリドン10mLの溶液を滴下ロートから30分間かけて滴下した。
次に、撹拌しながら120℃に昇温した後、4時間反応させた。その後、25℃まで放冷した。
2−プロパノール250mLと水250mLを混合して、40℃に加熱した溶液に、反応液を1時間かけて滴下し、40℃で1時間かき混ぜた後に、25℃になるまで放冷しながらかき混ぜた。25℃で更に1時間かき混ぜた後に、固体を濾別し、メタノール50mLで洗浄し、60℃で8時間真空乾燥することによって、47.3gの変性セルロース誘導体P−5を得た。
2−プロパノール250mLと水250mLを混合して、40℃に加熱した溶液に、反応液を1時間かけて滴下し、40℃で1時間かき混ぜた後に、25℃になるまで放冷しながらかき混ぜた。25℃で更に1時間かき混ぜた後に、固体を濾別し、メタノール50mLで洗浄し、60℃で8時間真空乾燥することによって、47.3gの変性セルロース誘導体P−5を得た。
〔比較例1:変性セルロース誘導体C−2の合成〕
冷却管、窒素導入管、撹拌機及び温度計を備えた500mLの四つ口フラスコに、60℃で12時間真空乾燥したセルロースアセテート(M−1)50.0gを入れ、N−メチルピロリドン300mLを加えた。反応溶液を25℃まで放冷した後に、窒素を導入し、フェニルイソシアネート(東京化成工業製)6.3gとN−メチルピロリドン10mLの溶液を滴下ロートから30分間かけて滴下した。
次に、撹拌しながら120℃に昇温した後、4時間反応させた。その後、25℃まで放冷した後、反応液に、メタノール350mLを入れ、かき混ぜた。溶液を50℃まで加熱し、水150mLを滴下し、1時間かき混ぜた。固体は析出したがゲル状であり、濾過を試みたが、固体は濾別できなかった。濾液に水を追加し、沈殿した固体の上澄み液をデカンテーションした。残った固体に水を加え、得られた塊状固体を濾別し、メタノールで洗浄し、30.2gの変性セルロース誘導体C−2を得た。GCで不純物を測定した結果、ジフェニル尿素が1.8質量%残存していた。
冷却管、窒素導入管、撹拌機及び温度計を備えた500mLの四つ口フラスコに、60℃で12時間真空乾燥したセルロースアセテート(M−1)50.0gを入れ、N−メチルピロリドン300mLを加えた。反応溶液を25℃まで放冷した後に、窒素を導入し、フェニルイソシアネート(東京化成工業製)6.3gとN−メチルピロリドン10mLの溶液を滴下ロートから30分間かけて滴下した。
次に、撹拌しながら120℃に昇温した後、4時間反応させた。その後、25℃まで放冷した後、反応液に、メタノール350mLを入れ、かき混ぜた。溶液を50℃まで加熱し、水150mLを滴下し、1時間かき混ぜた。固体は析出したがゲル状であり、濾過を試みたが、固体は濾別できなかった。濾液に水を追加し、沈殿した固体の上澄み液をデカンテーションした。残った固体に水を加え、得られた塊状固体を濾別し、メタノールで洗浄し、30.2gの変性セルロース誘導体C−2を得た。GCで不純物を測定した結果、ジフェニル尿素が1.8質量%残存していた。
〔比較例2:変性セルロース誘導体C−3の合成〕
冷却管、窒素導入管、撹拌機及び温度計を備えた500mLの四つ口フラスコに、60℃で12時間真空乾燥したセルロースアセテート(M−1)50.0gを入れ、N−メチルピロリドン300mLを加えた。反応溶液を25℃まで放冷した後に、窒素を導入し、フェニルイソシアネート(東京化成工業製)6.3gとN−メチルピロリドン10mLの溶液を滴下ロートから30分間かけて滴下した。
冷却管、窒素導入管、撹拌機及び温度計を備えた500mLの四つ口フラスコに、60℃で12時間真空乾燥したセルロースアセテート(M−1)50.0gを入れ、N−メチルピロリドン300mLを加えた。反応溶液を25℃まで放冷した後に、窒素を導入し、フェニルイソシアネート(東京化成工業製)6.3gとN−メチルピロリドン10mLの溶液を滴下ロートから30分間かけて滴下した。
次に、撹拌しながら80℃に昇温した後、3時間反応させた。その後、25℃まで放冷した後、反応液に、エタノール300mLを入れ、かき混ぜた。溶液を50℃まで加熱し、水100mLを滴下し、1時間かき混ぜた。更に、水50mLを滴下し、1時間かき混ぜた後に、放冷したところ、固体は析出したがやわらかいゲル状であった。濾過を試みたが、固体は濾別できなかった。濾液に水とエタノールを追加し、沈殿した固体の上澄み液をデカンテーションした。残った固体に水を加え、得られた塊状固体を濾別し、メタノールで洗浄し、38.5gの変性セルロース誘導体C−3を得た。GCで不純物を測定した結果、安息香酸が2.3質量%残存していた。
また、反応後であって未精製の変性セルロース誘導体の精製方法と用いた精製溶媒、及び精製後の変性セルロース誘導体のかさ比重と流動体を表3−1及び表3−2について示す。比較例については表4に示す。
なお、表3−1、表3−2及び表4における「精製方法I」とは、反応終了後の反応液に、炭素数3〜5の範囲のアルコールを含有する精製溶媒を添加することで精製する方法を表し、「精製方法II」とは、炭素数3〜5の範囲のアルコールを含有する精製溶媒に、反応終了後の反応液を滴下する方法を表す。
また、表3−1、表3−2及び表4の「アルコール種類」とは、精製溶媒として含有する炭素数3〜5の範囲のアルコールの名称であって、「2P」は2−プロパノール、「1Bu」は1−ブタノール、「3TF」は3,3,3−トリフルオロ−1−プロパノールを表す。また、「その他」として記載されている数値とともにかっこ書は精製溶媒として含有する炭素数3〜5の範囲のアルコール以外の溶媒を表す。「MeOH」は、メタノール、「EtOH」は、エタノール、「ACE」は、アセトンを表す。
なお、表3−1、表3−2及び表4における「精製方法I」とは、反応終了後の反応液に、炭素数3〜5の範囲のアルコールを含有する精製溶媒を添加することで精製する方法を表し、「精製方法II」とは、炭素数3〜5の範囲のアルコールを含有する精製溶媒に、反応終了後の反応液を滴下する方法を表す。
また、表3−1、表3−2及び表4の「アルコール種類」とは、精製溶媒として含有する炭素数3〜5の範囲のアルコールの名称であって、「2P」は2−プロパノール、「1Bu」は1−ブタノール、「3TF」は3,3,3−トリフルオロ−1−プロパノールを表す。また、「その他」として記載されている数値とともにかっこ書は精製溶媒として含有する炭素数3〜5の範囲のアルコール以外の溶媒を表す。「MeOH」は、メタノール、「EtOH」は、エタノール、「ACE」は、アセトンを表す。
<かさ比重>
かさ比重は、かさ比重測定器(蔵持科学器械製作所製)を用い、JIS K 3362−2008に準じて測定した。粒度による偏りを無くすため十分に混合された変性樹脂粉末100.0gを、ダンパーを閉めた漏斗に入れた後、速やかにダンパーを開け、吸水性樹脂粉末を内容量100mLの受器(質量Wa[g])に落とした。受器から盛り上がった吸水性樹脂粉末は、ガラス棒ですり落とした後、吸水性樹脂粉末の入った受器の重さ(質量Wb[g])を0.1gまで正確に量り、下記数式にしたがってかさ比重を算出することができる。
かさ比重[g/mL]=(Wb−Wa)/100
なお、測定を行った環境の温度は23.8℃であり、相対湿度は43%であった。
かさ比重は、かさ比重測定器(蔵持科学器械製作所製)を用い、JIS K 3362−2008に準じて測定した。粒度による偏りを無くすため十分に混合された変性樹脂粉末100.0gを、ダンパーを閉めた漏斗に入れた後、速やかにダンパーを開け、吸水性樹脂粉末を内容量100mLの受器(質量Wa[g])に落とした。受器から盛り上がった吸水性樹脂粉末は、ガラス棒ですり落とした後、吸水性樹脂粉末の入った受器の重さ(質量Wb[g])を0.1gまで正確に量り、下記数式にしたがってかさ比重を算出することができる。
かさ比重[g/mL]=(Wb−Wa)/100
なお、測定を行った環境の温度は23.8℃であり、相対湿度は43%であった。
<流動性試験(取扱い性)>
変性セルロース誘導体の粉末150gをJIS K 6720−2:1999規定のかさ比重測定用漏斗に入れ、漏斗からの落下時間を測定した。落下時間が短いほど流動性が良く取扱い性に優れており(○)、落下時間が長いほど流動性が悪く取扱い性が劣る(×)と判定した。
変性セルロース誘導体の粉末150gをJIS K 6720−2:1999規定のかさ比重測定用漏斗に入れ、漏斗からの落下時間を測定した。落下時間が短いほど流動性が良く取扱い性に優れており(○)、落下時間が長いほど流動性が悪く取扱い性が劣る(×)と判定した。
《実施例2:位相差フィルム(光学フィルム)の作製》
〔位相差フィルムF−3の作製〕
(微粒子分散液の調製)
微粒子(アエロジル R812 日本アエロジル(株)製) 11質量部
エタノール 89質量部
以上をディゾルバーで50分間撹拌混合した後、マントンゴーリン分散機を用いて分散を行い、微粒子分散液を調製した。
〔位相差フィルムF−3の作製〕
(微粒子分散液の調製)
微粒子(アエロジル R812 日本アエロジル(株)製) 11質量部
エタノール 89質量部
以上をディゾルバーで50分間撹拌混合した後、マントンゴーリン分散機を用いて分散を行い、微粒子分散液を調製した。
(微粒子添加液の調製)
溶解タンクにジクロロメタンを50質量部入れ、ジクロロメタンを十分に撹拌しながら上記調製した微粒子分散液の50質量部をゆっくりと添加した。更に、二次粒子の粒径が、所定の大きさとなるようにアトライター(日本コークス工業社製)にて分散を行った。これを日本精線(株)製のファインメットNFで濾過して、微粒子添加液を調製した。
溶解タンクにジクロロメタンを50質量部入れ、ジクロロメタンを十分に撹拌しながら上記調製した微粒子分散液の50質量部をゆっくりと添加した。更に、二次粒子の粒径が、所定の大きさとなるようにアトライター(日本コークス工業社製)にて分散を行った。これを日本精線(株)製のファインメットNFで濾過して、微粒子添加液を調製した。
(ドープの調製)
次に、加圧溶解タンクに下記に示すジクロロメタンとエタノールを添加した。有機溶媒の入った加圧溶解タンクに、前記合成した変性セルロース誘導体P−1を撹拌しながら投入した。これを加熱し、撹拌しながら、完全に溶解した。
次いで、微粒子添加液を添加した後、安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を使用して濾過し、ドープを調製した。
〈ドープの組成〉
ジクロロメタン 340質量部
エタノール 64質量部
変性セルロース誘導体P−1 100質量部
微粒子添加液 2質量部
次に、加圧溶解タンクに下記に示すジクロロメタンとエタノールを添加した。有機溶媒の入った加圧溶解タンクに、前記合成した変性セルロース誘導体P−1を撹拌しながら投入した。これを加熱し、撹拌しながら、完全に溶解した。
次いで、微粒子添加液を添加した後、安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を使用して濾過し、ドープを調製した。
〈ドープの組成〉
ジクロロメタン 340質量部
エタノール 64質量部
変性セルロース誘導体P−1 100質量部
微粒子添加液 2質量部
(成膜)
上記調製したドープを、ステンレスベルト支持体上で、流延(キャスト)した後、ステンレスベルト支持体上からフィルムを剥離した。
剥離した原反フィルムを、加熱しながらテンターを用いて、幅手方向(TD方向)にのみ一軸延伸し、搬送方向(MD方向)には収縮しないように搬送張力を調整した。
次いで、乾燥ゾーンを多数のローラーを介して搬送させながら乾燥を終了させ、ロール状の原反フィルムを作製した。
上記調製したドープを、ステンレスベルト支持体上で、流延(キャスト)した後、ステンレスベルト支持体上からフィルムを剥離した。
剥離した原反フィルムを、加熱しながらテンターを用いて、幅手方向(TD方向)にのみ一軸延伸し、搬送方向(MD方向)には収縮しないように搬送張力を調整した。
次いで、乾燥ゾーンを多数のローラーを介して搬送させながら乾燥を終了させ、ロール状の原反フィルムを作製した。
(延伸工程)
この原反フィルムを、図2に記載の構成からなる斜め延伸装置を用いて、搬送方向に対して、フィルムの光学遅相軸が45°となるよう斜め方向に延伸することでロール状の位相差フィルムF−3を作製した。
なお、延伸条件としては、光波長550nmで測定したフィルム面内の位相差値Ro550が147nm、膜厚が50μm、Ro450/Ro550が0.82となるように、原反フィルムの膜厚、延伸温度、幅手方向(TD方向)及び搬送方向(MD方向)の延伸倍率を適宜調整して行った。
この原反フィルムを、図2に記載の構成からなる斜め延伸装置を用いて、搬送方向に対して、フィルムの光学遅相軸が45°となるよう斜め方向に延伸することでロール状の位相差フィルムF−3を作製した。
なお、延伸条件としては、光波長550nmで測定したフィルム面内の位相差値Ro550が147nm、膜厚が50μm、Ro450/Ro550が0.82となるように、原反フィルムの膜厚、延伸温度、幅手方向(TD方向)及び搬送方向(MD方向)の延伸倍率を適宜調整して行った。
〔位相差フィルムF−1、F−2、F−4〜F−52の作製〕
上記位相差フィルムF−3の作製において、変性セルロース誘導体の種類を、表5−1及び5−2に記載の変性セルロース誘導体にそれぞれ変更した以外は同様にして、位相差フィルムF−1、F−2、F−4〜F−52を作製した。
なお、延伸条件としては、光波長550nmで測定したフィルム面内の位相差値Ro550、DSP(Ro450/Ro550)が表5−1及び表5−2に記載の値となるように、延伸温度、幅手方向(TD方向)及び搬送方向(MD方向)の延伸倍率を適宜調整して行った。
上記位相差フィルムF−3の作製において、変性セルロース誘導体の種類を、表5−1及び5−2に記載の変性セルロース誘導体にそれぞれ変更した以外は同様にして、位相差フィルムF−1、F−2、F−4〜F−52を作製した。
なお、延伸条件としては、光波長550nmで測定したフィルム面内の位相差値Ro550、DSP(Ro450/Ro550)が表5−1及び表5−2に記載の値となるように、延伸温度、幅手方向(TD方向)及び搬送方向(MD方向)の延伸倍率を適宜調整して行った。
<位相差>
得られた光学フィルムの波長550nmにおける、幅手方向の中央部の位相差値を測定した。測定には位相差測定装置KOBRA−WR(王子計測機器(株)製)を用いて、23℃、55%RHの環境下で2時間調湿し、測定波長が550nmにおいて、3次元複屈折率測定を行い、測定値を次式に代入してフィルム厚さ50μmにおける位相差値を求めた。得られた結果を表5−1及び表5−2に示す。
式(I):面内位相差値Ro=(nx−ny)×d
式中、dはフィルムの厚さ(nm)、屈折率nx(フィルムの面内の最大の屈折率、遅相軸方向の屈折率ともいう)、ny(フィルム面内で遅相軸に直角な方向の屈折率)である。
得られた光学フィルムの波長550nmにおける、幅手方向の中央部の位相差値を測定した。測定には位相差測定装置KOBRA−WR(王子計測機器(株)製)を用いて、23℃、55%RHの環境下で2時間調湿し、測定波長が550nmにおいて、3次元複屈折率測定を行い、測定値を次式に代入してフィルム厚さ50μmにおける位相差値を求めた。得られた結果を表5−1及び表5−2に示す。
式(I):面内位相差値Ro=(nx−ny)×d
式中、dはフィルムの厚さ(nm)、屈折率nx(フィルムの面内の最大の屈折率、遅相軸方向の屈折率ともいう)、ny(フィルム面内で遅相軸に直角な方向の屈折率)である。
<波長分散性>
得られた光学フィルムの幅手方向の中央部のリターデーション値を測定した。測定には位相差測定装置KOBRA−WR(王子計測器機器(株)製)を用いて、23℃、55%RHの環境下で2時間調湿し、波長が450nmと550nmにおいて、3次元複屈折率測定を行い、測定値を前記の式(I)に代入してRoの値を求めた。得られたRoを下記の式(II)に代入して波長分散性(DSP)を求めた。この値が1.10以下であることが好ましい。得られた結果を表5−1及び表5−2に示す。
式(II):波長分散性=Ro(450nm)/Ro(550nm)
得られた光学フィルムの幅手方向の中央部のリターデーション値を測定した。測定には位相差測定装置KOBRA−WR(王子計測器機器(株)製)を用いて、23℃、55%RHの環境下で2時間調湿し、波長が450nmと550nmにおいて、3次元複屈折率測定を行い、測定値を前記の式(I)に代入してRoの値を求めた。得られたRoを下記の式(II)に代入して波長分散性(DSP)を求めた。この値が1.10以下であることが好ましい。得られた結果を表5−1及び表5−2に示す。
式(II):波長分散性=Ro(450nm)/Ro(550nm)
<ヘイズ>
JIS K 7136−2000に準拠してヘイズ計(1001DP型、日本電色工業(株)製)を用いて、23℃・55%RHの条件下、任意の10点を測定し、平均値を求めた。
JIS K 7136−2000に準拠してヘイズ計(1001DP型、日本電色工業(株)製)を用いて、23℃・55%RHの条件下、任意の10点を測定し、平均値を求めた。
<光学フィルムの湿度寸法変化率>
光学フィルムの湿度寸法変化率(寸法変動)は以下の方法で測定した。
フィルムロールの巻き方向を長手方向(MD方向)、長手方向と直交する方向を幅手方向(TD方向)とする。該幅手方向(TD方向)を測定方向として、該測定方向に12cmの長さで、幅3cmのフィルム試料を切り出した。該試料に測定方向に沿って10cmの間隔でピン孔を空け、25℃、相対湿度60%にて24時間調湿後、ピン孔の間隔(長さ)をピンゲージで測長した。次に25℃、相対湿度10%にて24時間調湿後、ピン孔の間隔をピンゲージで測長した。次いで、試料を25℃、相対湿度80%にて24時間調湿後、ピン孔の間隔をピンゲージで測長した。これらの測定値を用いて下記式(III)によりTD方向の湿度寸法変化率を算出した。
式(III):TD方向の湿度寸法変化率(%)=[{(25℃、相対湿度80%における長さ)−(25℃、相対湿度10%における長さ)}/(25℃、相対湿度60%における長さ)]×100
光学フィルムの湿度寸法変化率(寸法変動)は以下の方法で測定した。
フィルムロールの巻き方向を長手方向(MD方向)、長手方向と直交する方向を幅手方向(TD方向)とする。該幅手方向(TD方向)を測定方向として、該測定方向に12cmの長さで、幅3cmのフィルム試料を切り出した。該試料に測定方向に沿って10cmの間隔でピン孔を空け、25℃、相対湿度60%にて24時間調湿後、ピン孔の間隔(長さ)をピンゲージで測長した。次に25℃、相対湿度10%にて24時間調湿後、ピン孔の間隔をピンゲージで測長した。次いで、試料を25℃、相対湿度80%にて24時間調湿後、ピン孔の間隔をピンゲージで測長した。これらの測定値を用いて下記式(III)によりTD方向の湿度寸法変化率を算出した。
式(III):TD方向の湿度寸法変化率(%)=[{(25℃、相対湿度80%における長さ)−(25℃、相対湿度10%における長さ)}/(25℃、相対湿度60%における長さ)]×100
<位相差変動>
巻き取った光学フィルムを、温度23℃、湿度55%RHの環境下で3か月間放置した後、位相差測定装置KOBRA−WRを用いて測定波長が550nmにおける位相差値Roを測定し、放置前後での位相差値Roの変動を、位相差変動ΔRoとして評価した。位相差変動の評価の基準は、以下のとおりである。
◎:Ro値の最大変動が0である。
○:Ro値の最大変動が0よりも大きく2nm以下である。
×:Ro値の最大変動が2nm以上である。
表5−1及び表5−2に、各位相差フィルムについての評価の結果を示す。
巻き取った光学フィルムを、温度23℃、湿度55%RHの環境下で3か月間放置した後、位相差測定装置KOBRA−WRを用いて測定波長が550nmにおける位相差値Roを測定し、放置前後での位相差値Roの変動を、位相差変動ΔRoとして評価した。位相差変動の評価の基準は、以下のとおりである。
◎:Ro値の最大変動が0である。
○:Ro値の最大変動が0よりも大きく2nm以下である。
×:Ro値の最大変動が2nm以上である。
表5−1及び表5−2に、各位相差フィルムについての評価の結果を示す。
表5−1及び表5−2に示した結果より、光学フィルムF−1〜F−52のうち、本発明の光学フィルムは、比較例の光学フィルムに比べて、位相差特性、波長分散性(DSP)、ヘイズ、湿度寸法変化率及び位相差変動のいずれも優れていることがわかった。
本発明の変性セルロース誘導体は精製負荷が小さくて済み、生産効率が上がり、コストも安くなるという利点がある。
本発明の変性セルロース誘導体は精製負荷が小さくて済み、生産効率が上がり、コストも安くなるという利点がある。
≪実施例3:表示装置の作製≫
(円偏光板の作製)
厚さ120μmのポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸(温度110℃、延伸倍率5倍)した。これをヨウ素0.075g、ヨウ化カリウム5g、水100gからなる水溶液に60秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム6g、ホウ酸7.5g、水100gからなる68℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥して偏光子を得た。
実施例1で作製した各光学フィルムの遅相軸と、偏光子の吸収軸とが45°となるように、接着剤を用いて貼合し、偏光子の裏面側には保護フィルム(コニカミノルタタックKC4UY、厚さ40μm、コニカミノルタ(株)製)を水糊によって貼り合わせ、円偏光板を作製した。
(円偏光板の作製)
厚さ120μmのポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸(温度110℃、延伸倍率5倍)した。これをヨウ素0.075g、ヨウ化カリウム5g、水100gからなる水溶液に60秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム6g、ホウ酸7.5g、水100gからなる68℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥して偏光子を得た。
実施例1で作製した各光学フィルムの遅相軸と、偏光子の吸収軸とが45°となるように、接着剤を用いて貼合し、偏光子の裏面側には保護フィルム(コニカミノルタタックKC4UY、厚さ40μm、コニカミノルタ(株)製)を水糊によって貼り合わせ、円偏光板を作製した。
(有機ELセルの作製)
3mm厚の50インチ(127cm)用の無アルカリガラスを用いて、特開2010−20925号公報の実施例に記載されている方法に準じて、特開2010−20925号公報の図8に記載された構成からなる有機ELセルを作製した。
3mm厚の50インチ(127cm)用の無アルカリガラスを用いて、特開2010−20925号公報の実施例に記載されている方法に準じて、特開2010−20925号公報の図8に記載された構成からなる有機ELセルを作製した。
(表示装置の作製)
上記で作製した各円偏光板の位相差フィルムの表面に接着剤を塗工した後、有機ELセルの視認側に貼合することで表示装置を作製した。
上記で作製した各円偏光板の位相差フィルムの表面に接着剤を塗工した後、有機ELセルの視認側に貼合することで表示装置を作製した。
(表示装置の評価)
上記作製した各表示装置について、常法に従って、黒の色味特性、反射性(視認性)等の基本的な表示特性を評価し、結果を表6−1及び表6−2に示した。
≪色ムラ≫
23℃、55%RHの環境でディスプレイを黒表示にし、正面及び斜め45°の角度から観察し、色ムラを下記基準で評価した。
A:色ムラは観測されなかった。
B:表示面の1/8以下の面積で弱い色ムラが観測された。
C:表示面の1/8を超えて1/4以下の面積で弱い色ムラが観測された。
D:表示面の1/4を超える面積で弱い色ムラが観測された。
E:表示面の1/4を超える面積で強い色ムラが観測された。
ここで、Cレベル以上であれば実用上問題はないが、Bレベル以上であることが好ましく、Aレベル以上であることが特に好ましい。
上記作製した各表示装置について、常法に従って、黒の色味特性、反射性(視認性)等の基本的な表示特性を評価し、結果を表6−1及び表6−2に示した。
≪色ムラ≫
23℃、55%RHの環境でディスプレイを黒表示にし、正面及び斜め45°の角度から観察し、色ムラを下記基準で評価した。
A:色ムラは観測されなかった。
B:表示面の1/8以下の面積で弱い色ムラが観測された。
C:表示面の1/8を超えて1/4以下の面積で弱い色ムラが観測された。
D:表示面の1/4を超える面積で弱い色ムラが観測された。
E:表示面の1/4を超える面積で強い色ムラが観測された。
ここで、Cレベル以上であれば実用上問題はないが、Bレベル以上であることが好ましく、Aレベル以上であることが特に好ましい。
≪視野角劣化≫
23℃、55%RHの環境でELDIM社製EZ−Contrast160Dを用いて液晶表示装置の視野角測定を行った。続いて23℃・20%RH、更に23℃・80%RHの環境下で、作製した液晶表示装置の視野角を測定し下記基準にて評価した。最後に23℃・55%RHの環境でもう一度視野角測定を行い、前記測定の際の変化が可逆変動であることを確認した。なお、これらの測定は、液晶表示装置を当該環境に5時間置いてから測定を行った。
◎:上下左右の視野角変動が0°以上1°未満
○:上下左右の視野角変動が1°以上3°未満
△:上下左右の視野角変動が3°以上5°未満
×:上下左右の視野角変動が5°以上
ここで、△レベル以上であれば実用上問題はないが、○レベル以上であることが好ましく、◎レベル以上であることが特に好ましい。
23℃、55%RHの環境でELDIM社製EZ−Contrast160Dを用いて液晶表示装置の視野角測定を行った。続いて23℃・20%RH、更に23℃・80%RHの環境下で、作製した液晶表示装置の視野角を測定し下記基準にて評価した。最後に23℃・55%RHの環境でもう一度視野角測定を行い、前記測定の際の変化が可逆変動であることを確認した。なお、これらの測定は、液晶表示装置を当該環境に5時間置いてから測定を行った。
◎:上下左右の視野角変動が0°以上1°未満
○:上下左右の視野角変動が1°以上3°未満
△:上下左右の視野角変動が3°以上5°未満
×:上下左右の視野角変動が5°以上
ここで、△レベル以上であれば実用上問題はないが、○レベル以上であることが好ましく、◎レベル以上であることが特に好ましい。
結果、本発明の光学フィルムを用いた表示装置は、良好な特性が得られることを確認することができた。フェニルカルバメート等の変性置換基の比率が、変性セルロース誘導体を含有する樹脂全体の置換基に対して大きすぎないことで、視野角劣化の優れた効果が得られたものと考えている。
1 上開口幅
2 下開口幅
11 延伸方向
13 搬送方向
14 遅相軸
D1 繰出方向
D2 巻取方向
F 光学フィルム
θi 屈曲角度(繰出し角度)
Ci、Co 把持具
Ri、Ro レール
Wo 延伸前のフィルムの幅
W 延伸後のフィルムの幅
16 フィルム繰り出し装置
17 搬送方向変更装置
18 巻取装置
19 製膜装置
A 表示装置
B 有機EL素子
C 円偏光板
101 透明基板
102 金属電極
103 TFT
104 有機発光層
105 透明電極
106 絶縁層
107 封止層
108 フィルム
109 λ/4位相差フィルム
110 偏光子
111 保護フィルム
112 硬化層
113 反射防止層
2 下開口幅
11 延伸方向
13 搬送方向
14 遅相軸
D1 繰出方向
D2 巻取方向
F 光学フィルム
θi 屈曲角度(繰出し角度)
Ci、Co 把持具
Ri、Ro レール
Wo 延伸前のフィルムの幅
W 延伸後のフィルムの幅
16 フィルム繰り出し装置
17 搬送方向変更装置
18 巻取装置
19 製膜装置
A 表示装置
B 有機EL素子
C 円偏光板
101 透明基板
102 金属電極
103 TFT
104 有機発光層
105 透明電極
106 絶縁層
107 封止層
108 フィルム
109 λ/4位相差フィルム
110 偏光子
111 保護フィルム
112 硬化層
113 反射防止層
Claims (8)
- 下記一般式(1)で表される構造を有する化合物と、
下記化合物群から選ばれる化合物と、
を反応させて、変性セルロース誘導体を製造する変性セルロースの製造方法であって、
精製溶媒が、炭素数3〜5の範囲のアルコールを含有することを特徴とする変性セルロース誘導体の製造方法。
- 前記アルコールが、2−プロパノールであることを特徴とする請求項1に記載の変性セルロース誘導体の製造方法。
- 請求項1又は請求項2に記載の変性セルロース誘導体の製造方法により製造されることを特徴とする変性セルロース誘導体。
- 下記一般式(1)で表される構造を有する化合物と、下記化合物群から選ばれる化合物と、を反応させて変性セルロース誘導体を製造する製造工程で、
炭素数3〜5のアルコールを精製に用いることで得られる、下記一般式(2)で表される構造を有することを特徴とする変性セルロース誘導体。
式(i):〔−L62−(Ra、Rb、Rc又はRd)による置換度〕>〔−L22−(Ra、Rb、Rc又はRd)による置換度〕
式(ii):〔−L62−(Ra、Rb、Rc又はRd)による置換度〕>〔−L32−(Ra、Rb、Rc又はRd)による置換度〕
ここで、−L22−(Ra、Rb、Rc又はRd)、−L32−(Ra、Rb、Rc又はRd)及び−L62−(Ra、Rb、Rc又はRd)による置換度とは、無水グルコースユニットに対して、2位、3位及び6位の三つの炭素原子のそれぞれに結合しているヒドロキシ基の水素原子が置換されている個数の平均値を表す。) - 請求項3又は請求項4に記載の変性セルロース誘導体を含有することを特徴とする光学フィルム。
- 長手方向に対して40〜50°の範囲内に遅相軸を有することを特徴とする請求項5に記載の光学フィルム。
- 請求項5又は請求項6に記載の光学フィルムに偏光子が貼り合わせされていることを特徴とする円偏光板。
- 請求項5又は請求項6に記載の光学フィルムが、具備されていることを特徴とする表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015032540A JP2016155884A (ja) | 2015-02-23 | 2015-02-23 | 変性セルロース誘導体の製造方法、変性セルロース誘導体、光学フィルム、円偏光板及び表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2015032540A JP2016155884A (ja) | 2015-02-23 | 2015-02-23 | 変性セルロース誘導体の製造方法、変性セルロース誘導体、光学フィルム、円偏光板及び表示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2016155884A true JP2016155884A (ja) | 2016-09-01 |
Family
ID=56825054
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2016155884A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018172581A (ja) * | 2017-03-31 | 2018-11-08 | 株式会社カネカ | メチルセルロース誘導体 |
WO2018230600A1 (ja) * | 2017-06-14 | 2018-12-20 | 国立大学法人京都大学 | 微細セルロース繊維、その製造方法、スラリー及び複合体 |
CN111171162A (zh) * | 2020-01-13 | 2020-05-19 | 福建农林大学 | 一种纤维素电子传输聚合物及其制备方法和应用 |
-
2015
- 2015-02-23 JP JP2015032540A patent/JP2016155884A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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WO2018230600A1 (ja) * | 2017-06-14 | 2018-12-20 | 国立大学法人京都大学 | 微細セルロース繊維、その製造方法、スラリー及び複合体 |
US11655310B2 (en) | 2017-06-14 | 2023-05-23 | Kyoto University | Fine cellulose fiber, production method thereof, slurry, and composite |
CN111171162A (zh) * | 2020-01-13 | 2020-05-19 | 福建农林大学 | 一种纤维素电子传输聚合物及其制备方法和应用 |
CN111171162B (zh) * | 2020-01-13 | 2020-12-04 | 福建农林大学 | 一种纤维素电子传输聚合物及其制备方法和应用 |
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