JP2016138311A - 窒化チタンアルミニウム皮膜、硬質皮膜被覆工具、及びそれらの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基体上に化学蒸着法により形成された窒化チタンアルミニウム層は、(Tix1Aly1)N[但し、x1及びy1は各々原子比でx1=0.05〜0.15、及びy1=0.95〜0.85を満たす数]で表される組成を有するhcp構造のTiAlNマトリックスに、(Tix2Aly2)N[但し、x2及びy2は各々原子比でx2=0.15〜0.4、及びy2=0.85〜0.6を満たす数)で表される組成を有するとともにhcp構造とfcc構造とが混在した繊維状TiAlN粒子が分散してなる窒化チタンアルミニウム皮膜。繊維状TiAlN粒子の平均横断面径が50nm以下であり、膜厚が1〜15μmであるチタンアルミニウム皮膜。
【選択図】図2
Description
本発明の硬質皮膜被覆工具は、基体上に化学蒸着法により窒化チタンアルミニウム皮膜を形成したもので、前記窒化チタンアルミニウム皮膜は、(Tix1Aly1)N(ただし、x1及びy1はそれぞれ原子比でx1=0.05〜0.15、及びy1=0.95〜0.85を満たす数字である。)で表される組成を有するhcp構造のTiAlNマトリックスに、(Tix2Aly2)N(ただし、x2及びy2はそれぞれ原子比でx2=0.15〜0.4、及びy2=0.85〜0.6を満たす数字である。)で表される組成を有するとともにhcp構造とfcc構造とが混在した繊維状TiAlN粒子が分散したミクロ組織を有する。
基体は化学蒸着法を適用できる高耐熱性の材質である必要があり、例えばWC基超硬合金、サーメット、高速度鋼、工具鋼又は立方晶窒化ホウ素を主成分とする窒化ホウ素焼結体(cBN)、サイアロンのようなセラミックス等が挙げられる。強度、硬度、耐摩耗性、靱性及び熱安定性の観点から、WC基超硬合金、サーメット及びセラミックスが好ましい。例えばWC基超硬合金の場合、焼結したままの未加工面にも本発明の窒化チタンアルニニウム皮膜を形成できるが、工具の寸法精度を高めるために加工面(研磨加工面及び刃先処理加工面)に形成するのが好ましい。
(1) 組成
化学蒸着法により基体上に形成される本発明の窒化チタンアルミニウム皮膜は、Ti及びAlを必須成分とする窒化物からなる。本発明の窒化チタンアルミニウム皮膜の組成を一般式:Ti1-xAlxN(ただし、1-x及びxはそれぞれTi及びAlの原子比である。)で表したとき、1-xは0.1〜0.5であり、xは0.9〜0.5であるのが好ましい。上記組成範囲外では本発明のミクロ組織が得られない。Nの30原子%以下をC又はBで置換しても良い。本発明の窒化チタンアルミニウム皮膜は、不可避的不純物としてCaを含有しても良いが、Ca含有量は0.4原子%以下が好ましく、0.3原子%以下がより好ましい。なお、窒化チタンアルミニウム皮膜の組成はEPMAにより測定することができる。
TiAlNマトリックスは、一般式:(Tix1Aly1)N(ただし、x1及びy1はそれぞれ原子比でx1=0.05〜0.15、及びy1=0.95〜0.85を満たす数字である。)で表される組成を有する。Tiの割合x1が0.05未満では硬度が低すぎて耐摩耗性に劣り、また0.15超ではTiAlNマトリックスがfcc構造及びhcp構造の混合構造になり、高温使用時の硬度(耐摩耗性)が低下する。
繊維状TiAlN粒子は、一般式:(Tix2Aly2)N(ただし、x2及びy2はそれぞれ原子比でx2=0.15〜0.4、及びy2=0.85〜0.6を満たす数字である。)で表される組成を有する。Tiの割合x2が0.15未満ではhcp構造になり、硬度(耐摩耗性)が大きく低下する。また、Tiの割合x2が0.4超ではfcc構造になり、高温使用時にfcc構造からhcp構造へ変態して硬度(耐摩耗性)が大きく低下する。繊維状TiAlN粒子のTiの割合x2及びN含有量はそれぞれTiAlNマトリックスのTiの割合x1及びN含有量より高い。繊維状TiAlN粒子の組成は後述するEPMA及びEDSの測定結果に基づき求めることができる。
図2から明らかなように、hcp構造とfcc構造とが混在した高Al含有量の窒化チタンアルミニウムからなる灰色ないし黒色の繊維状TiAlN粒子は、hcp構造を有する高Al含有量の窒化チタンアルミニウムからなる薄い灰色のTiAlNマトリックス中に分散している。繊維状TiAlN粒子はhcp構造及びfcc構造を有するが、これらの比率を定量化するのは難しい。
繊維状TiAlN粒子の「平均横断面径」は、例えば図3に示すように基体表面に平行な皮膜面の透過型電子顕微鏡(TEM)写真(倍率:2,000,000倍)で確認できる繊維状TiAlN粒子の最大直径を測定し、算術平均することにより求めた。繊維状TiAlN粒子の平均横断面径が50 nm以下であると、本発明の窒化チタンアルミニウム皮膜の硬度が高くなるだけでなく、高温で繊維状TiAlN粒子中のfcc構造がhcp構造に相変態しても皮膜硬度の低下が少なくなり、耐摩耗性がより高くなる。平均横断面径が50 nmを超えるとfcc構造の体積増加により高温での相変態により皮膜硬度(耐摩耗性)の低下率が大きくなる。なお、繊維状TiAlN粒子の平均横断面径の下限は特に限定されないが、1nm未満の繊維状TiAlN粒子は繊維強化効果が小さすぎる。
本発明の窒化チタンアルミニウム皮膜の等価X線回折強度比TC(002)は、1.3以上であるのが好ましく、1.3〜4.5であるのがより好ましく、2.0〜3.5であるのが特に好ましい。TC(002)を1.3以上に制御することにより、窒化チタンアルミニウム皮膜の結晶粒が基体に垂直に成長し、結晶粒の粗大化が抑制される。繊維状TiAlN粒子も基体に垂直に成長するため、窒化チタンアルミニウム皮膜の耐摩耗性が向上し、長寿命化する。TC(002)が1.3未満では窒化チタンアルミニウム皮膜の結晶粒及び繊維状TiAlN粒子が粗大化し、耐摩耗性が大きく低下する。なお、TC(002)が4.5を超えると、窒化チタンアルミニウム皮膜の結晶粒が微細化されすぎて結晶粒界が増加するため、皮膜の耐熱性は低下するおそれがある。
基体からの剥離を抑制するとともに優れた耐摩耗性及び耐酸化性を発揮するために、本発明の窒化チタンアルミニウム皮膜の膜厚は1〜15μmが好ましく、2〜12μmがより好ましい。膜厚が1μm未満では皮膜の効果が十分に得られない。膜厚が15μmを超えると皮膜が厚くなり過ぎて皮膜内部にクラックが発生するおそれがある。窒化チタンアルミニウム層の膜厚は成膜時間により適宜制御することができる。
ナノインデンテーション(押込み)法により測定した本発明の硬質皮膜の硬さは27〜32 GPaであるのが好ましい。硬さが、27 GPa未満では耐摩耗性に劣り、32 GPa超では窒化チタンアルミニウム皮膜中のfcc構造の占める割合が増大して、高温でhcp構造への相変態が多く発生し、耐摩耗性が悪化する。
特に限定されないが、本発明の窒化チタンアルミニウム皮膜の下層として、柱状結晶組織を有するTi(CN)皮膜、TiN皮膜又はTiZr(CN)皮膜を化学蒸着法により設けるのが好ましい。柱状結晶組織を有する耐摩耗性に優れたTi(CN)皮膜は高温で酸化しやすく耐熱性が低いが、その上に窒化チタンアルミニウム皮膜を形成すると、耐熱性の問題が解消される。
特に限定されないが、本発明の窒化チタンアルミニウム皮膜の上層として、Ti、Al、Cr、B及びZrからなる群から選ばれた少なくとも一種の元素と、C、N及びOからなる群から選ばれた少なくとも一種の元素とを必須とする単層又は多層の硬質皮膜を化学蒸着法により設けても良い。。上層としては、例えばTiC皮膜、CrC皮膜、SiC皮膜、VC皮膜、ZrC皮膜、TiN皮膜、AlN皮膜、CrN皮膜、Si3N4皮膜、VN皮膜、ZrN皮膜、Ti(CN)皮膜、(TiSi)N皮膜、Ti(BN)皮膜、TiZrN皮膜、TiAl(CN)皮膜、TiSi(CN)皮膜、TiCr(CN)皮膜、TiZr(CN)皮膜、Ti(CNO)皮膜、TiAl(CNO)皮膜、Ti(CO)皮膜、及びTiB2皮膜等の単層又は積層の皮膜が挙げられる。
図9に示すように、化学蒸着装置(CVD炉)1は、チャンバー2と、チャンバー2の壁内に設けられたヒータ3と、チャンバー2内で回転する複数の棚(治具)4,4と、棚4,4を覆う反応容器5と、棚4,4の中央開口部4aを垂直に貫通する第一及び第二のパイプ11,12と、各パイプ11,12に設けられた複数のノズル11a,12aとを具備する。多数のインサート基体20が載置された棚4,4は、チャンバー2内で回転する。第一のパイプ11と第二のパイプ12は、一体的に回転し得るようにチャンバー2の底部を貫通し、回転自在に外部の配管(図示せず)に接続されている。チャンバー2の底部には、第一及び第二のパイプ11,12から噴出した原料ガスのうちのキャリアガス及び未反応ガスを排出するためのパイプ13を有する。
本発明の窒化チタンアルミニウム皮膜は、熱化学蒸着装置又はプラズマ支援化学蒸着装置(単に「CVD炉」と言う。)を用いた化学蒸着法により形成することができる。以下、熱化学蒸着法の場合を例にとって本発明を説明するが、勿論本発明はそれに限定されず、他の化学蒸着法にも適用できる。
基体をセットしたCVD炉内にH2ガス、N2ガス及び/又はArガスを流し、成膜温度まで昇温した後、TiCl4ガス、N2ガス、CH3CNガス又はCH3CNガスとC2H6ガス、及びH2ガスからなる原料ガスをCVD炉内に流し、下層の炭窒化チタン皮膜を形成する。
l-Ti(CN)皮膜用の原料ガス組成は、合計を100体積%として、0.8〜3体積のTiCl4ガス、10〜30体積%のN2ガス、0.1〜1.2体積%のCH3CNガス、及び残部H2ガスからなるのが好ましい。TiCl4ガス、N2ガス、CH3CNガス及びH2ガスの含有量が上記範囲外であると、得られる炭窒化チタン皮膜中の炭素濃度が高すぎたり、柱状結晶粒が粗大化して上層の窒化チタンアルミニウム皮膜との密着力が低下する。
合計を100体積%として、1〜3体積のTiCl4ガス、10〜30体積%のN2ガス、0.2〜2体積%のCH3CNガス、0.5〜2.5体積%のC2H6ガス、及び残部H2ガスからなるのが好ましい。TiCl4ガス、N2ガス、CH3CNガス、C2H6ガス及びH2ガスの含有量が上記範囲外であると、得られる炭窒化チタン皮膜中の炭素濃度が高すぎたり、平均横断面径が0.2μm超になり、高性能な硬質皮膜被覆工具が得られない。
(1) 窒化チタンアルミニウム皮膜の原料ガス
窒化チタンアルミニウム皮膜を形成する原料ガスとして、TiCl4ガス、AlCl3ガス、及びH2ガスからなる混合ガスAと、NH3ガス、N2ガス及びH2ガスからなる混合ガスBとを使用する。TiCl4ガス、AlCl3ガス、NH3ガス、N2ガス及びH2ガスの合計を100体積%として、混合ガスAの組成は0.1〜0.5体積%のTiCl4ガス、1〜4体積%のAlCl3ガス、及び残部H2ガスからなるのが好ましく、混合ガスBの組成は3〜6体積%のNH3ガス、25体積%以下のN2ガス、及び残部H2ガスからなるのが好ましい。混合ガスAはさらに15体積%以下のN2ガスを含有しても良い。混合ガスA、Bにおいて、キャリアガスであるH2ガスをArガスで代替しても良い。混合ガスAの組成は、0.2〜0.3体積%のTiCl4ガス、1〜3体積%のAlCl3ガス、及び残部H2ガスからなるのがより好ましい。また混合ガスBの組成は、4〜6体積%のNH3ガス、25体積%以下のN2ガス、及び残部H2ガスからなるのがより好ましい。
TiCl4ガスが0.1体積%未満であると混合ガスA中のAlが過多となり、繊維状TiAlN粒子が析出しない。一方、TiCl4ガスが0.5体積%を超えると窒化チタンアルミニウム皮膜のfcc構造が過多になり、高温でのfcc構造からhcp構造への変態により、皮膜の耐摩耗性は低下する。
混合ガスBにおいて、NH3ガスが3体積%未満であると、反応速度が著しく遅くなる。一方、NH3ガスが6体積%を超えると、窒化チタンアルミニウム皮膜中のfcc構造が過多になる。
反応性の高い混合ガスA及び混合ガスBの混合により反応速度を制御し、hcp構造のTiAlNマトリックス内にhcp構造とfcc構造とが混在した繊維状TiAlN粒子が分散したミクロ組織を形成するために、混合ガスA及び混合ガスBをCVD炉1内に非接触の状態で送入しなければならない。このために、図9に示すようにパイプ11,12を具備するCVD炉1を用いる。
窒化チタンアルミニウム皮膜の成膜温度は800〜950℃が好ましく、840〜920℃がより好ましい。成膜温度が800℃未満では、アモルファス状の窒化チタンアルミニウム相が多くなり、耐摩耗性に劣る。一方、成膜温度が950℃を超えると反応が促進されすぎて繊維状TiAlN粒子が粗大化し、窒化チタンアルミニウム皮膜中のfcc構造が多くなりすぎる。
窒化チタンアルミニウム皮膜の反応圧力は2〜5 kPaが好ましい。反応圧力が2 kPa未満であると、窒化チタンアルミニウム皮膜中のfcc構造が過多になる。一方、反応圧力が5 kPaを超えると繊維状TiAlN粒子が粒状化し、耐摩耗性が低下する。
特に限定されないが、公知の化学蒸着法により窒化チタンアルミニウム皮膜の上層を形成することができる。成膜温度は700〜1050℃で良い。上層を形成するのに用いる原料ガスの例は下記の通りである。
1. TiC皮膜 TiCl4ガス、CH4ガス及びH2ガス。
2. CrC皮膜 CrCl3ガス、CH4ガス及びH2ガス。
3. SiC皮膜 SiCl4ガス、CH4ガス及びH2ガス。
4. VC皮膜 VClガス、CH4ガス及びH2ガス。
5. ZrC皮膜 ZrCl4ガス、CH4ガス及びH2ガス。
6. TiN皮膜 TiCl4ガス、N2ガス及びH2ガス。
7. AlN皮膜 AlCl3ガス、NH4ガス及びH2ガス。
8. CrN皮膜 CrCl3ガス、NH4ガス及びH2ガス。
9. Si3N4皮膜 SiCl4ガス、NH4ガス及びH2ガス。
10. VN皮膜 VCl3ガス、NH4ガス及びH2ガス。
11. ZrN皮膜 ZrCl4ガス、N2ガス及びH2ガス。
12. Ti(CN)皮膜 TiCl4ガス、CH4ガス、N2ガス及びH2ガス、又はTiCl4ガス、CH3CNガス、N2ガス及びH2ガス。
13. (TiSi)N皮膜 TiCl4ガス、SiCl4ガス、N2ガス及びNH3ガス。
14. (TiB)N皮膜 TiCl4ガス、N2ガス及びBCl3ガス。
15. TiZr(CN)皮膜 TiCl4ガス、ZrCl4ガス、N2ガス、CH4ガス及びH2ガス、又はTiCl4ガス、ZrCl4ガス、N2ガス、CH3CNガス及びH2ガス。
16. TiAl(CN)皮膜 TiCl4ガス、AlCl3ガス、N2ガス、CH4ガス、NH3ガス及びH2ガス、又はTiCl4ガス、AlCl3ガス、N2ガス、CH3CNガス及びH2ガス。
17. TiSi(CN)皮膜 TiCl4ガス、SiCl4ガス、N2ガス、CH4ガス、NH3ガス及びH2ガス、又はTiCl4ガス、SiCl4ガス、N2ガス、CH3CNガス及びH2ガス。
18. TiCr(CN)皮膜 TiCl4ガス、CrCl3ガス、N2ガス、CH4ガス、NH3ガス及びH2ガス、又はTiCl4ガス、CrCl3ガス、N2ガス、CH3CNガス及びH2ガス。
19. TiV(CN)皮膜 TiCl4ガス、VCl3ガス、N2ガス、CH4ガス、NH3ガス及びH2ガス、又はTiCl4ガス、VCl3ガス、N2ガス、CH3CNガス及びH2ガス。
20. TiZr(CN)皮膜 TiCl4ガス、ZrCl3ガス、N2ガス、CH4ガス、NH3ガス及びH2ガス、又はTiCl4ガス、ZrCl4ガス、N2ガス、CH3CNガス及びH2ガス。
21. Ti(CNO)皮膜 TiCl4ガス、N2ガス、CH4ガス、COガス及びH2ガス、又はTiCl4ガス、N2ガス、CH3CNガス、COガス及びH2ガス。
22. TiAl(CNO)皮膜 TiCl4ガス、AlCl3ガス、N2ガス、CH4ガス、COガス及びH2ガス、又はTiCl4ガス、AlCl3ガス、N2ガス、CH3CNガス、COガス及びH2ガス。
23. Ti(CO)皮膜 TiCl4ガス、N2ガス、CH4ガス、COガス、CO2ガス及びH2ガス。
24. TiB2皮膜 TiCl4ガス、BCl3ガス、H2ガス。
基体上に本発明の窒化チタンアルミニウム皮膜等の硬質皮膜を被覆した後に硬質皮膜をブラシ、バフ、又はブラスト等により機械加工することにより、硬質皮膜の表面が平滑化されて耐チッピング性に優れた表面状態になる。特に、投射材にアルミニウム、ジルコンおよびシリコン等のセラミック粉末粒子の少なくとも一種を用い、湿式及び/又は乾式のブラスト法を用いた硬質皮膜の刃先処理を行うと、硬質皮膜の表面が平滑化されるとともに硬質皮膜の引張残留応力が解放され、好ましくは低下し、耐チッピング性に優れるため好ましい。
(1) 硬質皮膜の形成
図7に概略的に示すWC基超硬合金(11.5質量%のCo、2.0質量%のTaC、0.7質量%のCrC、残部WC及び不可避的不純物からなる)製のミーリング用インサート基体(RPMT1204M0EN-C8)と、WC基超硬合金(7質量%のCo、0.6質量%のCrC、2.2質量%のZrC、3.3質量%のTaC、0.2質量%のNbC、残部WC及び不可避的不純物からなる)製の物性評価用インサート基体(SNMN120408)とを図9に示すCVD炉1内にセットし、H2ガスを流しながらCVD炉1内の温度を850℃に上昇させた。その後、850℃及び8 kPaで、83.1体積%のH2ガス、15.0体積%のN2ガス、1.5体積%のTiCl4ガス、0.4体積%のCH3CNガスからなる原料ガスを6700 ml/分の流量でCVD炉1に流した。こうして、化学蒸着法により、各基体上に厚さ3μmの炭窒化チタンTi(CN)層を形成した。
硬質皮膜被覆工具のTi(CN)層及びTiAlN層の平均厚さ(膜厚)は、皮膜面に対して5°の角度で斜めに研磨することにより得たラップ面の任意5箇所を1,000倍の光学顕微鏡で観察することにより各層の膜厚を測定し、算術平均することにより求めた。結果を表6に示す。
結晶構造を測定するため、X線回折装置(PANalytical社製のEMPYREAN)により、管電圧45 kV及び管電流40 mAでCuKα1線(波長λ:0.15405 nm)を物性評価用インサート(SNMN120408)のすくい面の硬質皮膜表面に照射した。2θが20〜80°の範囲で得られたX線回折パターンを図4に示す。このX線回折パターンでは、WC基超硬合金基体のWCの回折ピークとともに、Ti(CN)皮膜の回折ピーク、hcp構造の窒化チタンアルミニウム皮膜の回折ピーク、及び弱いfcc構造の窒化チタンアルミニウム皮膜の回折ピークが観察された。図4のX線回折パターンから、本発明の窒化チタンアルミニウム皮膜はhcp構造が主構造であることが分かる。
hcp構造が主構造である本発明の窒化チタンアルミニウム皮膜の(100)面から(103)面までの配向を定量的に評価するため、等価X線回折強度比TC(hkl)を下記式(1) で定義する。
[但し、(hkl)は(100)、(002)、(101)、(102)、(110)及び(103)である。]
硬質皮膜及び窒化チタンアルミニウム皮膜の観察は、電界放射型透過電子顕微鏡(FE-TEM、株式会社日本電子製JEM-2010F型)を用いて行った。図1は物性評価用インサート(SNMN120408)のすくい面の硬質皮膜断面の透過型電子顕微鏡(TEM)写真(倍率:40,000倍)であり、図2は図1のA部を拡大したTEM写真(倍率:400,000倍)である。後述する図5及び図6から、図2における黒色繊維状部分は、fcc構造とhcp構造とが混在する繊維状TiAlN粒子であることが分かる。繊維状TiAlN粒子はTiAlNマトリックスに分散している。図3は図2のB部を拡大したTEM写真(倍率:2,000,000倍)である。図5は図3のC部(TiAlNマトリックス)のナノビーム回折(NAD)を示し、図6は図3のD部(繊維状TiAlN粒子)のナノのビーム回折(NAD)を示す。
電子プローブマイクロ分析装置(EPMA、日本電子株式会社製JXA-8500F)を用いて、加速電圧10 kV、照射電流0.05 A、及びビーム径0.5μmの条件で、物性評価用インサート(SNMN120408)の断面における窒化チタンアルミニウム皮膜の膜厚方向中心の任意の5箇所で測定し、算術平均することにより、窒化チタンアルミニウム皮膜の組成を求めた。結果を表4に示す。
Si単結晶を標準試料とする超微小押し込み硬さ試験機(株式会社エリオニクス製ENT-1100)を用いて、4900 mNの最大負荷、49 mN/秒の負荷速度、及び1秒の保持時間の条件でナノインデンテーション(押込み)法により、硬質皮膜の表面の硬さを5回測定し、算術平均した。結果を表6に示す。
得られたミーリング用インサート60を、図8に示す刃先交換式回転工具(ARV4050RM-5)70の工具本体71の先端部72に止めねじ73で装着し、下記ミーリング条件で硬質皮膜の工具寿命を評価した。硬質皮膜の逃げ面摩耗幅は、倍率100倍の光学顕微鏡で観察することにより測定した。工具寿命は、逃げ面の最大摩耗幅が0.350 mmを超えたときの総切削長さとした。結果を表6に示す。
被削材: 硬さ35HRCのSUS630
加工方法: ミーリング加工
インサート形状: RPMT1204M0EN-C8
切削速度: 200 m/分
回転数:毎分1273回転
一刃当たりの送り: 0.40 mm/tooth
送り速度:509 mm/分
軸方向の切り込み量: 2.0 mm
径方向の切り込み量:34 mm
切削方法: 単一刃による乾式切削
窒化チタンアルミニウム皮膜の成膜条件を表3及び表4に示すように変更した以外、実施例1と同様にして、硬質皮膜被覆工具(ミーリング用インサート)を製作し、物性及び性能を評価した。結果を表4〜表6に示す。表4〜表6より、実施例2〜10の各硬質皮膜被覆工具の窒化チタンアルミニウム皮膜は実施例1と同じミクロ組織を有し、実施例1に近い良好な工具寿命を有することが分かる。
実施例1と同じWC基超硬合金製のミーリング用インサート基体(RPMT1204M0EN-C8)及び物性評価用インサート基体(SNMN120408)をCVD炉1内にセットし、H2ガスを流しながらCVD炉1内温度を900℃に上昇させた後、900℃及び12 kPaで、82.0体積%のH2ガス、18.5体積%のN2ガス、1.5体積%のTiCl4ガスからなる原料ガスを4500 ml/分の流量でCVD炉1に流し、化学蒸着法により厚さ3μmの窒化チタン層を形成した。その後、窒化チタンアルミニウム層を実施例1と同じ条件で形成し、実施例1と同様に物性及び性能を評価した。結果を表4〜表6に示す。表4〜表6より、実施例11の硬質皮膜被覆工具の窒化チタンアルミニウム皮膜は、実施例1と同じミクロ組織を有し、実施例1に近い良好な工具寿命を有することが分かる。
実施例1と同じWC基超硬合金製のミーリング用インサート基体(RPMT1204M0EN-C8)及び物性評価用インサート基体をCVD炉1内にセットし、H2ガスを流しながらCVD炉1内温度を900℃に上昇させた後、900℃及び5 kPaで、1.5体積%のTiCl4ガス、0.5体積%のCH3CNガス、1.5体積%のZrCl4ガス、18.5体積%のN2ガス、及び78.0体積%のH2ガスからなる原料ガスを7000 ml/分の流量でCVD炉に流し、化学蒸着法により厚さ3μmの炭窒化チタンジルコニウムTiZr(CN)皮膜を形成した。その後、窒化チタンアルミニウムTiAlN皮膜を実施例1と同じ条件で形成し、物性及び性能を評価した。結果を表4〜表6に示す。表4〜表6より、実施例12の硬質皮膜被覆工具のTiAlN皮膜は実施例1と同じミクロ組織を有し、実施例1に近い良好な工具寿命を有することが分かる。
実施例1と同様に炭窒化チタン皮膜を形成した後、H2ガスを流しながらCVD炉内温度を900℃に上昇させた。その後、ノズル11a,12aの中心度θを20°とした以外図10(d) と同じ構造のパイプ集合体33が2回転/分の速度で回転するCVD炉1(900℃及び6 kPa)に、第一のノズル11a、11aから0.4体積%のTiCl4ガス、1.3体積%のAlCl3ガス、及び57.0体積%のH2ガスからなる混合ガスAを導入し、第二のノズル12a,12aから4.8体積%のNH3ガス、9.6体積%のN2ガス、及び26.9体積%のH2ガスからなる混合ガスBを、合計で5800 ml/分の流量で導入し、実施例1と同様にして化学蒸着法により厚さ4μmのTiAlN皮膜を形成した。得られた硬質皮膜被覆工具(ミーリング用インサート)の物性及び性能を実施例1と同様に評価した。結果を表4〜表6に示す。
実施例1と同様に炭窒化チタン皮膜を形成した後、図11に示すようにノズル11a,12aのなす角度θが180°で、回転速度が2回転/分のCVD炉1(900℃及び6 kPa)に、表3に示す混合ガスA及びBを実施例1と同様に導入し、TiAlN皮膜を形成した。得られた硬質皮膜被覆工具(ミーリング用インサート)の物性及び性能を実施例1と同様に評価した。結果を表4〜表6に示す。
実施例1と同様に炭窒化チタン皮膜を形成した後、図11に示すようにノズル11a,12aのなす角度θが180°で回転速度が2回転/分のCVD炉1(900℃及び6 kPa)に、表3に示す混合ガスA及びBを実施例1と同様に導入し、TiAlN皮膜を形成した。得られた硬質皮膜被覆工具(ミーリング用インサート)の物性及び性能を実施例1と同様に評価した。結果を表4〜表6に示す。
特許文献3の段落[0051]〜[0054]に記載の方法により炭窒化チタン皮膜を形成した後、図11に示すようにノズル11a,12aのなす角度θが180°で、回転速度が2回転/分のCVD炉1(900℃及び6 kPa)に、表3に示す混合ガスA及びBを実施例1と同様に導入し、TiAlN皮膜を形成した。得られた硬質皮膜被覆工具(ミーリング用インサート)の物性及び性能を実施例1と同様に評価した。結果を表4〜表6に示す。
(2) 該当なし。
(2) fcc構造とhcp構造が混在していた。
(3) Al含有量が異なる積層構造を有していた。
2:チャンバー
3:ヒータ
4:棚
4a:棚の中央開口部
5:反応容器
11:第一のパイプ
11a:第一のパイプのノズル
12:第二のパイプ
12a:第二のパイプのノズル
13:排出パイプ
20:インサート基体
70:刃先交換式回転工具
71:工具本体
72:先端部
73:止めねじ
Claims (17)
- 化学蒸着法により形成された窒化チタンアルミニウム皮膜であって、(Tix1Aly1)N(ただし、x1及びy1はそれぞれ原子比でx1=0.05〜0.15、及びy1=0.95〜0.85を満たす数字である。)で表される組成を有するhcp構造のTiAlNマトリックスに、(Tix2Aly2)N(ただし、x2及びy2はそれぞれ原子比でx2=0.15〜0.4、及びy2=0.85〜0.6を満たす数字である。)で表される組成を有するとともにhcp構造とfcc構造とが混在した繊維状TiAlN粒子が分散してなることを特徴とする窒化チタンアルミニウム皮膜。
- 請求項1に記載の窒化チタンアルミニウム皮膜において、繊維状TiAlN粒子の平均横断面径が50 nm以下であることを特徴とする窒化チタンアルミニウム皮膜。
- 請求項1又は2に記載の窒化チタンアルミニウム皮膜において、前記窒化チタンアルミニウム皮膜の等価X線回折強度比TC(002)が1.3以上であることを特徴とする窒化チタンアルミニウム皮膜。
- 請求項1〜3のいずれかに記載の窒化チタンアルミニウム皮膜において、前記窒化チタンアルミニウム皮膜の膜厚が1〜15μmであることを特徴とする窒化チタンアルミニウム皮膜。
- 基体上に化学蒸着法により窒化チタンアルミニウム皮膜を形成してなる硬質皮膜被覆工具であって、前記窒化チタンアルミニウム皮膜は、(Tix1Aly1)N(ただし、x1及びy1はそれぞれ原子比でx1=0.05〜0.15、及びy1=0.95〜0.85を満たす数字である。)で表される組成を有するhcp構造のTiAlNマトリックスに、(Tix2Aly2)N(ただし、x2及びy2はそれぞれ原子比でx2=0.15〜0.4、及びy2=0.85〜0.6を満たす数字である。)で表される組成を有するとともにhcp構造とfcc構造とが混在した繊維状TiAlN粒子が分散してなることを特徴とする硬質皮膜被覆工具。
- 請求項5に記載の硬質皮膜被覆工具において、繊維状TiAlN粒子の平均横断面径が50 nm以下であることを特徴とする硬質皮膜被覆工具。
- 請求項5又は6に記載の硬質皮膜被覆工具において、前記窒化チタンアルミニウム皮膜の等価X線回折強度比TC(002)が1.3以上であることを特徴とする硬質皮膜被覆工具。
- 請求項5〜7のいずれかに記載の硬質皮膜被覆工具において、前記窒化チタンアルミニウム皮膜の膜厚が1〜15μmであることを特徴とする硬質皮膜被覆工具。
- 請求項5〜8のいずれかに記載の硬質皮膜被覆工具において、前記窒化チタンアルミニウム皮膜の下層として、柱状結晶組織を有する炭窒化チタン皮膜を有することを特徴とする硬質皮膜被覆工具。
- 化学蒸着法により窒化チタンアルミニウム皮膜を形成する方法において、
(1) 原料ガスとして、TiCl4ガス、AlCl3ガス、及びH2ガスからなる混合ガスAと、NH3ガス、N2ガス及びH2ガスからなる混合ガスBとを使用し、
(2) 30〜90°ずれて配置された第一及び第二のノズルから別々に前記混合ガスA及び前記混合ガスBを吹き出し、
(3) 前記第一及び第二のノズルを3〜10回転/分の速度で回転させることを特徴とする方法。 - 請求項10に記載の窒化チタンアルミニウム皮膜の製造方法において、前記混合ガスA及びBの合計を100体積%として、前記混合ガスAの組成を0.1〜0.5体積%のTiCl4ガス、1〜4体積%のAlCl3ガス、及び残部H2ガスとし、前記混合ガスBの組成を3〜6体積%のNH3ガス、25体積%以下のN2ガス、及び残部H2ガスとすることを特徴とする方法。
- 請求項11に記載の窒化チタンアルミニウム皮膜の製造方法において、前記混合ガスAがさらに15体積%以下のN2ガスを含有することを特徴とする方法。
- 請求項10〜12のいずれかに記載の窒化チタンアルミニウム皮膜の製造方法において、反応圧力が2〜5 kPaであり、反応温度が800〜950℃であることを特徴とする方法。
- 窒化チタンアルミニウム皮膜を有する硬質皮膜被覆工具を化学蒸着法により製造する方法において、
(1) 原料ガスとして、TiCl4ガス、AlCl3ガス、及びH2ガスからなる混合ガスAと、NH3ガス、N2ガス及びH2ガスからなる混合ガスBとを使用し、
(2) 30〜90°ずれて配置された第一及び第二のノズルから別々に前記混合ガスA及び前記混合ガスBを工具基体上に吹き出し、
(3) 前記第一及び第二のノズルを3〜10回転/分の速度で回転させることを特徴とする。 - 請求項14に記載の硬質皮膜被覆工具の製造方法において、前記混合ガスA及びBの合計を100体積%として、前記混合ガスAの組成を0.1〜0.5体積%のTiCl4ガス、1〜4体積%のAlCl3ガス、及び残部H2ガスとし、前記混合ガスBの組成を3〜6体積%のNH3ガス、25体積%以下のN2ガス、及び残部H2ガスとすることを特徴とする方法。
- 請求項15に記載の硬質皮膜被覆工具の製造方法において、前記混合ガスAがさらに15体積%以下のN2ガスを含有することを特徴とする方法。
- 請求項14〜16のいずれかに記載の硬質皮膜被覆工具の製造方法において、反応圧力が2〜5 kPaであり、反応温度が800〜950℃であることを特徴とする方法。
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