JP2016132605A - ガラス基板の製造方法 - Google Patents
ガラス基板の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016132605A JP2016132605A JP2015009534A JP2015009534A JP2016132605A JP 2016132605 A JP2016132605 A JP 2016132605A JP 2015009534 A JP2015009534 A JP 2015009534A JP 2015009534 A JP2015009534 A JP 2015009534A JP 2016132605 A JP2016132605 A JP 2016132605A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass substrate
- concentration
- glass
- coolant
- nonionic surfactant
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 224
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 183
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 41
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 26
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 55
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 13
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000002826 coolant Substances 0.000 claims description 59
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 claims description 56
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 30
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 22
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 6
- 239000012809 cooling fluid Substances 0.000 claims description 3
- 239000000110 cooling liquid Substances 0.000 abstract description 43
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 abstract 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 abstract 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 25
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 22
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 18
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 16
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 14
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 13
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 11
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 11
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 11
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 8
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 8
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 7
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 7
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N Calcium oxide Chemical compound [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 6
- 238000009296 electrodeionization Methods 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 4
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 4
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 4
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 4
- 238000001223 reverse osmosis Methods 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 3
- -1 alcohol amines Chemical class 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 3
- 235000012255 calcium oxide Nutrition 0.000 description 3
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 3
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 238000007500 overflow downdraw method Methods 0.000 description 3
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 2
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 2
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 2
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 2
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019738 Limestone Nutrition 0.000 description 1
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007507 annealing of glass Methods 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 239000006121 base glass Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 235000011116 calcium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000010922 glass waste Substances 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003698 laser cutting Methods 0.000 description 1
- 239000006028 limestone Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012254 magnesium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
Description
特許文献1は、防錆性を得ることを目的として非イオン系界面活性剤を含む加工液を開示するものであって、冷却液の濃度が一定にならないことにより発生する上記の問題を解決するものではない。
(1)ガラス基板の製造工程
最初に、端面加工装置によって加工されるガラス基板10の製造工程について説明する。ガラス基板は、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイおよび有機ELディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ(FPD)の製造に用いられる。ガラス基板には、平面ガラス基板のみならず、曲面ガラス基板も含まれる。ガラス基板は、例えば、0.2mm〜0.8mmの厚みを有し、かつ、縦680mm〜2200mmおよび横880mm〜2500mmの寸法を有する。
(a)SiO2:50質量%〜70質量%、
(b)Al2O3:10質量%〜25質量%、
(c)B2O3:1質量%〜18質量%、
(d)MgO:0質量%〜10質量%、
(e)CaO:0質量%〜20質量%、
(f)SrO:0質量%〜20質量%、
(g)BaO:0質量%〜10質量%、
(h)RO:5質量%〜20質量%(Rは、Mg、Ca、SrおよびBaから選択される少なくとも1種である。)、
(i)R’2O:0質量%〜2.0質量%(R’は、Li、NaおよびKから選択される少なくとも1種である。)、
(j)SnO2、Fe2O3およびCeO2から選ばれる少なくとも1種の金属酸化物。
なお、上記の組成を有するガラスは、0.1質量%未満の範囲で、その他の微量成分の存在が許容される。
成形工程S1では、ガラス原料を加熱して得られた熔融ガラスから、オーバーフローダウンドロー法またはフロート法によって、ガラスリボンが連続的に成形される。成形されたガラスリボンは、歪みおよび反りが発生しないように温度制御されながら、ガラス徐冷点以下まで冷却される。
採板工程S2では、成形工程S1で成形されたガラスリボンが切断されて、所定の寸法を有する素板ガラスが得られる。
切断工程S3では、採板工程S2で得られた素板ガラスが切断されて、製品サイズのガラス基板が得られる。
粗面化工程S4では、切断工程S3で得られたガラス基板の表面粗さを増加させる粗面化処理が行われる。ガラス基板の粗面化処理は、例えば、フッ化水素を含むエッチング液を用いるウエットエッチング処理である。
洗浄工程S6では、端面加工工程S5で端面加工が行われたガラス基板が洗浄される。ガラス基板には、切断工程S3および端面加工工程S5で生じた微小なガラス片や、雰囲気中に存在する有機物等の異物が付着している。ガラス基板の洗浄によって、これらの異物が除去される。
検査工程S7では、洗浄工程S6で洗浄されたガラス基板が検査される。具体的には、ガラス基板の形状が測定され、ガラス基板の欠陥が光学的に検知される。ガラス基板の欠陥は、例えば、ガラス基板の表面に存在する傷およびクラック、ガラス基板の表面に付着している異物、および、ガラス基板の内部に存在している微小な泡等である。
梱包工程S8では、検査工程S7における検査に合格したガラス基板が、ガラス基板を保護するための合紙と交互にパレット上に積層されて、梱包される。梱包されたガラス基板は、FPDの製造業者等に出荷される。
次に、図2を用いて、端面加工装置がガラス基板の端面を面取り加工および研磨加工する端面加工工程S5について説明する。図2は、端面加工装置100が行う端面加工工程S5を説明するための図である。ガラス基板10は、その主表面が水平面と平行になっている状態で、端面加工装置100の内部を所定の経路に沿って搬送される。
端面加工装置100は、主として、第1面取り加工装置101と、回転装置102と、第2面取り加工装置103と、コーナーカット装置104とを備える。各装置は、この順番でガラス基板10の搬送経路の上流側から下流側に向かって配置され、この順番にガラス基板10は通過する。
次に、回転装置102は、ガラス基板10を水平面内で90°回転させる。その後、ガラス基板10は、第2面取り加工装置103に搬送される。
次に、第2面取り加工装置103は、ガラス基板10の搬送経路の両側に設置された一対の第2ダイヤモンドホイール112を用いて、ガラス基板10の第2端面12a,12bの角部を面取りする。その後、第2面取り加工装置103は、ガラス基板10の搬送経路の両側に設置された一対の第2研磨ホイール122を用いて、ガラス基板10の第2端面12a,12bを研磨する。その後、ガラス基板10は、コーナーカット装置104に搬送される。
第1研磨ホイール121および第2研磨ホイール122は、砥石として、例えば、粒度が♯400である炭化ケイ素砥粒を、鉄を含む金属系の結合剤で固めたものを用いる。第1研磨ホイール121および第2研磨ホイール122は、同じ種類のホイールであってもよい。なお、結合剤は、コバルト系や銅系のボンド材であってもよく、樹脂系のボンド材であってもよい。
(i)砥石とガラス基板端面との接触部に非イオン系界面活性剤を含む水溶液である冷却液を供給して、接触部を冷却する冷却工程、
(ii)冷却液中の非イオン系界面活性剤の濃度を測定し、基準となる濃度と測定値とを比較し、基準となる濃度と測定値とが異なる場合に、基準となる濃度になるよう冷却液の非イオン系界面活性剤の濃度を管理する制御工程。
(iii)ガラス基板表面へのガラスパーティクルの付着を防止するように水を供給する供給工程、
(iv)冷却液を回収する回収工程、
(v)冷却液をろ過するフィルタリング工程、
(vi)冷却液を循環させる循環工程。
また、ガラス基板洗浄後のガラス基板表面へ非イオン系界面活性剤の残存量を考慮すると、冷却液の表面張力が35mN/m以上となる濃度が好ましく、40mN/m以上がより好ましい。非イオン系界面活性剤の濃度が上記の範囲だと、非イオン系界面活性剤のガラス基板表面への残存を減少させる。
有機物がガラス基板表面に残存すると、ガラス基板からブラックマトリクスが剥離するという問題が発生する。有機物には、ガラス基板の積層体に含まれる合紙由来の有機物、搬送及び保管環境下の雰囲気中の有機物だけでなく、ガラス基板表面に残存した冷却液中の非イオン系界面活性剤も含まれる。そこで、非イオン系界面活性剤の濃度の上限を規定することにより、ガラス基板表面に残存する非イオン系界面活剤を減少させ、ブラックマトリクスの剥離を抑制することができる。
表面張力は、例えば、静的表面張力測定法、リング法、プレート法を用いた市販の表面張力計によって測定する。
冷却液のpHが上記の範囲内だと、ガラス基板は冷却液によっては侵食されないが、ガラス基板の表面に付着している有機物は冷却液により溶解されるため、洗浄時に有機物を容易に除去でき、ガラス基板の洗浄性を高めることができる。
また、ガラス基板のアルカリ系洗浄液洗浄後におけるガラス基板の表面に付着している有機物は、ガラス基板表面1cm2当たり0.15ng以下であることが好ましい。
水以外の液体を含む冷却液をディスプレイ用のガラス基板の端面加工に用いると、ガラス基板の表面の品質が変化し、洗浄工程によりガラス基板の表面を洗浄しても、パネル製造工程の歩留まり低下をもたらす場合がある。歩留まり低下の1つの要因として、ガラス基板の表面へのブラックマトリックスの密着性が変化してしまい、例えば、ブラックマトリックスがガラス基板の表面から剥離してしまうという問題が生じていたが、このような冷却液を用いることにより、ガラス基板の表面に半導体素子またはカラーフィルタを形成しても、高い密着性を維持できる。
非イオン系界面活性剤の濃度は、直接測定してもよいし、間接的に測定してもよい。間接的に測定する方法としては、特に限定されないが、例えば、屈折率を利用して濃度を測定する。この場合は、あらかじめ、濃度既知の非イオン系界面活性剤を含む水溶液について屈折率を測定し、非イオン系界面活性剤濃度と屈折率との関係について検量線を作成しておく。そして、冷却液の屈折率を測定し、検量線を用いて、屈折率の測定値から冷却液中の非イオン系界面活性剤の濃度を決定する。
屈折率の測定には、市販の屈折計を用いることができ、JISK 0062に準拠して測定してもよい。
基準となる濃度とは、目的によって決定することができるが、冷却性能を考慮すると、表面張力は、好ましくは55mN/m以下、より好ましくは50mN/m以下となるような濃度から選択される。また、砥石の冷却性能及び非イオン系界面活性剤の残存抑制を考慮すると、冷却液の表面張力は、好ましくは55mN/m以下、より好ましくは50mN/m以上であって、好ましくは35mN/m以上、より好ましくは40mN/m以上となるような濃度から選択される。
濃度、つまり、表面張力の変動があると、冷却能が一定にならず、砥石寿命の短命化につながるため、濃度を一定にする。
基準となる濃度と測定値とを比較して異なる場合に、基準となる濃度になるよう冷却液の非イオン系界面活性剤の濃度を管理する方法としては、基準となる濃度より測定値が低ければ、非イオン系界面活性剤を追加して、濃度を一定に調整する。逆に、基準となる濃度より測定値が高ければ、水を追加して、濃度を一定に調整する。なお、上述のように、非イオン系界面活性剤の濃度を、例えば屈折率を用いて間接的に測定する場合は、基準となる濃度についても屈折率に換算し、屈折率同士を比較してもよい。
上記の工程(v)において、冷却液をろ過する。上記の工程(i)を経た冷却液には、ガラス屑等が含まれる。これらが研削ホイールとガラスとの間に挟まると、加工不良を引き起こすので、フィルタで除去することが好ましい。ろ過に使用するフィルタとしては、5μm以上のガラス屑が取り除けるようなフィルタが好ましく、より好ましくは1μm以上、さらに好ましくは0.3μm以上である。上記より細かいガラス屑を取り除けるようなフィルタを使用すると、フィルタ交換サイクルが早くなり、稼働率が落ちる。
細かいパーティクルの含有量を管理としては、例えば、冷却液中のガラス粒子の量を測定し、測定値と基準値とを比較し、測定値が基準値以上となったら、冷却液を交換する。
ガラス粒子の量の測定は、例えば、電気伝導率を用いて間接的に測定することができる。電気伝導率を用いて測定する場合は、水溶液中のガラス粒子が増えると電気伝導率が上昇することを利用することができる。具体的には、既知のガラス粒子量と電気伝導率との関係について検量線をあらかじめ作成しておき、冷却液中の電気伝導率を測定し、検量線を用いて電気伝導率の測定値からガラス粒子の量を算出することができる。
基準値は、例えば、ガラス基板の表面清浄性を保つ程度のガラス粒子量を含む冷却液を準備し、あらかじめガラス量を測定し、基準値として設定する。基準値は、必要とするガラス基板の表面清浄性を考慮して適宜決定する。
測定値と基準値との比較は、ガラス粒子量を電気伝導率により測定した場合は、電気伝導率同士を比較してもよい。
以下に、本実施形態に用いることのできる端面研削装置の一例を、図3を用いて説明する。
端面研削装置200は、主として、ハウジング202と、面取り砥石203と、モータ(図示せず)と、冷却液供給装置204と、冷却液回収装置205と、ろ過装置206と、濃度制御装置207とを備える。
ハウジング202は金属板で組み立てられた直方体の容器である。
面取り砥石203は、ハウジング202の内部空間に備えられ、ハウジング202の外表面に設けられたスリットから挿入されたガラス基板201の端面を、面取り加工する。
モータは、ハウジング202の上面に取り付けられて、シャフトを介して面取り砥石203と連結されている。モータは、シャフトを軸回転させて、面取り砥石203を回転軸周りに回転させるための動力源である。
冷却液供給装置204は、ハウジング外部空間に貯留した冷却液を、ハウジングを貫通した配管を介して、ハウジング内部空間の面取り砥石203の側面に冷却液を供給する。
冷却液回収装置205は、吸引管を介してハウジングに接続され、ハウジング202の内部空間の気体を吸引して、ハウジングの内部空間をハウジングの外部空間に対して負圧にし、液体および気体を吸引することができる。
ろ過装置206は、冷却液回収装置205により回収した冷却液を、フィルタでろ過してガラス片を取り除く。
濃度制御装置207は、冷却液中の非イオン系界面活性剤濃度を測定する測定部と、基準値と測定値を比較する比較部と、基準値と測定値とが異なる場合に濃度調整の指令を濃度調整部に送る司令部と、司令部からの指令を受けて冷却液の濃度が目標とする濃度となるよう調整する濃度調整部とを備える。濃度調整部を経た冷却液は、冷却液供給装置204に供給される。
砥石とガラス基板の端面との接触部に、非イオン系界面活性剤を含む水溶液である冷却液を供給しながら、接触部を冷却し、ガラス基板の端面を加工した。
SiO2: 60質量%、
B2O3: 10質量%、
Al2O3: 19.8質量%、
CaO: 5質量%、
SrO: 5質量%、
SnO2: 0.2質量%。
ここで、屈折率の測定は、20℃における濃度既知の非イオン系界面活性剤を含む冷却液について、JISK 0062に準拠して屈折率を測定して、屈折率と非イオン系界面活性剤濃度との関係についてあらかじめ検量線を作成し、作成した検量線を用いて、冷却液の屈折率の測定値から、非イオン系界面活性剤の濃度を決定した。
そこで、上記で作成した非イオン系界面活性剤濃度と表面張力との関係を示す検量線を用いて、目標値とするために必要な非イオン系界面活性剤の添加量を算出し、ポンプAを押して、算出した量の非イオン系界面活性剤を冷却液に添加し、冷却液の濃度が目標値となるよう調整した。
その結果、加工枚数が増えても(加工距離が長くても)、ダイヤモンドホイールの駆動に要する加工電流値の上昇が少なく、安定していた。また、ガラス基板端面に加工欠陥は生じなかった。
その結果、実施例1のガラス基板と、冷却液に水を用いた場合におけるガラス基板とでは、ブラックマトリックスの密着性に変化は見られないことを確認した。
その結果、洗浄後においても、実施例1のガラス基板と、冷却液に水を用いた場合におけるガラス基板とでは、ブラックマトリックスの密着性に変化は見られないことを確認した。
実施例1において、非イオン系界面活性剤の濃度を、表面張力が53mN/mになるような濃度から、表面張力が50mN/mになるような濃度に変更し、目標値として表面張力が53mN/mになるような濃度から、表面張力が50mN/mになるような濃度に変更した以外は、実施例1と同一条件にて、冷却液を循環させて端面加工し、カラーフィルタ用のガラス基板を作製した。
その結果、実施例1と比較して、加工枚数が増えても(加工距離が長くても)加工電流値の上昇が少なく、安定していた。また、ガラス基板端面に加工欠陥は生じなかった。
洗浄工程S6の前後のいずれにおいても、実施例2のガラス基板と、冷却液に水を用いた場合におけるガラス基板とでは、ブラックマトリックスの密着性に変化は見られないことを確認した。
実施例1において、非イオン系界面活性剤の濃度を、表面張力が53mN/mになるような濃度から、表面張力が38N/mになるような濃度に変更し、目標値として表面張力が53mN/mになるような濃度から、表面張力が38mN/mになるような濃度に変更した以外は、実施例1と同一条件にて、冷却液を循環させて端面加工し、フラットパネルディスプレイ用のガラス基板を作製した。
その結果、実施例2と比較して、加工枚数が増えても(加工距離が長くなる)加工電流値の上昇が少なく、安定していた。また、ガラス基板端面に加工欠陥は生じなかった。
実施例1において、端面加工の際にガラス基板表面に対してシャワーを当てなかったこと以外、実施例1と同一条件にて試験を行い、回収した冷却液中の非イオン系界面活性剤の濃度を、屈折率を用いて測定した。
得られた測定値は、研削熱による水の蒸発があったがシャワー水の混入がないことから、目標値(表面張力が55mN/mになるような濃度)と比較して高かった。そこで、上記で作成した非イオン系界面活性剤濃度と表面張力の関係を示す検量線を用いて、目標値とするために必要な水の添加量を算出した。
次に、ポンプBを押して、算出した量の水を冷却液に添加し、冷却液の濃度が目標値となるよう調整した。
次に、得られた冷却液を、循環させて、上記と同様の条件にて端面加工に用い、カラーフィルタ用のガラス基板を作製した。
その結果、実施例1と同様に、加工枚数が増えても(加工距離が長くても)、加工電流値の上昇が少なく、安定していた。また、ガラス基板端面に加工欠陥は生じなかった。
洗浄工程S6の前後のいずれにおいても、実施例5のガラス基板と、冷却液に水を用いた場合におけるガラス基板とでは、ブラックマトリックスの密着性に変化は見られないことを確認した。
回収した冷却液の濃度を調整しなかったこと以外、実施例1と同一条件にてカラーフィルタ用のガラス基板を作製した。
その結果、実施例1と同様に、冷却液を循環させて端面加工を行った際、加工距離が1000mに達するまでに、加工されたガラス基板の端面において、加工欠陥が連続的または散発的に発生した。
また、加工負荷を示す加工電流値も、加工スタート時から上昇することが確認された。
端面の研削加工において、加工ホイールとガラス基板との加工点まで冷却液の浸透が不足し、その結果、連続加工を行うと、加工欠陥の発生、更には加工負荷電流値の上昇が生じた。この場合、加工ホイールの加工溝のドレッシング作業が必要になる。
洗浄工程S6の前後のいずれにおいても、比較例1のガラス基板と、冷却液に水を用いた場合におけるガラス基板とでは、ブラックマトリックスの密着性に変化が見られないことを確認した。
これに対して、冷却液の濃度管理をしなかった比較例1のガラス基板の製造方法によると、加工溝のドレッシング作業が必要になるため、砥石寿命の短命化につながる。
11a、11b 第1端面
12a、12b 第2端面
100 端面加工装置
101 第1面取り加工装置
102 回転装置
103 第2面取り加工装置
104 コーナーカット装置
111、112、113 ダイヤモンドホイール
121、122、研磨ホイール
202 ハウジング
203 砥石
204 冷却液供給装置
205 冷却液回収装置
206 ろ過装置
207 濃度制御装置
Claims (5)
- 砥石とガラス端面との接触部に冷却液を供給しながら、前記砥石によって前記ガラス基板の端面を加工する端面加工工程を備えるガラス基板の製造方法であって、
前記端面加工工程において、
前記接触部に非イオン系界面活性剤を含む水溶液である冷却液を供給して、前記接触部を冷却する冷却工程と、
前記冷却液中の非イオン系界面活性剤の濃度を測定し、基準となる濃度と測定値とを比較し、前記基準となる濃度と前記測定値とが異なる場合に、前記基準となる濃度になるよう非イオン系界面活性剤の濃度を管理する制御工程を備える、ガラス基板の製造方法。 - さらに、前記制御工程を経た冷却液を循環させる循環工程を備える、請求項1に記載のガラス基板の製造方法。
- さらに、ガラス基板表面へのガラスパーティクルの付着を防止するように水を供給する供給工程を備える請求項1又は2に記載のガラス基板の製造方法。
- 前記ガラス基板は、カラーフィルタ用のガラス基板である、請求項1〜3のいずれかに記載のカラーフィルタ用ガラス基板の製造方法。
- 前記ガラス基板は、フラットパネルディスプレイ用のガラス基板である、請求項1〜3のいずれかに記載のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015009534A JP6498947B2 (ja) | 2015-01-21 | 2015-01-21 | ガラス基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015009534A JP6498947B2 (ja) | 2015-01-21 | 2015-01-21 | ガラス基板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016132605A true JP2016132605A (ja) | 2016-07-25 |
JP6498947B2 JP6498947B2 (ja) | 2019-04-10 |
Family
ID=56437312
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015009534A Active JP6498947B2 (ja) | 2015-01-21 | 2015-01-21 | ガラス基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6498947B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110549186A (zh) * | 2018-05-22 | 2019-12-10 | 蓝思科技股份有限公司 | 2.5d玻璃的弧面加工设备及弧面加工方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05215703A (ja) * | 1992-01-21 | 1993-08-24 | Supiide Fuamu Clean Syst Kk | 洗剤濃度の制御方法及び装置 |
JP2011063466A (ja) * | 2009-09-16 | 2011-03-31 | Neos Co Ltd | 水溶性ガラス加工液組成物 |
WO2011162163A1 (ja) * | 2010-06-21 | 2011-12-29 | 旭硝子株式会社 | ガラス基板及びガラス基板の製造方法 |
JP2012114225A (ja) * | 2010-11-24 | 2012-06-14 | Sumco Corp | 薬液リサイクル方法および該方法に用いる装置 |
JP2013193892A (ja) * | 2012-03-16 | 2013-09-30 | Avanstrate Inc | ガラス板の製造方法 |
KR20140019226A (ko) * | 2012-08-06 | 2014-02-14 | 아반스트레이트코리아 주식회사 | 컬러 필터용 유리 시트의 제조 방법, 컬러 필터 패널의 제조 방법, 및 디스플레이용 유리 기판 |
JP2014084258A (ja) * | 2012-10-25 | 2014-05-12 | Avanstrate Inc | ガラス基板の製造方法 |
-
2015
- 2015-01-21 JP JP2015009534A patent/JP6498947B2/ja active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05215703A (ja) * | 1992-01-21 | 1993-08-24 | Supiide Fuamu Clean Syst Kk | 洗剤濃度の制御方法及び装置 |
JP2011063466A (ja) * | 2009-09-16 | 2011-03-31 | Neos Co Ltd | 水溶性ガラス加工液組成物 |
WO2011162163A1 (ja) * | 2010-06-21 | 2011-12-29 | 旭硝子株式会社 | ガラス基板及びガラス基板の製造方法 |
JP2012114225A (ja) * | 2010-11-24 | 2012-06-14 | Sumco Corp | 薬液リサイクル方法および該方法に用いる装置 |
JP2013193892A (ja) * | 2012-03-16 | 2013-09-30 | Avanstrate Inc | ガラス板の製造方法 |
KR20140019226A (ko) * | 2012-08-06 | 2014-02-14 | 아반스트레이트코리아 주식회사 | 컬러 필터용 유리 시트의 제조 방법, 컬러 필터 패널의 제조 방법, 및 디스플레이용 유리 기판 |
JP2014052622A (ja) * | 2012-08-06 | 2014-03-20 | Avanstrate Korea Inc | カラーフィルタ用ガラスシートの製造方法、カラーフィルタパネルの製造方法、および、ディスプレイ用ガラス基板 |
JP2014084258A (ja) * | 2012-10-25 | 2014-05-12 | Avanstrate Inc | ガラス基板の製造方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110549186A (zh) * | 2018-05-22 | 2019-12-10 | 蓝思科技股份有限公司 | 2.5d玻璃的弧面加工设备及弧面加工方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6498947B2 (ja) | 2019-04-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI637927B (zh) | 玻璃基板之製造方法、及玻璃基板之製造裝置 | |
TWI632025B (zh) | 矽晶圓的研磨方法 | |
CN104356950A (zh) | 一种蓝宝石晶片抛光液 | |
CN104842225A (zh) | 大尺寸蓝宝石衬底片表面的湿法处理方法 | |
TW201724125A (zh) | 玻璃基板及玻璃板捆包體 | |
CN104827592A (zh) | 一种大尺寸蓝宝石衬底片的加工方法 | |
JP6333673B2 (ja) | ガラス基板の製造方法、及び、加工液 | |
JP5925539B2 (ja) | ガラス板の製造方法 | |
JP6498947B2 (ja) | ガラス基板の製造方法 | |
JP6629557B2 (ja) | ガラス基板製造装置 | |
JP6511223B2 (ja) | ガラス基板の製造方法 | |
JP2013204012A (ja) | ガラス板の洗浄液、洗浄方法および製造方法 | |
KR20160060033A (ko) | 유리 기판의 제조 방법, 유리 기판 및 디스플레이용 패널 | |
JP6419578B2 (ja) | ハードディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP2017066003A (ja) | ディスプレイ用ガラス基板の製造方法、ディスプレイ用ガラス基板製造装置 | |
JP2012076948A (ja) | シートガラスの製造方法 | |
JP5083477B2 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP2012076945A (ja) | シートガラスの製造方法及びガラス板 | |
JP6368364B2 (ja) | ガラス基板の製造方法 | |
JP2013203647A (ja) | ガラス板の洗浄液、洗浄方法および製造方法 | |
JP6376046B2 (ja) | 基板の製造方法 | |
JP6259372B2 (ja) | ガラス基板の製造方法、及び、ガラス基板の製造装置 | |
JP2014130673A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP5578409B2 (ja) | 半導体ウェーハ製造方法 | |
JP2017197671A (ja) | 研磨液、貯蔵液及びそれらを用いた研磨方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180111 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180709 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180821 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181009 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190312 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190314 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6498947 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |