JP2016131177A5 - - Google Patents
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- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims 20
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims 17
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims 13
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims 9
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 4
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 3
- 230000002950 deficient Effects 0.000 claims 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 claims 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims 1
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015004025A JP6310864B2 (ja) | 2015-01-13 | 2015-01-13 | 検査装置 |
| US14/993,470 US9460891B2 (en) | 2015-01-13 | 2016-01-12 | Inspection equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015004025A JP6310864B2 (ja) | 2015-01-13 | 2015-01-13 | 検査装置 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2016131177A JP2016131177A (ja) | 2016-07-21 |
| JP2016131177A5 true JP2016131177A5 (cg-RX-API-DMAC7.html) | 2017-04-13 |
| JP6310864B2 JP6310864B2 (ja) | 2018-04-11 |
Family
ID=56368015
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2015004025A Expired - Fee Related JP6310864B2 (ja) | 2015-01-13 | 2015-01-13 | 検査装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9460891B2 (cg-RX-API-DMAC7.html) |
| JP (1) | JP6310864B2 (cg-RX-API-DMAC7.html) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6994507B2 (ja) | 2016-12-05 | 2022-01-14 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 結露管理システム |
| WO2019058440A1 (ja) * | 2017-09-20 | 2019-03-28 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
| US11193895B2 (en) * | 2017-10-30 | 2021-12-07 | Hitachi High-Tech Corporation | Semiconductor substrate for evaluation and method using same to evaluate defect detection sensitivity of inspection device |
| JP7003334B2 (ja) * | 2019-09-30 | 2022-01-20 | 三菱電機株式会社 | 情報処理装置、プログラム及び情報処理方法 |
Family Cites Families (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4538069A (en) * | 1983-10-28 | 1985-08-27 | Control Data Corporation | Capacitance height gage applied in reticle position detection system for electron beam lithography apparatus |
| US4686531A (en) * | 1983-10-28 | 1987-08-11 | Control Data Corporation | Capacitance height gage applied in reticle position detection system for electron beam lithography apparatus |
| JPS63202835A (ja) * | 1987-02-17 | 1988-08-22 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 荷電ビ−ムの自動調整方法および自動調整装置 |
| JP3994691B2 (ja) * | 2001-07-04 | 2007-10-24 | 株式会社日立製作所 | 荷電粒子線装置および自動非点収差調整方法 |
| US20060060781A1 (en) * | 1997-08-11 | 2006-03-23 | Masahiro Watanabe | Charged-particle beam apparatus and method for automatically correcting astigmatism and for height detection |
| JP3534582B2 (ja) | 1997-10-02 | 2004-06-07 | 株式会社日立製作所 | パターン欠陥検査方法および検査装置 |
| JP3441955B2 (ja) * | 1998-02-23 | 2003-09-02 | 株式会社日立製作所 | 投射方式の荷電粒子顕微鏡および基板検査システム |
| JP3805565B2 (ja) * | 1999-06-11 | 2006-08-02 | 株式会社日立製作所 | 電子線画像に基づく検査または計測方法およびその装置 |
| US6825480B1 (en) * | 1999-06-23 | 2004-11-30 | Hitachi, Ltd. | Charged particle beam apparatus and automatic astigmatism adjustment method |
| JP2002260296A (ja) * | 2001-02-28 | 2002-09-13 | Sony Corp | 電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射方法 |
| US6828571B1 (en) * | 2003-09-17 | 2004-12-07 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Apparatus and methods of controlling surface charge and focus |
| JP4914604B2 (ja) * | 2005-12-07 | 2012-04-11 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子線検査装置を用いたパターン欠陥検査方法及びそのシステム、並びに写像投影型又はマルチビーム型電子線検査装置 |
| JP4870450B2 (ja) * | 2006-02-27 | 2012-02-08 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 検査装置、および検査方法 |
| JP4988444B2 (ja) * | 2007-06-19 | 2012-08-01 | 株式会社日立製作所 | 検査方法および装置 |
| JP5873227B2 (ja) * | 2007-12-06 | 2016-03-01 | エフ・イ−・アイ・カンパニー | デコレーションを用いたスライス・アンド・ビュー |
| JP4988662B2 (ja) * | 2008-07-25 | 2012-08-01 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
| JP5178558B2 (ja) * | 2009-02-03 | 2013-04-10 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線の光軸調整方法、及び荷電粒子線装置 |
| JP5415523B2 (ja) * | 2009-03-19 | 2014-02-12 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | パターン検査装置及びその検査方法 |
-
2015
- 2015-01-13 JP JP2015004025A patent/JP6310864B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2016
- 2016-01-12 US US14/993,470 patent/US9460891B2/en not_active Expired - Fee Related