JP2016129080A - Ni−Cu系磁気記録媒体のシード層用合金およびスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 - Google Patents
Ni−Cu系磁気記録媒体のシード層用合金およびスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016129080A JP2016129080A JP2015002755A JP2015002755A JP2016129080A JP 2016129080 A JP2016129080 A JP 2016129080A JP 2015002755 A JP2015002755 A JP 2015002755A JP 2015002755 A JP2015002755 A JP 2015002755A JP 2016129080 A JP2016129080 A JP 2016129080A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic recording
- alloy
- recording medium
- seed layer
- sputtering target
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/7368—Non-polymeric layer under the lowermost magnetic recording layer
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/851—Coating a support with a magnetic layer by sputtering
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
本発明は、垂直磁気記録媒体におけるシード層として用いるNi−Cu系磁気記録媒体のシード層用合金およびスパッタリングターゲット材を提供する。
【解決手段】
Ni−Cu−M合金であって、Cuを1〜50at%、M1元素としてW,Mo,Ta,Cr,V,Nbの1種または2種以上を2〜20at%含有し、残部がNiと不可避的不純物からなることを特徴とする磁気記録媒体のシード層用合金およびスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体にある。
【選択図】 なし
Description
のシード層用合金およびスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体に関するものである。
記録密度化が進められており、従来普及していた面内磁気記録媒体により、さらに高記録密度が実現できる、垂直磁気記録方式が実用化されている。ここで、垂直磁気記録方式とは、垂直磁気記録媒体の磁性膜中の媒体面に対して磁化容易軸が垂直方向に配向するように形成したものであり、高記録密度に適した方法である。
を有する記録媒体が開発されており、このような媒体構造では、軟磁性層と磁気記録層の間にシード層や下地膜層が製膜された記録媒体が開発されている。垂直磁気記録方式用のシード層には、例えば特開2009−155722号公報(特許文献1)に開示されているように、Ni−W系の合金が提案されている。
(1)Ni−Cu−M合金であって、Cuを1〜50at%、M1元素としてW,Mo,Ta,Cr,V,Nbの1種または2種以上を2〜20at%含有し、残部がNiと不可避的不純物からなることを特徴とする磁気記録媒体のシード層用合金。
(2)Ni−Cu−M合金であって、Cuを10超〜50at%、M1元素としてW,Mo,Ta,Cr,V,Nbの1種または2種以上を2〜20at%およびM2元素としてFeまたはCoを2〜30at%含有し、残部がNiと不可避的不純物からなることを特徴とする磁気記録媒体のシード層用合金。
してAl,Ga,In,Si,Ge,Sn,Zr,Ti,Hf,B,P,C,Ruの1種または2種以上を1〜10at%含有することを特徴とする磁気記録媒体のシード層用合金。
(4)前記(1)〜(3)のいずれか1に記載の磁気記録媒体のシード層用合金を使用してなるスパッタリングターゲット材。
(5)前記(1)〜(3)のいずれか1に記載のシード層用合金を使用してなる磁気記録媒体にある。
Cu:1〜50at%
Ni−M系合金の耐食性を向上させるためにCuを添加した。しかし、1%未満ではそのの効果が十分でなく、50%を超えるとシード層としての性能を発揮できない。
たは2種を必須とし、Cr,Ta,V,Nbはこれに添加してもよい。その理由は、Niと高融点bcc金属の組合せで、Mo,WはCrに比べ融点が高く有利である。また、Ta,V,Nb添加はW、Moに比べ、添加する事でアモルファス性を高めることにも作用し、シード層に求められるfcc相形成に不利である。Crは望ましくは5%超え添加した場合に配向性の点で有利となる。
を以下M3元素と称すると、このM3元素は、(111)面を配向させる元素であり、また、結晶粒を微細化する元素である。このAl,Ga,In,Si,Ge,Sn,Zr,Ti,Hf,B,Cu,P,C,Ruの1種または2種以上をat%量で、1〜10%とする。しかし、10%を超えると化合物が生じたり、アモルファス化したりすることから、その上限を10%とする。好ましくは5%とする。また、M1+M3は好ましくは、25at%以下、さらに好ましくは20at%以下とする。
通常、垂直磁気記録媒体におけるシード層はその成分と同じ成分のスパッタリングターゲット材をスパッタし、ガラス基板などの上に成膜し得られる。ここでスパッタにより成膜された薄膜は急冷されている。本発明での供試材としては、単ロール式の急冷装置にて作製した急冷薄帯を用いる。これは実際にスパッタにより急冷され成膜された薄膜の、成分による諸特性への影響を、簡易的に液体急冷薄帯により評価したものである。
m程度の水冷銅鋳型にて減圧して、Ar中でアーク溶解し、急冷薄帯の溶解母材とした。急冷薄帯の作製条件は、単ロール方式で径15mmの石英管中にて、この溶解母材をセットし、出湯ノズル径を1mmとし、雰囲気気圧61kPa、噴霧差圧69kPa、銅ロール(径300mm)の回転数3000rpm、銅ロールと出湯ノズルのギャップ0.3mmにて出湯した。出湯温度は各溶解母材の溶け落ち直後とした。このようにして作製した急冷薄帯を供試材とし、以下の項目を評価した。
のとき、測定面は急冷薄帯の銅ロール接触面となるように供試材を貼り付けた。X線源はCu−α線でスキャンスピード4°/minで測定した。この回折パターンにおいて、fcc構造の回折線のピークのみ得られたものを○、それ以外の回折線のピークが得られたもの、アモルファス化したものについては×とした。
Cl−35℃−16hの塩水噴霧試験を行い、全面発銹:×、一部発銹:△、発銹なし:○として評価した。各評価結果を表1に示す。
食性が劣る。これに対して本発明であるNo.31〜53はいずれも本発明の条件を満足していることから、fcc構造の回折線のみが見られ、シード層に求められる条件を十分満たしており、かつ耐食性を向上させることがわかる。
いために耐食性が劣る。比較例No.96、97はCu含有量が少なく、かつM3>10at%のために、耐食性が劣り、しかもシード層用合金に求められるfcc単相を保つことができない。これに対して、本発明であるNo.61〜90はいずれも本発明の条件を満足していることから、fcc構造の回折線のみが見られ、シード層に求められる条件を十分満たしており、かつ耐食性を向上させることがわかる。
出願人 山陽特殊製鋼株式会社
代理人 弁理士 椎 名 彊
Claims (5)
- Ni−Cu−M合金であって、Cuを1〜50at%、M1元素としてW,Mo,Ta,Cr,V,Nbの1種または2種以上を2〜20at%含有し、残部がNiと不可避的不純物からなることを特徴とする磁気記録媒体のシード層用合金。
- Ni−Cu−M合金であって、Cuを10超〜50at%、M1元素としてW,Mo,Ta,Cr,V,Nbの1種または2種以上を2〜20at%およびM2元素としてFeまたはCoを2〜30at%含有し、残部がNiと不可避的不純物からなることを特徴とする磁気記録媒体のシード層用合金。
- 請求項1または請求項2に記載されたNi−Cu−M合金に、さらにM3元素としてAl,Ga,In,Si,Ge,Sn,Zr,Ti,Hf,B,P,C,Ruの1種または2種以上を1〜10at%含有することを特徴とする磁気記録媒体のシード層用合金。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載の磁気記録媒体のシード層用合金を使用してなるスパッタリングターゲット材。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載のシード層用合金を使用してなる磁気記録媒体。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015002755A JP6502672B2 (ja) | 2015-01-09 | 2015-01-09 | Ni−Cu系磁気記録媒体のシード層用合金およびスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 |
CN201680005033.2A CN107251139B (zh) | 2015-01-09 | 2016-01-07 | Ni-Cu系磁记录介质的籽晶层用合金和溅射靶材及磁记录介质 |
SG11201705571VA SG11201705571VA (en) | 2015-01-09 | 2016-01-07 | ALLOY AND SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR SEED LAYER IN Ni-Cu-BASED MAGNETIC RECORDING MEDIUM, AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM |
PCT/JP2016/050350 WO2016111329A1 (ja) | 2015-01-09 | 2016-01-07 | Ni-Cu系磁気記録媒体のシード層用合金およびスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 |
MYPI2017702493A MY186853A (en) | 2015-01-09 | 2016-01-07 | Alloy and sputtering target material for seed layer in ni-cu-based magnetic recording medium, and magnetic recording medium |
TW105100538A TWI746429B (zh) | 2015-01-09 | 2016-01-08 | Ni-Cu系磁性記錄媒體之晶種層用合金及濺鍍靶材以及磁性記錄媒體 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015002755A JP6502672B2 (ja) | 2015-01-09 | 2015-01-09 | Ni−Cu系磁気記録媒体のシード層用合金およびスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016129080A true JP2016129080A (ja) | 2016-07-14 |
JP6502672B2 JP6502672B2 (ja) | 2019-04-17 |
Family
ID=56356015
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015002755A Active JP6502672B2 (ja) | 2015-01-09 | 2015-01-09 | Ni−Cu系磁気記録媒体のシード層用合金およびスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6502672B2 (ja) |
CN (1) | CN107251139B (ja) |
MY (1) | MY186853A (ja) |
SG (1) | SG11201705571VA (ja) |
TW (1) | TWI746429B (ja) |
WO (1) | WO2016111329A1 (ja) |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS637514A (ja) * | 1986-06-27 | 1988-01-13 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
JPH0676260A (ja) * | 1991-08-30 | 1994-03-18 | Sony Corp | 磁気記録媒体 |
JP2004213833A (ja) * | 2003-01-08 | 2004-07-29 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
JP2007184019A (ja) * | 2006-01-04 | 2007-07-19 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 垂直磁気記録媒体及びこれを用いた磁気記憶装置 |
JP2008034060A (ja) * | 2006-07-31 | 2008-02-14 | Fujitsu Ltd | 垂直磁気記録媒体および磁気記憶装置 |
WO2009051090A1 (ja) * | 2007-10-15 | 2009-04-23 | Hoya Corporation | 垂直磁気記録媒体 |
JP2009199717A (ja) * | 2009-04-24 | 2009-09-03 | Canon Anelva Corp | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
JP2010518536A (ja) * | 2007-02-03 | 2010-05-27 | ダブリューディー メディア インコーポレイテッド | 改良された異方性磁界を有する垂直磁気記録媒体 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4889767A (en) * | 1986-04-23 | 1989-12-26 | Tdk Corporation | Magnetic recording medium |
JP5726615B2 (ja) * | 2010-11-22 | 2015-06-03 | 山陽特殊製鋼株式会社 | 磁気記録媒体のシード層用合金およびスパッタリングターゲット材 |
-
2015
- 2015-01-09 JP JP2015002755A patent/JP6502672B2/ja active Active
-
2016
- 2016-01-07 SG SG11201705571VA patent/SG11201705571VA/en unknown
- 2016-01-07 WO PCT/JP2016/050350 patent/WO2016111329A1/ja active Application Filing
- 2016-01-07 CN CN201680005033.2A patent/CN107251139B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2016-01-07 MY MYPI2017702493A patent/MY186853A/en unknown
- 2016-01-08 TW TW105100538A patent/TWI746429B/zh active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS637514A (ja) * | 1986-06-27 | 1988-01-13 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
JPH0676260A (ja) * | 1991-08-30 | 1994-03-18 | Sony Corp | 磁気記録媒体 |
JP2004213833A (ja) * | 2003-01-08 | 2004-07-29 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
JP2007184019A (ja) * | 2006-01-04 | 2007-07-19 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 垂直磁気記録媒体及びこれを用いた磁気記憶装置 |
JP2008034060A (ja) * | 2006-07-31 | 2008-02-14 | Fujitsu Ltd | 垂直磁気記録媒体および磁気記憶装置 |
JP2010518536A (ja) * | 2007-02-03 | 2010-05-27 | ダブリューディー メディア インコーポレイテッド | 改良された異方性磁界を有する垂直磁気記録媒体 |
WO2009051090A1 (ja) * | 2007-10-15 | 2009-04-23 | Hoya Corporation | 垂直磁気記録媒体 |
JP2009199717A (ja) * | 2009-04-24 | 2009-09-03 | Canon Anelva Corp | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201632635A (zh) | 2016-09-16 |
SG11201705571VA (en) | 2017-08-30 |
CN107251139A (zh) | 2017-10-13 |
WO2016111329A1 (ja) | 2016-07-14 |
CN107251139B (zh) | 2020-04-14 |
TWI746429B (zh) | 2021-11-21 |
MY186853A (en) | 2021-08-26 |
JP6502672B2 (ja) | 2019-04-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5726615B2 (ja) | 磁気記録媒体のシード層用合金およびスパッタリングターゲット材 | |
TWI627286B (zh) | CoFe-based alloy for soft magnetic film layer and sputtering target for perpendicular magnetic recording medium | |
JP5698023B2 (ja) | 磁気記録用軟磁性合金及びスパッタリングターゲット材ならびに磁気記録媒体 | |
CN109074824B (zh) | 磁记录介质的晶种层用合金、溅射靶材和磁记录介质 | |
JP5714397B2 (ja) | 磁気記録用軟磁性合金およびスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 | |
TWI478183B (zh) | A magneto-magnetic recording medium for magnetic recording and a sputtering target, and a magnetic recording medium | |
JP5631659B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体用軟磁性合金およびスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 | |
JP5797398B2 (ja) | 磁気記録用Ni系合金及びスパッタリングターゲット材ならびに磁気記録媒体 | |
TWI604078B (zh) | Perpendicular magnetic recording medium, soft magnetic film layer alloy, sputtering target, and perpendicular magnetic recording medium having a soft magnetic film layer | |
JP6442460B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用CoFe系合金およびスパッタリングターゲット材 | |
JP6502672B2 (ja) | Ni−Cu系磁気記録媒体のシード層用合金およびスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 | |
JP6506659B2 (ja) | 磁気記録用非晶質合金およびスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 | |
JP2020135907A (ja) | 垂直磁気記録媒体の軟磁性層形成用スパッタリングターゲット、並びに、垂直磁気記録媒体及びその軟磁性層 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170901 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20171020 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20181023 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181217 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190226 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190322 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6502672 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |