JP2016128211A - 機能性フィルムの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】本発明の課題は、ガスバリアー性、透明性及び平面性に優れた機能性フィルムを、大型設備を必要とせず、簡易的な方法で、経済性及び生産安定性に優れ、かつ高い生産性を備えた機能性フィルムの製造方法を提供することである。
【解決手段】本発明の機能性フィルムの製造方法は、耐熱基材上に無機層形成前駆体を塗布して無機層形成前駆体層を形成する塗布工程、形成した前記無機層形成前駆体層を熱焼成して無機層を形成する熱焼成工程、形成した前記無機層を冷却する冷却工程、耐熱基材の無機層を有する面と、プラスチックフィルム面とを密着する密着工程、密着した後、前記無機層をプラスチックフィルム面に転写する転写工程、を経て製造する機能性フィルムの製造方法であって、前記転写工程が、前記冷却工程を経て、前記耐熱基材の温度が４０℃に到達するまでの間で行うことを特徴とする。
【選択図】図３

Description

本発明は、生産効率に優れた機能性フィルムの製造方法に関する。

現在、各種機能を備えた機能性フィルムが広く知られている。機能性フィルムとは、主には可撓性のプラスチックフィルム上に各種機能を発現する構成層（機能性層）を設けたフィルムであり、例えば、ガスバリアー性フィルム、反射防止フィルム、防眩性フィルム、熱線遮断フィルム、透明導電性フィルム、防湿フィルム、紫外線劣化防止フィルム、拡散フィルム、耐候性フィルム、抗菌フィルム等が挙げられる。

機能性フィルムの一例である、プラスチック基板やフィルムの表面に酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ケイ素等の金属酸化物の薄膜を形成したガスバリアー性フィルムは、水蒸気や酸素等の各種ガスの遮断を必要とする物品の包装用途や、食品、工業用品及び医薬品等の変質を防止するための包装用途で広く用いられている。

また、上記包装用途以外にも、液晶表示素子、太陽電池、有機エレクトロルミネッセンス（以下、有機ＥＬと略記する）基板等の電子デバイス材料として使用されている。

以下、機能性フィルムの代表例として、ガスバリアー性フィルムについて述べる。

ガスバリアー性フィルムを構成するガスバリアー層としては、一般的には、真空蒸着装置等を用いてシリカ蒸着膜を形成する方法が知られているが、この真空蒸着では、大型の設備を必要とし、更に、使用する設備上の制約より、ロール・ツー・ロール方式による連続生産に制約があり、経済性及び生産性の面で問題があった。

上記蒸着以外でバリアー層を形成する方法としては、例えば、特開平８−２６９６９０号公報には、ポリエステルフィルムに、パーヒドロポリシラザン（以下、ＰＨＰＳともいう。）または有機ポリシラザンを含有する塗布液を塗布し、プラズマ処理によりＰＨＰＳまたは有機ポリシラザンを硬化及び重合させて酸化ケイ素系等から成る無機高分子層を形成する方法が開示されている。しかし、特開平８−２６９６９０号公報で開示されている方法における無機高分子層は、基材と金属蒸着層の中間層として、金属蒸着層の基材との密着性や、基材の化学的安定性を付与するための層であり、ガスバリアー層として効果は低い。

また、ＰＨＰＳ又は有機ポリシラザンを主成分として含む薄膜（０．０５〜５μｍ）を、透明性及びガスに対する高いバリアー作用に優れる緻密なガラス様の層に転化するための方法が開示されている（例えば、特許文献１参照。）。特許文献１に記載されている転化方法は、２３０ｎｍ以下の波長を有する真空紫外光（以下、ＶＵＶともいう。）及び３００ｎｍ未満の波長のＵＶ光の照射によって、各々の基材に適合したできるだけ低い温度において、できるだけ短い処理時間（０．１〜１０分間）で行われる技術は開示されているが、得られるガスバリアー層のガスバリアー性としては、不十分である。

一方、各種電子デバイスに適用されているフレキシブルなプラスチックフィルムは、上述のようにガスバリアー性が十分ではなく、そのガスバリアー性を補填するため、上述のようなガスバリアー性層が設けられているが、耐熱性が低いため、ガスバリアー層の成膜プロセスの最高温度を低くせざるを得ず、高密度で精緻なガスバリアー層を形成することができていない。そのため、プラスチックフィルムを用いた高信頼性を有する電子デバイスは実現されていない。

上記問題に対し、耐熱性基板（例えば、ガラス基板）上に、例えば、ポリシラザンやシロキサンポリマーを含む溶液を塗布し、その後焼成処理により無機層を形成した後、プラスチックフィルム上に転写する方法が開示されている（例えば、特許文献２参照。）。しかしながら、特許文献２に記載されている方法では、形成した無機層の剥離工程及び他の基板への密着工程が多く、その工程が煩雑であり、生産適性、特に、連続生産適性が極めて乏しい方法である。加えて、剥離工程及び密着工程における条件が、厳密に制御されていないため、安定してガスバリアー層を形成することが難しかった。

従って、ガスバリアー性、透明性及び平面性に優れ、高い生産性と生産能力（生産速度）を備えた機能性フィルムの製造方法の開発が切望されている。

特表２００９−５０３１５７号公報 特許第４９７４４５２号公報

本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、ガスバリアー性、透明性及び平面性に優れた機能性フィルムを、大型設備を必要とせず、簡易的な方法で、経済性及び生産安定性に優れ、かつ高い生産能力（生産速度）で生産することができる機能性フィルムの製造方法を提供することである。

本発明者は、上記課題に鑑み鋭意検討を進めた結果、耐熱基材上に無機層形成前駆体を塗布して無機層形成前駆体層を形成し、次いで無機層形成前駆体層を熱焼成して無機層を形成した後、無機層を冷却する過程で、耐熱基材の温度が特定の温度以上の条件で、前記形成した無機層を、プラスチックフィルム面に密着及び転写することにより機能性フィルムを製造することを特徴とする機能性フィルムの製造方法により、ガスバリアー性、透明性及び平面性に優れた機能性フィルムを、大型設備を必要とせず、簡易的な方法で、経済性及び生産安定性に優れ、かつ高い生産能力（生産速度）で生産することができる機能性フィルムの製造方法を提供することができることを見出し、本発明に至った。

すなわち、本発明の上記課題は、下記の手段により解決される。

１．耐熱基材上に無機層形成前駆体を塗布して無機形成前駆体層を形成する塗布工程、形成した前記無機層形成前駆体層を熱焼成して無機層を形成する熱焼成工程、形成した前記無機層を冷却する冷却工程、耐熱基材の無機層を有する面と、プラスチックフィルム面とを密着する密着工程、密着した後、前記無機層をプラスチックフィルム面に転写する転写工程、を経て製造する機能性フィルムの製造方法であって、
前記転写工程が、前記冷却工程を経て、前記耐熱基材の温度が４０℃に到達するまでの間で行うことを特徴とする機能性フィルムの製造方法。

２．前記熱焼成工程における最高到達温度が、２００〜６００℃の温度範囲内であることを特徴とする第1項に記載の機能性フィルムの製造方法。

３．耐熱基材上に無機層形成前駆体を塗布して無機層形成前駆体層を形成する前記塗布工程の前に、前記耐熱基材上に離型層を形成する離型層形成工程を有することを特徴とする第１項又は第２項に記載の機能性フィルムの製造方法。

４．前記転写工程の後に、転写した無機層表面を洗浄するフィルム洗浄工程を有することを特徴とする第１項から第３項までのいずれか一項に記載の機能性フィルムの製造方法。

５．前記耐熱基材が連続搬送する無端耐熱基材であり、前記塗布工程、熱焼成工程、冷却工程、密着工程及び転写工程が、オンラインで連続して行うオンライン工程であることを特徴とする第１項から第４項までのいずれか一項に記載の機能性フィルムの製造方法。

６．前記塗布工程の前に、連続搬送する無端耐熱基材の表面を洗浄する洗浄工程を有することを特徴とする第５項に記載の機能性フィルムの製造方法。

７．前記機能性フィルムの製造方法で製造する機能性フィルムが、ガスバリアー性フィルムであることを特徴とする第１項から第６項までのいずれか一項に記載の機能性フィルムの製造方法。

本発明の上記手段により、ガスバリアー性及び透明性に優れた機能性フィルムを、大型設備を必要とせず、簡易的な方法で、経済性及び生産安定性に優れ、かつ高い生産能力（生産速度）で生産することができる機能性フィルムの製造方法を提供することができる。

本発明で規定する構成により、本発明の目的とする効果が得られる技術的理由に関しては、その機構の詳細の全てについて解明はされていないが、以下のように推測している。

前記特許文献２に記載されている方法では、形成した無機層の剥離工程及び他の基板への密着工程が多く、また、その無機層の転写工程が煩雑であり、生産適性、特に、連続生産適性が極めて乏しい方法であった。本発明においては、簡易的な工程フローにより無機層をプラスチックフィルム上に転写、形成する方法であり、特に、連続搬送する無端耐熱基材を用い、ロール・ツー・ロールで連続的に機能性フィルムを製造する方法として最適であり、極めて高い生産効率により製造することができる。

また、熱焼成工程で無機層形成前駆体層を無機層に変化した後、無機層の冷却過程でプラスチックフィルム上に転写する工程において、冷却工程の途中の温度条件で転写することにより、無機層を室温まで下げた後に転写する方法、あるいは、冷却後再加熱して転写する方法に比較し、無機層とプラスチックフィルムとの密着性を高くすることができたものである。これは、ある程度の温度が高い段階で転写することにより、無機層の表面活性が非常に高い状態で、プラスチックフィルムと密着することができるとともに、プラスチックフィルムの密着時の温度で軟化することにより、耐熱基材との追従性が向上し、安定して転写することができるものと推測している。

本発明の機能性フィルムの製造方法の一例である枚葉方式による製造工程の一例を示す工程フロー図 各製造工程における温度履歴の一例を示すグラフ 本発明の機能性フィルムの製造方法の一例であるロール・ツー・ロール方式によるオンライン製造工程の一例を示す工程フロー図

本発明の機能性フィルムの製造方法は、耐熱基材上に無機層形成前駆体を塗布して無機層形成前駆体層を形成し、次いで無機層形成前駆体層を熱焼成して無機層を形成した後、無機層を冷却する過程で、耐熱基材の温度が特定の温度以上の条件で、前記形成した無機層を、プラスチックフィルム面に密着及び転写することにより機能性フィルムを製造することを特徴とする。この特徴は、請求項１から請求項７に係る発明に共通する技術的特徴である。

本発明の実施態様としては、本発明の目的とする効果をより発現できる観点から、前記熱焼成工程における最高到達温度が、２００〜６００℃の温度範囲内であることが、高品位の無機層を安定して形成することができる観点からこのましい。

また、耐熱基材上に無機層形成前駆体を塗布して無機層形成前駆体層を形成する前記塗布工程の前に、前記耐熱基材上に離型層を形成する離型層形成工程を有することが、形成した無機層を、プラスチックフィルム面に密着及び転写する際に、安定して無機層をプラスチックフィルム面側に転写することができる観点から好ましい。

また、前記転写工程の後に、転写した無機層表面を洗浄するフィルム洗浄工程を有することが、無機層上に残留している離型層を除去することにより、より高品位の機能性フィルムをえることができ、好ましい。

また、本発明の効果である生産性及び生産効率をより発揮することができる観点から、前記耐熱基材が連続搬送する無端耐熱基材であり、前記塗布工程、熱焼成工程、冷却工程及び転写工程が、オンラインで連続して行うオンライン工程であることが、より好ましい実施の態様である。

以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、以下の説明において示す「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。

《機能性フィルムの製造方法》
本発明において、機能性フィルムの製造工程としては、主には、
１）耐熱基材上に無機層形成前駆体を塗布して無機層形成前駆体層を形成する塗布工程、
２）形成した前記無機層形成前駆体層を熱焼成して無機層を形成する熱焼成工程、
３）形成した前記無機層を冷却する冷却工程、
４）耐熱基材の無機層を有する面と、プラスチックフィルム面との密着工程、
５）前記無機層をプラスチックフィルム面に転写する転写工程、
で、構成されており、その技術的特徴は、３）前記冷却工程を経て、４）密着工程及び５）転写工程で、無機層とプラスチックフィルム面との密着及び転写を行う温度が、冷却工程における耐熱基材の温度が４０℃に到達するまでの間で行うことである。

更に、本発明の機能性フィルムの製造方法を構成する製造工程としては、
６）前記密着工程の前に、プラスチックフィルム上に接着層を形成する接着層付与工程、
７）耐熱基材上に無機層形成前駆体を塗布して無機層形成前駆体層を形成する１）塗布工程の前に、耐熱基材上に離型層を形成する離型層形成工程、
を、必要に応じて設けることができる。

また、別ラインで接着層を形成したプラスチックフィルムを用いることもできる。

また、本発明の機能性フィルムの製造方法においては、上記の工程１)〜７）までを、バッチ方式（枚葉方式、オフライン方式）で行っても良いが、耐熱基材として連続搬送する無端耐熱基材、プラスチックフィルムとして長尺の連続搬送するロール状フィルムを用い、工程１)〜７）までを、ロール・ツー・ロール方式（オンライン方式）で行う方式の方が、高い生産性を実現することができる観点からこのましい。

《機能性フィルムの製造工程の概要》
はじめに、図を交えて、枚葉方式による本発明の機能性フィルムの製造方法の全体概要について説明するが、本発明においては、これら例示する製造方法にのみ限定されるものではい。

図１は、本発明の機能性フィルムの製造方法の一例として、枚葉方式の製造工程フローを示してある。

無機層を形成する工程である工程ルート１において、工程Ａで耐熱基材１の表面にプラズマ洗浄２等を施して、基材表面を洗浄する。次いで、工程Ｂにて洗浄した耐熱基材１上に、コーターＣ１を用いて離型層３を形成する。次いで、形成した離型層３を工程Ｃにて乾燥装置４を用いて乾燥する。次いで、工程Ｄにて、乾燥した離型層３上に、コーターＣを用いて、無機層形成前駆体塗布液を塗布して、無機層形成前駆体層７を形成する。形成した無機層形成前駆体層７を、工程Ｅの乾燥工程において乾燥する。次いで、乾燥した無機層形成前駆体層７を有する耐熱基材を工程Ｆである熱焼成工程に移し、熱焼成装置８を用いて、無機層形成前駆体層７に熱焼成処理を施して、無機層１０にコンバートする。熱焼成処理により無機層１０に変換した耐熱基材１を工程Ｇである冷却工程に移送する。

一方、工程ルート２において、工程Ｈでプラスチックフィルム２１を準備し、工程Ｉにて、プラスチックフィルム２１表面に接着層２２をコーターＣ３で塗布し、必要に応じて工程Ｃと同様の方法で乾燥を行う。

また、別ラインで、既に接着層２２を形成してある接着層２２付のプラスチックフィルム２１を用いても良い。

次いで、工程Ｇの冷却工程で、無機層１０を有する耐熱基材を熱焼成温度から冷却し、耐熱基材の温度が４０℃に到達するまでの温度で、無機層と、工程ルート２で作製したプラスチックフィルム２１上に設けた接着層２２とを工程Ｊで会合して貼り合せる。次いで、工程Ｋの圧着工程で、ニップローラー１４等を用いて圧着し、工程Ｍで、耐熱基材１のブロックと、プラスチックフィルム２１上に接着層２２、無機層１０及び離型層３から構成される機能性フィルムユニット１５に分離する。

分離した機能性フィルムユニット１５に対し、工程Ｎでフィルム表面に洗浄処理を施して、不要な離型層を取り除き、機能性フィルムを作製する。

《機能性フィルムの製造工程フロー》
次いで、図１で示した各工程の詳細について説明する。

〔工程ルート１〕
（工程Ａ：耐熱基材表面の洗浄工程）
図１に示す工程Ａでは、無機層を形成する耐熱基材１の表面に、洗浄処理を施す。

本発明に適用可能な耐熱基材としては、金属製基材が好ましく、例えば、ニッケル、ステンレス（ＳＵＳ）、炭素鋼、チタン合金等が用いることができる。

耐熱基材の厚さとしては、０．３〜２．０ｍｍ程度で構成することが好ましい。

耐熱基材表面の洗浄処理手段２としては、プラズマ洗浄法、ドライアイス洗浄法等が挙げられる。

プラズマ洗浄装置による洗浄処理条件としては、例えば、大気圧プラズマが好適に使用される。洗浄条件としては窒素ガスに酸素を１〜２０体積％含有ガスを用い、周波数１００ｋＨｚ〜１５０ＭＨｚ、電圧１０Ｖ〜１０ｋＶ、照射距離５〜２０ｍｍで洗浄表面改質処理を行う条件が挙げられる。プラズマ洗浄装置としては、例えば、誘電体バリアー放電ダウンストリーム型プラズマヘッドを用いた株式会社イー・スクエアの常圧プラズマ表面処理装置 ＡＰ Ｐｌａｓｍａを挙げることができる。

（工程Ｂ：離型層の形成工程）
次いで、上記工程Ａで表面を洗浄した耐熱基材１を搬送ローラーＤＲで搬送しながら、耐熱基材１上に、コーターＣ１を用いて、離型層３を形成する。

本発明に係る離型層を構成する材料としては、離型能を有する材料であれば特に制限はないが、ポリビニルピロリドン類（ビニルピロリドン重合体を含む）を用いることが好ましい。ポリビニルピロリドン類としては、例えば、ポリビニルピロリドン（Ｍｗ約４０、０００）、ポリビニルピロリドン（Ｍｗ約９、０００）、ポリビニルピロリドン（Ｍｗ約１６、０００）、ビニルピロリドン−酢酸ビニル共重合体（共重合モル比＝７：３、Ｍｗ約４、０００）、ビニルピロリドン−メチルアクリレート共重合体（共重合モル比＝７：３、Ｍｗ約１、０００），ビニルピロリドン−エチルアクリレート共重合体（共重合モル比＝７：３、Ｍｗ約２５、０００）、ビニルピロリドン−ブチルアクリレート共重合体（共重合モル比＝７：３、Ｍｗ約７、０００）、ビニルピロリドン−２−エチルヘキシルアクリレート共重合体（共重合モル比＝７：３、Ｍｗ約１８、０００）、ビニルピロリドン−スチレン共重合体（共重合モル比＝１：３、Ｍｗ約２０、０００）等を挙げることができる。

ポリビニルピロリドンとしては、例えば、ポリビニルピロリドン単一ポリマーが挙げられる。また、ポリビニルピロリドンとしては、粘度平均分子量が、５０００〜５００００のものが好ましい。また、ポリビニルピロリドンとしては、市販品を用いることもでき、具体的には、ＢＡＳＦジャパン社製のＰＶＰＫ１５、ＰＶＰＫ３０が挙げられる。

本発明においては、上記ポリビニルピロリドン類を、適切な溶媒、例えば、水、アルコール類等の有機溶媒に溶解して、離型層塗布液を調製する。

工程Ｂで用いるコーターＣ１としては、湿式塗布方式のコーターであれば特に制限はなく、例えば、ブレードコーター、ナイフコーター、含浸コーター、ダイコーター、スロットダイコーター、ローラーコーター、グラビアコーター、バーコーター、コンマコーター、エクストルージョン型コーター、スライド型コーター、インクジェットヘッド等の塗布装置等が挙げられる。

また、離型層の塗布温度としては、特に制限はなく、適宜最適の温度を選択して行うことができる。

本発明において、離型層の層厚としては、特に制限はないが、下記に示す乾燥後の層厚は、ほぼ０．２〜１０μｍの範囲内であり、好ましくは０．５〜５．０μｍの範囲内であり、更に好ましくは、１．０〜３．０μｍの範囲内である。

（工程Ｃ：乾燥工程１）
上記工程Ｂで耐熱基材１上に形成された湿潤状態の離型層塗膜は、乾燥装置４を用いて乾燥され、離型層を形成する。

工程Ｃで適用可能な乾燥装置４としては、例えば、温風加熱法、ヒーター加熱法（例えば、パネルヒーター、ハロゲンヒーター等）の加熱装置等が挙げられる。

具体的な乾燥装置４を構成する加熱手段としては、ヒーター加熱法（例えば、赤外線ヒーター、ハロゲンヒーター、パネルヒーター等を耐熱基材１の上下に設置し、輻射熱で加熱）、耐熱基材１を搬送する搬送ローラー（不図示）として、ヒートローラーを用いて加熱する方法、温風加熱法（例えば、温度制御された熱風を、耐熱基材１の上下から吹きつけて、離型層を乾燥する方法）が挙げられ、本発明においては、温度制御が精度よく行える点から、温風加熱法が好ましい。

図１の工程Ｃには、温風加熱法の一例を示してある。図１の工程Ｃにおいて、工程Ｂにて、離型層３を形成した耐熱基材１を、搬送ローラー（不図示）で乾燥装置４に移送する。乾燥装置４は、耐熱基材１の上部（離型層３面側）及び下部（耐熱基材１の裏面側）にそれぞれ加熱手段５を設け、加熱手段５より耐熱基材１に温風６を吹き付けて、離型層３を乾燥する。

（工程Ｄ：無機層形成前駆体の塗布工程）
次いで、工程Ｄでは、無機層を形成する無機層形成前駆体層７を、離型層３上に付与する。

図１においては、工程Ｃより、搬送ローラー（不図示）等で搬送しながら、耐熱基材１の離型層３上に、コーターＣ２を用いて、無機層形成前駆体層７を形成する。

無機層形成前駆体層７が含有する無機層形成前駆体とは、次工程である熱焼成工程で、加熱処理により無機層に変換する材料であり、例えば、下記の材料を挙げることができる。

〈無機層形成前駆体〉
本発明に適用可能な無機層形成前駆体の一例としては、例えば、ＳｉＯ_２前駆体として、ポリシラザン、ポリシロキサン、ポリシラン、ガラスフリット、ガラスペースト等を挙げることができる。

本発明で用いられる「ポリシラザン」とは、構造内にケイ素−窒素結合を持つポリマーで、Ｓｉ−Ｎ、Ｓｉ−Ｈ、Ｎ−Ｈ等の結合を有するＳｉＯ_２、Ｓｉ_３Ｎ_４及び両方の中間固溶体ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ等のセラミック前駆体無機ポリマーで酸化窒化ケイ素の前駆体となるポリマーであり、例えば、特開平８−１１２８７９号公報に記載の下記一般式（１）で表される単位からなる主骨格を有する化合物が好ましい。

一般式（１）
−Ｓｉ（Ｒ^１）（Ｒ^２）−Ｎ（Ｒ^３）−
上記構造式中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、各々水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アルキルシリル基、アルキルアミノ基、又はアルコキシ基を表す。

本発明では、得られるガスバリアー層としての緻密性の観点から、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３のすべてが水素原子であるパーヒドロポリシラザンが特に好ましい。

また、そのＳｉと結合する水素原子部分の一部がアルキル基等で置換されたオルガノポリシラザンは、メチル基等のアルキル基を有することにより下地層である離型層との接着性が改善され、かつ硬くてもろいポリシラザンによるセラミック膜に靭性を持たせることができ、より膜厚（平均膜厚）を厚くした場合でもクラックの発生が抑えられる利点がある。そこで用途に応じて適宜、パーヒドロポリシラザンとオルガノポリシラザンを選択してよく、混合して使用することもできる。

パーヒドロポリシラザンは、直鎖構造と、６及び８員環を中心とする環構造が存在した構造と推定されている。その分子量は数平均分子量（Ｍｎ）で約６００〜２０００程度（ポリスチレン換算）で、液体または固体の物質があり、その状態は分子量により異なる。これらは有機溶媒に溶解した溶液状態で市販されており、市販品をそのままポリシラザン含有塗布液として使用することができる。

低温でセラミック化するポリシラザンの他の例としては、上記一般式（１）で表される単位からなる主骨格を有するポリシラザンに、ケイ素アルコキシドを反応させて得られるケイ素アルコキシド付加ポリシラザン（例えば、特開平５−２３８８２７号公報参照。）、グリシドールを反応させて得られるグリシドール付加ポリシラザン（例えば、特開平６−１２２８５２号公報参照。）、アルコールを反応させて得られるアルコール付加ポリシラザン（例えば、特開平６−２４０２０８号公報参照。）、金属カルボン酸塩を反応させて得られる金属カルボン酸塩付加ポリシラザン（例えば、特開平６−２９９１１８号公報参照。）、金属を含むアセチルアセトナート錯体を反応させて得られるアセチルアセトナート錯体付加ポリシラザン（例えば、特開平６−３０６３２９号公報参照。）、金属微粒子を添加して得られる金属微粒子添加ポリシラザン（例えば、特開平７−１９６９８６号公報参照。）等が挙げられる。

ポリシラザン含有の塗布液中には、酸化ケイ素化合物への転化を促進するため、アミンや金属の触媒を添加することもできる。具体的には、ＡＺエレクトロニックマテリアルズ（株）製のアクアミカ ＮＡＸ１２０−２０、ＮＮ１１０、ＮＮ３１０、ＮＮ３２０、ＮＬ１１０Ａ、ＮＬ１２０Ａ、ＮＬ１５０Ａ、ＮＰ１１０、ＮＰ１４０及びＳＰ１４０等が挙げられる。

ポリシラザンを含有する塗布液を調製する有機溶媒としては、ポリシラザンと容易に反応してしまうようなアルコール系や水分を含有するものを用いることは避けることが好ましい。

従って、ポリシラザンを含有する塗布液を調製する有機溶媒としては、例えば、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水素等の炭化水素溶媒、ハロゲン化炭化水素溶媒、脂肪族エーテル、脂環式エーテル等のエーテル類が使用でき、具体的には、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、ソルベッソ、ターベン等の炭化水素、塩化メチレン、トリコロロエタン等のハロゲン炭化水素、ジブチルエーテル、ジオキサン及びテトラヒドロフラン等のエーテル類等が挙げられる。

これらの有機溶媒は、ポリシラザンの溶解度や溶媒の蒸発速度等に応じて選択し、複数の有機溶媒を混合してもよい。

（末端がＳｉ−Ｈであるポリシロキサン）
有機基としてメチル基を有し、末端がＳｉ−Ｈであるポリシロキサンの一例を、下記の一般式（２）で示す。有機基はメチル基以外、例えば、フェニル基であってもよく、それぞれの有機基が混在するなど異なっていてもよい。

（末端がＳｉ−ＯＨであるポリシロキサン）
有機基としてメチル基を有し、末端がＳｉ−ＯＨであるポリシロキサンの一例を、下記の一般式（３）で示す。有機基はメチル基以外、例えばフェニル基であってもよく、それぞれの有機基が混在するなど異なっていてもよい。

（側鎖にＳｉ−Ｈを有するポリシロキサン）
有機基としてメチル基を有し、側鎖にＳｉ−Ｈを有するポリシロキサンの一例を、下記の一般式（４）で示す。有機基はメチル基以外、例えばフェニル基であってもよく、それぞれの有機基が混在するなど異なっていてもよい。

上記一般式（４）において、ｍ＋ｎ＝１００としたとき、ｎは１〜１００の範囲であり、３０〜１００であることが好ましく、より好ましくは５０〜１００である。

また、ガラスフリット、ガラスペーストとしては、例えば、ＡＧＣエレクトロニクス社製のパウダーガラス（例えば、商品名：ＡＳＦシリーズ、ＳＫ−２３１−３００、ＫＦ９１７３、ＬＳ−５−３００Ｍ等）及びガラスペースト（ＡＰシリーズ等）等を挙げることができる。

また、上記のポリマー化合物の他には、下記の各金属元素を含有する有機化合物を挙げることができる。

ケイ素化合物として、シラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラｎ−プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラｎ−ブトキシシラン、テトラｔ−ブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、ヘキサメチルジシロキサン、ビス（ジメチルアミノ）ジメチルシラン、ビス（ジメチルアミノ）メチルビニルシラン、ビス（エチルアミノ）ジメチルシラン、Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド、ビス（トリメチルシリル）カルボジイミド、ジエチルアミノトリメチルシラン、ジメチルアミノジメチルシラン、ヘキサメチルジシラザン、ヘキサメチルシクロトリシラザン、ヘプタメチルジシラザン、ノナメチルトリシラザン、オクタメチルシクロテトラシラザン、テトラキスジメチルアミノシラン、テトライソシアナートシラン、テトラメチルジシラザン、トリス（ジメチルアミノ）シラン、トリエトキシフルオロシラン、アリルジメチルシラン、アリルトリメチルシラン、ベンジルトリメチルシラン、ビス（トリメチルシリル）アセチレン、１，４−ビストリメチルシリル−１，３−ブタジイン、ジ−ｔ−ブチルシラン、１，３−ジシラブタン、ビス（トリメチルシリル）メタン、シクロペンタジエニルトリメチルシラン、フェニルジメチルシラン、フェニルトリメチルシラン、プロパルギルトリメチルシラン、テトラメチルシラン、トリメチルシリルアセチレン、１−（トリメチルシリル）−１−プロピン、トリス（トリメチルシリル）メタン、トリス（トリメチルシリル）シラン、ビニルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、テトラメチルシクロテトラシロキサン、ヘキサメチルシクロテトラシロキサン及びＭシリケート５１等が挙げられる。

チタン化合物としては、例えば、チタンメトキシド、チタンエトキシド、チタンイソプロポキシド、チタンテトライソポロポキシド、チタンｎ−ブトキシド、チタンジイソプロポキシド（ビス−２，４−ペンタンジオネート）、チタンジイソプロポキシド（ビス−２，４−エチルアセトアセテート）、チタンジ−ｎ−ブトキシド（ビス−２，４−ペンタンジオネート）、チタンアセチルアセトネート及びブチルチタネートダイマー等が挙げられる。

ジルコニウム化合物としては、ジルコニウムｎ−プロポキシド、ジルコニウムｎ−ブトキシド、ジルコニウムｔ−ブトキシド、ジルコニウムトリ−ｎ−ブトキシドアセチルアセトネート、ジルコニウムジ−ｎ−ブトキシドビスアセチルアセトネート、ジルコニウムアセチルアセトネート、ジルコニウムアセテート及びジルコニウムヘキサフルオロペンタンジオネート等が挙げられる。

アルミニウム化合物としては、アルミニウムエトキシド、アルミニウムトリイソプロポキシド、アルミニウムイソプロポキシド、アルミニウムｎ−ブトキシド、アルミニウムｓ−ブトキシド、アルミニウムｔ−ブトキシド、アルミニウムアセチルアセトナート及びトリエチルジアルミニウムトリ−ｓ−ブトキシド等が挙げられる。

ポリシラザン等の無機層形成前駆体を含む塗布液を塗布するコーターＣ２としては、工程Ｂで記載したのと同様の湿式コーターを用いることができる。

塗布厚さは、目的に応じて適切に設定され得る。例えば、塗布厚さは、乾燥後の厚さが１０ｎｍ〜１０μｍ程度であり、好ましくは１０ｎｍ〜１μｍ程度である。

（工程Ｅ：乾燥工程２）
上記工程Ｃで耐熱基材１上に形成された湿潤状態の無機層形成前駆体層は、乾燥装置４を用いて乾燥され、無機層形成前駆体層を形成する。

工程Ｅで適用可能な乾燥装置４としては、前述の工程Ｃにて記載した乾燥装置４と同様の装置を挙げることができる。

（工程Ｆ：熱焼成工程）
工程Ｆにおいては、上記工程Ｅにて形成した無機層形成前駆体層に、熱焼成処理を施して、無機層、例えば、ＳｉＯ_２から構成されるガスバリアー層に改質する。

工程Ｆである熱焼成工程では、熱焼成装置８を用いて、例えば、ポリシラザン等で形成されている無機層形成前駆体層に、高温の熱エネルギーを付与して、ＳｉＯ_２等から構成される無機層１０にする。熱焼成装置８としては、その内部に、複数の熱焼成部材９を備え、所定の温度履歴に従って、無機層形成前駆体層を加熱して、無機層１０に変換する。

複数の熱焼成部材９は、図１に示すように、耐熱基材１の両面に配置してもよいし、あるいは、無機層形成前駆体層を有する面側にのみ配置した構成であっても良い。

複数の熱焼成部材９による加熱温度は、それぞれ独立して温度制御が可能であり、後述の図２に示すような加熱プロファイルとなるように、それぞれの最適加熱温度に設定する。

熱焼成温度としては、特に制限はないが、最高到達温度としては、２００〜５００℃の温度範囲内であることが好ましい。

また、図１には記載していないが、熱焼成装置内には、温度計、例えば、非接触式の反射温度計等を装備し、熱焼成過程の耐熱基材表面の温度を常にモニターすることが好ましい態様である。

また、具体的な焼成装置としては、ローラーハースキン、放電プラズマ焼成装置、パルス通電焼成装置、高周波焼成装置、近赤外焼成装置（ＮＩＲ）等が挙げられるが、その中でも、効率的に熱焼成処理を行うことができる観点から近赤外焼成装置（ＮＩＲ）が好ましい。近赤外焼成装置としては、例えば、アドフォス社製のＮＩＲランプを用いることができる。アドフォス社製のＮＩＲランプは、波長帯が８００から１５００ｎｍの近赤外領域であり、８５０ｎｍに極大波長を有するランプであり、加熱対象物（無機層形成前駆体層）の内部まで、均等に熱線が到達するため、熱エネルギーが高速かつ均一に無機層形成前駆体層を透過することにより、膜全体が均質に無機膜に変換された無機層を形成することができる。このようなＮＩＲランプを適用する場合には、熱焼成部材９であるＮＩＲランプは、無機層形成前駆体層を有する一方の面側にのみ配置する構成であっても良い。

また、本発明においては、上記熱焼成工程で、無機層形成前駆体層に熱処理を施す前に、
例えば、紫外線、可視光線、赤外線、超音波、プラズマ放電、コロナ放電、マイクロ波等の前処理を行ってもよい。

（工程Ｇ：冷却工程）
工程Ｇは、前工程である工程Ｆにて高温に加熱された耐熱基材を冷却する工程である。

具体的には、図１に示すように、冷却装置１１内には、耐熱基材１を挟んで両面側に冷却部材１２を配置して、冷風１３等を吹き付けて無機層１０を有する耐熱基材１を所定の温度まで冷却する。

この冷却工程（工程Ｇ）では、次工程である貼合工程（工程Ｊ）で、後述するプラスチックフィルム２１と貼合するときの温度まで冷却する。本発明においては、貼合を、耐熱基材の温度が４０℃以上の温度で行うことを特徴とする。より具体的には、貼合温度としては６０〜２００℃の範囲内であることが好ましく、更に好ましくは１００〜１５０℃の範囲内である。

冷却工程で適用することができる冷却手段としては、水冷ローラーやチルローラーによる冷却や、冷風による冷却等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

また、図１には記載していないが、冷却装置内には、温度計、例えば、非接触式の反射温度計等を装備し、冷却過程における耐熱基材表面の温度を常にモニターすることが好ましい態様である。

〔工程ルート２〕
（工程Ｈ：プラスチックフィルムの準備）
被転写側のプラスチックフィルム２１としては、可撓性を有する透明プラスチックフィルムであることが好ましく、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）、セルロースアセテートフタレート、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類またはそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリルあるいはポリアリレート類、アートン（ＪＳＲ製）あるいはアペル（三井化学製）といったシクロオレフィン系樹脂等を挙げられる。

（工程Ｉ：接着層付与工程）
工程Ｉは、上記準備したプラスチックフィルム２１上に、湿式塗布方式により接着層２２を付与する工程である。接着剤層２２を付与した後、必要に応じて前述のような乾燥工程を設けてもよい。

接着層としては、樹脂成分により形成されていることが好ましく、例えば、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂及び塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用できる。

その中でも、主剤となるポリエポキシ樹脂と硬化剤であるポリアミン樹脂を含む、ガスバリアー性ドライラミネート用エポキシ樹脂の接着剤「マクシーブ（登録商標）」（三菱ガス化学株式会社製）を好ましく用いることができる。

接着層は、１層のみからなっていてもよいし、複数層からなっていてもよい。接着層の厚さは、１〜１００μｍの範囲内であることが好ましく、より好ましくは３〜５０μｍの範囲内である。

接着層の形成に用いるコーターとしては、ブレードコーター、ナイフコーター、含浸コーター、ダイコーター、スロットダイコーター、ローラーコーター、グラビアコーター、バーコーター、コンマコーター、エクストルージョン型コーター、スライド型コーター、インクジェットヘッド等の塗布装置等が挙げられる。

また、接着層の塗布温度としては、特に制限はなく、２０〜５０℃の温度範囲で、適宜最適の温度を選択して行うことができる。

〔工程ルート３〕
（工程Ｊ：貼合工程）
工程Ｊである貼合工程では、前記工程Ｇの冷却工程で、熱焼成処理後に冷却された無機層１０を有する耐熱基材１と、前記工程Ｉで接着層２２を付与したプラスチックフィルム２１とを貼り合せる工程である。

貼り合わせは、耐熱基材１上に設けた無機層１０と、プラスチックフィルム２１上に形成した接着層２２とが対向するように配置した後、貼合する。

本発明では、両者を貼合するときの温度が、前述の通り、耐熱基材の温度が４０℃以上の温度で行うことを特徴とする。より具体的には、貼合温度としては６０〜２００℃の範囲内であることが好ましく、更に好ましくは１００〜１５０℃の範囲内である。

（工程Ｋ：圧着工程）
工程Ｊで簡単に貼合した無機層１０を有する耐熱基材１と、接着層２２を有するプラスチックフィルム２１から構成されるユニットＡを、完全に接着するための圧着処理を施す。

圧着処理を施す方法としては、上記作製したユニットＡを、ニップローラー１４及び１４′を用いて、ニップ間を加圧搬送させて、圧着する。この際、必要に応じてニップローラー１４及び１４′を加熱することもできる。

ニップローラー１４及び１４′としては、ゴムローラーと金属ローラーとを組み合わせるか、あるいはゴムローラーとゴムローラーとを組み合わせることができる。

（工程Ｍ：剥離工程）
工程Ｋで圧着処理を施したユニットＡを剥離する。剥離操作としては、特に制限はなく、ユニットＡの上下に力を加え、ユニットＡより、耐熱基材１を剥離する。

（工程Ｎ：フィルム表面洗浄工程）
次いで、剥離したプラスチックフィルム２１／接着層２２／無機層１０／離型層３（一部）から構成されるガスバリアフィルムユニット１５について、表面に付着している離型層３を除去するための、フィルム表面洗浄処理を行う。

フィルム表面洗浄処理としては、例えば、前述の誘電体バリアー放電ダウンストリーム型プラズマヘッドを用いた株式会社イー・スクエアの常圧プラズマ表面処理装置 ＡＰ Ｐｌａｓｍａを挙げることができる。

また、そのほかの表面洗浄方法としては、以下の方法を挙げることができる。

第一の方法は、乾式洗浄方法（ドライ洗浄方法）と呼ばれる方法で、上記のプラズマ洗浄法のほかに、イオンビーム洗浄法、ＵＶオゾン洗浄法、ＵＶエキシマ照射法、レーザー洗浄法等が挙げられる。

第二の方法は、湿式洗浄方法（ウェット洗浄方法）と呼ばれる方法で、ガスバリアー層を有する基材を液体に浸漬した後、例えば、噴流洗浄、バブリング洗浄、超音波洗浄、流水洗浄等を用いて洗浄する方法である。この湿式洗浄法は、ある程度の洗浄力を発現するものの、その後に乾燥工程等を要するため、処理時間が長くなるという問題を抱えている。

第三の方法は、物理的剥離方法で、ガスバリアー層表面に物理的な力（例えば、物体の衝撃力）を直接的に付与して洗浄する方法で、例えば、スクラブ洗浄、シャワー洗浄（例えば、高圧スプレー洗浄、超音波シャワー洗浄、二流体ノズル洗浄）、アイスブラスト洗浄（例えば、マイクロアイスジェット、ドライアイススクラブ洗浄）等が挙げられる。これらの物理的剥離方法は、ガスバリアー層表面に付着しているパーティクル等の異物に直接的に作用するため、その洗浄力（異物除去率）が極めて高く、かつ処理時間も短いという特徴を有している。

《機能性フィルムの製造における工程の温度パターン》
上記説明した機能性フィルムの製造工程における代表的な温度パターンを図２に示す。

図２には、工程Ｂ（離型層塗布工程）から工程Ｊ（貼合工程）までの、主には耐熱基材の温度履歴の一例を示してある。

離型層の形成工程である工程Ｂでは、耐熱基材１は離型層の塗布液温度になっている。次いで、工程Ｃ（乾燥工程１）では、加熱乾燥等により、耐熱基材はより高い温度に加熱される。次いで工程Ｄでは、無機層形成前駆体層塗布液の塗布を行うが、前工程である工程Ｃの温度でそのまま塗布を行ってもよく、あるいは工程Ｃの後に一旦冷却した後、無機層形成前駆体層塗布液の塗布を行っても良い。次いで、工程Ｅで再度乾燥処理を行った後、工程Ｆとして熱焼成処理が施される。工程Ｆにおける所望の温度までの昇温パターンとしては、一定の温度上昇率で昇温する方法、ブロック単位で階段状に昇温する方法が挙げられる。この時、工程Ｆにおける最高到達温度Ｔ_ｍａｘは、２００〜６００℃の温度範囲内であることが好ましい。また、最高到達温度Ｔ_ｍａｘを維持する時間Ｔは、適宜設定することができる。

なお、必要に応じて、工程Ｅ（乾燥工程）を省略し、工程Ｄで無機層形成前駆体層塗布液の塗布を行った後、直接、工程Ｆで熱焼成処理を行っても良い。

工程Ｆにおいて熱焼成処理が終了すると、工程Ｇにて冷却処理が施され、本発明においては、室温（Ｔ_１）まで冷却を行わずに、まだ耐熱基材が加温されている状態、即ち４０℃（Ｔ_２）以上の温度条件で、工程Ｊ以降で貼合を行う。

上記様な温度条件下で、耐熱基材とプラスチックフィルムの貼合を行うことにより、前述のように無機層とプラスチックフィルムとの密着性を高くすることができると推測している。これは、ある程度の温度が高い段階で密着及び転写することにより、無機層の表面活性が非常に高い状態で、プラスチックフィルムと密着することができるとともに、プラスチックフィルムの密着時の温度で軟化することにより、耐熱基材との追従性が向上し、安定して転写することができるものと推測している。

《機能性フィルムのオンライン製造方法》
図１においては、枚葉方式による機能性フィルムの製造方法の一例を示したが、本発明においては、より高い生産性（生産速度）を実現する観点からは、図３に示すようなロール・ツー・ロール方式によるオンライン製造方法がより好ましい。

図３は、本発明の機能性フィルムの製造方法の一例であるロール・ツー・ロール方式によるオンライン製造工程の一例を示す工程フロー図である。

なお、図３に記載の個々の装置については、図１で説明した各装置と同様の構成であり、ここでの説明は省略し、工程フローの特徴点についてのみ説明する。

耐熱基材１上の無機層を形成する工程ルート１では、無端の耐熱基材１（以下、無端ベルトともいう）、例えば、ステンレス製のキャスティングベルトが、サポートローラーＳＲで保持され、サポートローラーＳＲの一部を駆動ローラーとして機能させながら、エンドレスで搬送されている。この耐熱基材上に工程Ａステーションで無端ベルト１に洗浄処理を施した後、工程Ｂステーションで、無端ベルトの背面をサポートローラーで支持しなから、コーターＣ１により、離型層塗布液を供給して離型層を形成した後、工程Ｃステーションで乾燥装置４により乾燥を行う。ついで、工程Ｄステーションで、コーターＣ２より無機層形成前駆体塗布液を、離型層上に供給した後、工程Ｅステーションで乾燥を行った後、工程Ｆステーションで熱焼成処理を施して、無機層形成前駆体層を、無機層に改質する。次いで、工程Ｇステーションで、高温加熱した無端ベルト１を冷却し、工程Ｇステーションの出口に設置した表面温度計１６で温度をモニターしならが、無端ベルト１の温度が４０℃以上の条件で、冷却装置１１より搬出する。

一方、工程ルート２では、元巻繰り出し部（アンワインダー部）ＵＷより、長尺の積層ローラーより、プラスチックフィルム２１を搬出し、工程Ｉステーションで、プラスチックフィルム２１上に、コーターＣ３より接着層塗布液を供給して、接着層を形成した後、乾燥装置４で乾燥する。

次いで、工程ルート１の工程Ｇで作製し、４０℃以上の温度に制御した耐熱基材上の無機層面と、工程ルート２で作製したプラスチックフィルム２１上の接着層面とを、工程ルート３の工程Ｊステーションで貼合し、工程ＫでサポートローラーＳＲと、バックローラーＢＲでニップして圧着した後、工程Ｍでそれぞれ耐熱基材とプラスチックフィルムとを離間させることにより、耐熱基材上の無機層及び離型層を、プラスチックフィルム２１の接着層上に転写する。なお、上記工程において、工程Ｊ、Ｋ及びＭはほぼ同時に行う。

次いで、工程Ｎで、プラスチックフィルム２１の最表面に付着している離型層の残渣を、工程Ｎステーションであるフィルム表面洗浄工程で除去する。更に、必要に応じて、工程Ｐでその他の機能層の塗布、例えば、保護層等の形成と、工程Ｑで乾燥を行った後、巻取部（ワインダーブ部）Ｗで巻き取る。なお、その他の機能層を形成する工程Ｐは、別ラインで行ってもよい。

《機能性フィルムの製造方法の実施の形態》
本発明の機能性フィルムは、以下に示すような実施の形態により清掃することができるが、本発明では、ここで例示する製造方法に限定されるものではない。

図３に示したロール・ツー・ロール方式によるオンライン製造の一例を示す。

工程Ａ：耐熱基材表面の洗浄
連続搬送しているステンレス製のキャスティングベルト表面に、株式会社イー・スクエア製の常圧プラズマ表面処理装置 ＡＰ Ｐｌａｓｍａを用いて、プラズマ照射を行って、表面を洗浄した。

工程Ｂ及びＣ：離型層形成及び乾燥
連続搬送しているステンレス製のキャスティングベルト上に、スロットダイコーターを用いて、離型剤としてポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）を、１．５μｍの乾燥膜厚となるように塗布及び乾燥した。

工程Ｄ及びＥ：無機層形成用前駆体層の塗布及び乾燥
離型層上に、ポリシラザンとしてパーヒドロポリシラザン（ＰＨＰＳ）を用い、乾燥後の膜厚が５０ｎｍとなる条件でスロットダイコーターを用いて塗布した後、乾燥した。

工程Ｆ：熱焼成工程
次いで、熱焼成装置として、アドフォス社製のＮＩＲランプを用い、２８０℃で１分間加熱した後、最高到達温度として５００℃で３分間加熱して、無機層を形成した。

工程Ｇ：冷却工程
次いで、冷却工程で、キャスティングベルトの両面より冷風を吹き付けて空冷し、１２０℃まで冷却した。

工程Ｉ：接着層塗布
別途、工程ルート２として、厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に、接着剤としてガスバリアー性ドライラミネート用エポキシ樹脂の接着剤「マクシーブ（登録商標）」（三菱ガス化学株式会社製）を厚さ１０μｍで形成した。

工程Ｊ、Ｋ、Ｍ
次いで、冷却工程を通過し、基材温度が１２０℃のキャスティングベルトと、ＰＥＴフィルムとを、それぞれ無機層と接着層を貼合した。次いで、両基材を離間させ、無機層をＰＥＴフィルム上に転写した。

工程Ｎ：フィルム洗浄工程
次いで、転写済みのＰＥＴフィルムの表面を、株式会社イー・スクエア製の常圧プラズマ表面処理装置 ＡＰ Ｐｌａｓｍａを用いて、１分間のプラズマ洗浄処理を行って、表面に残留している離型剤（ポリビニルピロリドン）を除去して、ガスバリアフィルムユニットを作製した。

１ 耐熱基材
２ プラズマ洗浄
３ 離型層
４ 乾燥装置
５ 加熱手段
６ 温風
７ 無機層形成前駆体層
８ 熱焼成装置
９ 熱焼成部材
１０ 無機層
１１ 冷却装置
１２ 冷却部材
１３ 冷風
１４、１４′ ニップローラー
１５ ガスバリアフィルムユニット
１６ 表面温度計
２１ プラスチックフィルム
２２ 接着層
Ｃ１、Ｃ２、Ｃ３、Ｃ４ コーター
ＢＲ バックローラー
ＤＲＵ ダンサーローラーユニット
ＳＲ サポートローラー
ＵＷ アンワインダー
Ｗ ワインダー

Claims (7)

1. 耐熱基材上に無機層形成前駆体を塗布して無機層形成前駆体層を形成する塗布工程、形成した前記無機層形成前駆体層を熱焼成して無機層を形成する熱焼成工程、形成した前記無機層を冷却する冷却工程、耐熱基材の無機層を有する面と、プラスチックフィルム面とを密着する密着工程、密着した後、前記無機層をプラスチックフィルム面に転写する転写工程、を経て製造する機能性フィルムの製造方法であって、
   前記転写工程が、前記冷却工程を経て、前記耐熱基材の温度が４０℃に到達するまでの間で行うことを特徴とする機能性フィルムの製造方法。
2. 前記熱焼成工程における最高到達温度が、２００〜６００℃の温度範囲内であることを特徴とする請求項1に記載の機能性フィルムの製造方法。
3. 耐熱基材上に無機層形成前駆体を塗布して無機層形成前駆体層を形成する前記塗布工程の前に、前記耐熱基材上に離型層を形成する離型層形成工程を有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の機能性フィルムの製造方法。
4. 前記転写工程の後に、転写した無機層表面を洗浄するフィルム洗浄工程を有することを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の機能性フィルムの製造方法。
5. 前記耐熱基材が連続搬送する無端耐熱基材であり、前記塗布工程、熱焼成工程、冷却工程、密着工程及び転写工程が、オンラインで連続して行うオンライン工程であることを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載の機能性フィルムの製造方法。
6. 前記塗布工程の前に、連続搬送する無端耐熱基材の表面を洗浄する洗浄工程を有することを特徴とする請求項５に記載の機能性フィルムの製造方法。
7. 前記機能性フィルムの製造方法で製造する機能性フィルムが、ガスバリアー性フィルムであることを特徴とする請求項１から請求項６までのいずれか一項に記載の機能性フィルムの製造方法。

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