JP2016108590A - プラズマ成膜装置とプラズマ成膜方法 - Google Patents
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Abstract
Description
110…ガス供給機構
112…原料タンク
113…原料ガス供給配管
113C…流量調整機器
114…窒素タンク
115…窒素供給配管
115C…流量調整機器
116…アルゴンタンク
117…アルゴン供給配管
117C…流量調整機器
121…第1成膜室
122…第2成膜室
130…真空ポンプ
131…排気配管
140…連通配管
200…制御装置
V1〜V12…バルブ
Claims (2)
- プラズマ成膜装置であって、
成膜の原料ガスを供給する原料ガス供給源と、
成膜対象の基板が配置される成膜室と、
該成膜室のガスを排気する真空ポンプと、
前記成膜室と前記真空ポンプとを接続する排気配管と、
前記原料ガス供給源と前記成膜室とを接続するガス供給配管と、
該ガス供給配管に設けられ、前記成膜室に供給される原料ガス流量を調整する流量調整部と、
前記流量調整部より下流側で前記ガス供給配管から延びて、前記ガス供給配管と前記排気配管とを連通する連通配管と、
該連通配管に設けられた開閉バルブと、
前記流量調整部により流量調整された前記原料ガスが前記成膜室に供給される前に、前記開閉バルブを開弁駆動して、前記ガス供給配管の残存ガスを前記真空ポンプにより前記連通配管を経て排気する残存ガス排気処置部とを備える、
プラズマ成膜装置。 - プラズマ成膜方法であって、
成膜室のガスを排気する排気行程と、
原料ガス供給源から前記成膜室に到るガス供給配管を経て、前記成膜室に小流量の第1の流量で原料ガスを供給し、前記成膜室にて前記原料ガスから成膜する第1成膜工程と、
前記ガス供給配管を経て、前記成膜室に前記第1の流量より大流量の第2の流量で原料ガスを供給し、前記成膜室にて前記原料ガスから成膜する第2成膜工程とを備え、
更に、
前記第1の流量に流量調整された前記原料ガスが前記成膜室に供給される前に、前記ガス供給配管の残存ガスを排気する残存ガス排気工程とを備える、
プラズマ成膜方法。
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2014
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