JP2016079057A - キラルな固体金属及び固体複合体、並びにそれらの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明のキラル材料は、主として珪素からなり、この珪素が結晶性であって、200〜800nmの波長範囲の少なくともいずれかにおける円二色性スペクトル測定において円二色性が観察されることを特徴とするキラルな固体金属である。このような固体金属は、直鎖状ポリエチレンイミン骨格を備えたポリマー及びキラルなジカルボン酸化合物を反応させて調製された酸塩基型錯体のキラル超分子結晶に対して、加水分解性の珪素化合物を作用させてその加水分解物の層をキラル超分子結晶の表面に形成させ、さらにこれを焼成して得たキラルなシリカ粒子を還元剤で還元した後で、還元されなかったシリカをフッ化水素酸で溶出させるという手法により調製できる。
【選択図】図3
Description
まずは、本発明に係るキラルな固体金属の一実施形態について説明する。本発明に係るキラルな固体金属は、主として珪素からなり、上記珪素が結晶性であって、200〜800nmの波長範囲の少なくともいずれかにおける円二色性スペクトル測定において円二色性が観察されることを特徴とする。つまり、本発明に係るキラルな固体金属は、固体の金属シリコン(珪素)であり、より具体的には粉末状態の金属シリコンである。
次に、本発明に係るキラルな固体複合体の一実施形態について説明する。本発明に係るキラルな固体複合体は、主として珪素及び酸化珪素からなり、上記珪素が結晶性であって、200〜800nmの波長範囲の少なくともいずれかにおける円二色性スペクトル測定において円二色性が観察されることを特徴とする。つまり、本発明に係るキラルな固体複合体は、固体の金属シリコン(珪素)と、固体の金属酸化物であるシリカ(酸化珪素)との複合体であり、より具体的には粉末状態の複合体である。
次に、本発明に係るキラルな固体金属の製造方法の一実施態様について説明する。この製造方法は、上述のキラルな固体金属を調製する方法であり、直鎖状ポリエチレンイミン骨格を備えたポリマー及びキラルなジカルボン酸化合物を反応させて酸塩基型錯体のキラル超分子結晶を得る結晶生成工程と、上記キラル超分子結晶に加水分解性の珪素化合物を作用させるゾルゲル法により、上記キラル超分子結晶の表面に上記珪素化合物の加水分解物の層を形成させるゾルゲル工程と、上記ゾルゲル工程を経たキラル超分子結晶を焼成することで、有機物であるキラル超分子結晶を分解させるとともに上記加水分解物の層をシリカに転換させてシリカの構造体を得る焼成工程と、上記シリカの構造体と還元剤との混合物を調製した後、この混合物を加熱して上記構造体に含まれるシリカの一部を還元することで、シリカ及び珪素を含んだ固体複合体を得る還元工程と、上記還元工程を経た固体複合体にフッ化水素酸を作用させ、上記還元工程で還元されなかったシリカを溶解除去して主として珪素からなる固体金属を得る除去工程と、を備える。以下、これらの工程について説明する。
結晶生成工程は、直鎖状ポリエチレンイミン骨格を備えたポリマー及びキラルなジカルボン酸化合物を反応させて酸塩基型錯体のキラル超分子結晶を得る工程である。
ゾルゲル工程は、上記キラル超分子結晶に加水分解性の珪素化合物を作用させるゾルゲル法により、上記キラル超分子結晶の表面に上記珪素化合物の加水分解物の層を形成させる工程である。
焼成工程は、上記ゾルゲル工程を経たキラル超分子結晶を焼成することで、有機物であるキラル超分子結晶を分解させるとともに上記加水分解物の層をシリカに転換させてシリカの構造体を得る工程である。なお、ここでいうシリカの構造体とは、ミクロな視点では上記キラル超分子結晶を鋳型とした形状からなるナノオーダーからマイクロオーダーの粒子であり、マクロな視点ではこれらの粒子の凝集した粒子として観察されるものであるが、ここではシリカが何らかの形状を持ったものであるという程度の意味として用いる。
還元工程は、上記シリカの構造体と還元剤との混合物を調製した後、この混合物を加熱して上記構造体に含まれるシリカの一部を還元することで、シリカ及び珪素を含んだ固体複合体を得る工程である。
除去工程は、上記還元工程を経た固体複合体にフッ化水素酸を作用させ、上記還元工程で還元されなかったシリカを溶解除去して主として珪素からなる固体金属を得る工程である。
最後に、本発明に係るキラルな固体複合体の製造方法の一実施態様について説明する。この製造方法は、上述のキラルな固体複合体を調製するための方法であり、直鎖状ポリエチレンイミン骨格を備えたポリマー及びキラルなジカルボン酸化合物を反応させて酸塩基型錯体のキラル超分子結晶を得る結晶生成工程と、上記キラル超分子結晶に加水分解性の珪素化合物を作用させるゾルゲル法により、上記キラル超分子結晶の表面に上記珪素化合物の加水分解物の層を形成させるゾルゲル工程と、上記ゾルゲル工程を経たキラル超分子結晶を焼成することで、有機物であるキラル超分子結晶を分解させるとともに上記加水分解物の層をシリカに転換させてシリカの構造体を得る焼成工程と、上記シリカの構造体と還元剤との混合物を調製した後、この混合物を加熱して上記構造体に含まれるシリカの一部を還元することで、シリカ及び珪素を含んだ固体複合体を得る還元工程と、を備える。
市販のポリエチルオキサゾリン(質量平均分子量50,000、平均重合度約500、Aldrich社製)30gを5Mの塩酸水溶液(150mL)に溶解させた。その溶液をオイルバスにて90℃に加温し、その温度で10時間撹拌した。反応溶液にアセトン(500mL)を加えてポリマーを完全に沈殿させ、それを濾別し、メタノールで3回洗浄して白色のポリエチレンイミンの粉末を得た。得られた粉末を1H−NMR(重水)にて分析したところ、ポリエチルオキサゾリンの側鎖のエチル基に由来した1.2ppmのピーク(CH3)と2.3ppmのピーク(CH2)とが完全に消失していることが確認された。したがって、得られたポリマーでは、ポリエチルオキサゾリンが完全に加水分解され、ポリエチレンイミンに変換されたことが示された。
スクリュー管にPEIを1.264g(二級アミノ基として16mmol)及び蒸留水16mLを加え、80℃付近を維持するよう加熱しながら撹拌し、均一な溶液を得た。この溶液にD−酒石酸を1.200g(8mmol)加え、80℃付近を維持するよう加熱しながら2〜3分間撹拌した。得られた溶液を室温にて自然冷却し、白色固体を得た。遠心分離器を用いて蒸留水で2回、IPA(イソプロパノール)で2回洗浄してからこの白色固体を回収した。これはPEIとD−酒石酸(D−Tart)との酸塩基型のキラル超分子結晶であり、以降これをPEI/D−Tartと呼ぶ。その後、この白色固体に蒸留水80mLを加え、PEI/D−Tartの分散液を得た。
PEI/D−Tart@SiO2をセラミック製容器に入れ、これを空気雰囲気下において5時間かけて800℃まで昇温し、その後3時間この温度を保持し焼成した。これにより、キラルなシリカであるD−SiO2を得た。同様の操作をPEI/L−Tart@SiO2についても行い、キラルなシリカであるL−SiO2を得た。
0.20gのD−SiO2と0.20gのマグネシウム粉末とを乳鉢に入れ(モル比:SiO2:Mg=1:2.5)、10分間乳棒で摺り合わせて灰色粉末を得た。その灰色粉末をセラミック製容器に入れ、アルゴン雰囲気下にて600℃まで10℃/minの昇温速度で加熱した後、3時間その温度を保持した。冷却後、得られた固体を、エタノールを溶媒とした1M塩酸中に投入し、一晩撹拌した。その後、遠心分離器を用いて蒸留水で1回、アセトンで1回洗浄してから固体を回収した。この固体を60℃にて一晩減圧乾燥して、キラルな固体複合体であるD−SiO2−Si粉末を得た。また、加熱温度を500℃とし、反応時間を6時間として同様の操作を行った。さらに、D−SiO2に代えてL−SiO2を用いて、600℃及び500℃のそれぞれの反応温度について同様の操作を行い、キラルな固体複合体であるL−SiO2−Si粉末を得た。このように、D−体及びL−体の2種について、それぞれ600℃及び500℃で加熱処理を行って4種のキラルな固体複合体を得た。これらのサンプルのそれぞれについて、表1に示すサンプル名を付与するものとした。
600℃の加熱処理を行って得られたL−SiO2−Si−600粉末を、フッ化水素酸を含む溶液(10mLの水+10mLのアセトン+2mLの10wt%HF)に加え、10時間撹拌した後に遠心分離器を用いて蒸留水で1回、アセトンで1回洗浄してから固体を回収した。この固体を60℃にて一晩減圧乾燥して、キラルな金属シリコンであるL−Si粉末を得た。
L−SiO2−Si−600、L−SiO2−Si−500、D−SiO2−Si−600及びD−SiO2−Si−500のそれぞれについて、粉末X線回折(XRD)の測定を行った。その結果を図1に示す。図1に示すように、L−体及びD−体のいずれについても回折ピークが観察され、これらのサンプルが結晶性を備えていることがわかる。そして、いずれについても熱処理温度が500℃のものよりも600℃のものの方がより大きな回折ピークを示したことから、このピークを示す結晶は還元処理の際の熱処理で成長したものと考えられ、この変化が、還元で生成した金属シリコンの結晶が成長するのに伴ってもたらされたものと推察された。
PEI/L−Tart@SiO2及びPEI/D−Tart@SiO2のそれぞれについて、KCl中にサンプルを40質量%の濃度で分散させた粉末を調製し、円二色性(CD)スペクトル測定を行った。その結果を図2に示す。また、L−SiO2−Si−600、L−SiO2−Si−500、D−SiO2−Si−600及びD−SiO2−Si−500のそれぞれについて、KCl中にサンプルを7.6質量%の濃度で分散させた粉末を調製し、CDスペクトル測定を行った。その結果を図3に示す。さらに、L−SiO2−Si−600、L−SiO2−Si−500、D−SiO2−Si−600及びD−SiO2−Si−500のそれぞれについて、上記のCDスペクトル測定の際に同時に測定された紫外−可視吸収スペクトルを図4に示す。
キラルな固体複合体であるL−SiO2−Si−600、及びキラルな金属シリコンであるL−Siのそれぞれについて透過型電子顕微鏡(TEM)による観察を行った。L−SiO2−Si−600についての観察結果を図6に、L−Siについての観察結果を図7にそれぞれ示す。なお、図6及び図7のいずれについても、低分解率での画像を上段に示し、高分解率での画像を下段に示した。
Claims (8)
- 主として珪素からなり、前記珪素が結晶性であって、200〜800nmの波長範囲の少なくともいずれかにおける円二色性スペクトル測定において円二色性が観察されることを特徴とするキラルな固体金属。
- 粉末である請求項1記載のキラルな固体金属。
- 主として珪素及び酸化珪素からなり、前記珪素が結晶性であって、200〜800nmの波長範囲の少なくともいずれかにおける円二色性スペクトル測定において円二色性が観察されることを特徴とする、金属及びその酸化物のキラルな固体複合体。
- 粉末である請求項3記載の金属及びその酸化物のキラルな固体複合体。
- 直鎖状ポリエチレンイミン骨格を備えたポリマー及びキラルなジカルボン酸化合物を反応させて酸塩基型錯体のキラル超分子結晶を得る結晶生成工程と、
前記キラル超分子結晶に加水分解性の珪素化合物を作用させるゾルゲル法により、前記キラル超分子結晶の表面に前記珪素化合物の加水分解物の層を形成させるゾルゲル工程と、
前記ゾルゲル工程を経たキラル超分子結晶を焼成することで、有機物であるキラル超分子結晶を分解させるとともに前記加水分解物の層をシリカに転換させてシリカの構造体を得る焼成工程と、
前記シリカの構造体と還元剤との混合物を調製した後、この混合物を加熱して前記構造体に含まれるシリカの一部を還元することで、シリカ及び珪素を含んだ固体複合体を得る還元工程と、
前記還元工程を経た固体複合体にフッ化水素酸を作用させ、前記還元工程で還元されなかったシリカを溶解除去して主として珪素からなる固体金属を得る除去工程と、を備えたキラルな固体金属の製造方法。 - 前記還元剤がマグネシウムの粉末である請求項5記載のキラルな固体金属の製造方法。
- 直鎖状ポリエチレンイミン骨格を備えたポリマー及びキラルなジカルボン酸化合物を反応させて酸塩基型錯体のキラル超分子結晶を得る結晶生成工程と、
前記キラル超分子結晶に加水分解性の珪素化合物を作用させるゾルゲル法により、前記キラル超分子結晶の表面に前記珪素化合物の加水分解物の層を形成させるゾルゲル工程と、
前記ゾルゲル工程を経たキラル超分子結晶を焼成することで、有機物であるキラル超分子結晶を分解させるとともに前記加水分解物の層をシリカに転換させてシリカの構造体を得る焼成工程と、
前記シリカの構造体と還元剤との混合物を調製した後、この混合物を加熱して前記構造体に含まれるシリカの一部を還元することで、シリカ及び珪素を含んだ固体複合体を得る還元工程と、を備えたキラルな固体複合体の製造方法。 - 前記還元剤がマグネシウムの粉末である請求項7記載のキラルな固体複合体の製造方法。
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005105672A1 (ja) * | 2004-04-30 | 2005-11-10 | Japan Science And Technology Agency | キラルなねじれ構造を持つ無機メソポーラス物質及びその製法 |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005105672A1 (ja) * | 2004-04-30 | 2005-11-10 | Japan Science And Technology Agency | キラルなねじれ構造を持つ無機メソポーラス物質及びその製法 |
WO2012108300A1 (ja) * | 2011-02-09 | 2012-08-16 | 一般財団法人川村理化学研究所 | シリカ系キラルナノ構造体及びその製造方法 |
WO2014068631A1 (ja) * | 2012-10-29 | 2014-05-08 | 学校法人神奈川大学 | キラルな金属酸化物構造体の製造方法、及びキラルな多孔質構造体 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018177964A (ja) * | 2017-04-12 | 2018-11-15 | 学校法人神奈川大学 | キラルポリマーの製造方法、キラル炭素材料の製造方法、及びキラルポリマー |
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