JP2016076574A - ウエーハの分割方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】専用の装置を用いず、積層体を崩すことなく、裏面に遮光テープが貼着されている場合であっても、Low-k膜からなる積層体を有するウエーハを分割できるようにする。
【解決手段】ストリート2の幅以下の幅を有する切削ブレード30を回転させるとともに、ストリート2に沿って切削ブレード30を切削送りし、ストリート2に存在する積層体4を切断して切断溝7を形成する積層体切断工程と、切断溝7から基板1に対して透過性を有する波長のレーザー光線41を入射させ切断溝7に沿って基板1の内部に改質層8を形成する内部加工工程と、改質層8を起点に基板1を分割する分割工程とを備えるため、切断溝7を介して表面1a側からレーザー光線41を入射して基板1の内部に改質層8を形成することができ、積層体4を崩すことなく改質層8を起点に基板1を分割できる。
【選択図】図6

Description

本発明は、積層体を有するウエーハを個々のデバイスに分割する方法に関する。
近年、IC,LSI等のデバイスの処理能力を向上させるため、低誘電率絶縁体被膜(Low-k膜)からなる積層体を表面に有するウエーハが実用化されており、このウエーハは、個々のデバイスに分割された後、携帯電話、パソコン等の各種電気機器に利用されている。
Low-k膜が基板の表面に積層されたウエーハを分割するためには、例えばレーザー光線の照射によるLow-k膜の切断(アブレーション加工)をした後、Low-k膜が切断された部分の基板に切削ブレードを切り込ませて切削することにより、ウエーハを分割する方法が提案されている(例えば、下記の特許文献1を参照)。
また、Low-k膜をアブレーション加工してから基板の裏面側からレーザー光線を照射して基板の内部に改質層を形成し、その後、基板に外力を付与して該改質層を起点にしてウエーハを分割する方法も提案されている(例えば、下記の特許文献2を参照)。
特許第4471632号公報 特開平2007−173475号公報
しかし、基板の表面に積層されたLow-k膜のうちアブレーション加工により切断溝が形成された部分は非常に脆くなっているため、切断溝を介して切削ブレードを基板に切り込ませると、切削ブレードが切断溝の側面のLow-k膜に接触してLow-k膜が崩れるおそれがある。そのため、切削ブレードがLow-k膜に接触しないようにするためには、ストリートの幅を広く設定しておき、幅広のストリートに沿ってアブレーション加工する必要がある。
また、上記のように、基板の裏面側からレーザー光線を照射して基板の内部に改質層を形成するためには、裏面側からレーザー光線を照射するための特別な装置が必要となる。
さらには、フリップチップ実装(突起電極を介して実装基板にウエーハのチップを接続する実装技術)のために裏面に遮光テープが貼着されたウエーハに対しては、該裏面側からレーザー光線が入射しないため、該裏面側からのレーザー照射により基板の内部に改質層を形成することが不可能となっている。
本発明は、上記の事情にかんがみてなされたもので、専用の装置を用いなくても、積層体を崩すことなく、裏面に遮光テープが貼着されている場合であっても、Low-k膜からなる積層体を有するウエーハを分割できるようにすることを目的とする。
本発明は、基板の表面に積層された積層体によってデバイスが形成されたウエーハを、デバイスを区画するストリートに沿って個々のデバイスに分割するウエーハの分割方法であって、ストリートの幅以下の幅を有する切削ブレードを回転させてストリートに切り込ませ、ストリートに沿って切削ブレードとウエーハとを相対的に切削送りし、ストリートに存在する積層体を切断して切断溝を形成する積層体切断工程と、積層体切断工程によって形成された切断溝から基板に対して透過性を有する波長のレーザー光線を入射させ切断溝に沿って基板の内部に改質層を形成する内部加工工程と、改質層を起点に基板を分割する分割工程と、を備える。
本発明に係るウエーハの分割方法は、ストリートの幅以下の幅を有する切削ブレードによって基板の表面における積層体に切断溝を形成した後に、切断溝を介して基板の表面側からレーザー光線を入射させて内部に改質層し、改質層を起点に基板を分割するように構成したため、切断溝の両側面における積層体が崩れることがなく、基板の裏面側からレーザー光線を照射するための特別な装置も不要となり、ウエーハの裏面に貼着されるテープの種類が限定されることもない。また、切削ブレードを用いずに基板を分割するため、ストリートの幅を広くする必要もない。
ウエーハの一例を示す斜視図である。 Low-k膜からなる積層体が表面に形成されたウエーハの断面図である。 保持工程を示す断面図である。 積層体切断工程を示す断面図である。 積層体に切断溝が形成された状態を示すウエーハの断面図である。 内部加工工程を示す断面図である。 分割工程を示す断面図である。 保持工程の第2例を示す断面図である。 積層体切断工程の第2例を示す断面図である。 内部加工工程の第2例を示す断面図である。 分割工程の第2例を示す断面図である。
図1及び図2に示すウエーハWは、被加工物の一例であり、円板状の基板1を備えている。基板1の表面1aには、格子状のストリート2によって区画された各領域に積層体4から形成されるデバイス3をそれぞれ備えている。積層体4は、例えば低誘電率絶縁体被膜(Low-k膜)で構成されている。一方、基板1の裏面1bには、デバイス3が形成されていない。以下では、ウエーハWを個々のデバイスごとのチップに分割する分割方法について説明する。
1 ウエーハの分割方法の第1例
(1)保持工程
図3に示すように、ウエーハWを保持する保持面11を有するチャックテーブル10にウエーハWを搬入する。ウエーハWの裏面1bがテープ5に貼着され、テープ5の周縁部にはリング状のフレーム6が貼着されており、テープ5を介してフレーム6と基板1とが一体に形成されている。
チャックテーブル10の周縁には、フレーム6を固定するクランプ手段20が配設されている。クランプ手段20は、チャックテーブル10の外周側から突出した支持部21と、支持部21に配設されフレーム6が載置されるフレーム載置部22と、フレーム載置部22の一端に接続され軸部24を有する回転支持部23と、軸部24を支点に回転しフレーム載置部22に載置されたフレーム6の上面を押さえる断面L字形のクランプ部25とを備えている。
基板1の裏面1bに貼着されたテープ5を下向きにして、チャックテーブル10の保持面11に基板1を載置するとともに、フレーム載置部22にフレーム6を載置する。続いて、クランプ部25が軸部24を支点に回転することにより、フレーム6の上面を押さえてクランプする。なお、テープ5は、伸縮性を有していればよく、特に限定されるものではない。
(2)積層体切断工程
図4に示すように、切削ブレード30を用いて基板1の表面1aに積層された積層体4を切断する。切削ブレード30は、図1に示したストリート2の幅以下の幅を有している。積層体4を切断するためには、切削ブレード30を所定の回転速度で例えば矢印A方向に回転させながら基板1の表面1aに接近する方向に下降させて積層体4に切り込ませる。
次いで、図1に示したストリート2に沿って回転する切削ブレード30を切削送りし、ストリート2上の積層体4に切削ブレード30を切り込ませて積層体4を切断し、図5に示すように、基板1の表面1aが露出した切断溝7を形成する。なお、切削ブレード3の水平方向の位置は変えずに、ウエーハWを水平方向に移動させてもよい。すなわち、ストリート2に沿って切削ブレード30とウエーハWとを相対的に切削送りすればよい。
切削ブレード30による切削によって形成された切断溝7の底面7aは、レーザー光線の照射によるアブレーション加工によって形成されたアブレーション溝の底面よりも、凹凸の少ない鏡面状に形成される。ここで、積層体切断工程で用いられる切削ブレードに含まれる砥粒の粒径が細かいほど、切断溝7の底面7aの凹凸を低減することができる。よって、例えば#5000の粒度を有する切削ブレードを使用することが好ましい。
(3)内部加工工程
積層体切断工程を実施した後、図6に示すように、基板1の上方側に配設されたレーザー発振器40から基板1の内部にレーザー光線41を集光して改質層8を形成する。具体的には、レーザー発振器40の下方に基板1を保持したチャックテーブル10を移動させる。その後、レーザー発振器40は、切断溝7から露出した基板1の表面1aに向けて、基板1に対して透過性を有する波長のレーザー光線41を入射させ、基板1の内部にレーザー光線を集光する。
このとき、図5に示した切断溝7の底面7aの凹凸があまりないため、レーザー光線41が底面7aを通過するときに、レーザー光線41の屈折が少なくなる。したがって、基板1の内部の所望の位置にレーザー光線41を集光して改質層8を形成することができる。このようにして全てのストリート2に沿ってレーザー光線41を照射して基板1の内部に改質層8を形成する。
(4)分割工程
図7に示すように、チャックテーブル10の下方に配設された拡張手段50を用いて基板1の内部に外力を加えて基板1を分割する。図7(a)に示す拡張手段50は、チャックテーブル10の周囲に配設された拡張リング51と、拡張リング51を上下方向に昇降させる拡張シリンダ52とを少なくとも備えている。
基板1を分割する際には、拡張シリンダ52によって拡張リング51を上昇させ、図7(b)に示すように、拡張リング51でテープ5を下方から押し上げる。これにより、テープ5を放射状に拡張させ、同図(a)に示した基板1の内部の改質層8に外力を加える。そして、当該外力に耐えられなくなった改質層8を起点に基板1を個々のチップCを分割する。
2 ウエーハの分割方法の第2例
ウエーハWを分割する方法としては、図8に示す基板1の裏面1bに弾性テープ9を貼着し、分割工程において基板1の表面1a側から外力を付与することによりウエーハWを個々のデバイス付きのチップに分割する方法もある。
(1)保持工程
図8に示すように、基板1の裏面1bに貼着された弾性テープ9を下向きにして、チャックテーブル10aの保持面11に基板1を載置する。続いて図示しない吸引源によって、チャックテーブル10aの保持面11で基板1を吸引保持する。
(2)積層体切断工程
保持工程を実施したら、図9に示す切削ブレード30を用いて基板1の表面1aの積層体4を切断する。切断動作については、ウエーハの分割方法の第1例における積層体切断工程と同様となっている。すなわち、切削ブレード30を所定の回転速度で例えば矢印A方向に回転させながら基板1の表面1aに接近する方向に下降させて積層体4のストリート2に切り込ませる。そして、回転する切削ブレード30とウエーハWとを相対的にストリート2に沿って切削送りさせ、切断溝7を形成する。
(3)内部加工工程
積層体切断工程を実施した後、図10に示すように、レーザー発振器40から基板1に向けてレーザー光線を照射し、基板1の内部に分割起点となる改質層8を形成する。加工動作については、ウエーハの分割方法の第1例における内部加工工程と同様となっている。すなわち、レーザー発振器40は、基板1に対して透過性を有する波長のレーザー光線41を切断溝7から露出した基板1の表面1aに向けて照射し、基板1の内部に改質層8を形成する。そして、全てのストリート2上における切断溝7に沿ってレーザー光線41の照射を繰り返し行い、基板1の内部に改質層8を形成する。
(4)分割工程
次に、図11に示すように、チャックテーブル10の上方に配設された押圧手段60を用いて基板1の内部に外力を加えて基板1を分割する。押圧手段60は、図11(a)に示すように、基板1を押圧する押圧ブレード61と、押圧ブレード61を鉛直方向に昇降させる移動部62と、移動部62を水平に移動可能に支持するガイド部63とを備えている。押圧ブレード61は、少なくとも図1に示したストリート2の幅以下の幅を有し、その先端部分がストリート2に沿ってライン状に形成されている。
基板1を分割する際には、押圧手段60は、ストリート2の上方に押圧ブレード61を位置づける。続いて、移動部62によって押圧ブレード61を基板1の表面1aに接近する方向に下降させ、押圧ブレード61の先端部分で切断溝7を介して基板1の表面1aを押圧して基板1の内部に外力を加える。
これにより、基板1の裏面1bに貼着されている弾性テープ9が凹むとともに、図11(b)に示すように、当該外力に耐えられなくなった改質層8が起点となり、1列のストリート2に沿って基板1を個々のチップCに分割する。その後、同図(a)に示す移動部62がガイド部63に沿って水平に移動し、押圧ブレード61を押圧していないストリート2の上方側に順次位置づけ、上記同様の押圧動作を繰り返し行い、基板1を個々のチップCに分割する。
以上のとおり、本発明のウエーハの分割方法では、積層体切断工程を実施することにより、ストリート2の幅以下の幅を有する切削ブレード30を用いて基板1の表面1aにおける積層体4に凹凸の少ない底面7aを有する切断溝7を形成することができるため、内部加工工程を実施するときに切断溝7を介して基板1の表面1aにレーザー光線41を入射可能となって、所望の深さにレーザー光線41を集光して基板1の内部に改質層8を形成することができる。したがって、改質層8の形成時に切断溝7の両側面の積層体4が崩れることがない。さらに、切削ブレード30を用いて基板を分割する場合と比べてストリート2の幅を広く設定する必要もなくなる。
また、本発明の分割方法では、基板1の表面1a側からレーザー照射による内部加工が可能となるため、基板1の裏面1b側からレーザー照射するための特別な機構が必要なくなり、例えば、チャックテーブルをガラステーブルにしたり、ウエーハWの表裏を反転させるための機構を設けたりする必要がない。
さらには、基板1の裏面1bに貼着して使用するテープの種類が限定されることはなく、例えば、基板1の裏面1bに遮光テープを貼着したとしても内部加工工程を実施する際に支障がない。
なお、本発明のウエーハの分割方法では、ウエーハWを反転させることなく、積層体切断工程,内部加工工程及び分割工程を実施できるため、基板1に対するテープの貼替えが必要ない。
1:基板 1a:表面 1b:裏面 2:ストリート 3:デバイス
4:積層体 5:テープ 6:フレーム 7:切断溝 8:改質層 9:弾性テープ
10,10a:チャックテーブル 11:保持面
20:クランプ手段 21:支持部 22:フレーム載置部
23:回転部 24:軸部 25:クランプ部
30:切削ブレード
40:レーザー発振器 41:レーザー光線
50:拡張手段 51:拡張シリンダ 52:拡張リング
60:押圧手段 61:押圧ブレード 62:移動部 63:ガイド部

Claims (1)

  1. 基板の表面に積層された積層体によってデバイスが形成されたウエーハを、該デバイスを区画するストリートに沿って個々のデバイスに分割するウエーハの分割方法であって、
    該ストリートの幅以下の幅を有する切削ブレードを回転させて該ストリートに切り込ませ、該ストリートに沿って該切削ブレードとウエーハとを相対的に切削送りし、該ストリートに存在する該積層体を切断して切断溝を形成する積層体切断工程と、
    該積層体切断工程によって形成された該切断溝から基板に対して透過性を有する波長のレーザー光線を入射させ該切断溝に沿って基板の内部に改質層を形成する内部加工工程と、
    該改質層を起点に基板を分割する分割工程と、
    を備えるウエーハの分割方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018067587A (ja) * 2016-10-18 2018-04-26 株式会社ディスコ ウェーハの加工方法
CN109396660A (zh) * 2018-09-25 2019-03-01 力成科技(苏州)有限公司 多光源激光开槽工艺

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003338636A (ja) * 2002-03-12 2003-11-28 Hamamatsu Photonics Kk 発光素子の製造方法、発光ダイオード、及び半導体レーザ素子
JP2004349275A (ja) * 2003-03-24 2004-12-09 Tokyo Seimitsu Co Ltd チップ製造方法
JP2005032903A (ja) * 2003-07-10 2005-02-03 Oki Electric Ind Co Ltd 半導体装置及びその製造方法
JP2010010514A (ja) * 2008-06-30 2010-01-14 Fujitsu Microelectronics Ltd 半導体装置の製造方法及び半導体装置
JP2012124212A (ja) * 2010-12-06 2012-06-28 Panasonic Corp 半導体チップの製造方法
JP2013219271A (ja) * 2012-04-11 2013-10-24 Disco Abrasive Syst Ltd 光デバイスウエーハの加工方法
US20130320519A1 (en) * 2012-06-04 2013-12-05 Stats Chippac, Ltd. Semiconductor Device and Method of Backgrinding and Singulation of Semiconductor Wafer while Reducing Kerf Shifting and Protecting Wafer Surfaces

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003338636A (ja) * 2002-03-12 2003-11-28 Hamamatsu Photonics Kk 発光素子の製造方法、発光ダイオード、及び半導体レーザ素子
JP2004349275A (ja) * 2003-03-24 2004-12-09 Tokyo Seimitsu Co Ltd チップ製造方法
JP2005032903A (ja) * 2003-07-10 2005-02-03 Oki Electric Ind Co Ltd 半導体装置及びその製造方法
JP2010010514A (ja) * 2008-06-30 2010-01-14 Fujitsu Microelectronics Ltd 半導体装置の製造方法及び半導体装置
JP2012124212A (ja) * 2010-12-06 2012-06-28 Panasonic Corp 半導体チップの製造方法
JP2013219271A (ja) * 2012-04-11 2013-10-24 Disco Abrasive Syst Ltd 光デバイスウエーハの加工方法
US20130320519A1 (en) * 2012-06-04 2013-12-05 Stats Chippac, Ltd. Semiconductor Device and Method of Backgrinding and Singulation of Semiconductor Wafer while Reducing Kerf Shifting and Protecting Wafer Surfaces

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018067587A (ja) * 2016-10-18 2018-04-26 株式会社ディスコ ウェーハの加工方法
CN109396660A (zh) * 2018-09-25 2019-03-01 力成科技(苏州)有限公司 多光源激光开槽工艺

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