JP2016072283A - Light emission device - Google Patents

Light emission device

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JP2016072283A
JP2016072283A JP2014196831A JP2014196831A JP2016072283A JP 2016072283 A JP2016072283 A JP 2016072283A JP 2014196831 A JP2014196831 A JP 2014196831A JP 2014196831 A JP2014196831 A JP 2014196831A JP 2016072283 A JP2016072283 A JP 2016072283A
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結城 敏尚
Toshihisa Yuki
敏尚 結城
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Tohoku Pioneer Corp
Pioneer Corp
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Tohoku Pioneer Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light emission device in which a first electrode and a second electrode are not short-circuited with each other even when no insulation layer is provided.SOLUTION: A light emission device 10 is, for example, an illumination device or a display device, and has a substrate 100 and a light emission unit 140. The light emission unit 140 is formed at a part of a first surface of the substrate 100, and has a first electrode 110, a second electrode 130 and an organic layer 120. The second electrode 130 covers the first electrode 110. The organic layer 120 is located between the first electrode 110 and the second electrode 130. The edge and side surface of the first electrode 110 is in contact with the organic layer 120. The organic layer 120 is formed continuously over a region extending from an area overlapped with the first electrode 110 to a portion located around the first electrode 110. The organic layer 120 is thicker than the first electrode 110.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、発光装置に関する。   The present invention relates to a light emitting device.

近年は有機ELを利用した発光装置の開発が進んでいる。この発光装置は、照明装置や表示装置として使用されており、第1電極と第2電極の間に有機層を挟んだ構成を有している。そして、一般的には第1電極には透明材料が用いられており、第2電極には金属材料が用いられている。   In recent years, development of light-emitting devices using organic EL has progressed. This light-emitting device is used as a lighting device or a display device, and has a configuration in which an organic layer is sandwiched between a first electrode and a second electrode. In general, a transparent material is used for the first electrode, and a metal material is used for the second electrode.

有機ELを利用した発光装置の一つに、特許文献1に記載の技術がある。特許文献1の技術は、有機ELを利用した表示装置に光透過性(シースルー)を持たせるために、第2電極を画素の一部にのみ設けている。このような構造において、複数の第2電極の間に位置する領域は光を透過させるため、表示装置は光透過性を有することができる。なお、特許文献1に記載の技術において、複数の第2電極の間には、画素を画定するために、透光性の絶縁層が形成されている。特許文献1において、この絶縁層の材料として、酸化シリコンなどの無機材料や、アクリル樹脂などの樹脂材料が例示されている。   One of the light emitting devices using organic EL is a technique described in Patent Document 1. In the technique of Patent Document 1, the second electrode is provided only in a part of the pixel so that the display device using the organic EL has light transmittance (see-through). In such a structure, since the region positioned between the plurality of second electrodes transmits light, the display device can have light transmittance. In the technique described in Patent Document 1, a light-transmitting insulating layer is formed between the plurality of second electrodes in order to define pixels. Patent Document 1 exemplifies inorganic materials such as silicon oxide and resin materials such as acrylic resin as the material of the insulating layer.

特開2011−23336号公報JP 2011-23336 A

光透過性を評価する指標として光線透過率がある。この光線透過率は、ある物体に入射した光が透過した割合を示すものである。一般的に、透光性を謳う材料であっても光の光線透過率は100%ではない。一方、有機層を用いた発光装置において、第1電極と第2電極が短絡することを抑制するために、第1電極の縁を絶縁層で覆う場合がある。このような場合、絶縁層を透過する際に光の一部が吸収されてしまう。この場合、発光装置の光線透過率は低下してしまう。   There is a light transmittance as an index for evaluating light transmittance. This light transmittance indicates the ratio of light that has entered a certain object. In general, even a light-transmitting material does not have a light transmittance of 100%. On the other hand, in a light-emitting device using an organic layer, an edge of the first electrode may be covered with an insulating layer in order to suppress a short circuit between the first electrode and the second electrode. In such a case, part of the light is absorbed when passing through the insulating layer. In this case, the light transmittance of the light emitting device is lowered.

本発明が解決しようとする課題としては、発光装置において、絶縁層を設けなくても第1電極と第2電極が、例えば第一電極の縁及び側面において、短絡しないようにすることが一例として挙げられる。   As an example of the problem to be solved by the present invention, in the light emitting device, the first electrode and the second electrode are prevented from being short-circuited, for example, at the edge and side surface of the first electrode without providing an insulating layer. Can be mentioned.

請求項1に記載の発明は、透光性の基板と、
前記基板に形成された発光部と、
を備え、
前記発光部は、第1電極、第2電極、及び前記第1電極と前記第2電極の間に位置する有機層と、
を備え、
前記第1電極の縁及び側面は、前記有機層に接しており、
前記有機層は、前記第1電極110と重なる領域から、前記第1電極の周囲に位置する部分にわたって連続して形成されており、かつ、前記第1電極よりも厚い発光装置である。
The invention according to claim 1 is a translucent substrate;
A light emitting part formed on the substrate;
With
The light emitting unit includes a first electrode, a second electrode, and an organic layer positioned between the first electrode and the second electrode,
With
The edges and side surfaces of the first electrode are in contact with the organic layer,
The organic layer is a light emitting device that is continuously formed from a region overlapping with the first electrode 110 to a portion positioned around the first electrode and is thicker than the first electrode.

実施形態に係る発光装置の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the light-emitting device which concerns on embodiment. 実施例1に係る発光装置の構成を示す断面図である。1 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a light emitting device according to Example 1. FIG. 実施例2に係る発光装置の構成を示す断面図である。6 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a light emitting device according to Example 2. FIG. 実施例3に係る発光装置の断面図である。6 is a cross-sectional view of a light emitting device according to Example 3. FIG. 図4に示した発光装置の平面図である。It is a top view of the light-emitting device shown in FIG.

以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。尚、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In all the drawings, the same reference numerals are given to the same components, and the description will be omitted as appropriate.

図1は、実施形態に係る発光装置10の構成を示す断面図である。実施形態に係る発光装置10は、例えば照明装置または表示装置であり、基板100及び発光部140を備えている。発光部140は基板100の第1面の一部に形成されており、第1電極110、第2電極130、及び有機層120を備えている。第2電極130は第1電極110を覆っている。有機層120は第1電極110と第2電極130の間に位置している。また、第1電極110の縁及び側面は有機層120に接している。有機層120は、第1電極110と重なる領域から、第1電極110の周囲に位置する部分にわたって連続して形成されている。そして、有機層120は第1電極110よりも厚い。以下、詳細に説明する。   FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a light emitting device 10 according to the embodiment. The light emitting device 10 according to the embodiment is, for example, a lighting device or a display device, and includes a substrate 100 and a light emitting unit 140. The light emitting unit 140 is formed on a part of the first surface of the substrate 100 and includes the first electrode 110, the second electrode 130, and the organic layer 120. The second electrode 130 covers the first electrode 110. The organic layer 120 is located between the first electrode 110 and the second electrode 130. Further, the edge and the side surface of the first electrode 110 are in contact with the organic layer 120. The organic layer 120 is continuously formed from a region overlapping the first electrode 110 to a portion located around the first electrode 110. The organic layer 120 is thicker than the first electrode 110. Details will be described below.

基板100は、例えばガラス基板や樹脂基板などの透光性を有する基板である。基板100は可撓性を有していてもよい。可撓性を有している場合、基板100の厚さは、例えば10μm以上1000μm以下である。基板100は、例えば矩形などの多角形や円形である。基板100が樹脂基板である場合、基板100は、例えばPEN(ポリエチレンナフタレート)、PES(ポリエーテルサルホン)、PET(ポリエチレンテレフタラート)、又はポリイミドを用いて形成されている。また、基板100が樹脂基板である場合、水分が基板100を透過することを抑制するために、基板100の少なくとも一面(好ましくは両面)に、SiNやSiONなどの無機バリア膜が形成されているのが好ましい。 The substrate 100 is a light-transmitting substrate such as a glass substrate or a resin substrate. The substrate 100 may have flexibility. In the case of flexibility, the thickness of the substrate 100 is, for example, not less than 10 μm and not more than 1000 μm. The substrate 100 is, for example, a polygon such as a rectangle or a circle. When the substrate 100 is a resin substrate, the substrate 100 is formed using, for example, PEN (polyethylene naphthalate), PES (polyethersulfone), PET (polyethylene terephthalate), or polyimide. When the substrate 100 is a resin substrate, an inorganic barrier film such as SiN x or SiON is formed on at least one surface (preferably both surfaces) of the substrate 100 in order to prevent moisture from permeating the substrate 100. It is preferable.

基板100の一面には、発光部140が形成されている。発光部140は、第1電極110、有機層120、及び第2電極130をこの順に積層させた構成を有している。発光装置10が照明装置の場合、複数の発光部140はライン状に延在している。一方、発光装置10が表示装置の場合、複数の発光部140はマトリクスを構成するように配置されているか、セグメントを構成したり所定の形状を表示するように(例えばアイコンを表示するように)なっていてもよい。そして複数の発光部140は、画素別に形成されている。   A light emitting unit 140 is formed on one surface of the substrate 100. The light emitting unit 140 has a configuration in which the first electrode 110, the organic layer 120, and the second electrode 130 are stacked in this order. When the light emitting device 10 is an illumination device, the plurality of light emitting units 140 extend in a line shape. On the other hand, when the light emitting device 10 is a display device, the plurality of light emitting units 140 are arranged so as to form a matrix, or form a segment or display a predetermined shape (for example, display an icon). It may be. The plurality of light emitting units 140 are formed for each pixel.

第1電極110は、光透過性を有する透明電極である。透明電極の材料は、金属を含む材料、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)、IZO(Indium Zinc Oxide)、IWZO(Indium Tungsten Zinc Oxide)、ZnO(Zinc Oxide)等の金属酸化物である。第1電極110の厚さは、例えば10nm以上500nm以下である。第1電極110は、例えばスパッタリング法又は蒸着法を用いて形成される。なお、第1電極110は、カーボンナノチューブ、又はPEDOT/PSSなどの導電性有機材料であってもよい。   The first electrode 110 is a transparent electrode having optical transparency. The material of the transparent electrode is a material containing a metal, for example, a metal oxide such as ITO (Indium Tin Oxide), IZO (Indium Zinc Oxide), IWZO (Indium Tungsten Zinc Oxide), or ZnO (Zinc Oxide). The thickness of the first electrode 110 is, for example, not less than 10 nm and not more than 500 nm. The first electrode 110 is formed using, for example, a sputtering method or a vapor deposition method. The first electrode 110 may be a carbon nanotube or a conductive organic material such as PEDOT / PSS.

有機層120は発光層を有している。有機層120は、例えば、正孔注入層、発光層、及び電子注入層をこの順に積層させた構成を有している。正孔注入層と発光層との間には正孔輸送層が形成されていてもよい。また、発光層と電子注入層との間には電子輸送層が形成されていてもよい。有機層120は蒸着法で形成されてもよい。また、有機層120のうち少なくとも一つの層、例えば第1電極110と接触する層は、インクジェット法、印刷法、又はスプレー法などの塗布法によって形成されてもよい。なお、この場合、有機層120の残りの層は、蒸着法によって形成されている。また、有機層120のすべての層が、塗布法を用いて形成されていてもよい。   The organic layer 120 has a light emitting layer. The organic layer 120 has a configuration in which, for example, a hole injection layer, a light emitting layer, and an electron injection layer are stacked in this order. A hole transport layer may be formed between the hole injection layer and the light emitting layer. In addition, an electron transport layer may be formed between the light emitting layer and the electron injection layer. The organic layer 120 may be formed by a vapor deposition method. In addition, at least one layer of the organic layer 120, for example, a layer in contact with the first electrode 110, may be formed by a coating method such as an inkjet method, a printing method, or a spray method. In this case, the remaining layers of the organic layer 120 are formed by vapor deposition. Moreover, all the layers of the organic layer 120 may be formed using the apply | coating method.

そして、有機層120は、第1電極110上、及び基板100のうち少なくとも第1電極110の周囲に位置する領域のそれぞれに、連続して形成されている。このため、第1電極110の縁及び側面は、確実に有機層120によって覆われる。   The organic layer 120 is continuously formed on the first electrode 110 and in each of the regions of the substrate 100 located at least around the first electrode 110. For this reason, the edge and side surface of the first electrode 110 are surely covered with the organic layer 120.

第2電極130は、例えば、Al、Au、Ag、Pt、Mg、Sn、Zn、及びInからなる第1群の中から選択される金属、又はこの第1群から選択される金属の合金からなる金属層を含んでいる。この場合、第2電極130は遮光性を有している。第2電極130の厚さは、例えば10nm以上500nm以下である。ただし、第2電極130は、第1電極110の材料として例示した材料を用いて形成されていてもよい。第2電極130は、例えばスパッタリング法又は蒸着法を用いて形成される。本図に示す例において、発光装置10は第1電極110よりも幅が広くなっている。このため、基板100に垂直な方向から見た場合において、幅方向において第1電極110の全体が第2電極130によって重なっており、また覆われている。   The second electrode 130 is made of, for example, a metal selected from the first group consisting of Al, Au, Ag, Pt, Mg, Sn, Zn, and In, or an alloy of a metal selected from the first group. Contains a metal layer. In this case, the second electrode 130 has a light shielding property. The thickness of the second electrode 130 is, for example, not less than 10 nm and not more than 500 nm. However, the second electrode 130 may be formed using the material exemplified as the material of the first electrode 110. The second electrode 130 is formed using, for example, a sputtering method or a vapor deposition method. In the example shown in the figure, the light emitting device 10 is wider than the first electrode 110. For this reason, when viewed from the direction perpendicular to the substrate 100, the entire first electrode 110 is overlapped and covered by the second electrode 130 in the width direction.

第1電極110と有機層120の間には絶縁層が形成されていない。このため、第1電極110の縁は絶縁層で覆われておらず、第1電極110の縁及び側面は有機層120に接している。そして、第1電極110と第2電極130が短絡することを抑制するために、有機層120は、第1電極110よりも厚くなっている。例えば、発光部140を基板100に垂直に切った断面で観測したときの有機層120の厚さが第1電極110の厚さよりも厚くなっている。このように有機層120を形成することで、第1電極110の縁及び側面に接する有機層120の厚さが、第1電極110と第2電極130が第1電極110の縁及び側面において短絡しない程度の厚さになる。有機層120の厚さは、例えば第1電極110の厚さの2倍以上5倍以下である。また、有機層120の厚さは、例えば60nm以上400nm以下である。また、第1電極110の厚さは、例えば30nm以上200nm以下である。   An insulating layer is not formed between the first electrode 110 and the organic layer 120. For this reason, the edge of the first electrode 110 is not covered with the insulating layer, and the edge and the side surface of the first electrode 110 are in contact with the organic layer 120. In order to prevent the first electrode 110 and the second electrode 130 from being short-circuited, the organic layer 120 is thicker than the first electrode 110. For example, the thickness of the organic layer 120 when the light emitting unit 140 is observed in a cross section cut perpendicularly to the substrate 100 is larger than the thickness of the first electrode 110. By forming the organic layer 120 in this manner, the thickness of the organic layer 120 in contact with the edge and side surface of the first electrode 110 is short-circuited between the first electrode 110 and the second electrode 130 at the edge and side surface of the first electrode 110. Thickness that does not. The thickness of the organic layer 120 is, for example, not less than 2 times and not more than 5 times the thickness of the first electrode 110. Moreover, the thickness of the organic layer 120 is 60 nm or more and 400 nm or less, for example. The thickness of the first electrode 110 is, for example, not less than 30 nm and not more than 200 nm.

また、基板100に垂直な方向から見た場合において、発光装置10は、第1領域102及び第2領域104を有している。第1領域102は第2電極130と重なる領域である。第2電極130が遮光性を有している場合、第1領域102は光を通さない領域である。第2領域104は、第2電極130と重ならない領域である。第2電極130の光線透過率は第1電極110の光線透過率よりも低いため、第2領域104の光線透過率は、第1領域102の光線透過率と比較して高い。第1領域102の面積は104の面積よりも小さい。また、基板100のうち発光部140が形成されている領域の面積(言い換えると発光部の面積)は、基板100のうち発光部140が形成されていない領域の面積(言い換えると非発光部の面積)よりも小さい。   Further, when viewed from a direction perpendicular to the substrate 100, the light emitting device 10 includes a first region 102 and a second region 104. The first region 102 is a region overlapping with the second electrode 130. When the second electrode 130 has a light shielding property, the first region 102 is a region that does not transmit light. The second region 104 is a region that does not overlap with the second electrode 130. Since the light transmittance of the second electrode 130 is lower than the light transmittance of the first electrode 110, the light transmittance of the second region 104 is higher than the light transmittance of the first region 102. The area of the first region 102 is smaller than the area 104. Further, the area of the substrate 100 where the light emitting part 140 is formed (in other words, the area of the light emitting part) is the area of the substrate 100 where the light emitting part 140 is not formed (in other words, the area of the non-light emitting part). Smaller than).

次に、発光装置10の製造方法について説明する。まず、基板100に第1電極110を、例えばスパッタリング法を用いて形成する。次いで、第1電極110を、フォトリソグラフィー法を利用して所定のパターンにする。次いで、有機層120及び第2電極130をこの順に形成する。有機層120が蒸着法で形成される層を含む場合、この層は、例えばマスクを用いるなどして所定のパターンに形成される。第2電極130も、例えばマスクを用いるなどして所定のパターンに形成される。その後、封止部材(図示せず)を用いて発光部140を封止する。   Next, a method for manufacturing the light emitting device 10 will be described. First, the first electrode 110 is formed on the substrate 100 by using, for example, a sputtering method. Next, the first electrode 110 is formed into a predetermined pattern using a photolithography method. Next, the organic layer 120 and the second electrode 130 are formed in this order. When the organic layer 120 includes a layer formed by an evaporation method, this layer is formed in a predetermined pattern using, for example, a mask. The second electrode 130 is also formed in a predetermined pattern using, for example, a mask. Thereafter, the light emitting unit 140 is sealed using a sealing member (not shown).

本実施形態において、第2領域104の光線透過率は第1領域102の光線透過率よりも高い。そして、第2領域104の面積は第1領域102の面積よりも大きい。このため、発光装置10は、一定以上の光透過性を有する。   In the present embodiment, the light transmittance of the second region 104 is higher than the light transmittance of the first region 102. The area of the second region 104 is larger than the area of the first region 102. For this reason, the light emitting device 10 has a light transmittance of a certain level or more.

そして本実施形態では、第1電極110の縁は絶縁層で覆われていない。このため、発光装置10の光線透過率は、第1電極110の縁を絶縁層で覆った場合と比較して高くなる。さらに本実施形態では、有機層120を第1電極110よりも厚くしている。このため、第1電極110の縁と重なる部分において有機層120が薄くなることを抑制でき、その結果、第1電極110と第2電極130が短絡することを抑制できる。有機層120の厚さを第1電極110の厚さの2倍以上にすると、第1電極110と第2電極130は特に短絡しにくくなる。   In this embodiment, the edge of the first electrode 110 is not covered with an insulating layer. For this reason, the light transmittance of the light emitting device 10 is higher than when the edge of the first electrode 110 is covered with an insulating layer. Furthermore, in this embodiment, the organic layer 120 is thicker than the first electrode 110. For this reason, it can suppress that the organic layer 120 becomes thin in the part which overlaps with the edge of the 1st electrode 110, As a result, it can suppress that the 1st electrode 110 and the 2nd electrode 130 are short-circuited. If the thickness of the organic layer 120 is twice or more the thickness of the first electrode 110, the first electrode 110 and the second electrode 130 are particularly difficult to short-circuit.

(実施例1)
図2は、実施例1に係る発光装置10の構成を示す断面図である。本実施例に係る発光装置10は、第2電極130の幅が第1電極110の幅よりも狭い点を除いて、実施形態に係る発光装置10と同様の構成である。詳細には、少なくともある断面において、第2電極130の2つの縁は、いずれも、第1電極110の縁よりも、第1電極110の中心側に位置している。この場合、発光部140の幅は第1領域102の幅と等しくなる。
Example 1
FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a configuration of the light emitting device 10 according to the first embodiment. The light emitting device 10 according to this example has the same configuration as the light emitting device 10 according to the embodiment except that the width of the second electrode 130 is narrower than the width of the first electrode 110. Specifically, at least in a certain cross section, the two edges of the second electrode 130 are both positioned closer to the center of the first electrode 110 than the edge of the first electrode 110. In this case, the width of the light emitting unit 140 is equal to the width of the first region 102.

本実施例によっても、実施形態と同様に、第1電極110と第2電極130が短絡することを抑制できる。また、第2電極130の幅が第1電極110の幅よりも狭いため、第2電極130は、有機層120のうち第1電極110の縁の上に位置する領域とは重ならない。従って、第1電極110と第2電極130が短絡することをさらに抑制できる。また、隣り合う電極(例えば第1電極110と、隣り合う発光部140の第1電極110または第2電極130と)の間で生じる発光、いわゆるクロストーク発光を防止することができる。   Also according to the present example, as in the embodiment, the first electrode 110 and the second electrode 130 can be prevented from being short-circuited. In addition, since the width of the second electrode 130 is narrower than the width of the first electrode 110, the second electrode 130 does not overlap with a region located on the edge of the first electrode 110 in the organic layer 120. Therefore, it is possible to further suppress a short circuit between the first electrode 110 and the second electrode 130. In addition, light emission that is generated between adjacent electrodes (for example, the first electrode 110 and the first electrode 110 or the second electrode 130 of the adjacent light-emitting portion 140), that is, so-called crosstalk light emission can be prevented.

(実施例2)
図3は、実施例2に係る発光装置10の構成を示す断面図である。本実施例に係る発光装置10は、導電部170を備えている点を除いて、実施形態に係る発光装置10と同様の構成である。有機層120が厚くなることで、抵抗が大きくなることが予想されるが、導電部170を設けることで、抵抗増加分を補うことができる。
(Example 2)
FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a configuration of the light emitting device 10 according to the second embodiment. The light emitting device 10 according to this example has the same configuration as that of the light emitting device 10 according to the embodiment, except that the conductive portion 170 is provided. Although the resistance is expected to increase as the organic layer 120 becomes thicker, the increase in resistance can be compensated for by providing the conductive portion 170.

導電部170は、例えば第1電極110の補助電極であり、第1電極110に接触している。導電部170は第1電極110よりも抵抗値が低い材料によって形成されており、例えば少なくとも一つの金属層を用いて形成されている。導電部170は、例えばMo又はMo合金などの第1金属層、Al又はAl合金などの第2金属層、及びMo又はMo合金などの第3金属層をこの順に積層させた構成を有している。これら3つの金属層のうち第2金属層が最も厚い。   The conductive portion 170 is, for example, an auxiliary electrode for the first electrode 110 and is in contact with the first electrode 110. The conductive portion 170 is formed of a material having a lower resistance value than that of the first electrode 110, and is formed using, for example, at least one metal layer. The conductive portion 170 has a configuration in which, for example, a first metal layer such as Mo or Mo alloy, a second metal layer such as Al or Al alloy, and a third metal layer such as Mo or Mo alloy are stacked in this order. Yes. Of these three metal layers, the second metal layer is the thickest.

そして導電部170は、有機層120によって覆われている。このため、導電部170は第2電極130に直接接続していない。なお、導電部170の厚さは、有機層120の厚さの0.2倍以上0.5倍以下、例えば30nm以上400nm以下である。   The conductive portion 170 is covered with the organic layer 120. For this reason, the conductive part 170 is not directly connected to the second electrode 130. Note that the thickness of the conductive portion 170 is not less than 0.2 times and not more than 0.5 times the thickness of the organic layer 120, for example, not less than 30 nm and not more than 400 nm.

導電部170を形成するタイミングは、第1電極110を形成した後、有機層120を形成する前である。導電部170は、例えば以下のようにして形成される。まず、導電部170となる導電層を、例えばスパッタリング法などの成膜法を用いてこの順に形成する。次いで、この導電層上にレジストパターン(図示せず)を形成し、このレジストパターンをマスクとして導電層をエッチング(例えばウェットエッチング)する。これにより、導電部170は形成される。   The timing for forming the conductive portion 170 is after the first electrode 110 is formed and before the organic layer 120 is formed. The conductive portion 170 is formed as follows, for example. First, a conductive layer to be the conductive portion 170 is formed in this order by using a film forming method such as a sputtering method. Next, a resist pattern (not shown) is formed on the conductive layer, and the conductive layer is etched (for example, wet etching) using the resist pattern as a mask. Thereby, the conductive part 170 is formed.

本実施例によっても、実施形態と同様に、第1電極110と第2電極130が短絡することを抑制できる。また、第1電極110上に導電部170を形成しているため、第1電極110の抵抗値を小さくすることができる。また、導電部170は有機層120によって覆われている。このため、導電部170と第2電極130が短絡することを抑制できる。また、導電部170は第2電極130の端部よりも内側にあること、つまり、第1領域102にあることが望ましい。   Also according to the present example, as in the embodiment, the first electrode 110 and the second electrode 130 can be prevented from being short-circuited. In addition, since the conductive portion 170 is formed on the first electrode 110, the resistance value of the first electrode 110 can be reduced. In addition, the conductive portion 170 is covered with the organic layer 120. For this reason, it can suppress that the electroconductive part 170 and the 2nd electrode 130 are short-circuited. In addition, it is desirable that the conductive portion 170 is inside the end portion of the second electrode 130, that is, in the first region 102.

(実施例3)
図4は、実施例3に係る発光装置10の断面図である。図5は、図4に示した発光装置10の平面図である。図4は、図5のA−A断面に対応している。本実施例に係る発光装置10は、複数の発光部140を備えている点を除いて、実施形態又は実施例1,2に係る発光装置10のいずれかと同様の構成である。
(Example 3)
FIG. 4 is a cross-sectional view of the light emitting device 10 according to the third embodiment. FIG. 5 is a plan view of the light emitting device 10 shown in FIG. 4 corresponds to the AA cross section of FIG. The light emitting device 10 according to this example has the same configuration as that of the light emitting device 10 according to the embodiment or Examples 1 and 2 except that a plurality of light emitting units 140 are provided.

詳細には、発光装置10は照明装置であり、複数の線状の発光部140を有している。これら複数の発光部140は、基板100の第1面に互いに離れて配置されている。詳細には、複数の発光部140は線状かつ同一方向に延在している。そして有機層120は、基板100の第1面のうち、複数の発光部140の間に位置する領域にも形成されている。言い換えると、有機層120は、複数の発光部140及びこれらの間の領域に連続して形成されている。   Specifically, the light emitting device 10 is a lighting device, and includes a plurality of linear light emitting units 140. The plurality of light emitting units 140 are disposed apart from each other on the first surface of the substrate 100. Specifically, the plurality of light emitting units 140 are linear and extend in the same direction. The organic layer 120 is also formed in a region located between the plurality of light emitting units 140 on the first surface of the substrate 100. In other words, the organic layer 120 is continuously formed in the plurality of light emitting units 140 and a region between them.

本実施例によっても、実施形態と同様に、第1電極110と第2電極130が短絡することを抑制できる。また、有機層120は、複数の発光部140及びこれらの間の領域に連続して形成されているため、有機層120を形成するときに、細かなパターンを有するマスクを用いる必要がない。従って、発光装置10を製造するときのコストを低くすることができる。   Also according to the present example, as in the embodiment, the first electrode 110 and the second electrode 130 can be prevented from being short-circuited. In addition, since the organic layer 120 is continuously formed in the plurality of light emitting portions 140 and a region between them, it is not necessary to use a mask having a fine pattern when forming the organic layer 120. Therefore, the cost for manufacturing the light emitting device 10 can be reduced.

以上、図面を参照して実施形態及び実施例について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。   As mentioned above, although embodiment and the Example were described with reference to drawings, these are illustrations of this invention and can also employ | adopt various structures other than the above.

10 発光装置
100 基板
102 第1領域
104 第2領域
110 第1電極
120 有機層
130 第2電極
140 発光部
170 導電部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Light-emitting device 100 Board | substrate 102 1st area | region 104 2nd area | region 110 1st electrode 120 Organic layer 130 2nd electrode 140 Light-emitting part 170 Conductive part

Claims (7)

透光性の基板と、
前記基板に形成された発光部と、
を備え、
前記発光部は、第1電極、第2電極、及び前記第1電極と前記第2電極の間に位置する有機層と、
を備え、
前記第1電極の縁及び側面は、前記有機層に接しており、
前記有機層は、前記第1電極と重なる領域から、前記第1電極の周囲に位置する部分にわたって連続して形成されており、かつ、前記第1電極よりも厚い発光装置。
A translucent substrate;
A light emitting part formed on the substrate;
With
The light emitting unit includes a first electrode, a second electrode, and an organic layer positioned between the first electrode and the second electrode,
With
The edges and side surfaces of the first electrode are in contact with the organic layer,
The organic layer is formed continuously from a region overlapping with the first electrode to a portion located around the first electrode, and is thicker than the first electrode.
請求項1に記載の発光装置において、
前記基板のうち前記発光部が形成されていない領域の面積は、前記発光部が形成されている領域の面積よりも大きい発光装置。
The light-emitting device according to claim 1.
The area of the substrate where the light emitting part is not formed is larger than that of the area where the light emitting part is formed.
請求項1又は2に記載の発光装置において、
前記第2電極の光線透過率は前記第1電極の光線透過率よりも低く、
前記基板に垂直な方向から見た場合において、前記第2電極に覆われている領域は、前記第2電極に覆われていない領域よりも面積が小さい発光装置。
The light-emitting device according to claim 1 or 2,
The light transmittance of the second electrode is lower than the light transmittance of the first electrode,
When viewed from a direction perpendicular to the substrate, the area covered with the second electrode has a smaller area than the area not covered with the second electrode.
請求項1〜3のいずれか一項に記載の発光装置において、
前記有機層の厚さは前記第1電極の厚さの2倍以上である発光装置。
In the light-emitting device as described in any one of Claims 1-3,
The light emitting device wherein the thickness of the organic layer is twice or more the thickness of the first electrode.
請求項1〜4のいずれか一項に記載の発光装置において、
前記有機層の厚さは60nm以上400nm以下である発光装置。
In the light-emitting device as described in any one of Claims 1-4,
The light emitting device having a thickness of the organic layer of 60 nm to 400 nm.
請求項1〜5のいずれか一項に記載の発光装置において、
前記基板において、複数の前記発光部が互いに離れて形成されている発光装置。
In the light-emitting device as described in any one of Claims 1-5,
A light-emitting device in which a plurality of the light-emitting portions are formed apart from each other on the substrate.
請求項1〜6のいずれか一項に記載の発光装置において、
前記第2電極の幅は前記第1電極の幅よりも狭い発光装置。
In the light-emitting device as described in any one of Claims 1-6,
The width of the second electrode is a light emitting device narrower than the width of the first electrode.
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