JP2011249089A - Organic el display panel and method of manufacturing the same, and organic el display - Google Patents

Organic el display panel and method of manufacturing the same, and organic el display Download PDF

Info

Publication number
JP2011249089A
JP2011249089A JP2010119751A JP2010119751A JP2011249089A JP 2011249089 A JP2011249089 A JP 2011249089A JP 2010119751 A JP2010119751 A JP 2010119751A JP 2010119751 A JP2010119751 A JP 2010119751A JP 2011249089 A JP2011249089 A JP 2011249089A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
organic
electrode
display panel
film thickness
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2010119751A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tetsuro Kondo
哲郎 近藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Corp
Original Assignee
Panasonic Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Corp filed Critical Panasonic Corp
Priority to JP2010119751A priority Critical patent/JP2011249089A/en
Publication of JP2011249089A publication Critical patent/JP2011249089A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL display panel, which has a long life-time while having superior light emission characteristics since a light emission region is wide, a film thickness of an organic functional layer in the light emission region is held uniform, and the organic functional layer has no level separation, and a method of manufacturing the same, and an organic EL display.SOLUTION: An anode 105 has its end Parranged while isolated from an end Pof a bank facing an opening. The anode 105 has a laminate structure of a metal layer 1051 made of aluminum or aluminum alloy and a transparent conductive layer 1052 made of ITO from the side of a flattening film 104. A film thickness tof the metal layer 1051 is 40-200 [nm], and a surface part thereof serves as a reflection part having a predetermined reflection factor. Further, an organic functional layer 107 formed on the anode 105 has a film thickness tequal to or larger than the film thickness tof the anode 105, and is formed from an upper surface of the anode 105 to a side face of an end.

Description

本発明は、有機EL表示パネルとその製造方法、および有機EL表示装置に関する。   The present invention relates to an organic EL display panel, a manufacturing method thereof, and an organic EL display device.

近年では、有機エレクトロルミネッセンス(EL)表示装置の研究・開発がなされている。有機EL表示装置に含まれる有機EL表示パネルは、画素単位で有機EL素子が設けられた構成を有し、有機EL素子毎に固体蛍光性物質の電界発光現象を利用して自発光する。従来技術の一例として、特許文献1,2で開示されている有機EL表示パネルの構成について、図16を用い説明する。   In recent years, research and development of organic electroluminescence (EL) display devices have been made. An organic EL display panel included in an organic EL display device has a configuration in which an organic EL element is provided for each pixel, and emits light by utilizing an electroluminescence phenomenon of a solid fluorescent material for each organic EL element. As an example of the prior art, the configuration of the organic EL display panel disclosed in Patent Documents 1 and 2 will be described with reference to FIG.

図16に示すように、従来技術に係る有機EL表示パネルでは、基板901上にTFT(Thin Film Transistor)層902が形成され(図16では、一部であるソースのみを図示している)、その上にパッシベーション膜903および平坦化膜904が順に積層形成されている。平坦化膜904上には、各画素900に対応する状態で、陽極905が形成されている。陽極905は、平坦化膜904の側から順に積層形成された金属層9051と透明導電層9052とから構成されている。陽極905は、平坦化膜904に開けられたコンタクトホール904a中にも埋め込まれており、これによりTFT層902との接続が図られている。   As shown in FIG. 16, in the organic EL display panel according to the prior art, a TFT (Thin Film Transistor) layer 902 is formed on a substrate 901 (FIG. 16 shows only a part of the source). A passivation film 903 and a planarization film 904 are sequentially stacked thereon. An anode 905 is formed on the planarization film 904 in a state corresponding to each pixel 900. The anode 905 includes a metal layer 9051 and a transparent conductive layer 9052 that are sequentially stacked from the planarization film 904 side. The anode 905 is also embedded in a contact hole 904a opened in the planarization film 904, thereby connecting to the TFT layer 902.

平坦化膜904上には、画素900と隣接する画素900との間を区画するように、バンク906が形成されている。バンク906は、陽極905の端部の一部上を覆うように配されている。バンク905で規定された画素900の領域には、陽極905上に有機機能層907が積層形成されている。有機機能層907は、湿式の塗布型層であって、少なくとも有機発光層を含む。有機機能層907上およびバンク906上には、陰極908が形成されており、さらに陰極908を覆うように封止層909が積層形成されている。   A bank 906 is formed on the planarization film 904 so as to partition between the pixel 900 and the adjacent pixel 900. The bank 906 is disposed so as to cover a part of the end of the anode 905. An organic functional layer 907 is stacked on the anode 905 in the region of the pixel 900 defined by the bank 905. The organic functional layer 907 is a wet coating type layer and includes at least an organic light emitting layer. A cathode 908 is formed on the organic functional layer 907 and the bank 906, and a sealing layer 909 is stacked so as to cover the cathode 908.

ところで、図16に示す従来技術に係る有機EL表示装置では、バンク906が陽極905の端部を覆っているため、当該部分に電流が流れ難くなり、発光領域の減少が問題となる。また、図17(a)や図17(b)に示すように、各画素920,930における有機機能層927,937の両端部分(矢印Iおよび矢印Jで指し示す部分)において、塗布ムラに起因する厚みの不均一を生じることがある。このような現象は、発光輝度ムラの原因となり、画質の向上という観点から改善が求められる。   By the way, in the organic EL display device according to the prior art shown in FIG. 16, since the bank 906 covers the end of the anode 905, it becomes difficult for current to flow through the portion, and the reduction of the light emitting region becomes a problem. Further, as shown in FIGS. 17A and 17B, due to coating unevenness in both end portions (portions indicated by arrows I and J) of the organic functional layers 927 and 937 in the respective pixels 920 and 930. Thickness non-uniformity may occur. Such a phenomenon causes uneven luminance of light emission, and improvement is required from the viewpoint of improving image quality.

これに対し、特許文献3では、バンクの幅を狭くすることにより陽極との間隔をあけ、これによって上記のような課題を解決しようとする提案がされている。即ち、バンクの幅を狭くすることで陽極の端部をバンクで覆わない構成とし、当該構成により発光領域を広くするとともに、陽極上の有機機能層の厚みを均一にできるとされている。   On the other hand, in Patent Document 3, a proposal is made to solve the above-described problems by increasing the interval between the bank and the anode by narrowing the bank width. That is, by narrowing the bank width, the end portion of the anode is not covered with the bank, and by this configuration, the light emitting region can be widened and the thickness of the organic functional layer on the anode can be made uniform.

特開平11−54286号公報JP-A-11-54286 特開2004−192890号公報JP 2004-192890 A 特開2005−93421号公報JP 2005-93421 A

しかしながら、特許文献3で提案されている技術では、バンクと陽極との間に間隔をあけたことに起因して、陽極の端部において有機機能層が段切れを生じて陽極と陰極とがショートしてしまったり、段切れを生じないまでも有機機能層の膜厚が極端に薄くなることで電界集中を生じたりするなどの問題を生じ得る。即ち、図18に示すように、陽極955の端部P91とバンク906の端部P92との間に間隔dをあける構成の場合、陽極955の端部(矢印Kで示す部分)で陽極955と陰極908とがショートしたりすることが生じ得る。 However, in the technique proposed in Patent Document 3, the organic functional layer is cut off at the end of the anode due to a gap between the bank and the anode, and the anode and the cathode are short-circuited. Even if no step breakage occurs, problems such as electric field concentration may occur due to the extremely thin organic functional layer. That is, as shown in FIG. 18, in the case of the configuration spacing d 9 between the end portion P 92 of the end portion P 91 and the bank 906 of the anode 955, at the end of the anode 955 (the portion indicated by the arrow K) It may occur that the anode 955 and the cathode 908 are short-circuited.

図18に示すように、陽極955は、アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層などの金属層9551とITO(酸化インジウムスズ)層9552との積層構造を有するが、この内、金属層9551は図示を省略しているバスバーと同一行程で形成されるため、膜厚t92をバスバーに合わせて厚膜に形成しているのが現状である。これより、従来においては、陽極955の膜厚t91が厚くなっており、それよりも膜厚t93が薄い有機機能層957aを形成するとき、矢印Kで示す部分で有機機能層が段切れを生じる。即ち、矢印Kで示す部分を境にして、有機機能層957aと有機機能層957bとの間が不連続な状態となる。この場合、段切れ部分で陽極955と陰極908とがショートするという問題が生じる。 As shown in FIG. 18, the anode 955 has a laminated structure of a metal layer 9551 such as an aluminum layer or an aluminum alloy layer and an ITO (indium tin oxide) layer 9552. Of these, the metal layer 9551 is not shown. In the present situation, the film thickness t 92 is formed in a thick film in accordance with the bus bar. Than this, conventionally, the thickness t 91 of the anode 955 has become thicker, when the thickness t 93 than to form a thin organic functional layer 957a, the organic functional layer disconnection in the portion indicated by the arrow K Produce. That is, the organic functional layer 957a and the organic functional layer 957b are discontinuous from the portion indicated by the arrow K as a boundary. In this case, there arises a problem that the anode 955 and the cathode 908 are short-circuited at the stepped portion.

なお、上記のような段切れの発生を防止するという目的で、有機機能層の膜厚を厚くするということも考えられるが、このような構成を採用する場合には、陽極955と陰極908との間での電気抵抗が増大してしまう。よって、所望の輝度を得るためには、より高い電圧を印加することが必要となり、有機機能層における有機発光層の劣化が促進され、寿命の低下という問題を生じることが考えられる。   In order to prevent the occurrence of step breaks as described above, it is conceivable to increase the thickness of the organic functional layer. However, when such a configuration is adopted, the anode 955 and the cathode 908 The electrical resistance between the two increases. Therefore, in order to obtain a desired luminance, it is necessary to apply a higher voltage, and the deterioration of the organic light emitting layer in the organic functional layer is promoted, which may cause a problem that the lifetime is reduced.

本発明は、上記問題を解決しようとなされたものであって、発光領域が広く、且つ、発光領域内での有機機能層の膜厚が均一に維持され、且つ、有機機能層の段切れのないことから、優れた発光特性を有しながら、長寿命な有機EL表示パネルとその製造方法、および有機EL表示装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above-described problem. The light emitting region is wide, the thickness of the organic functional layer in the light emitting region is maintained uniform, and the organic functional layer is not broken. Therefore, it is an object of the present invention to provide a long-life organic EL display panel, a manufacturing method thereof, and an organic EL display device having excellent light emission characteristics.

上記目的を達成するために、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルは、基板と、基板の上方に配置された絶縁層と、絶縁層の上方に形成され、所定の画素の領域に対応する開口部を規定するバンクと、絶縁層の表面上に配置され、アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層を含み、当該アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の表面部を所定の反射率を有する反射部とした第1電極と、第1電極の上面に形成され、有機発光層を少なくとも含む有機機能層と、有機機能層の上方に配置され、有機機能層から上方へ照射された光と、有機機能層から下方に照射された光であって第1電極の反射部で反射された光と、を透過する第2電極と、を含む。そして、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルでは、第1電極は、バンクの開口部内において、その端部が開口部を臨むバンクの端部から離間して配置され、第1電極に含まれるアルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の膜厚は、40[nm]以上200[nm]以下の所定の膜厚であり、有機機能層は、第1電極の所定の膜厚以上の膜厚であり、第1電極の上面から端部の側面にわたって形成されている。     In order to achieve the above object, an organic EL display panel according to one embodiment of the present invention is formed over a substrate, an insulating layer disposed over the substrate, and an insulating layer, and corresponds to a predetermined pixel region. A first bank disposed on the surface of the insulating layer, including an aluminum layer or an aluminum alloy layer, wherein the surface portion of the aluminum layer or the aluminum alloy layer is a reflective portion having a predetermined reflectance. An electrode, an organic functional layer formed on the upper surface of the first electrode and including at least an organic light emitting layer, light disposed above the organic functional layer and irradiated upward from the organic functional layer, and downward from the organic functional layer A second electrode that transmits the irradiated light and the light reflected by the reflecting portion of the first electrode. In the organic EL display panel according to one aspect of the present invention, the first electrode is disposed in the opening of the bank so that the end of the first electrode is separated from the end of the bank facing the opening, and is included in the first electrode. The aluminum layer or aluminum alloy layer to be formed has a thickness of 40 [nm] or more and 200 [nm] or less, and the organic functional layer is a thickness of the first electrode or more. The first electrode is formed from the upper surface to the side surface of the end portion.

本発明の一態様に係る有機EL表示パネルでは、第1電極におけるアルミニウム層若しくはアルミニウム合金層(以下、「金属層」と記載する。)の膜厚を40[nm]以上200[nm]以下の所定の膜厚とし、これにより、第1電極の金属層の表面部分が、有機機能層における有機発光層から照射された光に対して所定の反射率を有する反射部となる。即ち、第1電極における金属層の膜厚を40[nm]未満とする場合には、有機機能層における有機発光層から下方に照射された光の第2電極へ反射する光量が減少し、発光効率の低下を招くが、第1電極における金属層の膜厚を40[nm]以上とすることにより、高い発光効率を得ることができる。   In the organic EL display panel according to one embodiment of the present invention, the film thickness of the aluminum layer or the aluminum alloy layer (hereinafter referred to as “metal layer”) in the first electrode is 40 [nm] or more and 200 [nm] or less. With the predetermined film thickness, the surface portion of the metal layer of the first electrode becomes a reflection portion having a predetermined reflectance with respect to the light emitted from the organic light emitting layer in the organic functional layer. That is, when the film thickness of the metal layer in the first electrode is less than 40 [nm], the amount of light reflected downward from the organic light emitting layer in the organic functional layer to the second electrode is reduced, and light emission Although the efficiency is lowered, high luminous efficiency can be obtained by setting the thickness of the metal layer in the first electrode to 40 [nm] or more.

また、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルでは、有機機能層の膜厚を、第1電極の所定膜厚以上の膜厚とし、且つ、第1電極の上面から端部の側面にわたって有機機能層が形成されている構成を採用する。このため、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルでは、第1電極に対する有機機能層の膜厚および第1電極に対する有機機能層の形成形態を採用することにより、有機機能層の膜厚を必要以上に厚くする必要はなく、第1電極と第2電極との間での電気抵抗の増大による寿命低下という問題を生じることはなく、また、第1電極の端部における有機機能層の段切れや極端な薄膜化を招くことがない。   In the organic EL display panel according to one embodiment of the present invention, the thickness of the organic functional layer is greater than or equal to the predetermined thickness of the first electrode, and the organic layer extends from the top surface of the first electrode to the side surface of the end portion. A configuration in which a functional layer is formed is employed. For this reason, in the organic EL display panel according to one embodiment of the present invention, the thickness of the organic functional layer is reduced by adopting the thickness of the organic functional layer with respect to the first electrode and the form of forming the organic functional layer with respect to the first electrode. It is not necessary to make it thicker than necessary, there is no problem of a decrease in life due to an increase in electrical resistance between the first electrode and the second electrode, and the step of the organic functional layer at the end of the first electrode No cutting or extreme thinning.

また、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルでは、第1電極の端部と、開口部を臨むバンクの端部とを相互に離間させているので、発光領域を広くできるとともに、上記特許文献3で提案されている技術と同様に、第1電極上の有機機能層の厚みを均一化することができる。よって、発光特性が優れる。   Further, in the organic EL display panel according to one aspect of the present invention, the end of the first electrode and the end of the bank facing the opening are separated from each other. Similar to the technique proposed in Document 3, the thickness of the organic functional layer on the first electrode can be made uniform. Therefore, the light emission characteristics are excellent.

以上より、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルでは、発光領域が広く、且つ、発光領域内での有機機能層の膜厚が均一に維持され、且つ、有機機能層の段切れの発生がない。従って、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルは、優れた発光特性を有しながら、長寿命である。   As described above, in the organic EL display panel according to one embodiment of the present invention, the light emitting region is wide, the thickness of the organic functional layer in the light emitting region is maintained uniform, and the organic functional layer is disconnected. There is no. Therefore, the organic EL display panel according to one embodiment of the present invention has a long lifetime while having excellent light emission characteristics.

実施の形態1に係る有機EL表示装置1の構成を示す模式ブロック構成図である。1 is a schematic block configuration diagram showing a configuration of an organic EL display device 1 according to Embodiment 1. FIG. 有機EL表示パネル10の一部構成を示す模式断面端面図である。2 is a schematic cross-sectional end view showing a partial configuration of an organic EL display panel 10. FIG. 有機EL表示パネル10の一部構成を示す模式断面端面図である。2 is a schematic cross-sectional end view showing a partial configuration of an organic EL display panel 10. FIG. 有機EL表示パネル10の一部構成を抜き出して示す模式平面図である。FIG. 2 is a schematic plan view showing a part of the organic EL display panel 10 extracted. 有機EL表示パネル10における陽極105の端部付近を示す模式断面端面図である。2 is a schematic cross-sectional end view showing the vicinity of an end portion of an anode 105 in an organic EL display panel 10. FIG. (a)は、実施の形態1に係る有機EL表示パネル10における陽極105と有機機能層107との相互の配置関係を示す模式断面端面図であり、(b)は、比較例に係る有機EL表示パネルにおける陽極955と有機機能層957との相互の配置関係を示す模式断面端面図である。(A) is a schematic cross-sectional end view showing the mutual positional relationship between the anode 105 and the organic functional layer 107 in the organic EL display panel 10 according to Embodiment 1, and (b) is an organic EL according to a comparative example. FIG. 10 is a schematic cross-sectional end view showing a mutual arrangement relationship between an anode 955 and an organic functional layer 957 in a display panel. 金属層1051の膜厚毎の光の波長と反射率との関係を示す特性図である。It is a characteristic view showing the relationship between the wavelength of light and the reflectance for each film thickness of the metal layer 1051. 発光色毎の金属層1051の膜厚と反射率との関係を示す特性図である。It is a characteristic view which shows the relationship between the film thickness of the metal layer 1051 for every luminescent color, and a reflectance. (a)は、有機機能層107が2層構造である場合の膜厚tを定義するために用いる模式断面図であり、(b)は、有機機能層117が3層構造である場合の膜厚t13を定義するために用いる模式断面図であり、(c)は、有機機能層127に含まれる電荷注入層1271の膜厚t232を定義するために用いる模式断面図である。(A) is a schematic cross-sectional view used for defining the film thickness t 3 when the organic functional layer 107 has a two-layer structure, and (b) shows a case where the organic functional layer 117 has a three-layer structure. it is a schematic cross-sectional view used to define the thickness t 13, (c) is a schematic sectional view used to define the thickness t232 of the charge injection layer 1271 included in the organic functional layer 127. (a)〜(d)は、有機EL表示パネル10の製造工程の一部を示す模式工程図である。FIGS. 4A to 4D are schematic process diagrams illustrating a part of the manufacturing process of the organic EL display panel 10. (a)〜(c)は、有機EL表示パネル10の製造工程の一部を示す模式工程図である。FIGS. 4A to 4C are schematic process diagrams illustrating a part of the manufacturing process of the organic EL display panel 10. (a),(b)は、有機EL表示パネル10の製造工程の一部を示す模式工程図である。(A), (b) is a schematic process drawing which shows a part of manufacturing process of the organic electroluminescence display panel 10. 実施の形態2に係る有機EL表示パネル30の一部構成を示す模式断面端面図である。5 is a schematic cross-sectional end view showing a partial configuration of an organic EL display panel 30 according to Embodiment 2. FIG. 実施の形態3に係る有機EL表示パネル40の一部構成を抜き出して示す模式平面図である。FIG. 10 is a schematic plan view showing a partial configuration of an organic EL display panel 40 according to Embodiment 3. 有機EL表示パネル40の一部構成を示す模式断面端面図である。4 is a schematic cross-sectional end view showing a partial configuration of an organic EL display panel 40. FIG. 従来技術に係る有機EL表示パネルの一部構成を示す模式断面端面図である。It is a schematic cross section end view which shows a partial structure of the organic electroluminescence display panel which concerns on a prior art. (a),(b)は、従来技術で問題となる有機機能層927,937の端部断面形状を示す模式断面端面図である。(A), (b) is a schematic cross section end view which shows the cross-sectional shape of the edge part of the organic functional layers 927 and 937 used as a problem in a prior art. 改良に係る従来技術で問題となる陽極955の端部付近での有機機能層957の端部断面形状を示す模式断面端面図である。It is a schematic cross-sectional end view showing the end cross-sectional shape of the organic functional layer 957 in the vicinity of the end of the anode 955 which is a problem in the related art related to improvement.

[本発明の態様]
本発明の一態様に係る有機EL表示パネルは、基板と、基板の上方に配置された絶縁層と、絶縁層の上方に形成され、所定の画素の領域に対応する開口部を規定するバンクと、絶縁層の表面上に配置され、アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層を含み、当該アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の表面部を所定の反射率を有する反射部とした第1電極と、第1電極の上面に形成され、有機発光層を少なくとも含む有機機能層と、有機機能層の上方に配置され、有機機能層から上方へ照射された光と、有機機能層から下方に照射された光であって第1電極の反射部で反射された光と、を透過する第2電極と、を含む。そして、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルでは、第1電極は、バンクの開口部内において、その端部が開口部を臨むバンクの端部から離間して配置され、第1電極に含まれるアルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の膜厚は、40[nm]以上200[nm]以下の所定の膜厚であり、有機機能層は、第1電極の所定の膜厚以上の膜厚であり、第1電極の上面から端部の側面にわたって形成されている。
[Aspect of the Invention]
An organic EL display panel according to an aspect of the present invention includes a substrate, an insulating layer disposed above the substrate, a bank formed above the insulating layer and defining an opening corresponding to a predetermined pixel region. A first electrode disposed on the surface of the insulating layer, including an aluminum layer or an aluminum alloy layer, wherein the surface portion of the aluminum layer or the aluminum alloy layer is a reflective portion having a predetermined reflectance, and an upper surface of the first electrode An organic functional layer including at least an organic light emitting layer, light disposed on the organic functional layer and irradiated upward from the organic functional layer, and light irradiated downward from the organic functional layer. And a second electrode that transmits light reflected by the reflecting portion of the one electrode. In the organic EL display panel according to one aspect of the present invention, the first electrode is disposed in the opening of the bank so that the end of the first electrode is separated from the end of the bank facing the opening, and is included in the first electrode. The aluminum layer or aluminum alloy layer to be formed has a thickness of 40 [nm] or more and 200 [nm] or less, and the organic functional layer is a thickness of the first electrode or more. The first electrode is formed from the upper surface to the side surface of the end portion.

なお、本明細書では、第1電極における周囲の縁部を「端部」と呼称している。
本発明の一態様に係る有機EL表示パネルでは、第1電極におけるアルミニウム層若しくはアルミニウム合金層(以下、「金属層」と記載する。)の膜厚を40[nm]以上200[nm]以下の所定の膜厚とし、これにより、第1電極の金属層の表面部分が、有機機能層における有機発光層から下方に照射された光に対して所定の反射率を有する反射部となる。即ち、第1電極における金属層の膜厚を40[nm]未満とする場合には、有機機能層における有機発光層から照射された光の第2電極へ反射する光量が減少し、発光効率の低下を招くが、第1電極における金属層の膜厚を40[nm]以上とすることにより、高い発光効率を得ることができる。
In the present specification, the peripheral edge of the first electrode is referred to as an “end”.
In the organic EL display panel according to one embodiment of the present invention, the film thickness of the aluminum layer or the aluminum alloy layer (hereinafter referred to as “metal layer”) in the first electrode is 40 [nm] or more and 200 [nm] or less. With the predetermined film thickness, the surface portion of the metal layer of the first electrode becomes a reflection portion having a predetermined reflectance with respect to light irradiated downward from the organic light emitting layer in the organic functional layer. That is, when the film thickness of the metal layer in the first electrode is less than 40 [nm], the amount of light reflected from the organic light emitting layer in the organic functional layer to the second electrode is reduced, and the luminous efficiency is reduced. Although the reduction is caused, high luminous efficiency can be obtained by setting the thickness of the metal layer in the first electrode to 40 [nm] or more.

また、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルでは、有機機能層の膜厚を、第1電極の所定膜厚以上の膜厚とし、且つ、第1電極の上面から端部の側面にわたって有機機能層が形成されている構成を採用する。このため、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルでは、第1電極に対する有機機能層の膜厚および第1電極に対する有機機能層の形成形態を採用することにより、有機機能層の膜厚を必要以上に厚くする必要はなく、第1電極と第2電極との間での電気抵抗の増大による寿命低下という問題を生じることはなく、また、第1電極の端部における有機機能層の段切れや極端な薄膜化を招くことがない。   In the organic EL display panel according to one embodiment of the present invention, the thickness of the organic functional layer is greater than or equal to the predetermined thickness of the first electrode, and the organic layer extends from the top surface of the first electrode to the side surface of the end portion. A configuration in which a functional layer is formed is employed. For this reason, in the organic EL display panel according to one embodiment of the present invention, the thickness of the organic functional layer is reduced by adopting the thickness of the organic functional layer with respect to the first electrode and the form of forming the organic functional layer with respect to the first electrode. It is not necessary to make it thicker than necessary, there is no problem of a decrease in life due to an increase in electrical resistance between the first electrode and the second electrode, and the step of the organic functional layer at the end of the first electrode No cutting or extreme thinning.

また、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルでは、第1電極の端部と、開口部を臨むバンクの端部とを相互に離間させているので、発光領域を広くできるとともに、第1電極上の有機機能層の厚みを均一化することができる。よって、発光特性が優れる。   In the organic EL display panel according to one aspect of the present invention, since the end portion of the first electrode and the end portion of the bank facing the opening are separated from each other, the light emitting region can be widened and the first The thickness of the organic functional layer on the electrode can be made uniform. Therefore, the light emission characteristics are excellent.

以上より、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルでは、発光領域が広く、且つ、発光領域内での有機機能層の膜厚が均一に維持され、且つ、有機機能層の段切れの発生がない。従って、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルは、優れた発光特性を有しながら、長寿命である。   As described above, in the organic EL display panel according to one embodiment of the present invention, the light emitting region is wide, the thickness of the organic functional layer in the light emitting region is maintained uniform, and the organic functional layer is disconnected. There is no. Therefore, the organic EL display panel according to one embodiment of the present invention has a long lifetime while having excellent light emission characteristics.

また、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルでは、上記構成において、第1電極が、金属層(アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層)の上面に設けられた透明導電層を有する、という構成を採用することもできる。これにより、製造工程中などで金属層の表面部の反射率が低下するのを防止することができ、また、キャビティ設計における自由度を高くすることができる。   Further, in the organic EL display panel according to one embodiment of the present invention, in the above structure, the first electrode has a transparent conductive layer provided on the upper surface of the metal layer (aluminum layer or aluminum alloy layer). You can also Thereby, it is possible to prevent the reflectivity of the surface portion of the metal layer from being lowered during the manufacturing process and to increase the degree of freedom in the cavity design.

また、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルでは、上記構成において、第1電極に含まれる金属層(アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層)の膜厚が43[nm]以上200[nm]以下の所定の膜厚である、という構成を採用することもできる。このように、金属層の膜厚を43[nm]以上とすることにより、有機機能層の段切れの発生を防止しながら、金属層の表面部における反射率を高く維持することができる。具体的には、金属層の表面部における反射率を89[%]以上の安定した値とすることができる。よって、この構成を採用する場合には、光学特性に更に優れたものとすることができる。   In the organic EL display panel according to one embodiment of the present invention, in the above structure, the thickness of the metal layer (aluminum layer or aluminum alloy layer) included in the first electrode is 43 [nm] or more and 200 [nm] or less. A configuration in which the film thickness is a predetermined thickness may be employed. Thus, by setting the film thickness of the metal layer to 43 [nm] or more, it is possible to maintain a high reflectance at the surface portion of the metal layer while preventing the occurrence of stepping of the organic functional layer. Specifically, the reflectance at the surface portion of the metal layer can be a stable value of 89 [%] or more. Therefore, when this configuration is adopted, the optical characteristics can be further improved.

また、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルでは、上記構成において、第1電極に含まれる金属層(アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層)の膜厚が40[nm]以上120[nm]以下の所定の膜厚である、という構成を採用することもできる。先ず、金属層の膜厚の上限を120[nm]と規定することにより、金属層の表面部における反射率を低下させることなく、第1電極全体での膜厚を更に薄くすることができ、端部における有機機能層の段切れの発生を更に効果的に防止することができる。よって、上記構成を採用する場合には、第1電極と第2電極とのショートをより確実に防止することができる。   In the organic EL display panel according to one embodiment of the present invention, in the above structure, the thickness of the metal layer (aluminum layer or aluminum alloy layer) included in the first electrode is 40 [nm] or more and 120 [nm] or less. A configuration in which the film thickness is a predetermined thickness may be employed. First, by defining the upper limit of the thickness of the metal layer as 120 [nm], the thickness of the entire first electrode can be further reduced without reducing the reflectance at the surface portion of the metal layer, Occurrence of breakage of the organic functional layer at the end can be more effectively prevented. Therefore, when adopting the above configuration, a short circuit between the first electrode and the second electrode can be more reliably prevented.

なお、金属層を含む第1電極の膜厚を厚くし、これに連動して有機機能層の膜厚も厚くした場合には、上記のように、第1電極と第2電極との間での電気抵抗が増大し、この間に流れる電流量が低下する。このため、このような構成を採用すると、有機発光層における発光量が第1電極と第2電極との間隔の増大に反して、低下する。特に、第1電極における金属層の膜厚を120[nm]よりも厚くし、第1電極の膜厚もこれに伴い厚くする場合には、有機発光層における発光量の低下が、有機発光デバイスとして使用できない程度まで大きくなる。   In addition, when the film thickness of the first electrode including the metal layer is increased and the film thickness of the organic functional layer is also increased in conjunction with this, as described above, between the first electrode and the second electrode, The electric resistance increases, and the amount of current flowing during this period decreases. For this reason, when such a configuration is employed, the amount of light emitted from the organic light emitting layer decreases against the increase in the distance between the first electrode and the second electrode. In particular, when the film thickness of the metal layer in the first electrode is thicker than 120 [nm] and the film thickness of the first electrode is increased accordingly, the decrease in the light emission amount in the organic light-emitting layer may be As large as it cannot be used.

これに対して、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルでは、第1電極の金属層の膜厚を120[nm]以下としているので、有機機能層の膜厚もこれに伴い薄くすることができ、第1電極と第2電極との間に印加する電圧を低減することができ、その結果、有機発光デバイスとしての消費電力を抑えることができる。そして、このように印加電圧を低減する場合にも、大きな電流が流れるので、有機発光デバイスとして優れた発光性能を有する。よって、優れた発光特性を有しながら、長寿命であるという効果を得ることができる。   On the other hand, in the organic EL display panel according to one embodiment of the present invention, the thickness of the metal layer of the first electrode is 120 [nm] or less, and accordingly, the thickness of the organic functional layer is also reduced. The voltage applied between the first electrode and the second electrode can be reduced, and as a result, the power consumption as the organic light emitting device can be suppressed. Even when the applied voltage is reduced in this way, a large current flows, so that it has excellent light emitting performance as an organic light emitting device. Therefore, it is possible to obtain an effect of long life while having excellent light emission characteristics.

また、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルでは、上記構成において、第1電極に含まれる金属層(アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層)の膜厚が43[nm]以上120[nm]以下の所定の膜厚である、という構成を採用することもできる。上記構成を採用する場合には、第1電極における金属層の表面部での反射率を89[%]以上の高い値で安定させることができる。その結果、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルでは、優れた光学特性を有する。また、金属層の膜厚を上記範囲とすることに伴い、第1電極の膜厚もこれに伴って更に薄くすることでき、有機機能層の段切れの発生を防止しながら、第1電極と第2電極との間に印加する電圧を低減することができる。   In the organic EL display panel according to one embodiment of the present invention, in the above structure, the thickness of the metal layer (aluminum layer or aluminum alloy layer) included in the first electrode is 43 nm or more and 120 nm or less. A configuration in which the film thickness is a predetermined thickness may be employed. In the case of adopting the above configuration, the reflectance at the surface portion of the metal layer in the first electrode can be stabilized at a high value of 89 [%] or more. As a result, the organic EL display panel according to one embodiment of the present invention has excellent optical characteristics. In addition, as the thickness of the metal layer is within the above range, the thickness of the first electrode can be further reduced along with this, and the occurrence of disconnection of the organic functional layer is prevented, The voltage applied between the second electrode can be reduced.

よって、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルでは、優れた光学特性を有し、更に長寿命である。
また、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルでは、上記構成において、第1電極に含まれる金属層(アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層)の膜厚が50[nm]以上100[nm]以下の所定の膜厚である、という構成を採用することもできる。この構成を採用する場合には、第1電極の膜厚を金属層の膜厚に伴って極力薄くすることができ、且つ、金属層の膜厚が100[nm]を超える第1電極を採用する場合と同等の反射率を確保することができる。よって、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルでは、優れた光学特性を有し、且つ、有機機能層の膜厚を更に薄くすることができるので、第1電極と第2電極との間に印加する電圧を低減することができる。
Therefore, the organic EL display panel according to one embodiment of the present invention has excellent optical characteristics and a long lifetime.
In the organic EL display panel according to one embodiment of the present invention, in the above structure, the thickness of the metal layer (aluminum layer or aluminum alloy layer) included in the first electrode is 50 [nm] or more and 100 [nm] or less. A configuration in which the film thickness is a predetermined thickness may be employed. In the case of adopting this configuration, the first electrode can be made as thin as possible with the thickness of the metal layer, and the first electrode in which the thickness of the metal layer exceeds 100 [nm] is adopted. It is possible to ensure the same reflectivity as that in the case of doing so. Therefore, the organic EL display panel according to one embodiment of the present invention has excellent optical characteristics and can further reduce the thickness of the organic functional layer, so that it is between the first electrode and the second electrode. The voltage applied to can be reduced.

以上より、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルでは、優れた光学特性を有し、更に長寿命であるという効果を有する。
また、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルでは、上記構成において、有機機能層が、第1電極上に形成された電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方を含み、第1電極上に形成された電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方の膜厚が第1電極の所定の膜厚以上の膜厚であり、第1電極の上面から端部の側面にわたって形成されている、という構成を採用することもできる。このように、有機機能層に電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方を含む構成を採用する場合には、電荷注入性に優れ、優れた発光特性を有することができる。そして、電荷注入層あるいは電荷輸送層が第1電極の上面から端部の側面にわたって形成されているので、第1電極の端部での有機機能層の段切れが確実に防止でき、第1電極と第2電極とのショートを防止することができる。
As described above, the organic EL display panel according to one embodiment of the present invention has an effect of having excellent optical characteristics and a long lifetime.
In the organic EL display panel according to an aspect of the present invention, in the above structure, the organic functional layer includes at least one of a charge injection layer or a charge transport layer formed on the first electrode, A structure in which at least one of the formed charge injection layer or charge transport layer has a thickness greater than or equal to a predetermined thickness of the first electrode and is formed from the upper surface of the first electrode to the side surface of the end portion. Can also be adopted. As described above, when the organic functional layer includes at least one of the charge injection layer and the charge transport layer, the organic functional layer has excellent charge injection properties and excellent light emission characteristics. Since the charge injection layer or the charge transport layer is formed from the upper surface to the side surface of the end portion of the first electrode, the organic functional layer can be reliably prevented from being disconnected at the end portion of the first electrode. And the second electrode can be prevented from being short-circuited.

また、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルでは、上記構成において、有機機能層が、第1電極上に形成された電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方の層の上方に有機発光層を設けた層である、という構成を採用することもできる。   In the organic EL display panel according to an aspect of the present invention, in the above structure, the organic functional layer has an organic light emitting layer above at least one of the charge injection layer and the charge transport layer formed on the first electrode. It is also possible to adopt a configuration in which the layer is provided with a layer.

また、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルでは、上記構成において、有機機能層が、電荷注入層、電荷輸送層および有機発光層を含む層であり、電荷注入層が第1電極上に形成され、電荷注入層の膜厚が第1電極の所定の膜厚以上の膜厚であり、第1電極の上面から端部の側面にわたって形成されている、という構成を採用することもできる。   In the organic EL display panel according to one embodiment of the present invention, in the above structure, the organic functional layer is a layer including a charge injection layer, a charge transport layer, and an organic light emitting layer, and the charge injection layer is on the first electrode. It is also possible to adopt a configuration in which the charge injection layer is formed so that the thickness of the charge injection layer is equal to or greater than a predetermined thickness of the first electrode and is formed from the upper surface of the first electrode to the side surface of the end portion.

また、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルでは、上記構成において、第1電極の端部の側面と基板とがなす内角が90[°]以下である、という構成を採用することもできる。この構成を採用する場合には、第1電極の上方に配置された有機機能層が、第1電極の端部で段切れを発生するのを、より確実に防止することができるようになり、第1電極と第2電極との間でのショートの発生を確実に防止することができる。   In the organic EL display panel according to one aspect of the present invention, in the above configuration, a configuration in which an inner angle formed by the side surface of the end portion of the first electrode and the substrate is 90 [°] or less can be employed. . When adopting this configuration, it becomes possible to more reliably prevent the organic functional layer disposed above the first electrode from causing a break at the end of the first electrode, Generation | occurrence | production of the short circuit between a 1st electrode and a 2nd electrode can be prevented reliably.

また、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルでは、第1電極の端部を開口部を臨むバンクの端部から離間させて配置しているので、バンク近傍での有機膜の塗布状態が不安定になることが考えられるが、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルでは、当該領域の下方には第1電極が存在しないため、発光しない領域(非発光領域)となる。よって、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルでは、発光領域において、塗布形状のバラツキが少なく、膜厚を含む膜状態が均一な有機機能層を有し、画素内での輝度ムラが少なく、長寿命であるという効果を得ることができる。   Further, in the organic EL display panel according to one aspect of the present invention, since the end of the first electrode is disposed away from the end of the bank facing the opening, the organic film is applied in the vicinity of the bank. Although it may be unstable, in the organic EL display panel according to one embodiment of the present invention, since the first electrode does not exist below the region, the region does not emit light (non-light emitting region). Therefore, in the organic EL display panel according to one embodiment of the present invention, there is little variation in coating shape in the light emitting region, the organic functional layer has a uniform film state including film thickness, and luminance unevenness in the pixel is small. The effect of long life can be obtained.

また、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルでは、上記所定の画素の領域が、画素毎の領域であり、バンクが、上記開口部を画素毎に規定する、という構成を採用することができる。即ち、所謂、ピクセルバンク構成を一例として採用することができる。   In the organic EL display panel according to one aspect of the present invention, a configuration in which the predetermined pixel region is a region for each pixel and the bank defines the opening for each pixel may be employed. it can. That is, a so-called pixel bank configuration can be adopted as an example.

また、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルでは、上記所定の画素の領域が、複数の画素がライン状に配列された領域であり、バンクが、上記開口部をライン状に配列された複数の画素毎に規定する、という構成を採用することもできる。即ち、所謂、ラインバンク構成を一例として採用することもできる。   In the organic EL display panel according to an aspect of the present invention, the predetermined pixel region is a region in which a plurality of pixels are arranged in a line, and the bank has the openings arranged in a line. It is also possible to adopt a configuration in which each pixel is defined. That is, a so-called line bank configuration can be adopted as an example.

本発明の一態様に係る有機EL表示装置は、上記のいずれかの有機EL表示パネルを具備したことを特徴とする。よって、本発明の一態様に係る有機EL表示装置においても、上記同様の理由より、優れた発光特性を有しながら、長寿命である。   An organic EL display device according to one embodiment of the present invention includes any one of the above organic EL display panels. Therefore, the organic EL display device according to one embodiment of the present invention also has a long lifetime while having excellent light emission characteristics for the same reason as described above.

本発明の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法では、次の工程を含む。
(第1工程)基板を準備する。
(第2工程)基板の上方に絶縁膜を配置する。
The method for manufacturing an organic EL display panel according to an aspect of the present invention includes the following steps.
(First step) A substrate is prepared.
(Second step) An insulating film is disposed above the substrate.

(第3工程)金属層(アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層)を含み、当該金属層(アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層)の表面部を所定の反射率を有する反射部とした第1電極を、絶縁層の表面上に配置する。     (Third step) An insulating layer including a first electrode including a metal layer (aluminum layer or aluminum alloy layer) and having a surface portion of the metal layer (aluminum layer or aluminum alloy layer) as a reflective portion having a predetermined reflectance. Place on the surface.

(第4工程)絶縁膜の上方に、所定の画素の領域に対応する開口部を規定するバンクを形成する。
(第5工程)有機発光層を少なくとも含む有機機能層を、第1電極の上面から端部の側面にわたって、第1電極の所定の膜厚以上の膜厚に形成する。
(Fourth Step) A bank for defining an opening corresponding to a predetermined pixel region is formed above the insulating film.
(Fifth Step) An organic functional layer including at least the organic light emitting layer is formed to a thickness equal to or larger than a predetermined thickness of the first electrode from the upper surface of the first electrode to the side surface of the end portion.

(第6工程)有機発光層から上方へ照射された光と、有機発光層から下方に照射された光であって第1電極の反射部で反射された光とを、透過する第2電極を前記有機発光層の上方に配置する。     (6th process) The 2nd electrode which permeate | transmits the light irradiated upward from the organic light emitting layer, and the light irradiated below from the organic light emitting layer, and reflected by the reflection part of the 1st electrode It arrange | positions above the said organic light emitting layer.

本発明の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法では、上記において、第1電極は、バンクの開口部内において、その端部が開口部を臨むバンクの端部から離間して配置し、第1電極に含まれる金属層(アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層)の膜厚が40[nm]以上200[nm]以下の所定の膜厚である、という構成を採用することを特徴とする。   In the method for manufacturing an organic EL display panel according to one aspect of the present invention, in the above, the first electrode is disposed in the opening of the bank so that the end of the first electrode is spaced apart from the end of the bank facing the opening. A configuration is employed in which the thickness of a metal layer (aluminum layer or aluminum alloy layer) included in one electrode is a predetermined thickness of 40 [nm] or more and 200 [nm] or less.

本発明の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法では、金属層(アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層)の膜厚を40[nm]以上200[nm]以下の所定の膜厚とし、これにより、その表面部分が、有機機能層における有機発光層から照射された光に対して所定の反射率を有する反射部となる第1電極を形成する。金属層の膜厚を40[nm]以上とすることにより、表面部における反射部が高い発光効率を有する第1電極を形成することができる。   In the method for manufacturing an organic EL display panel according to one aspect of the present invention, the metal layer (aluminum layer or aluminum alloy layer) has a thickness of 40 [nm] or more and 200 [nm] or less. The surface part forms the 1st electrode used as the reflection part which has a predetermined reflectance with respect to the light irradiated from the organic light emitting layer in an organic functional layer. By setting the film thickness of the metal layer to 40 [nm] or more, it is possible to form the first electrode in which the reflection portion on the surface portion has high light emission efficiency.

また、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法では、有機機能層の膜厚を、第1電極の所定膜厚以上の膜厚とし、且つ、第1電極の上面から端部の側面にわたって有機機能層を形成することとしている。このため、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法を用いる場合、製造された有機EL表示パネルは、第1電極に対する有機機能層の膜厚および第1電極に対する有機機能層の形成形態を採用することにより、有機機能層の膜厚を必要以上に厚くする必要はなく、第1電極と第2電極との間での電気抵抗の増大による寿命低下という問題を生じることはなく、また、第1電極の端部における有機機能層の段切れや極端な薄膜化を招くことがない。   In the method for manufacturing an organic EL display panel according to one aspect of the present invention, the thickness of the organic functional layer is set to a thickness equal to or larger than a predetermined thickness of the first electrode, and from the upper surface to the end of the first electrode. The organic functional layer is formed over the side surface. For this reason, when using the manufacturing method of the organic electroluminescence display panel which concerns on 1 aspect of this invention, the organic electroluminescence display panel manufactured is the film thickness of the organic functional layer with respect to a 1st electrode, and formation of the organic functional layer with respect to a 1st electrode By adopting the form, it is not necessary to increase the film thickness of the organic functional layer more than necessary, and there is no problem of a decrease in life due to an increase in electrical resistance between the first electrode and the second electrode, Further, the organic functional layer at the end of the first electrode is not cut off or extremely thinned.

また、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法では、第1電極の端部と、開口部を臨むバンクの端部とが相互に離間するようにしているので、発光領域を広くすることができ、第1電極上の有機機能層の厚みが均一な有機EL表示パネルを製造することができる。よって、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法を用い製造された有機EL表示パネルは、発光特性が優れる。   Further, in the method for manufacturing an organic EL display panel according to one aspect of the present invention, the end of the first electrode and the end of the bank facing the opening are separated from each other. And an organic EL display panel in which the thickness of the organic functional layer on the first electrode is uniform can be manufactured. Therefore, the organic EL display panel manufactured using the method for manufacturing an organic EL display panel according to one embodiment of the present invention has excellent light emission characteristics.

以上より、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法では、発光領域が広く、且つ、発光領域内での有機機能層の膜厚が均一に維持され、且つ、有機機能層の段切れの発生がなく、製造された有機EL表示パネルは、優れた発光特性を有しながら、長寿命である。   As described above, in the method for manufacturing an organic EL display panel according to one embodiment of the present invention, the light emitting region is wide, the film thickness of the organic functional layer in the light emitting region is uniformly maintained, and the step of the organic functional layer is performed. The organic EL display panel produced without breakage has a long life while having excellent light emission characteristics.

また、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法では、上記第3工程において、第1電極が、金属層(アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層)の上面に透明導電層を設けて形成される、という構成を採用することができる。これにより、製造工程中などで金属層の表面部の反射率が低下するのを防止することができ、また、キャビティ設計における自由度を高くすることができる。   In the method for manufacturing an organic EL display panel according to one aspect of the present invention, in the third step, the first electrode is formed by providing a transparent conductive layer on the upper surface of the metal layer (aluminum layer or aluminum alloy layer). Can be adopted. Thereby, it is possible to prevent the reflectivity of the surface portion of the metal layer from being lowered during the manufacturing process and to increase the degree of freedom in the cavity design.

また、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法では、上記第3工程において、ウェットエッチングにより、所定の形状にパターニングされた第1電極を形成することにより、第1電極の端部の側面と基板とがなす内角を90[°]以下にする、という構成を採用することもできる。ウェットエッチングは、等方性エッチングであるため、ウェットエッチングにより第1電極をパターニングする場合には、第1電極の端部の側面と基板とがなす内角を90[°]以下とすることに好適である。   Further, in the method for manufacturing an organic EL display panel according to one aspect of the present invention, in the third step, the first electrode patterned in a predetermined shape is formed by wet etching, whereby the end portion of the first electrode is formed. It is also possible to adopt a configuration in which the inner angle formed between the side surface and the substrate is 90 [°] or less. Since wet etching is isotropic etching, when the first electrode is patterned by wet etching, the inner angle formed between the side surface of the end of the first electrode and the substrate is preferably set to 90 [°] or less. It is.

上記のようにウェットエッチングにより第1電極のパターニングを行う場合には、第1電極の端部の側面と基板とがなす内角を90[°]以下とすることにより、第1電極の上方に配置された有機機能層が、第1電極の端部で段切れを発生するのを、より確実に防止することができるようになる。よって、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法では、第1電極と第2電極との間でのショートの発生が確実に防止された有機EL表示パネルを製造することができる。   When the first electrode is patterned by wet etching as described above, the inner angle formed by the side surface of the end portion of the first electrode and the substrate is set to 90 [°] or less, so that the first electrode is disposed above the first electrode. It is possible to more reliably prevent the formed organic functional layer from being broken at the end of the first electrode. Therefore, in the method for manufacturing an organic EL display panel according to one embodiment of the present invention, an organic EL display panel in which occurrence of a short circuit between the first electrode and the second electrode is reliably prevented can be manufactured.

なお、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法では、上記ウェットエッチング以外にも、ドライエッチングを用いることができることはいうまでもない。
また、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法では、上記構成において、有機機能層を、インクジェット法、ダイコート法、スピンコート法のいずれかの湿式塗布方法で形成する、という構成を採用することもできる。インクジェット法、ダイコート法、スピンコート法などの湿式塗布方法は、連続した有機機能層を大面積に形成することができる方法である。このため、これら方法の何れかを用い有機機能層を形成する場合には、第1電極の端部での段切れを防止しながら、第1電極上での膜厚が均一な有機機能層を形成するのに好適である。
Needless to say, the organic EL display panel manufacturing method according to one embodiment of the present invention can use dry etching in addition to the wet etching.
In the method for manufacturing an organic EL display panel according to one embodiment of the present invention, in the above structure, the organic functional layer is formed by a wet coating method of any one of an inkjet method, a die coating method, and a spin coating method. It can also be adopted. A wet coating method such as an inkjet method, a die coating method, or a spin coating method is a method capable of forming a continuous organic functional layer in a large area. For this reason, when forming an organic functional layer using any of these methods, an organic functional layer having a uniform film thickness on the first electrode is obtained while preventing disconnection at the end of the first electrode. Suitable for forming.

また、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法では、上記構成において、有機機能層が、第1電極上に形成された電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方を含み、第1電極上に形成された電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方の膜厚が第1電極の所定の膜厚以上の膜厚であり、第1電極の上面から端部の側面にわたって形成されている、という構成を採用することもできる。このように、有機機能層に電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方を含む構成を採用する場合には、電荷注入性に優れ、優れた発光特性を有することができる。そして、電荷注入層あるいは電荷輸送層が第1電極の上面から端部の側面にわたって形成されているので、第1電極の端部での有機機能層の段切れが確実に防止でき、第1電極と第2電極とのショートを防止することができる。   In the method for manufacturing an organic EL display panel according to an aspect of the present invention, in the above configuration, the organic functional layer includes at least one of a charge injection layer or a charge transport layer formed on the first electrode. At least one of the charge injection layer and the charge transport layer formed on the electrode has a thickness greater than or equal to a predetermined thickness of the first electrode, and is formed from the upper surface of the first electrode to the side surface of the end portion. It is also possible to adopt the configuration of. As described above, when the organic functional layer includes at least one of the charge injection layer and the charge transport layer, the organic functional layer has excellent charge injection properties and excellent light emission characteristics. Since the charge injection layer or the charge transport layer is formed from the upper surface to the side surface of the end portion of the first electrode, the organic functional layer can be reliably prevented from being disconnected at the end portion of the first electrode. And the second electrode can be prevented from being short-circuited.

また、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法では、上記構成において、有機機能層が、電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方の層の上方に有機発光層を設けた層である、という構成を採用することもできる。   In the method for manufacturing an organic EL display panel according to one aspect of the present invention, in the above structure, the organic functional layer is a layer in which an organic light emitting layer is provided above at least one of the charge injection layer and the charge transport layer. It is also possible to adopt a configuration that there is.

また、本発明の一態様に係る有機EL表示パネルの製造方法では、上記構成において、有機機能層が、電荷注入層、電荷輸送層及び有機発光層を含む層であり、電荷注入層が第1電極上に形成され、電荷注入層の膜厚が第1電極の所定の膜厚以上の膜厚であり、電荷注入層が第1電極の上面から端部の側面にわたって形成されている、という構成を採用することもできる。   In the method for manufacturing an organic EL display panel according to one embodiment of the present invention, in the above structure, the organic functional layer is a layer including a charge injection layer, a charge transport layer, and an organic light emitting layer, and the charge injection layer is the first. A structure in which the charge injection layer is formed on the electrode so that the thickness of the charge injection layer is greater than or equal to a predetermined thickness of the first electrode, and the charge injection layer is formed from the upper surface of the first electrode to the side surface of the end portion. Can also be adopted.

以下では、本発明を実施するための形態について、数例を用い説明する。
なお、以下の説明で用いる実施の形態は、本発明の構成および作用・効果を分かりやすく説明するために用いる例示であって、本発明は、その本質的部分以外に何ら以下の形態に限定を受けるものではない。
Below, the form for implementing this invention is demonstrated using a few examples.
The embodiment used in the following description is an example used to explain the configuration, operation, and effect of the present invention in an easy-to-understand manner, and the present invention is not limited to the following form other than its essential part. It is not something to receive.

[実施の形態1]
1.有機EL表示装置1の全体構成
以下では、発光装置の一例としての有機EL表示装置1で説明する。
[Embodiment 1]
1. Overall Configuration of Organic EL Display Device 1 Hereinafter, an organic EL display device 1 as an example of a light emitting device will be described.

本実施の形態に係る有機EL表示装置1の全体構成について、図1を用い説明する。
図1に示すように、有機EL表示装置1は、有機EL表示パネル10と、これに接続された駆動制御部20とを有し構成されている。有機EL表示パネル10は、有機材料の電界発光現象を利用したパネルであり、複数の有機EL素子が、例えば、マトリクス状に配列され構成されている。駆動制御部20は、4つの駆動回路21〜24と制御回路25とから構成されている。
The overall configuration of the organic EL display device 1 according to the present embodiment will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 1, the organic EL display device 1 includes an organic EL display panel 10 and a drive control unit 20 connected thereto. The organic EL display panel 10 is a panel using an electroluminescence phenomenon of an organic material, and a plurality of organic EL elements are arranged in a matrix, for example. The drive control unit 20 includes four drive circuits 21 to 24 and a control circuit 25.

なお、実際の有機EL表示装置1では、表示パネル10に対する駆動制御部20の配置については、これに限られない。
2.有機EL表示パネル10の構成
有機EL表示パネル10の構成について、図2、図3および図4を用い説明する。図2は、有機EL表示パネル10の構成の一部を、図1におけるY軸方向に切断した断面端面図であって、図4におけるC−C‘断面の端面を示す。一方、図3は、有機EL表示パネル10の構成の一部を、図1におけるX軸方向に切断した断面端面図であって、図4におけるD−D’断面の端面を示す。
In the actual organic EL display device 1, the arrangement of the drive control unit 20 with respect to the display panel 10 is not limited to this.
2. Configuration of Organic EL Display Panel 10 The configuration of the organic EL display panel 10 will be described with reference to FIG. 2, FIG. 3, and FIG. 2 is a cross-sectional end view obtained by cutting a part of the configuration of the organic EL display panel 10 in the Y-axis direction in FIG. 1, and shows an end surface of the CC ′ cross-section in FIG. 4. On the other hand, FIG. 3 is a cross-sectional end view obtained by cutting a part of the configuration of the organic EL display panel 10 in the X-axis direction in FIG. 1, and shows an end surface of the DD ′ cross section in FIG.

なお、図4では、陽極105とバンク106との関係を分かりやすくするため、他の構成要素の図示を省略している。
先ず、図2に示すように、有機EL表示パネル10は、基板101をベースとして形成されている。そして、基板101上には、TFT(薄膜トランジスタ)層102、パッシベーション膜103および平坦化膜104が順に積層形成されている。なお、図2では、TFT層102について、その構成の一部であるソースあるいはドレイン(SD電極)のみを図示している。
In FIG. 4, other components are not shown for easy understanding of the relationship between the anode 105 and the bank 106.
First, as shown in FIG. 2, the organic EL display panel 10 is formed using a substrate 101 as a base. On the substrate 101, a TFT (thin film transistor) layer 102, a passivation film 103, and a planarization film 104 are sequentially stacked. In FIG. 2, only the source or drain (SD electrode) which is a part of the configuration of the TFT layer 102 is illustrated.

絶縁層である平坦化膜104上には、画素に対応する開口部を規定するバンク106が形成されている。また、平坦化膜104上におけるバンク106で規定された画素領域には、陽極105が形成されている。陽極105は、平坦化膜104の側から順に、金属層1051および透明導電層1052が積層され構成されている。陽極105は、平坦化膜104に開けられたコンタクトホール104a内にも連続して形成され、TFT層102のSD電極と接続されている。   A bank 106 that defines an opening corresponding to a pixel is formed on the planarization film 104 that is an insulating layer. An anode 105 is formed in the pixel region defined by the bank 106 on the planarizing film 104. The anode 105 is formed by laminating a metal layer 1051 and a transparent conductive layer 1052 in this order from the planarization film 104 side. The anode 105 is also continuously formed in the contact hole 104 a opened in the planarizing film 104 and is connected to the SD electrode of the TFT layer 102.

陽極105における金属層1051は、アルミニウム(Al)若しくはアルミニウム合金(Al合金)からなる層であり、透明導電層1052は、ITO(酸化インジウムスズ)若しくはIZO(酸化インジウム亜鉛)からなる層である。   The metal layer 1051 in the anode 105 is a layer made of aluminum (Al) or an aluminum alloy (Al alloy), and the transparent conductive layer 1052 is a layer made of ITO (indium tin oxide) or IZO (indium zinc oxide).

有機EL表示パネル10におけるバンク106と陽極105との配置関係を、図4を用い説明する。
図4に示すように、有機EL表示パネル10におけるバンク106は、所謂、ピクセルバンクと呼称されるものであって、X軸方向に延伸する要素106aとY軸方向に延伸する要素106bとが一体に形成されている。バンク106で規定される各開口部が一画素に該当し、陽極105が各開口部内に配されている。なお、各画素における陽極105は、コンタクトホール104aを介してTFT層102のSD電極に接続されている。
The arrangement relationship between the bank 106 and the anode 105 in the organic EL display panel 10 will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 4, the bank 106 in the organic EL display panel 10 is a so-called pixel bank, and an element 106a extending in the X-axis direction and an element 106b extending in the Y-axis direction are integrated. Is formed. Each opening defined by the bank 106 corresponds to one pixel, and the anode 105 is disposed in each opening. Note that the anode 105 in each pixel is connected to the SD electrode of the TFT layer 102 through a contact hole 104a.

図2に戻って、陽極105上には、有機機能層107が積層形成されている。有機機能層107は、少なくとも有機発光層を含む層であって、その他に電荷注入層、電荷輸送層あるいは電荷注入輸送層などを含むものであってもよい。   Returning to FIG. 2, the organic functional layer 107 is laminated on the anode 105. The organic functional layer 107 is a layer including at least an organic light emitting layer, and may further include a charge injection layer, a charge transport layer, a charge injection transport layer, or the like.

図2の矢印A部分に示すように、本実施の形態に係る有機EL表示パネル10では、陽極105の端部が、開口部を臨むバンク106の端部から離間した状態となっており、当該離間部分では、平坦化膜104の表面に接する状態で有機機能層107が形成されている。   2, in the organic EL display panel 10 according to the present embodiment, the end of the anode 105 is in a state of being separated from the end of the bank 106 that faces the opening. In the separated portion, the organic functional layer 107 is formed in contact with the surface of the planarization film 104.

有機機能層107上には、陰極108が形成されている。陰極108は、有機EL表示パネル10における全ての画素にわたり共通に設けられており、バンク106上にも形成されている。陰極108の上には、封止層109が形成されている。   A cathode 108 is formed on the organic functional layer 107. The cathode 108 is provided in common over all the pixels in the organic EL display panel 10, and is also formed on the bank 106. A sealing layer 109 is formed on the cathode 108.

図3に示すように、有機EL表示パネル10では、図4のD−D‘断面についても、コンタクトホール104aがないことを除いて、図2に示すC−C’断面と基本的に同一の構成を有する。そして、図3の矢印B部分に示すように、D−D‘断面においても、陽極105の端部が、開口部を臨むバンク106の端部から離間した状態となっている。そして、図2および図3に示すように、各画素における陽極105が形成された領域が発光領域100であり、バンク106が形成された領域を含むその他の領域が非発光領域150である。   As shown in FIG. 3, in the organic EL display panel 10, the DD ′ cross section of FIG. 4 is basically the same as the CC ′ cross section shown in FIG. 2 except that there is no contact hole 104a. It has a configuration. As shown by an arrow B portion in FIG. 3, the end portion of the anode 105 is also separated from the end portion of the bank 106 facing the opening in the D-D ′ cross section. As shown in FIGS. 2 and 3, the region where the anode 105 is formed in each pixel is the light emitting region 100, and the other region including the region where the bank 106 is formed is the non-light emitting region 150.

有機EL表示パネル10では、陽極105からホールが供給され、陰極108から電子が注入され、これらが有機機能層107へと送り込まれ、有機発光層で再結合することで光が出射される。有機機能層107の有機発光層から出射された光には、陰極108の側へと向かう成分と、陽極105の側へと向かう成分とが含まれる。陽極105の側へと向かった光成分は、陽極105における金属層1051におけるZ軸上側の表面および表層部分で反射されて陰極108の側へと向かうことになる。このように、陽極105における金属層1051の表面部は、所定の反射率を有する反射部としての役割も果たす。   In the organic EL display panel 10, holes are supplied from the anode 105, electrons are injected from the cathode 108, these are sent to the organic functional layer 107, and light is emitted by recombination in the organic light emitting layer. The light emitted from the organic light emitting layer of the organic functional layer 107 includes a component traveling toward the cathode 108 and a component traveling toward the anode 105. The light component directed toward the anode 105 is reflected by the surface on the upper side of the Z-axis and the surface layer portion of the metal layer 1051 of the anode 105 and travels toward the cathode 108. Thus, the surface portion of the metal layer 1051 in the anode 105 also serves as a reflection portion having a predetermined reflectance.

3.有機EL表示パネル10を構成する主要材料
a)基板101
基板101は、例えば、無アルカリガラス、ソーダガラス、無蛍光ガラス、燐酸系ガラス、硼酸系ガラス、石英、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエチレン、ポリエステル、シリコーン系樹脂、又はアルミナ等の絶縁性材料をベースとして形成されている。
3. Main materials constituting organic EL display panel 10 a) Substrate 101
The substrate 101 is, for example, alkali-free glass, soda glass, non-fluorescent glass, phosphate glass, boric acid glass, quartz, acrylic resin, styrene resin, polycarbonate resin, epoxy resin, polyethylene, polyester, silicone resin. Or an insulating material such as alumina.

b)平坦化膜104
平坦化膜104は、例えば、ポリイミド、ポリアミド、アクリル系樹脂材料などの有機化合物を用い形成されている。
b) Planarization film 104
The planarization film 104 is formed using an organic compound such as polyimide, polyamide, or acrylic resin material.

c)陽極105における金属層1051
陽極105における金属層1051は、上記のように、アルミニウム(Al)またはアルミニウム(Al)合金を用い形成されている。そして、トップエミッション型の本実施の形態に係る有機EL表示パネル10の場合には、その表面部が高い反射性を有することが好ましい。
c) Metal layer 1051 in the anode 105
As described above, the metal layer 1051 in the anode 105 is formed using aluminum (Al) or an aluminum (Al) alloy. In the case of the organic EL display panel 10 according to this embodiment of the top emission type, it is preferable that the surface portion has high reflectivity.

d)陽極105における透明導電層1052
陽極105における透明導電層1052は、例えば、ITO(酸化インジウムスズ)やIZO(酸化インジウム亜鉛)などの透明導電材料を用い形成されている。
d) Transparent conductive layer 1052 in the anode 105
The transparent conductive layer 1052 in the anode 105 is formed using a transparent conductive material such as ITO (indium tin oxide) or IZO (indium zinc oxide).

e)バンク106
バンク106は、樹脂等の有機材料を用い形成されており絶縁性を有する。バンク106の形成に用いる有機材料の例としては、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂等があげられる。バンク106は、有機溶剤耐性を有することが好ましい。さらに、バンク106は、製造工程中において、エッチング処理、ベーク処理など施されることがあるので、それらの処理に対して過度に変形、変質などをしないような耐性の高い材料で形成されることが好ましい。また、撥水性をもたせるために、表面をフッ素処理することもできる。
e) Bank 106
The bank 106 is formed using an organic material such as resin and has an insulating property. Examples of the organic material used for forming the bank 106 include acrylic resin, polyimide resin, and novolac type phenol resin. The bank 106 preferably has organic solvent resistance. Furthermore, since the bank 106 may be subjected to an etching process, a baking process, or the like during the manufacturing process, the bank 106 should be formed of a highly resistant material that does not excessively deform or alter the process. Is preferred. In addition, the surface can be treated with fluorine to give water repellency.

なお、バンク106を親液性の材料を用い形成した場合には、バンク106の表面と有機機能層107の表面との親液性/撥液性の差異が小さくなり、有機機能層107中の有機発光層を形成するために有機物質を含んだインクを、バンク106が規定する開口部内に選択的に保持させることが困難となってしまうためである。   When the bank 106 is formed using a lyophilic material, the difference in lyophilicity / liquid repellency between the surface of the bank 106 and the surface of the organic functional layer 107 is reduced, and the This is because it becomes difficult to selectively hold ink containing an organic substance in the opening defined by the bank 106 in order to form the organic light emitting layer.

さらに、バンク106の構造については、図2および図3に示すような一層構造だけでなく、二層以上の多層構造を採用することもできる。この場合には、層毎に上記材料を組み合わせることもできるし、層毎に無機材料と有機材料とを用いることもできる。   Furthermore, as for the structure of the bank 106, not only a single layer structure as shown in FIGS. 2 and 3, but also a multilayer structure of two or more layers can be adopted. In this case, the above materials can be combined for each layer, and an inorganic material and an organic material can be used for each layer.

f)有機機能層107
有機機能層107中に含まれる有機発光層は、上述のように、ホールと電子とが注入され再結合されることにより励起状態が生成され発光する機能を有する。有機発光層の形成に用いる材料は、湿式印刷法を用い製膜できる発光性の有機材料を用いることが必要である。
f) Organic functional layer 107
The organic light emitting layer included in the organic functional layer 107 has a function of emitting light by generating an excited state by injecting and recombining holes and electrons as described above. As a material used for forming the organic light emitting layer, it is necessary to use a light emitting organic material that can be formed by a wet printing method.

具体的には、例えば、特許公開公報(日本国・特開平5−163488号公報)に記載のオキシノイド化合物、ペリレン化合物、クマリン化合物、アザクマリン化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ペリノン化合物、ピロロピロール化合物、ナフタレン化合物、アントラセン化合物、フルオレン化合物、フルオランテン化合物、テトラセン化合物、ピレン化合物、コロネン化合物、キノロン化合物及びアザキノロン化合物、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、ローダミン化合物、クリセン化合物、フェナントレン化合物、シクロペンタジエン化合物、スチルベン化合物、ジフェニルキノン化合物、スチリル化合物、ブタジエン化合物、ジシアノメチレンピラン化合物、ジシアノメチレンチオピラン化合物、フルオレセイン化合物、ピリリウム化合物、チアピリリウム化合物、セレナピリリウム化合物、テルロピリリウム化合物、芳香族アルダジエン化合物、オリゴフェニレン化合物、チオキサンテン化合物、アンスラセン化合物、シアニン化合物、アクリジン化合物、8−ヒドロキシキノリン化合物の金属錯体、2−ビピリジン化合物の金属錯体、シッフ塩とIII族金属との錯体、オキシン金属錯体、希土類錯体などの蛍光物質で形成されることが好ましい。   Specifically, for example, an oxinoid compound, a perylene compound, a coumarin compound, an azacoumarin compound, an oxazole compound, an oxadiazole compound, a perinone compound, and pyrrolopyrrole described in Japanese Patent Publication (JP-A-5-163488). Compound, naphthalene compound, anthracene compound, fluorene compound, fluoranthene compound, tetracene compound, pyrene compound, coronene compound, quinolone compound and azaquinolone compound, pyrazoline derivative and pyrazolone derivative, rhodamine compound, chrysene compound, phenanthrene compound, cyclopentadiene compound, stilbene compound , Diphenylquinone compound, styryl compound, butadiene compound, dicyanomethylenepyran compound, dicyanomethylenethiopyran compound, fluorene In compounds, pyrylium compounds, thiapyrylium compounds, serenapyrylium compounds, telluropyrylium compounds, aromatic ardadiene compounds, oligophenylene compounds, thioxanthene compounds, anthracene compounds, cyanine compounds, acridine compounds, 8-hydroxyquinoline compound metal complexes, 2- It is preferably formed of a fluorescent substance such as a metal complex of a bipyridine compound, a Schiff salt and a group III metal complex, an oxine metal complex, or a rare earth complex.

なお、有機機能層107には、有機発光層よりも陽極105側に介挿された電荷注入層が含まれることもある。この場合、電荷注入層の構成材料としては、例えば、PEDOT(ポリチオフェンとポリスチレンスルホン酸との混合物)などの導電性ポリマー材料を採用することができる。   The organic functional layer 107 may include a charge injection layer interposed on the anode 105 side with respect to the organic light emitting layer. In this case, as a constituent material of the charge injection layer, for example, a conductive polymer material such as PEDOT (a mixture of polythiophene and polystyrene sulfonic acid) can be employed.

g)陰極108
陰極108は、例えば、ITO(酸化インジウムスズ)若しくはIZO(酸化インジウム亜鉛)などを用い形成される。本実施の形態のように、トップエミッション型の有機EL表示パネル10の場合においては、光透過性の材料で形成されることが好ましい。光透過性については、透過率が80[%]以上とすることが好ましい。
g) Cathode 108
The cathode 108 is formed using, for example, ITO (indium tin oxide) or IZO (indium zinc oxide). In the case of the top emission type organic EL display panel 10 as in the present embodiment, it is preferably formed of a light transmissive material. About light transmittance, it is preferable that the transmittance | permeability shall be 80 [%] or more.

陰極108の形成に用いる材料としては、上記の他に、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属、またはそれらのハロゲン化物を含む層の構造、あるいは、前記いずれかの層に銀を含む層とをこの順で積層した構造を用いることもできる。上記において、銀を含む層は、銀単独で形成されていてもよいし、銀合金で形成されていてもよい。また、光取出し効率の向上を図るためには、当該銀を含む層の上から透明度の高い屈折率調整層を設けることもできる。   In addition to the above, the material used for forming the cathode 108 includes, for example, a layer structure containing an alkali metal, an alkaline earth metal, or a halide thereof, or a layer containing silver in any one of the above layers. A structure in which the layers are stacked in this order can also be used. In the above, the layer containing silver may be formed of silver alone, or may be formed of a silver alloy. In order to improve the light extraction efficiency, a highly transparent refractive index adjusting layer can be provided on the silver-containing layer.

h)封止層109
封止層109は、有機機能層107中の有機発光層などが水分に晒されたり、空気に晒されたりすることを抑制する機能を有し、例えば、SiN(窒化シリコン)、SiON(酸窒化シリコン)などの材料を用い形成される。
h) Sealing layer 109
The sealing layer 109 has a function of suppressing exposure of the organic light emitting layer or the like in the organic functional layer 107 to moisture or air. For example, SiN (silicon nitride), SiON (oxynitriding) It is formed using a material such as silicon.

また、SiN(窒化シリコン)、SiON(酸窒化シリコン)などの材料を用い形成された層の上に、アクリル樹脂、シリコーン樹脂などの樹脂材料からなる封止樹脂層を設けてもよい。   Further, a sealing resin layer made of a resin material such as an acrylic resin or a silicone resin may be provided on a layer formed using a material such as SiN (silicon nitride) or SiON (silicon oxynitride).

封止層109は、トップエミッション型である本実施の形態に係る有機EL表示パネル10の場合においては、光透過性の材料で形成されることが好ましい。
4.陽極105とバンク106および有機機能層107との関係
陽極105とバンク106および有機機能層107との関係について、図5および図6を用い説明する。
In the case of the organic EL display panel 10 according to the present embodiment that is a top emission type, the sealing layer 109 is preferably formed of a light transmissive material.
4). Relationship between Anode 105, Bank 106, and Organic Functional Layer 107 The relationship between anode 105, bank 106, and organic functional layer 107 will be described with reference to FIGS.

図5に示すように、本実施の形態に係る有機EL表示パネル10では、陽極105の端部Pが、開口部を臨むバンク106の端部Pから間隔dだけ離間した状態で配されている。この状態は、バンク106の幅を狭くすることにより実現されている。そのため、有機EL表示パネル10では、図16に示す従来技術に係る有機EL表示パネルに比べて開口部を広くすることができ、優れた発光特性を有する。これは、間隔d1の部分では有機機能層107の直下に陽極105は形成されていないものの、有機機能層107には、陽極105の端部と陰極108の間(図5における二点鎖線で囲んで示す部分)に生じた電界により、光が出射するためである。 As shown in FIG. 5, the organic EL display panel 10 according to the present embodiment, the end P 1 of the anode 105, distribution from the end P 2 of the bank 106 facing the opening in a state of being separated by a distance d 1 Has been. This state is realized by narrowing the width of the bank 106. Therefore, the organic EL display panel 10 can have a wider opening than the organic EL display panel according to the related art shown in FIG. 16, and has excellent light emission characteristics. This is because the anode 105 is not formed immediately below the organic functional layer 107 in the interval d1, but the organic functional layer 107 is surrounded by the two-dot chain line in FIG. This is because light is emitted by the electric field generated in the portion indicated by.

また、間隔dだけ離間した部分では、有機機能層107が平坦化膜104上に形成されることになり、このため、図17(a)および図17(b)に示すような、陽極105上における有機機能層107の膜厚不均一という問題を生じない。 Further, the spaced portions by a distance d 1, will be organic functional layer 107 is formed on the planarization layer 104, Therefore, as shown in FIG. 17 (a) and FIG. 17 (b), the anode 105 The problem of non-uniform thickness of the organic functional layer 107 does not occur.

陽極105における金属層1051の膜厚tは、有機機能層107における有機発光層から照射された光を陰極108の側へと反射するための反射率が所定値以上となるように設定されている。具体的な膜厚tは、40[nm]以上200[nm]以下の範囲内であり、望ましくは、下限値が43[nm]であり、上限値が120[nm]であり、さらに望ましくは、下限値が50[nm]であり、上限値が100[nm]である。例えば、膜厚tの所定範囲の下限値を43[nm]とする場合には、後述する図8に例示するように、89[%]以上の安定した反射率を得ることができる。 Thickness t 2 of the metal layer 1051 at the anode 105 is set so that the reflectance for reflecting light emitted from the organic light emitting layer in the organic functional layer 107 to the side of the cathode 108 is equal to or greater than a predetermined value Yes. Specific thickness t 2 is in the range of 40 [nm] or more 200 [nm] or less, desirably, the lower limit value is 43 [nm], the upper limit is 120 [nm], more preferably The lower limit is 50 [nm], and the upper limit is 100 [nm]. For example, in the case of the lower limit of the predetermined range of the film thickness t 2 and 43 [nm] it can be as illustrated in FIG. 8 to be described later, to obtain a 89% or more stable reflectivity.

また、本実施の形態では、有機機能層107の膜厚tが、陽極105の膜厚t以上の膜厚に設定されており、陽極105の上面105aから端部側面105bにわたって形成されている。前記のような膜厚t,tの関係を採用することにより、矢印E部分に示すように、有機機能層107が、陽極105の端部で段切れや極端に薄肉となることがない。 In the present embodiment, the thickness t 3 of the organic functional layer 107 is set to be equal to or greater than the thickness t 1 of the anode 105, and is formed from the upper surface 105 a to the end side surface 105 b of the anode 105. Yes. By adopting the relationship between the film thicknesses t 1 and t 3 as described above, the organic functional layer 107 does not become stepped or extremely thin at the end of the anode 105 as shown by the arrow E portion. .

有機機能層107の段切れ防止について、図6(a)および図6(b)を用い説明する。図6(a)は、本実施の形態に係る陽極105と有機機能層107とを模式的に図示したものであり、図6(b)は、比較例に係る陽極955と有機機能層957とを模式的に図示したものである。   The prevention of the disconnection of the organic functional layer 107 will be described with reference to FIGS. 6 (a) and 6 (b). FIG. 6A schematically shows the anode 105 and the organic functional layer 107 according to this embodiment, and FIG. 6B shows the anode 955 and the organic functional layer 957 according to the comparative example. Is schematically illustrated.

先ず、図6(a)に示すように、本実施の形態のように、有機機能層107の膜厚tが、陽極105の膜厚t以上の膜厚に設定されている場合には、陽極105の上面105aから端部側面105bにわたって有機機能層107が形成されることになる。なお、上記のように、陽極105の金属層1051の膜厚tが、反射率との関係で上記数値範囲内とすることが必要であるので、有機機能層107の膜厚tは、金属層1051の膜厚tを含む陽極105の膜厚tとの相対的な関係で規定される。 First, as shown in FIG. 6 (a), as in the present embodiment, when the film thickness t 3 of the organic functional layer 107 is set to a film thickness t 1 or more of the thickness of the anode 105 The organic functional layer 107 is formed from the upper surface 105a of the anode 105 to the end side surface 105b. Incidentally, as described above, the thickness t 2 of the metal layer 1051 of the anode 105, because the relationship between the reflectance is required to be within the above range, the film thickness t 3 of the organic functional layer 107, It is defined by a relative relationship with the film thickness t 1 of the anode 105 including the film thickness t 2 of the metal layer 1051.

また、図6(a)に示すように、陽極105における端部側面105bと基板101および平坦化膜104の上面とがなす内角θは、90[°]以下になっている。これによっても、矢印F部分において、有機機能層107に段切れなどを生じない。   As shown in FIG. 6A, the internal angle θ formed by the end side surface 105b of the anode 105 and the upper surfaces of the substrate 101 and the planarizing film 104 is 90 [°] or less. This also prevents the organic functional layer 107 from being disconnected at the arrow F portion.

以上より、図6(a)の矢印F部分に示すように、有機機能層107が陽極105の端部で段切れなどを生じることがない。
次に、図6(b)に示すように、比較例においては、陽極955上における有機機能層957の膜厚t93は、陽極955の膜厚t91よりも薄い関係となっている。従来技術では、陽極955が、金属層9551を含めて、図示を省略しているバスバーと同一の工程で形成することに起因して、金属層9551の膜厚t92および陽極955の膜厚t91が厚くなっている。よって、図6(b)に示すように、有機機能層957は、矢印G部分(陽極955の端部)で段切れを発生することがある。そして、有機機能層957が段切れを生じ、陽極955の上面955a上の有機機能層957aと、陽極955の端部側面955bを覆う有機機能層957bとが連続せず、陽極955の透明導電層9552が、矢印G部分で陰極(図6(b)では、図示を省略。)とがショートすることになる。
As described above, the organic functional layer 107 does not break off at the end portion of the anode 105 as indicated by an arrow F portion in FIG.
Next, as shown in FIG. 6B, in the comparative example, the film thickness t 93 of the organic functional layer 957 on the anode 955 has a smaller relationship than the film thickness t 91 of the anode 955. In the prior art, the anode 955 including the metal layer 9551 is formed in the same process as the bus bar (not shown), resulting in the film thickness t 92 of the metal layer 9551 and the film thickness t 92 of the anode 955. 91 is thicker. Therefore, as shown in FIG. 6B, the organic functional layer 957 may break off at the arrow G portion (the end of the anode 955). Then, the organic functional layer 957 is disconnected, and the organic functional layer 957a on the upper surface 955a of the anode 955 and the organic functional layer 957b covering the end side surface 955b of the anode 955 are not continuous, and the transparent conductive layer of the anode 955 9552 is short-circuited with the cathode (not shown in FIG. 6B) at the arrow G portion.

5.有機EL表示パネル10およびこれを備える有機EL表示装置1が有する主な効果
本実施の形態に係る有機EL表示パネル10では、第1電極である陽極105の金属層1051(アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層)の膜厚t(図5などを参照。)を、40[nm]以上の所定の膜厚とし、これにより、陽極105の金属層1051の表面部分が、有機機能層107における有機発光層から照射された光に対して所定の反射率を有する反射部となる。即ち、陽極105における金属層1051の膜厚tを40[nm]未満とする場合には、有機機能層107における有機発光層から照射された光の陰極108側へ反射する光量が減少し、発光効率の低下を招くが、本実施の形態のように、陽極105における金属層1051の膜厚tを40[nm]以上とすることにより、高い発光効率を得ることができる。
5). Main effects of organic EL display panel 10 and organic EL display device 1 including the same In organic EL display panel 10 according to the present embodiment, metal layer 1051 (aluminum layer or aluminum alloy layer) of anode 105 serving as the first electrode. referring to a film thickness t 2 (Figure 5) a.), and 40 [nm] or more to a predetermined thickness, thereby, the surface portion of the metal layer 1051 of the anode 105, the organic light-emitting layer in the organic functional layer 107 It becomes a reflection part which has predetermined | prescribed reflectance with respect to the light irradiated from. That is, when the film thickness t 2 of the metal layer 1051 at the anode 105 and less than 40 [nm] is the amount of light reflected to the cathode 108 side of the light emitted from the organic light emitting layer in the organic functional layer 107 is reduced, the emission efficiency decreases, but as in the present embodiment, the thickness t 2 of the metal layer 1051 at the anode 105 by a 40 [nm] or more, it is possible to obtain high luminous efficiency.

また、本実施の形態に係る有機EL表示パネル10では、有機機能層107の膜厚tを、陽極105の膜厚t以上とし(図5などを参照。)、且つ、陽極105の上面105aから端部側面105bにわたって有機機能層107が形成されている構成を採用する(図6(a)を参照)。このため、有機EL表示パネル10では、陽極105に対する有機機能層107の膜厚tおよび陽極105に対する有機機能層107の上記のような形成形態を採用することにより、有機機能層107の膜厚tを必要以上に厚くする必要はなく、陽極105と陰極108との間での電気抵抗の増大による寿命低下という問題を生じることはなく、また、陽極105の端部における有機機能層107の段切れや極端な薄膜化を招くことがない(図5および図6(a)を参照)。なお、陽極105における金属層1051の膜厚tを、上記段切れ防止のための陽極105の膜厚tの低減に伴って低減することができ、具体的には、200[nm]以下、望ましくは120[nm]以下、更に望ましくは100[nm]以下とすることができる。 In the organic EL display panel 10 according to the present embodiment, the film thickness t 3 of the organic functional layer 107 is set to be equal to or larger than the film thickness t 1 of the anode 105 (see FIG. 5 and the like), and the upper surface of the anode 105. A configuration in which the organic functional layer 107 is formed from 105a to the end side surface 105b is employed (see FIG. 6A). For this reason, in the organic EL display panel 10, the film thickness t 3 of the organic functional layer 107 with respect to the anode 105 and the above-described formation form of the organic functional layer 107 with respect to the anode 105 are employed. It is not necessary to make t 3 thicker than necessary, and there is no problem of a decrease in life due to an increase in electrical resistance between the anode 105 and the cathode 108, and the organic functional layer 107 at the end of the anode 105 does not have a problem. There will be no disconnection or extreme thinning (see FIGS. 5 and 6A). Incidentally, the thickness t 2 of the metal layer 1051 at the anode 105, along with the reduction of the thickness t 1 of the anode 105 for the prevent disconnection can be reduced, specifically, 200 [nm] or less The thickness may be preferably 120 [nm] or less, and more preferably 100 [nm] or less.

また、図2、図3および図5などに示すように、有機EL表示パネル10では、陽極105の端部Pと、開口部を臨むバンク106の端部Pとを相互に離間させているので、発光領域を広くできるとともに、陽極105上の有機機能層107の厚みを均一化することができる。よって、発光特性が優れる。 Also, FIG. 2, as shown in such Figures 3 and 5, the organic EL display panel 10, an end portion P 1 of the anode 105, and another is spaced an end P 2 of the bank 106 facing the opening Therefore, the light emitting region can be widened and the thickness of the organic functional layer 107 on the anode 105 can be made uniform. Therefore, the light emission characteristics are excellent.

以上より、本実施の形態に係る有機EL表示パネル10およびこれを備える有機EL表示装置1では、発光領域が広く、且つ、発光領域内での有機機能層107の膜厚tが均一に維持され、且つ、有機機能層107の段切れの発生がない。従って、有機EL表示パネル10およびこれを備える有機EL表示装置1は、優れた発光特性を有しながら、長寿命である。 As described above, in the organic EL display panel 10 and the organic EL display device 1 including the organic EL display panel 10 according to the present embodiment, the light emitting region is wide and the film thickness t 3 of the organic functional layer 107 in the light emitting region is kept uniform. In addition, the organic functional layer 107 is not broken. Therefore, the organic EL display panel 10 and the organic EL display device 1 including the same have a long life while having excellent light emission characteristics.

6.陽極105における金属層1051の膜厚tの最適範囲
陽極105における金属層1051の膜厚tの最適範囲について、図7および図8を用い検討結果を説明する。図7は、横軸が金属層1051の反射率を測定する際に用いた分光光度計の測定光の波長であり、縦軸が金属層1051の反射率である。図8は、図7の測定データについて、測定した金属層1051の膜厚と、各膜厚での反射率との関係を示す図である。図8の横軸が金属層1051の膜厚であり、縦軸が金属層1051の反射率である。
6). The optimum range of the thickness t 2 of the metal layer 1051 in the optimum range anode 105 having a thickness t 2 of the metal layer 1051 at the anode 105, for explaining the examination results reference to FIGS. In FIG. 7, the horizontal axis represents the wavelength of the measurement light of the spectrophotometer used when measuring the reflectance of the metal layer 1051, and the vertical axis represents the reflectance of the metal layer 1051. FIG. 8 is a diagram illustrating the relationship between the measured thickness of the metal layer 1051 and the reflectance at each thickness with respect to the measurement data of FIG. The horizontal axis in FIG. 8 is the film thickness of the metal layer 1051, and the vertical axis is the reflectance of the metal layer 1051.

図7に示すように、金属層の膜厚が、43[nm]〜98[nm]の各サンプルでは、450[nm]〜600[nm]の波長域において、反射率が略89[%]以上となっている。
一方、金属層の膜厚が、33[nm]、35[nm]のサンプルでは、450[nm]〜600[nm]の波長域において、反射率が85[%]程度となっている。
As shown in FIG. 7, in each sample with a metal layer thickness of 43 [nm] to 98 [nm], the reflectance is approximately 89 [%] in the wavelength range of 450 [nm] to 600 [nm]. That's it.
On the other hand, in the samples with the metal layer thicknesses of 33 [nm] and 35 [nm], the reflectance is about 85 [%] in the wavelength range of 450 [nm] to 600 [nm].

次に、図8に示すように、金属層の膜厚が40[nm]以上の範囲では、赤(R:λ=600[nm])、緑(G:λ=530[nm])、青(B:λ=460[nm])の全ての波長域において、反射率が88[%]以上となった。そして、金属層の膜厚が43[nm]以上の範囲では、反射率は89[%]以上となり、膜厚が50[nm]以上の範囲では、反射率は略90[%]前後となった。   Next, as shown in FIG. 8, red (R: λ = 600 [nm]), green (G: λ = 530 [nm]), blue in the range where the thickness of the metal layer is 40 [nm] or more. In all the wavelength regions of (B: λ = 460 [nm]), the reflectance was 88 [%] or more. When the film thickness of the metal layer is 43 [nm] or more, the reflectance is 89 [%] or more, and when the film thickness is 50 [nm] or more, the reflectance is approximately 90 [%]. It was.

また、図8に示すように、赤(R:λ=600[nm])、緑(G:λ=530[nm])、青(B:λ=460[nm])の全ての波長域において、金属層の膜厚については、50[nm]以上の範囲であれば、反射率が略90[%]で一定の値となっている。   Further, as shown in FIG. 8, in all the wavelength ranges of red (R: λ = 600 [nm]), green (G: λ = 530 [nm]), and blue (B: λ = 460 [nm]). As for the film thickness of the metal layer, the reflectance is approximately 90 [%] and a constant value within a range of 50 [nm] or more.

なお、陽極105の金属層1051の膜厚tに関し、その上限値は、上述のように、反射率という観点からは特に規定する必要はないが、上記のように有機機能層107の段切れ防止という観点から陽極105の膜厚tを薄くしようとすることを考慮すると、200[nm]以下、望ましくは120[nm]以下、更に望ましくは100[nm]以下である。 Note that the upper limit of the thickness t 2 of the metal layer 1051 of the anode 105 is not particularly required from the viewpoint of reflectance as described above, but the step of the organic functional layer 107 is broken as described above. considering that attempts to reduce the thickness t 2 of the anode 105 from the viewpoint of prevention, 200 [nm] or less, preferably 120 [nm] or less, more desirably 100 [nm] or less.

以上より、陽極105における金属層1051の膜厚tの範囲は、40[nm]以上200[nm]以下、望ましくは、43[nm]以上200[nm]以下、あるいは40[nm]以上120[nm]以下、更に望ましくは、43[nm]以上120[nm]以下、あるいは50[nm]以上100[nm]以下の範囲である。 Thus, the range of the thickness t 2 of the metal layer 1051 at the anode 105, 40 [nm] or more 200 [nm] or less, desirably, 43 [nm] or more 200 [nm] or less, or 40 [nm] to 120 [nm] or less, and more desirably 43 [nm] or more and 120 [nm] or less, or 50 [nm] or more and 100 [nm] or less.

7.有機機能層についての規定
上記では、有機機能層107について、少なくとも有機発光層を含むものとしているが、バリエーションを含めた規定について、図9を用い説明する。
7). In the above description, the organic functional layer 107 includes at least the organic light emitting layer. The definition including variations will be described with reference to FIG.

(1) 先ず、図9(a)に示すように、有機機能層107が電荷注入層1071と有機発光層1072との積層構造体とすることができる。この場合、陽極105における透明導電層1052に対し、電荷注入層1071が積層され、その上に有機発光層1072が積層されることになる。   (1) First, as shown in FIG. 9A, the organic functional layer 107 can be a stacked structure of a charge injection layer 1071 and an organic light emitting layer 1072. In this case, the charge injection layer 1071 is laminated on the transparent conductive layer 1052 in the anode 105, and the organic light emitting layer 1072 is laminated thereon.

なお、この構成を採用する場合には、「有機機能層107の膜厚t」とは、電荷注入層1071の膜厚t32と有機発光層1072の膜厚t31とを足し合わせた厚みとなる。 In the case of adopting this configuration, the “film thickness t 3 of the organic functional layer 107” means the thickness obtained by adding the film thickness t 32 of the charge injection layer 1071 and the film thickness t 31 of the organic light emitting layer 1072. It becomes.

(2) 次に、図9(b)に示すように、有機機能層117が電荷注入層1171、有機発光層1172および電子輸送層1173の3層構造の積層構造体とすることもできる。この場合、陽極105の膜厚tとの比較における「有機機能層117の膜厚t13」とは、電荷注入層1171の膜厚t132と有機発光層1172の膜厚t131とを足し合わせた厚みとなり、陽極105の膜厚tとの比較においては、電子輸送層1173の膜厚t133を含めないものとする。 (2) Next, as shown in FIG. 9B, the organic functional layer 117 may be a three-layer structure including a charge injection layer 1171, an organic light emitting layer 1172, and an electron transport layer 1173. In this case, the “film thickness t 13 of the organic functional layer 117” in comparison with the film thickness t 1 of the anode 105 is the sum of the film thickness t 132 of the charge injection layer 1171 and the film thickness t 131 of the organic light emitting layer 1172. In the comparison with the thickness t 1 of the anode 105, the thickness t 133 of the electron transport layer 1173 is not included in the comparison.

(3) 次に、図9(c)に示すように、有機機能層127が電荷注入層1271、電荷輸送層1274および有機発光層1272の3層構造の積層構造体とすることもできる。この場合、陽極105の膜厚tとの比較における「有機機能層127の膜厚t23」とは、電荷注入層1271の膜厚t232と電荷輸送層1274の膜厚t234と有機発光層1172の膜厚t231とを足し合わせた厚みとなる。 (3) Next, as shown in FIG. 9C, the organic functional layer 127 may be a laminated structure having a three-layer structure including a charge injection layer 1271, a charge transport layer 1274, and an organic light emitting layer 1272. In this case, the “film thickness t 23 of the organic functional layer 127” in comparison with the film thickness t 1 of the anode 105 is the film thickness t 232 of the charge injection layer 1271, the film thickness t 234 of the charge transport layer 1274, and organic light emission. a thickness obtained by adding the thickness t 231 of the layer 1172.

なお、図9(c)における有機発光層1272に上に電子輸送層などが介挿される場合には、上記同様に、陽極105の膜厚tとの比較においては、電子輸送層の膜厚を含めないものとする。 When an electron transport layer or the like is interposed on the organic light emitting layer 1272 in FIG. 9C, the film thickness of the electron transport layer is compared with the film thickness t 1 of the anode 105 as described above. Shall not be included.

8.有機EL表示パネル10の製造方法
有機EL表示パネル10の製造方法について、図10から図12を用い説明する。図10から図12は、主な工程での断面端面図である。
8). Manufacturing Method of Organic EL Display Panel 10 A manufacturing method of the organic EL display panel 10 will be described with reference to FIGS. 10 to 12 are sectional end views in main processes.

図10(a)に示すように、基板101を準備する。
次に、基板101の主面101a上に対し、TFT層102およびパッシベーション膜103を形成する(図10(b)を参照)。なお、図10(b)においても、上記同様に、TFT層102についてSD電極だけを図示している。
As shown in FIG. 10A, a substrate 101 is prepared.
Next, the TFT layer 102 and the passivation film 103 are formed on the main surface 101a of the substrate 101 (see FIG. 10B). In FIG. 10B as well, only the SD electrode is shown for the TFT layer 102 as described above.

次に、基板101の上方であるパッシベーション膜103の主面103a上に、絶縁層である平坦化膜104を形成する。なお、図10(c)に示すように、平坦化膜104に対しては、TFT層102のSD電極に相当する部分にコンタクトホール104aをあけ、当該部分のパッシベーション膜103についても住居することにより、底部にTFT層102のSD電極の表面が露出するようにする。   Next, a planarization film 104 that is an insulating layer is formed on the main surface 103 a of the passivation film 103 that is above the substrate 101. As shown in FIG. 10C, for the planarizing film 104, a contact hole 104a is formed in a portion corresponding to the SD electrode of the TFT layer 102, and the passivation film 103 in the portion is also housed. The surface of the SD electrode of the TFT layer 102 is exposed at the bottom.

次に、平坦化膜104の主面104bに対して、金属層1051形成のための膜と、透明導電層1052形成のための膜とを順に積層する。両膜は、コンタクトホール104aを囲む側壁にも形成される。そして、フォトリソグラフィおよびエッチングにより、これをパターニングし、金属層1051と透明導電層1052との積層構造体である陽極105を形成する(図10(d)を参照)。ここで、パターニングには、ドライエッチングおよびウェットエッチングの何れを採用することもできるが、特にウェットエッチングを採用する場合には、ウェットエッチングが等方性エッチングであることに起因して、陽極105の端部の内角を90[°]以下にすることができるので、好適である。   Next, a film for forming the metal layer 1051 and a film for forming the transparent conductive layer 1052 are sequentially stacked on the main surface 104 b of the planarization film 104. Both films are also formed on the side wall surrounding the contact hole 104a. Then, this is patterned by photolithography and etching to form the anode 105 that is a stacked structure of the metal layer 1051 and the transparent conductive layer 1052 (see FIG. 10D). Here, either dry etching or wet etching can be employed for patterning, but in particular, when wet etching is employed, the wet etching is isotropic etching, so Since the inner angle of the end portion can be 90 [°] or less, it is preferable.

次に、陽極105が形成されずに露出した平坦化膜104の主面に対し、バンク106形成のための膜をスパッタリング法により形成する。そして、フォトリソグラフィおよびウェットエッチングにより、画素領域に対応する開口部を規定するバンク106を形成する(図11(a)を参照)。図11(a)に示すように、開口部を臨むバンク106の端部は、陽極105の端部に対し、間隔dをあけて形成される。 Next, a film for forming the bank 106 is formed by sputtering on the main surface of the planarizing film 104 exposed without forming the anode 105. Then, a bank 106 that defines an opening corresponding to the pixel region is formed by photolithography and wet etching (see FIG. 11A). As shown in FIG. 11A, the end of the bank 106 facing the opening is formed with a distance d 1 from the end of the anode 105.

次に、陽極105の主面105aを含む、バンク106で規定された開口部内に対し、有機機能層107形成のためのインク1070を塗布する(図11(b)を参照)。このとき、バンク106の表面の撥液性に起因して、隣接する開口部間では、インク1070が連続することはない。   Next, the ink 1070 for forming the organic functional layer 107 is applied to the opening defined by the bank 106 including the main surface 105a of the anode 105 (see FIG. 11B). At this time, the ink 1070 does not continue between adjacent openings due to the liquid repellency of the surface of the bank 106.

次に、インク1070を乾燥することにより、バンク106で規定される開口部内に有機機能層107が形成される(図11(c)を参照)。なお、有機機能層107が、図9(a)から図9(c)に示すように、2層構造あるいは3層以上の構造を採用する場合には、各層形成のためのインク塗布と乾燥とを繰り返し実行することになる。   Next, the organic functional layer 107 is formed in the opening defined by the bank 106 by drying the ink 1070 (see FIG. 11C). In addition, when the organic functional layer 107 adopts a two-layer structure or a structure of three or more layers as shown in FIGS. 9A to 9C, ink application and drying for forming each layer are performed. Will be executed repeatedly.

次に、有機機能層107の主面107aおよびバンク106の表面を含む全体領域に対し、陰極108を形成する(図12(a)を参照)。ここで、陰極108の形成には、スパッタリング法などを用いることができる。   Next, the cathode 108 is formed on the entire region including the main surface 107a of the organic functional layer 107 and the surface of the bank 106 (see FIG. 12A). Here, the cathode 108 can be formed by a sputtering method or the like.

次に、陰極108の表面108a上に、封止層109を積層形成する(図12(b)を参照)。
[実施の形態2]
実施の形態2に係る有機EL表示パネル30の構成について、上記実施の形態1との差異部分を中心に、図13を用い説明する。図13は、上記実施の形態1における図2で示す断面端面図に対応するものである。
Next, a sealing layer 109 is stacked on the surface 108a of the cathode 108 (see FIG. 12B).
[Embodiment 2]
The configuration of the organic EL display panel 30 according to the second embodiment will be described with reference to FIG. 13 with a focus on differences from the first embodiment. FIG. 13 corresponds to the sectional end view shown in FIG. 2 in the first embodiment.

図13に示すように、本実施の形態に係る有機EL表示パネル30では、陽極305が金属層の一層構造である点で上記実施の形態1に係る有機EL表示パネル10と相違する。有機EL表示パネル30でも、陽極305の端部が、開口部を臨むバンク106の端部から離間した状態となっており、陽極305が形成された領域が発光領域300であり、他の領域が非発光領域350である。   As shown in FIG. 13, the organic EL display panel 30 according to the present embodiment is different from the organic EL display panel 10 according to the first embodiment in that the anode 305 has a single layer structure of a metal layer. Also in the organic EL display panel 30, the end of the anode 305 is in a state of being separated from the end of the bank 106 facing the opening, the region where the anode 305 is formed is the light emitting region 300, and the other regions are This is a non-light emitting region 350.

本実施の形態に係る有機EL表示パネル30でも、陽極305の膜厚は40[nm]以上200[nm]以下の範囲内に設定され、また、有機機能層107の膜厚が陽極305の膜厚よりも厚くなっている。そして、有機機能層107は、陽極305の上面から端部側面にわたって形成されている。   Also in the organic EL display panel 30 according to the present embodiment, the film thickness of the anode 305 is set in the range of 40 [nm] or more and 200 [nm] or less, and the film thickness of the organic functional layer 107 is the film of the anode 305. It is thicker than the thickness. The organic functional layer 107 is formed from the upper surface of the anode 305 to the end side surface.

以上より、本実施の形態に係る有機EL表示パネル30およびこれを備える有機EL表示装置でも、上記有機EL表示パネル10および有機EL表示装置1と同様の効果を有する。   As described above, the organic EL display panel 30 according to the present embodiment and the organic EL display device including the same have the same effects as the organic EL display panel 10 and the organic EL display device 1 described above.

[実施の形態3]
実施の形態3に係る有機EL表示パネル40の構成について、上記実施の形態1との差異部分を中心に、図14および図15を用い説明する。図14は、上記実施の形態1における図4に示す平面図に対応するものであり、図15は、図2で示す断面端面図に対応するものである。
[Embodiment 3]
The configuration of the organic EL display panel 40 according to the third embodiment will be described with reference to FIGS. 14 and 15, focusing on the differences from the first embodiment. 14 corresponds to the plan view shown in FIG. 4 in the first embodiment, and FIG. 15 corresponds to the sectional end view shown in FIG.

図14に示すように、本実施の形態に係る有機EL表示パネル40は、バンク406が、所謂、ラインバンク構造を有する点に特徴がある。即ち、図14に示すように、バンク406は、Y軸方向に延伸する複数条の要素により構成されている。複数条の要素は、端部において互いに連続していてもよいし、逆に、各々が分離した状態となっていてもよい。   As shown in FIG. 14, the organic EL display panel 40 according to the present embodiment is characterized in that the bank 406 has a so-called line bank structure. That is, as shown in FIG. 14, the bank 406 is composed of a plurality of elements extending in the Y-axis direction. The plurality of elements may be continuous with each other at the end, or conversely, each may be in a separated state.

図15は、図14における有機EL表示パネル40の一部をH−H‘断面の端面を示す模式断面端面図である。図15に示すように、有機EL表示パネル40では、ラインバンク構造のバンク406(図14を参照。)を採用するため、Y軸方向における隣接画素間には、バンク406が介挿されない。   FIG. 15 is a schematic cross-sectional end view showing an end face of the H-H ′ cross section of a part of the organic EL display panel 40 in FIG. 14. As shown in FIG. 15, since the organic EL display panel 40 employs a bank 406 (see FIG. 14) having a line bank structure, the bank 406 is not interposed between adjacent pixels in the Y-axis direction.

図15に示すように、本実施の形態においても、陽極105の上面から端部側面にわたって有機機能層407が形成されており、その上に陰極408および封止層409が順に積層形成されている。よって、有機EL表示パネル40においても、陽極105が形成された領域が発光領域400であり、その他の領域が非発光領域450である。   As shown in FIG. 15, also in this embodiment, the organic functional layer 407 is formed from the upper surface to the end side surface of the anode 105, and the cathode 408 and the sealing layer 409 are sequentially stacked thereon. . Therefore, also in the organic EL display panel 40, the region where the anode 105 is formed is the light emitting region 400, and the other region is the non-light emitting region 450.

なお、有機EL表示パネル40について、図14のX軸方向の断面構造については、図示を省略しているが、当該構造は、上記実施の形態1と同様である。即ち、X軸方向においては、陽極105の端部が、開口部を臨むバンク406の端部に対して離間した状態となっている。また、本実施の形態においても、陽極105における金属層1051の膜厚は、40[nm]以上200[nm]以下の範囲内で設定されており、有機機能層407の膜厚が陽極105の膜厚よりも厚くなっている。   In addition, about the organic electroluminescent display panel 40, although illustration is abbreviate | omitted about the cross-section of the X-axis direction of FIG. 14, the said structure is the same as that of the said Embodiment 1. FIG. That is, in the X-axis direction, the end of the anode 105 is in a state of being separated from the end of the bank 406 facing the opening. Also in this embodiment mode, the thickness of the metal layer 1051 in the anode 105 is set within a range of 40 [nm] to 200 [nm], and the thickness of the organic functional layer 407 is equal to that of the anode 105. It is thicker than the film thickness.

以上より、本実施の形態に係る有機EL表示パネル40およびこれを備える有機EL表示装置でも、上記実施の形態1と同様の効果を有する。
[その他の事項]
上記実施の形態1,2,3では、有機機能層107,117,127,407に対して、Z軸方向の下方、即ち、基板101の側に陽極105,305を配置し、Z軸方向の上方に陰極108,408を配置することとしたが、陽極と陰極との配置関係を上下逆にすることもできる。この場合には、有機機能層において、有機発光層に対し基板101側となる領域に電子注入層や電子輸送層が配置されることになり、この場合も「有機機能層の膜厚」は、基板101の側から積算し、有機発光層を含むレベルまでの膜厚が規定される。
As described above, the organic EL display panel 40 according to the present embodiment and the organic EL display device including the same have the same effects as those of the first embodiment.
[Other matters]
In the first, second, and third embodiments, the anodes 105 and 305 are disposed below the organic functional layers 107, 117, 127, and 407 in the Z-axis direction, that is, on the substrate 101 side. Although the cathodes 108 and 408 are arranged above, the arrangement relationship between the anode and the cathode can be reversed upside down. In this case, in the organic functional layer, an electron injection layer or an electron transport layer is disposed in a region on the substrate 101 side with respect to the organic light emitting layer. In this case, the "film thickness of the organic functional layer" The film thickness up to the level including the organic light emitting layer is defined by integrating from the substrate 101 side.

また、上記実施の形態1,2,3の説明の際に用いた図1から図15については、各部のサイズについて厳密な相対値を以って示しているわけではなく、実際の構造への適用に際して適宜の変更が可能である。この場合においても、陽極における金属層の膜厚を上記範囲内で規定し、且つ、有機機能層の膜厚を陽極の膜厚よりも厚くすることは必要である。   Further, in FIGS. 1 to 15 used in the description of the first, second, and third embodiments, the sizes of the respective parts are not shown with strict relative values. Appropriate changes can be made upon application. Even in this case, it is necessary to define the thickness of the metal layer in the anode within the above range and to make the thickness of the organic functional layer larger than the thickness of the anode.

本発明は、優れた発光特性を有しながら、長寿命な有機EL表示パネルおよび有機EL表示装置を実現するのに有用である。   The present invention is useful for realizing a long-life organic EL display panel and an organic EL display device having excellent light emission characteristics.

1.有機EL表示装置
10,30,40.有機EL表示パネル
20.駆動制御部
21〜24.駆動回路
25.制御回路
100,300,400.発光領域
101.基板
102.TFT層
103.パッシベーション膜
104.平坦化膜
105,305.陽極
106,406.バンク
107,117,127,407.有機機能層
108,408.陰極
109,409.封止層
150,350,450.非発光領域
1051.金属層
1052.透明導電層
1070.インク
1071,1171,1271.電荷注入層
1072,1172,1272.有機発光層
1173.電子輸送層
1274.電荷輸送層
1. Organic EL display 10, 30, 40. Organic EL display panel 20. Drive control part 21-24. Drive circuit 25. Control circuit 100, 300, 400. Light emitting area 101. Substrate 102. TFT layer 103. Passivation film 104. Planarization film 105,305. Anode 106,406. Bank 107,117,127,407. Organic functional layer 108,408. Cathode 109,409. Sealing layer 150, 350, 450. Non-light emitting area 1051. Metal layer 1052. Transparent conductive layer 1070. Ink 1071, 1171, 1271. Charge injection layers 1072, 1172, 1272. Organic light emitting layer 1173. Electron transport layer 1274. Charge transport layer

Claims (20)

基板と、
前記基板の上方に配置された絶縁層と、
前記絶縁層の上方に形成され、所定の画素の領域に対応する開口部を規定するバンクと、
前記絶縁層の表面上に配置され、アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層を含み、当該アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の表面部を所定の反射率を有する反射部とした第1電極と、
前記第1電極の上面に形成され、有機発光層を少なくとも含む有機機能層と、
前記有機機能層の上方に配置され、前記有機機能層から上方へ照射された光と、前記有機機能層から下方に照射された光であって前記第1電極の反射部で反射された光と、を透過する第2電極と、
を含み、
前記第1電極は、前記バンクの開口部内において、その端部が前記開口部を臨む前記バンクの端部から離間して配置され、
前記第1電極に含まれるアルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の膜厚は、40nm以上200nm以下の所定の膜厚であり、
前記有機機能層は、前記第1電極の所定の膜厚以上の膜厚であり、前記第1電極の上面から前記端部の側面にわたって形成されている、
有機EL表示パネル。
A substrate,
An insulating layer disposed above the substrate;
A bank formed above the insulating layer and defining an opening corresponding to a predetermined pixel region;
A first electrode that is disposed on the surface of the insulating layer, includes an aluminum layer or an aluminum alloy layer, and the surface portion of the aluminum layer or aluminum alloy layer is a reflective portion having a predetermined reflectance;
An organic functional layer formed on an upper surface of the first electrode and including at least an organic light emitting layer;
Light that is disposed above the organic functional layer and is irradiated upward from the organic functional layer, and light that is irradiated downward from the organic functional layer and reflected by the reflecting portion of the first electrode; A second electrode that passes through,
Including
The first electrode is disposed in the opening of the bank, the end of the first electrode being spaced apart from the end of the bank facing the opening,
The film thickness of the aluminum layer or aluminum alloy layer included in the first electrode is a predetermined film thickness of 40 nm or more and 200 nm or less,
The organic functional layer has a thickness equal to or greater than a predetermined thickness of the first electrode, and is formed from the upper surface of the first electrode to the side surface of the end portion.
Organic EL display panel.
前記第1電極は、前記アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の上面に設けられた透明導電層を有する、
請求項1に記載の有機EL表示パネル。
The first electrode has a transparent conductive layer provided on the upper surface of the aluminum layer or aluminum alloy layer.
The organic EL display panel according to claim 1.
前記第1電極に含まれるアルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の膜厚が43nm以上200nm以下の所定の膜厚である、
請求項1ないし請求項2のいずれか1項に記載の有機EL表示パネル。
The film thickness of the aluminum layer or aluminum alloy layer included in the first electrode is a predetermined film thickness of 43 nm or more and 200 nm or less,
The organic EL display panel according to claim 1.
前記第1電極に含まれるアルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の膜厚が40nm以上120nm以下の所定の膜厚である、
請求項1ないし請求項2のいずれか1項に記載の有機EL表示パネル。
The film thickness of the aluminum layer or aluminum alloy layer included in the first electrode is a predetermined film thickness of 40 nm or more and 120 nm or less,
The organic EL display panel according to claim 1.
前記第1電極に含まれるアルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の膜厚が43nm以上120nm以下の所定の膜厚である、
請求項1ないし請求項2のいずれか1項に記載の有機EL表示パネル。
The film thickness of the aluminum layer or aluminum alloy layer included in the first electrode is a predetermined film thickness of 43 nm or more and 120 nm or less,
The organic EL display panel according to claim 1.
前記第1電極に含まれるアルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の膜厚が50nm以上100nm以下の所定の膜厚である、
請求項1ないし請求項2のいずれか1項に記載の有機EL表示パネル。
The film thickness of the aluminum layer or aluminum alloy layer included in the first electrode is a predetermined film thickness of 50 nm to 100 nm,
The organic EL display panel according to claim 1.
前記有機機能層は、前記第1電極上に形成された電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方を含み、
前記第1電極上に形成された前記電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方は、その膜厚が前記第1電極の所定の膜厚以上の膜厚であり、前記第1電極の上面から前記端部の側面にわたって形成されている、
請求項1ないし請求項6のいずれか1項に記載の有機EL表示パネル。
The organic functional layer includes at least one of a charge injection layer or a charge transport layer formed on the first electrode,
At least one of the charge injection layer or the charge transport layer formed on the first electrode has a film thickness equal to or greater than a predetermined film thickness of the first electrode, and the upper surface of the first electrode Formed over the side of the end,
The organic EL display panel according to claim 1.
前記有機機能層は、前記第1電極上に形成された前記電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方の層の上方に前記有機発光層を設けた層である、
請求項7に記載の有機EL表示パネル。
The organic functional layer is a layer in which the organic light emitting layer is provided above at least one of the charge injection layer or the charge transport layer formed on the first electrode.
The organic EL display panel according to claim 7.
前記有機機能層は、電荷注入層、電荷輸送層および前記有機発光層を含む層であり、
前記電荷注入層は、前記第1電極上に形成され、
前記電荷注入層は、その膜厚が前記第1電極の所定の膜厚以上の膜厚であり、前記第1電極の上面から前記端部の側面にわたって形成されている、
請求項1ないし請求項6のいずれか1項に記載の有機EL表示パネル。
The organic functional layer is a layer including a charge injection layer, a charge transport layer and the organic light emitting layer,
The charge injection layer is formed on the first electrode;
The charge injection layer has a thickness equal to or greater than a predetermined thickness of the first electrode, and is formed from the upper surface of the first electrode to the side surface of the end portion.
The organic EL display panel according to claim 1.
前記第1電極の前記端部の側面と前記基板とがなす内角が90度以下である、
請求項1ないし請求項9の何れか1項に記載の有機EL表示パネル。
The internal angle formed by the side surface of the end portion of the first electrode and the substrate is 90 degrees or less.
The organic EL display panel according to any one of claims 1 to 9.
前記所定の画素の領域は、画素毎の領域であり、
前記バンクは、前記開口部を前記画素毎に規定する、
請求項1ないし請求項10の何れか1項に記載の有機EL表示パネル。
The region of the predetermined pixel is a region for each pixel,
The bank defines the opening for each pixel.
The organic EL display panel according to any one of claims 1 to 10.
前記所定の画素の領域は、複数の画素がライン状に配列された領域であり、
前記バンクは、前記開口部を前記ライン状に配列された複数の画素毎に規定する、
請求項1ないし請求項10の何れか1項に記載の有機EL表示パネル。
The region of the predetermined pixel is a region where a plurality of pixels are arranged in a line,
The bank defines the opening for each of a plurality of pixels arranged in the line shape.
The organic EL display panel according to any one of claims 1 to 10.
請求項1ないし請求項12のいずれか1項に記載の有機EL表示パネルを具備した
有機EL表示装置。
An organic EL display device comprising the organic EL display panel according to any one of claims 1 to 12.
基板を準備する第1工程と、
前記基板の上方に絶縁膜を配置する第2工程と、
アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層を含み、当該アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の表面部を所定の反射率を有する反射部とした第1電極を、前記絶縁層の表面上に配置する第3工程と、
前記絶縁膜の上方に、所定の画素の領域に対応する開口部を規定するバンクを形成する第4工程と、
有機発光層を少なくとも含む有機機能層を、前記第1電極の上面から端部の側面にわたって、前記第1電極の所定の膜厚以上の膜厚に形成する第5工程と、
前記有機発光層から上方へ照射された光と、前記有機発光層から下方に照射された光であって前記第1電極の反射部で反射された光とを、透過する第2電極を前記有機発光層の上方に配置する第6工程と、
を含み、
前記第1電極は、前記バンクの開口部内において、その端部が前記開口部を臨む前記バンクの端部から離間して配置し、前記第1電極に含まれるアルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の膜厚が40nm以上200nm以下の所定の膜厚である、
有機EL表示パネルの製造方法。
A first step of preparing a substrate;
A second step of disposing an insulating film above the substrate;
A third step of disposing, on the surface of the insulating layer, a first electrode that includes an aluminum layer or an aluminum alloy layer, and the surface portion of the aluminum layer or aluminum alloy layer is a reflective portion having a predetermined reflectance;
A fourth step of forming a bank defining an opening corresponding to a region of a predetermined pixel above the insulating film;
A fifth step of forming an organic functional layer including at least an organic light emitting layer in a film thickness equal to or greater than a predetermined film thickness of the first electrode from an upper surface of the first electrode to a side surface of an end;
A second electrode that transmits light emitted upward from the organic light emitting layer and light reflected downward from the organic light emitting layer and reflected by the reflecting portion of the first electrode is used as the organic material. A sixth step disposed above the light emitting layer;
Including
The first electrode is disposed in the opening of the bank so that the end of the first electrode is spaced apart from the end of the bank facing the opening, and the thickness of the aluminum layer or the aluminum alloy layer included in the first electrode Is a predetermined film thickness of 40 nm or more and 200 nm or less,
Manufacturing method of organic EL display panel.
前記第3工程において、前記第1電極は、前記アルミニウム層若しくはアルミニウム合金層の上面に透明導電層を設けて形成される、
請求項14に記載の有機EL表示パネルの製造方法。
In the third step, the first electrode is formed by providing a transparent conductive layer on the upper surface of the aluminum layer or aluminum alloy layer.
The manufacturing method of the organic electroluminescent display panel of Claim 14.
前記第3工程において、ウェットエッチングにより、所定の形状にパターニングされた前記第1電極を形成することにより、
前記第1電極の前記端部の側面と前記基板とがなす内角を90度以下にする、
請求項14ないし請求項15のいずれか1項に記載の有機EL表示パネルの製造方法。
In the third step, by forming the first electrode patterned into a predetermined shape by wet etching,
An internal angle formed by the side surface of the end of the first electrode and the substrate is 90 degrees or less,
The manufacturing method of the organic electroluminescence display panel of any one of Claims 14 thru | or 15.
前記有機機能層は、インクジェット法、ダイコート法、スピンコート法のいずれかの湿式塗布方法で形成する、
請求項14ないし請求項16のいずれか1項に記載の有機EL表示パネルの製造方法。
The organic functional layer is formed by a wet coating method of any one of an inkjet method, a die coating method, and a spin coating method.
The manufacturing method of the organic electroluminescence display panel of any one of Claim 14 thru | or 16.
前記有機機能層は、前記第1電極上に形成された電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方を含み、
前記第1電極上に形成された前記電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方は、その膜厚が前記第1電極の所定の膜厚以上の膜厚であり、前記第1電極の上面から前記端部の側面にわたって形成されている、
請求項14ないし請求項17のいずれか1項に記載の有機EL表示パネルの製造方法。
The organic functional layer includes at least one of a charge injection layer or a charge transport layer formed on the first electrode,
At least one of the charge injection layer or the charge transport layer formed on the first electrode has a film thickness equal to or greater than a predetermined film thickness of the first electrode, and the upper surface of the first electrode Formed over the side of the end,
The manufacturing method of the organic electroluminescence display panel of any one of Claims 14 thru | or 17.
前記有機機能層は、前記電荷注入層あるいは電荷輸送層の少なくとも一方の層の上方に前記有機発光層を設けた層である、
請求項18に記載の有機EL表示パネルの製造方法。
The organic functional layer is a layer in which the organic light emitting layer is provided above at least one of the charge injection layer or the charge transport layer.
The manufacturing method of the organic electroluminescent display panel of Claim 18.
前記有機機能層は、電荷注入層、電荷輸送層及び前記有機発光層を含む層であり、
前記電荷注入層は、前記第1電極上に形成され、
前記電荷注入層は、その膜厚が前記第1電極の所定の膜厚以上の膜厚であり、前記第1電極の上面から前記端部の側面にわたって形成されている、
請求項14ないし請求項17のいずれか1項に記載の有機EL表示パネルの製造方法。
The organic functional layer is a layer including a charge injection layer, a charge transport layer and the organic light emitting layer,
The charge injection layer is formed on the first electrode;
The charge injection layer has a thickness equal to or greater than a predetermined thickness of the first electrode, and is formed from the upper surface of the first electrode to the side surface of the end portion.
The manufacturing method of the organic electroluminescence display panel of any one of Claims 14 thru | or 17.
JP2010119751A 2010-05-25 2010-05-25 Organic el display panel and method of manufacturing the same, and organic el display Withdrawn JP2011249089A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010119751A JP2011249089A (en) 2010-05-25 2010-05-25 Organic el display panel and method of manufacturing the same, and organic el display

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010119751A JP2011249089A (en) 2010-05-25 2010-05-25 Organic el display panel and method of manufacturing the same, and organic el display

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2011249089A true JP2011249089A (en) 2011-12-08

Family

ID=45414118

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010119751A Withdrawn JP2011249089A (en) 2010-05-25 2010-05-25 Organic el display panel and method of manufacturing the same, and organic el display

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2011249089A (en)

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013137993A (en) * 2011-11-30 2013-07-11 Canon Inc Display device
WO2013161750A1 (en) * 2012-04-25 2013-10-31 コニカミノルタ株式会社 Transparent electrode, electronic device, and organic electroluminescence element
WO2013187074A1 (en) * 2012-06-15 2013-12-19 パナソニック株式会社 Light emitting element manufacturing method, light emitting element and display panel
JP2014044938A (en) * 2012-08-01 2014-03-13 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Display device
WO2014057796A1 (en) * 2012-10-11 2014-04-17 コニカミノルタ株式会社 Transparent electrode, electronic device, and organic electroluminescent element
WO2014065215A1 (en) * 2012-10-24 2014-05-01 コニカミノルタ株式会社 Transparent electrode, electronic device, and organic electroluminescent element
US9209402B2 (en) 2013-04-22 2015-12-08 Joled Inc. Method of manufacturing EL display device
US9293740B2 (en) 2013-04-22 2016-03-22 Joled Inc Method of manufacturing EL display device
JP2016072283A (en) * 2014-09-26 2016-05-09 パイオニア株式会社 Light emission device
US9343710B2 (en) 2013-04-22 2016-05-17 Joled Inc Method of manufacturing EL display device
US9412969B2 (en) 2014-07-16 2016-08-09 Samsung Electronics Co., Ltd. Organic electro-luminescent display and method of fabricating the same
US9502652B2 (en) 2013-04-22 2016-11-22 Joled Inc Method of manufacturing EL display device
US9704925B2 (en) 2013-03-04 2017-07-11 Joled Inc. EL display device
CN110473979A (en) * 2018-05-11 2019-11-19 株式会社日本显示器 Display device
US10886494B2 (en) 2017-10-17 2021-01-05 Samsung Display Co., Ltd. Display element
WO2021190161A1 (en) * 2020-03-27 2021-09-30 京东方科技集团股份有限公司 Display device, display panel and manufacturing method therefor
CN113826233A (en) * 2020-04-21 2021-12-21 京东方科技集团股份有限公司 Display device, display panel and manufacturing method thereof
RU2812951C1 (en) * 2020-03-27 2024-02-06 Боэ Текнолоджи Груп Ко., Лтд. Display device, display panel and method for their manufacture

Cited By (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013137993A (en) * 2011-11-30 2013-07-11 Canon Inc Display device
JPWO2013161750A1 (en) * 2012-04-25 2015-12-24 コニカミノルタ株式会社 Transparent electrode, electronic device, and organic electroluminescence element
WO2013161750A1 (en) * 2012-04-25 2013-10-31 コニカミノルタ株式会社 Transparent electrode, electronic device, and organic electroluminescence element
US9444077B2 (en) 2012-06-15 2016-09-13 Joled Inc. Light emitting element manufacturing method, light emitting element and display panel
WO2013187074A1 (en) * 2012-06-15 2013-12-19 パナソニック株式会社 Light emitting element manufacturing method, light emitting element and display panel
JP2014044938A (en) * 2012-08-01 2014-03-13 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Display device
JPWO2014057796A1 (en) * 2012-10-11 2016-09-05 コニカミノルタ株式会社 Transparent electrode, electronic device, and organic electroluminescence element
WO2014057796A1 (en) * 2012-10-11 2014-04-17 コニカミノルタ株式会社 Transparent electrode, electronic device, and organic electroluminescent element
WO2014065215A1 (en) * 2012-10-24 2014-05-01 コニカミノルタ株式会社 Transparent electrode, electronic device, and organic electroluminescent element
JPWO2014065215A1 (en) * 2012-10-24 2016-09-08 コニカミノルタ株式会社 Transparent electrode, electronic device, and organic electroluminescence element
US9704925B2 (en) 2013-03-04 2017-07-11 Joled Inc. EL display device
US9343710B2 (en) 2013-04-22 2016-05-17 Joled Inc Method of manufacturing EL display device
US9293740B2 (en) 2013-04-22 2016-03-22 Joled Inc Method of manufacturing EL display device
US9502652B2 (en) 2013-04-22 2016-11-22 Joled Inc Method of manufacturing EL display device
US9209402B2 (en) 2013-04-22 2015-12-08 Joled Inc. Method of manufacturing EL display device
US9412969B2 (en) 2014-07-16 2016-08-09 Samsung Electronics Co., Ltd. Organic electro-luminescent display and method of fabricating the same
JP2016072283A (en) * 2014-09-26 2016-05-09 パイオニア株式会社 Light emission device
US10886494B2 (en) 2017-10-17 2021-01-05 Samsung Display Co., Ltd. Display element
KR102204270B1 (en) * 2018-05-11 2021-01-15 가부시키가이샤 재팬 디스프레이 Display device
KR20190129733A (en) * 2018-05-11 2019-11-20 가부시키가이샤 재팬 디스프레이 Display device
CN110473979A (en) * 2018-05-11 2019-11-19 株式会社日本显示器 Display device
WO2021190161A1 (en) * 2020-03-27 2021-09-30 京东方科技集团股份有限公司 Display device, display panel and manufacturing method therefor
CN113748533A (en) * 2020-03-27 2021-12-03 京东方科技集团股份有限公司 Display device, display panel and manufacturing method thereof
RU2812951C1 (en) * 2020-03-27 2024-02-06 Боэ Текнолоджи Груп Ко., Лтд. Display device, display panel and method for their manufacture
CN113748533B (en) * 2020-03-27 2024-03-05 京东方科技集团股份有限公司 Display device, display panel and manufacturing method thereof
EP4131454A4 (en) * 2020-03-27 2024-04-03 Boe Technology Group Co Ltd Display device, display panel and manufacturing method therefor
CN113826233A (en) * 2020-04-21 2021-12-21 京东方科技集团股份有限公司 Display device, display panel and manufacturing method thereof
US11882731B2 (en) 2020-04-21 2024-01-23 Boe Technology Group Co., Ltd. Display device, display panel and manufacturing method thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2011249089A (en) Organic el display panel and method of manufacturing the same, and organic el display
JP5519537B2 (en) Organic EL display panel and manufacturing method thereof
US8624275B2 (en) Organic light-emitting panel for controlling an organic light emitting layer thickness and organic display device
US8889474B2 (en) Organic light-emitting element and process for production thereof, and organic display panel and organic display device
JP6233888B2 (en) Organic light emitting device and manufacturing method thereof
US8946686B2 (en) Organic EL display device with a multi-layered, resin-based planarization film
JP5543441B2 (en) ORGANIC LIGHT EMITTING ELEMENT AND ITS MANUFACTURING METHOD, ORGANIC DISPLAY PANEL, ORGANIC DISPLAY DEVICE
US8847250B2 (en) Organic light-emitting element and manufacturing method of the same, organic display panel, and organic display device
US11038133B2 (en) Organic EL display panel, organic EL display device, and manufacturing method of organic display panel
KR20110126594A (en) Light-emitting element, light-emitting device comprising light-emitting element, and method for manufacturing light-emitting element
JP2010118509A (en) Light-emitting element
WO2013118474A1 (en) Display panel and method for manufacturing same
US8729535B2 (en) Organic EL display panel and method for producing same
WO2012046280A1 (en) Organic el display panel, method for manufacturing same, and organic el display device
JP5735535B2 (en) Organic EL element, display panel and display device
JP2020072188A (en) Organic el element and manufacturing method therefor, organic el panel, organic el display unit and electronic apparatus
WO2015001785A1 (en) Light emitting element, display apparatus, and light emitting element manufacturing method
US8350471B2 (en) EL display panel, EL display device provided with EL display panel, organic EL display device, and method for manufacturing EL display panel
JP2020035713A (en) Organic EL display panel
JP2019133835A (en) Organic el display panel and method for manufacturing the same
JP2022102056A (en) Self-luminous panel and manufacturing method thereof
JP2016115714A (en) Organic EL panel
JP2016100280A (en) Organic EL panel

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20130806