JP2016060742A - ピラゾリノン誘導体、その製造法及びそれを有効成分として含有する除草剤 - Google Patents

Abstract

【課題】優れた雑草防除効果を有し、除草剤の有効成分として有用な化合物の提供。【解決手段】式（１）で示されるピラゾリノン誘導体、その製造方法及びそれを有効成分として含有する除草剤。［Ｒ１はハロゲン原子；Ｒ２及びＲ３は一体となって、トリメチレン基（−（ＣＨ２）３−）、テトラメチレン基（−（ＣＨ２）４−）、ペンタメチレン基（−（ＣＨ２）５−）又はオキシジエチレン基（−（ＣＨ２）２Ｏ（ＣＨ２）２−）；Ｒ４はＨ又はハロゲン原子；Ｒ５はハロゲン原子；Ａｒは３−オキソ−１，４−ベンゾオキサジン−５−イル基、２，２−ジフルオロ−３−オキソ−１，４−ベンゾオキサジン−５−イル基又は３，４−ジヒドロ−２−オキソキノキサリン−５−イル基］【選択図】なし

Description

本発明は、新規なピラゾリノン誘導体、その製造方法及びそれを有効成分として含有する除草剤に関する。

これまで、作物の成長の妨げとなる有害な雑草を防除するための研究開発が広く進められ、除草剤の有効成分として有用な、雑草防除効果を有する数多くの化合物が見出されている。しかしながら、これらの化合物は、雑草防除効果やその効果の持続性あるいは作物−雑草間の選択性などの除草剤として望ましい性能において、決して十分満足できるものとは言えず、また、これら既存の除草剤には、既に耐性を示す雑草の存在が確認されているものもあることなどから、依然として新規な除草剤が切望されている。

本発明のピラゾリノン誘導体と類似の複素環を基本骨格とする除草剤としては、ピノキサデンなどのアセチルＣｏＡカルボキシラ−ゼ（ＡＣＣａｓｅ）阻害型の除草活性化合物が知られているが（特許文献１〜３参照）、このようなＡＣＣａｓｅ阻害型除草剤においては、その基本骨格であるピラゾリノン環上の水酸基が活性の発現に必須の置換基であること、さらには、ベンゼン環上の置換基として、メチル基やエチル基に代表される電子供与性基がオルト位やパラ位に置換している点で、本発明の化合物とは異なる。

また、ベンゾオキサジノン環と複素環とから構成されている、クロロフィル生合成阻害活性（プロトポルフィリノ−ゲンＩＸオキシダ−ゼ阻害活性）を有する除草活性化合物が知られているが（特許文献４、５参照）、該複素環が、ピリミジン−２，４−ジオンやピラゾ−ル、１，２，４−トリアジン−３，５−ジオン等であり、本発明の５位にハロゲン原子を有するピラゾリノン環とは全く異なる。本発明のピラゾリノン誘導体は、ベンゾオキサジノン環やキノキサリノン環が炭素−炭素結合を介してピラゾリノン環４位に置換している点が特徴であり、クロロフィル生合成阻害活性を有する除草剤としてこれまでにない全く新しい構造である。

特表２００２−５０６８７０号公報 特開平５−１１７２４０号公報 国際公開第１９９６−０２１６５２号パンフレット 国際特許出願ＷＯ１９９８／３８１８８号公報 国際特許出願ＷＯ２００２／２４７０４号公報

本発明の目的は優れた雑草防除効果に加え、その効果の持続性や作物−雑草間の選択性等の除草剤として望ましい性能を兼ね備えた、除草剤の有効成分として有用な化合物を提供することにある。

本発明者らは上記の課題を解決すべく鋭意研究を行った結果、これまで知られていなかったピラゾリノン誘導体の中に優れた雑草防除効果に加え、除草剤の有効成分として望ましい優れたプロファイルを有しているものがあることを見いだし、本発明を完成させるに至った。

すなわち本発明は、
（ｉ）一般式（１）

［式中、Ｒ^１は、ハロゲン原子を表し、Ｒ^２及びＲ^３は、一体となって、トリメチレン基（−（ＣＨ_２）_３−）、テトラメチレン基（−（ＣＨ_２）_４−）、ペンタメチレン基（−（ＣＨ_２）_５−）又はオキシジエチレン基（−（ＣＨ_２）_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−）を表す。Ａｒは、一式（Ａｒ−ａ）

（式中、Ｒ^４は、水素原子又はハロゲン原子を表し、Ｒ^５は、ハロゲン原子を表す。Ｒ^６ａは、水素原子を表す。Ｒ^７ａは、水素原子又はＣ_１−Ｃ_６アルキル基を表す。）で示される３−オキソ−１，４−ベンゾオキサジン−５−イル基；一般式（Ａｒ−ｂ）

（式中、Ｒ^４及びＲ^５は、前記と同じ意味を表す。）で示される２，２−ジフルオロ−３−オキソ−１，４−ベンゾオキサジン−５−イル基；又は一般式（Ａｒ−ｃ）

（式中、Ｒ^４及びＲ^５は、前記と同じ意味を表す。Ｒ^６ｂは、水素原子を表し、Ｒ^７ｂは、水素原子又はＣ_１−Ｃ_６アルキル基を表す。）で示される３，４−ジヒドロ−２−オキソキノキサリン−５−イル基；を表す。］で示されるピラゾリノン誘導体；
（ｉｉ）一般式（１）中、Ｒ^１が塩素原子であり、一体となったＲ^２及びＲ^３が、トリメチレン基又はオキシジエチレン基であり、一般式（Ａｒ−ａ）、（Ａｒ−ｂ）及び（Ａｒ−ｃ）中、Ｒ^４がフッ素原子又は塩素原子であり、Ｒ^５が塩素原子又はフッ素原子である前記（ｉ）に記載のピラゾリノン誘導体；
（ｉｉｉ）一般式（Ａｒ−ａ）、（Ａｒ−ｂ）及び（Ａｒ−ｃ）中、Ｒ^７ａ及びＲ^７ｂがメチル基、エチル基又はプロピル基である前記（ｉ）又は（ｉｉ）に記載のピラゾリノン誘導体；
（ｉｖ）一般式（１）で示される化合物が、８−クロロ−５−（５−クロロ−３−オキソ−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−４−イル）−２−エチル−６−フルオロ−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−３（４Ｈ）−オン、８−クロロ−５−（５−クロロ−３−オキソ−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−４−イル）−６−フルオロ−２−プロピル−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−３（４Ｈ）−オン、５−クロロ−４−（８−クロロ−６−フルオロ−３−オキソ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−５−イル）−１，２−オキシジエチレン−４−ピラゾリン−３−オン、５−クロロ−４−（８−クロロ−２−エチル−６−フルオロ−３−オキソ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−５−イル）−１，２−オキシジエチレン−４−ピラゾリン−３−オン、５−クロロ−４−（８−クロロ−６−フルオロ−３−オキソ−２−プロピル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−５−イル）−１，２−オキシジエチレン−４−ピラゾリン−３−オン、（Ｓ）−８−クロロ−５−（５−クロロ−３−オキソ−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−４−イル）−６−フルオロ−３−メチル−３，４−ジヒドロキノキサリン−２（１Ｈ）−オン、（Ｒ）−８−クロロ−５−（５−クロロ−３−オキソ−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−４−イル）−６−フルオロ−３−メチル−３，４−ジヒドロキノキサリン−２（１Ｈ）−オンからなる群より選択される１つの化合物である前記（ｉ）に記載のピラゾリノン誘導体；
（ｖ）一般式（２ａ）

［式中、Ｒ^１は、ハロゲン原子を表し、Ｒ^２及びＲ^３は、一体となって、トリメチレン基（−（ＣＨ_２）_３−）、テトラメチレン基（−（ＣＨ_２）_４−）、ペンタメチレン基（−（ＣＨ_２）_５−）又はオキシジエチレン基（−（ＣＨ_２）_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−）を表す。Ｒ^４は、水素原子又はハロゲン原子を表し、Ｒ^５は、ハロゲン原子を表す。］で示されるピラゾリノン誘導体と、一般式（３ａ）

（式中、Ｒ^６ａは、水素原子を表し、Ｒ^７ａは、水素原子又はＣ_１−Ｃ_６アルキル基を表す。Ｒ^８はＣ_１−Ｃ_４アルキル基を表す。）で示されるブロモ酢酸エステル類を、塩基の存在下に反応させることを特徴とする、一般式（１ａ）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６ａ及びＲ^７ａは、前記と同じ意味を表す。）で示されるピラゾリノン誘導体の製造方法；
（ｖｉ）一般式（２ｂ）

（式中、Ｒ^１は、ハロゲン原子を表し、Ｒ^２及びＲ^３は、一体となって、トリメチレン基（−（ＣＨ_２）_３−）、テトラメチレン基（−（ＣＨ_２）_４−）、ペンタメチレン基（−（ＣＨ_２）_５−）又はオキシジエチレン基（−（ＣＨ_２）_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−）を表す。Ｒ^４は、水素原子又はハロゲン原子を表し、Ｒ^５は、ハロゲン原子を表す。）で示されるピラゾリノン誘導体と、一般式（３ａ）

（式中、Ｒ^６ａは、水素原子を表し、Ｒ^７ａは、水素原子又はＣ_１−Ｃ_６アルキル基を表す。Ｒ^８はＣ_１−Ｃ_４アルキル基を表す。）で示されるブロモ酢酸エステル類を、塩基の存在下に反応させ、一般式（４ａ）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６ａ、Ｒ^７ａ及びＲ^８は、前記と同じ意味を表す。）で示されるピラゾリノン誘導体を得、次いで還元することを特徴とする、一般式（１ａ）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６ａ及びＲ^７ａは、前記と同じ意味を表す。）で示されるピラゾリノン誘導体の製造方法；
（ｖｉｉ）一般式（２ｂ）

（式中、Ｒ^１は、ハロゲン原子を表し、Ｒ^２及びＲ^３は、一体となって、トリメチレン基（−（ＣＨ_２）_３−）、テトラメチレン基（−（ＣＨ_２）_４−）、ペンタメチレン基（−（ＣＨ_２）_５−）又はオキシジエチレン基（−（ＣＨ_２）_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−）を表す。Ｒ^４は、水素原子又はハロゲン原子を表し、Ｒ^５は、ハロゲン原子を表す。）で示されるピラゾリノン誘導体と、一般式（３ｂ）

（式中、Ｒ^８はＣ_１−Ｃ_４アルキル基を表す。）で示されるブロモジフルオロ酢酸アミドを、塩基の存在下に反応させて、一般式（４ｂ）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^８は、前記と同じ意味を表す。）で示されるピラゾリノン誘導体を得、次いで還元することを特徴とする、一般式（１ｂ）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５は、前記と同じ意味を表す。）で示されるピラゾリノン誘導体の製造方法；
（ｖｉｉｉ）一般式（２ｃ）

（式中、Ｒ^１は、ハロゲン原子を表し、Ｒ^２及びＲ^３は、一体となって、トリメチレン基（−（ＣＨ_２）_３−）、テトラメチレン基（−（ＣＨ_２）_４−）、ペンタメチレン基（−（ＣＨ_２）_５−）又はオキシジエチレン基（−（ＣＨ_２）_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−）を表す。Ｒ^４は、水素原子又はハロゲン原子を表し、Ｒ^５は、ハロゲン原子を表す。）で示されるピラゾリノン誘導体と、一般式（３ｃ）

（式中、Ｒ^６ｂは、水素原子を表し、Ｒ^７ｂは、水素原子又はＣ_１−Ｃ_６アルキル基を表す。Ｒ^８はＣ_１−Ｃ_４アルキル基を表す。）で示されるアミノ酸エステル類を、塩基の存在下に反応させ、一般式（４ｃ）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６ｂ、Ｒ^７ｂ及びＲ^８は、前記と同じ意味を表す。）で示されるピラゾリノン誘導体を得、次いで還元することを特徴とする、一般式（１ｃ）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６ｂ及びＲ^７ｂは、前記と同じ意味を表す。）で示されるピラゾリノン誘導体の製造方法；
（ｉｘ）前記（ｉ）〜（ｉｖ）のいずれか一項に記載のピラゾリノン誘導体を有効成分として含有する除草剤；
（ｘ）畑地雑草防除用または水田雑草防除用である前記（ｉｘ）に記載の除草剤；
（ｘｉ）畑地雑草防除用であり、該畑地における作物が小麦、大豆又はトウモロコシである前記（ｘ）に記載の除草剤；
（ｘｉｉ）茎葉及び／又は土壌処理剤である前記（ｉｘ）〜（ｘｉ）のいずれか一項に記載の除草剤；
（ｘｉｉｉ）前記（ｉ）から（ｉｖ）のいずれか一項に記載のピラゾリノン誘導体の、雑草を防除するための使用；
（ｘｉｖ）前記（ｉ）から（ｉｖ）のいずれか一項に記載のピラゾリノン誘導体の有効量を適用することを含む雑草防除方法；
等に関する。

本発明の新規なピラゾリノン誘導体は、優れた雑草防除効果を示し、その効果の持続性や作物−雑草間の選択性等の除草剤として望ましい優れたプロファイルを有している。このため除草剤の有効成分として有用である。

以下、本発明について詳細に説明する。

まず、前記一般式（１）及び後述する他の一般式において用いられるＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６ａ、Ｒ^６ｂ、Ｒ^７ａ、Ｒ^７ｂ及びＲ^８について説明する。

Ｒ^１で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等を例示することができる。除草活性が高い点で塩素原子及びフッ素原子が好ましく、塩素原子がさらに好ましい。

Ｒ^２及びＲ^３は前記の通り、一体となってトリメチレン基（−（ＣＨ_２）_３−）、テトラメチレン基（−（ＣＨ_２）_４−）、ペンタメチレン基（−（ＣＨ_２）_５−）又はオキシジエチレン基（−（ＣＨ_２）_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−）を表し、除草活性が高い点でテトラメチレン基、オキシジエチレン基が好ましい。

Ｒ^４で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等を例示することができる。除草活性が高い点でフッ素原子、塩素原子が好ましく、フッ素原子がさらに好ましい。

Ｒ^５で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等を例示することができる。除草活性が高い点でフッ素原子、塩素原子が好ましく、塩素原子がさらに好ましい。

Ｒ^６ａ及びＲ^６ｂは前記のとおり水素原子を表す。

Ｒ^７ａ及びＲ^７ｂで表されるＣ_１−Ｃ_６アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、シクロプロピルメチル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等を例示することができる。除草活性が高い点でメチル基、エチル基、プロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ネオペンチル基が好ましい。

Ｒ^８で表されるＣ_１−Ｃ_４アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等を例示することができ、容易に入手できる点で、メチル基、エチル基が好ましい。

本発明の化合物におけるＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６ａ、Ｒ^６ｂ、Ｒ^７ａ及びＲ^７ｂについて、以下にさらに説明する。

Ｒ^１は前記のとおりハロゲン原子を表すところ、塩素原子及びフッ素原子が好ましく、塩素原子がより好ましい。

Ｒ^２及びＲ^３は前記のとおり、一体となってトリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基又はオキシジエチレン基を表すところ、テトラメチレン基及びオキシジエチレン基が好ましい。

Ｒ^４は前記のとおりハロゲン原子を表すところ、フッ素原子及び塩素原子が好ましく、フッ素原子がより好ましい。

Ｒ^５は前記のとおりハロゲン原子を表すところ、塩素原子が好ましい。

Ｒ^６ａ及びＲ^６ｂは前記のとおり水素原子を表す。

Ｒ^７ａ及びＲ^７ｂは、メチル基、エチル基、プロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ネオペンチル基、シクロプロピル基が好ましい。

上記Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６ａ、Ｒ^６ｂ、Ｒ^７ａ及びＲ^７ｂにおける好ましい原子又は基を、２種又は３種以上同時に具備する本発明の化合物は好ましい。例えば、以下の化合物は好ましい：
Ｒ^１が塩素原子であり、一体となったＲ^２及びＲ^３がテトラメチレン基又はオキシジエチレン基であり、Ｒ^４がフッ素原子又は塩素原子であり、Ｒ^５が塩素原子又はフッ素原子であり、かつＲ^６ａ及びＲ^６ｂが水素原子であり、Ｒ^７ａ及びＲ^７ｂがメチル基、エチル基又はプロピル基である、化合物。当該化合物において、Ｒ^１が塩素原子であり、一体となったＲ^２及びＲ^３がテトラメチレン基又はオキシジエチレン基であり、Ｒ^４はフッ素原子であり、Ｒ^５は塩素原子であり、Ｒ^６ａ及びＲ^６ｂは水素原子であり、Ｒ^７ａ及びＲ^７ｂはメチル基、エチル基又はプロピル基である化合物は、より好ましい。

次に、本発明のピラゾリノン誘導体（以下、「本発明化合物」とも言う）の代表的な製造方法について説明するが、本発明はこれらの製造方法に限定されるものではない。

本発明化合物の一部であるピラゾリノン誘導体（１ａ）は、例えば以下の製造方法−１により製造することができる。

製造方法−１

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６ａ、Ｒ^７ａ及びＲ^８は前記と同じ意味を表す。）
製造方法−１（工程１−１）は、ピラゾリノン誘導体（２ａ）とブロモ酢酸エステル類（３ａ）とを塩基の存在下に反応させ、本発明化合物の一部であるピラゾリノン誘導体（１ａ）を製造する方法である。

工程１−１の反応は、塩基の存在下で実施する。塩基としては、トリエチルアミンやトリブチルアミン、ジメチルアミノピリジン（以下、ＤＭＡＰと略す）、ピリジンなどの有機塩基、水素化ナトリウムやナトリウムアミド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類、メチルリチウムやブチルリチウム等のリチウム塩基等を例示することができる。収率が良い点で炭酸カリウム、炭酸セシウムなどの無機塩基が好ましい。

工程１−１の反応は、有機溶媒中で実施することができる。有機溶媒としては反応に害を及ぼさない有機溶媒であれば使用することができ、１，４−ジオキサンやテトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦと略す）、ジメトキシエタン（以下、ＤＭＥと略す）、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、シクロペンチルメチルエ−テル等のエ−テル系溶媒、ベンゼンやトルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサンやオクタン等の炭化水素系溶媒、アセトニトリルやプロピオニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（以下、ＤＭＦと略す）やＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、ジメチルスルホキシド（以下、ＤＭＳＯと略す）等のスルホキシド系溶媒、さらにこれらの混合溶媒を例示することができる。

反応温度に特に制限はないが、−７８℃から使用する溶媒の還流温度までの範囲で適宜選ばれた温度で反応させればよい。

一般式（３ａ）で示されるブロモ酢酸エステルにおいて、Ｒ^８で表されるＣ_１−Ｃ_４アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等を例示することができ、容易に入手できる点で、メチル基、エチル基が好ましい。これらのブロモ酢酸エステルのうち、市販されていない一部の化合物については、当業者における一般的な化学的方法によって容易に調製することができる。

反応終了後、目的物を含む反応系から常法により目的物を単離し、必要に応じて再結晶、蒸留、カラムクロマトグラフィ−等で精製することができる。

本発明化合物の一部であるピラゾリノン誘導体（１ａ）は、例えば以下の製造方法−２により製造することができる。

製造方法−２

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６ａ、Ｒ^７ａ及びＲ^８は前記と同じ意味を表す。）
製造方法−２は、ピラゾリノン誘導体（２ｂ）と一般式（３ａ）で表されるブロモ酢酸エステルを塩基の存在下に反応させて、ピラゾリノン誘導体（４ａ）を製造する工程２−１と、ピラゾリノン誘導体（４ａ）のニトロ基を還元し、それに続く環化反応により、本発明化合物の一部であるピラゾリノン誘導体（１ａ）を製造する工程２−２からなる。

工程２−１は、ピラゾリノン誘導体（２ｂ）と一般式（３ａ）で表されるブロモ酢酸エステルを塩基の存在下に反応させて、ピラゾリノン誘導体（４ａ）を製造する工程である。

工程２−１の反応は、塩基の存在下で実施する。塩基としては、トリエチルアミンやトリブチルアミン、ＤＭＡＰ、ピリジンなどの有機塩基、水素化ナトリウムやナトリウムアミド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類、メチルリチウムやブチルリチウム等のリチウム塩基等を例示することができる。収率が良い点で炭酸カリウム、炭酸セシウムなどの無機塩基が好ましい。

工程２−１の反応は、有機溶媒中で実施することができる。有機溶媒としては反応に害を及ぼさない有機溶媒であれば使用することができ、１，４−ジオキサンやＴＨＦ、ＤＭＥ、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、シクロペンチルメチルエ−テル等のエ−テル系溶媒、ベンゼンやトルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサンやオクタン等の炭化水素系溶媒、アセトニトリルやプロピオニトリル等のニトリル系溶媒、ＤＭＦやＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、ＤＭＳＯ等のスルホキシド系溶媒、さらにこれらの混合溶媒を例示することができる。

反応温度に特に制限はないが、−７８℃から使用する溶媒の還流温度までの範囲で適宜選ばれた温度で反応させればよい。

反応終了後、目的物を含む反応系から常法により目的物を単離し、必要に応じて再結晶、蒸留、カラムクロマトグラフィ−等で精製することができる。また、得られた目的生成物を精製することなく、そのまま次の工程の原料として用いることができる場合もある。

工程２−１の出発物質であるブロモ酢酸エステル（３ａ）のうち、一部の市販されていない化合物については、所望の置換基を有するように、相応しい市販化合物から、当業者において一般的な化学的方法によって簡便に調製することができる。

工程２−２は、ピラゾリノン誘導体（４ａ）のニトロ基を還元し、それに続く環化反応により、本発明化合物の一部であるピラゾリノン誘導体（１ａ）を製造する工程である。

ニトロ基の還元は、水素ガスやヒドラジンを用いる接触還元や、鉄やスズ、亜鉛等の金属あるいは金属化合物を用いる金属還元を用いることができる。

接触還元では、パラジウムや白金、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、オスミウム等の金属触媒を用いる。パラジウム触媒としては、パラジウムブラック、パラジウム担持炭素等を、白金触媒としては、白金担持炭素、酸化白金（ＩＶ）水和物等を、ニッケル触媒としては、ラネ−ニッケル等を、ルテニウムやロジウム、オスミウムの金属触媒としては、ルテニウム担持炭素、ロジウム担持炭素、オスミウム担持炭素等を例示することができる。金属触媒の添加量は、ピラゾリノン誘導体（４ａ）に対して通常０．０００１〜１０モル％、好ましくは０．１〜１．０モル％程度であればよい。

水素ガスを還元剤として用いる場合、水素ガスの圧力に特に制限は無く、必要に応じて加圧してもよく、その場合は通常０．１〜１ＭＰａ、好ましくは０．１〜０．５ＭＰａの範囲で適宜選ばれた圧力で反応させればよい。ヒドラジンを還元剤として用いる場合には、ピラゾリノン誘導体（４ａ）１モルに対して１〜２５モルのヒドラジンを用いることにより、収率よく目的物を得ることができる。

還元反応は、通常２０〜１００℃、好ましくは４０〜８０℃の範囲で適宜選ばれた反応温度で実施すればよい。

接触還元の反応では、必要に応じて適宜反応溶媒が用いられる。反応溶媒としては、例えば水の他、メタノ−ル、エタノ−ル、プロピルアルコ−ル、イソプロピルアルコ−ル、ブチルアルコ−ル、イソブチルアルコ−ル、ｓｅｃ−ブチルアルコ−ル、ｔｅｒｔ−ブチルアルコ−ル等のアルコ−ル系溶媒、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ジエチルエ−テル、ＤＭＥ、ジエトキシエタン、ＴＨＦ等のエ−テル系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒等の有機溶媒が挙げられ、メタノ−ル、酢酸エチル、ＴＨＦ、トルエン等が好ましい。これら反応溶媒は単独で用いても、二種以上適宜組み合わせて用いてもよい。

鉄やスズ、亜鉛等の金属あるいは金属化合物を用いる金属還元では、それぞれの金属に適した反応条件を適宜選択して反応を実施することにより、収率よく目的物を得ることができる。例えば、鉄−酢酸、鉄−塩酸、スズ−塩酸、亜鉛−塩酸等を用いればよい。反応には、必要に応じて適宜反応溶媒が用いられる。

反応終了後、目的物を含む反応系から常法により目的物を単離し、必要に応じて再結晶、蒸留、カラムクロマトグラフィ−等で精製することにより目的物を製造することができる。

本発明化合物の一部であるピラゾリノン誘導体（１ｂ）は、例えば以下の製造方法−３により製造することができる。

製造方法−３

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^８は前記と同じ意味を表す。）
製造方法−３は、ピラゾリノン誘導体（２ｂ）と一般式（３ｂ）で表されるブロモジフルオロ酢酸アミドを塩基の存在下に反応させて、ピラゾリノン誘導体（４ｂ）を製造する工程３−１と、ピラゾリノン誘導体（４ｂ）のニトロ基を還元し、それに続く環化反応により、本発明化合物の一部であるピラゾリノン誘導体（１ｂ）を製造する工程３−２からなる。

工程３−１は、ピラゾリノン誘導体（２ｂ）と一般式（３ｂ）で表されるブロモジフルオロ酢酸アミドを塩基の存在下に反応させて、ピラゾリノン誘導体（４ｂ）を製造する工程である。

工程３−１の反応は、塩基の存在下で実施する。塩基としては、トリエチルアミンやトリブチルアミン、ＤＭＡＰ、ピリジンなどの有機塩基、水素化ナトリウムやナトリウムアミド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類、メチルリチウムやブチルリチウム等のリチウム塩基等を例示することができる。収率が良い点で炭酸カリウム、炭酸セシウムなどの無機塩基が好ましい。

工程３−１の反応は、有機溶媒中で実施することができる。有機溶媒としては反応に害を及ぼさない有機溶媒であれば使用することができ、１，４−ジオキサンやＴＨＦ、ＤＭＥ、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、シクロペンチルメチルエ−テル等のエ−テル系溶媒、ベンゼンやトルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサンやオクタン等の炭化水素系溶媒、アセトニトリルやプロピオニトリル等のニトリル系溶媒、ＤＭＦやＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、ＤＭＳＯ等のスルホキシド系溶媒、さらにこれらの混合溶媒を例示することができる。

反応温度に特に制限はないが、−７８℃から使用する溶媒の還流温度までの範囲で適宜選ばれた温度で反応させればよい。

反応終了後、目的物を含む反応系から常法により目的物を単離し、必要に応じて再結晶、蒸留、カラムクロマトグラフィ−等で精製することができる。また、得られた目的生成物を精製することなく、そのまま次の工程の原料として用いることができる場合もある。

工程３−１の出発物質であるブロモジフルオロ酢酸アミド（３ｂ）としては、容易に入手できる２−ブロモ−２，２−ジフルオロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドや２−ブロモ−Ｎ，Ｎ−ジエチル−２，２−ジフルオロアセトアミド等を例示できる。

工程３−２は、ピラゾリノン誘導体（４ｂ）のニトロ基を還元し、それに続く環化反応により、本発明化合物の一部であるピラゾリノン誘導体（１ｂ）を製造する工程である。

ニトロ基の還元は、水素ガスやヒドラジンを用いる接触還元や、鉄やスズ、亜鉛等の金属あるいは金属化合物を用いる金属還元を用いることができる。

接触還元では、パラジウムや白金、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、オスミウム等の金属触媒を用いる。パラジウム触媒としては、パラジウムブラック、パラジウム担持炭素等を、白金触媒としては、白金担持炭素、酸化白金（ＩＶ）水和物等を、ニッケル触媒としては、ラネ−ニッケル等を、ルテニウムやロジウム、オスミウムの金属触媒としては、ルテニウム担持炭素、ロジウム担持炭素、オスミウム担持炭素等を例示することができる。金属触媒の添加量は、ピラゾリノン誘導体（４ｂ）に対して通常０．０００１〜１０モル％、好ましくは０．１〜１．０モル％程度であればよい。

水素ガスを還元剤として用いる場合、水素ガスの圧力に特に制限は無く、必要に応じて加圧してもよく、その場合は通常０．１〜１ＭＰａ、好ましくは０．１〜０．５ＭＰａの範囲で適宜選ばれた圧力で反応させればよい。ヒドラジンを還元剤として用いる場合には、ピラゾリノン誘導体（４ｂ）１モルに対して１〜２５モルのヒドラジンを用いることにより、収率よく目的物を得ることができる。

還元反応は、通常２０〜１００℃、好ましくは４０〜８０℃の範囲で適宜選ばれた反応温度で実施すればよい。

接触還元の反応では、必要に応じて適宜反応溶媒が用いられる。反応溶媒としては、例えば水の他、メタノ−ル、エタノ−ル、プロピルアルコ−ル、イソプロピルアルコ−ル、ブチルアルコ−ル、イソブチルアルコ−ル、ｓｅｃ−ブチルアルコ−ル、ｔｅｒｔ−ブチルアルコ−ル等のアルコ−ル系溶媒、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ジエチルエ−テル、ＤＭＥ、ジエトキシエタン、ＴＨＦ等のエ−テル系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒等の有機溶媒が挙げられ、メタノ−ル、酢酸エチル、ＴＨＦ、トルエン等が好ましい。これら反応溶媒は単独で用いても、二種以上適宜組み合わせて用いてもよい。

鉄やスズ、亜鉛等の金属あるいは金属化合物を用いる金属還元では、それぞれの金属に適した反応条件を適宜選択して反応を実施することにより、収率よく目的物を得ることができる。例えば、鉄−酢酸、鉄−塩酸、スズ−塩酸、亜鉛−塩酸等を用いればよい。反応には、必要に応じて適宜反応溶媒が用いられる。

反応終了後、目的物を含む反応系から常法により目的物を単離し、必要に応じて再結晶、蒸留、カラムクロマトグラフィ−等で精製することにより目的物を製造することができる。

製造方法−１、製造方法−２あるいは製造方法−３における出発物質となるピラゾリノン誘導体（２ａ）とピラゾリノン誘導体（２ｂ）は、例えば以下の製造方法−４により製造することができる。

製造方法−４

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５は前記と同じ意味を表す。Ｘはハロゲン原子を表す。）
製造方法−４は、臭化ベンゼン類（４ｃ）をニトロ化して臭化ベンゼン類（４ｄ）を製造する工程４−１、臭化ベンゼン類（４ｄ）のニトロ基によって活性化されたフッ素原子をイソプロピルオキシ基で置換して臭化ベンゼン類（４ｅ）を製造する工程４−２、臭化ベンゼン類（４ｅ）のニトロ基を還元して臭化ベンゼン類（４ｆ）を製造する工程４−３、臭化ベンゼン類（４ｆ）のアミノ基をザンドマイヤ−反応によってハロゲン原子に変換し、臭化ベンゼン類（４ｇ）を製造する工程４−４、臭化ベンゼン類（４ｇ）から調製したＧｒｉｇｎａｒｄ（グリニヤ−ル）試薬にシュウ酸ジエチルを反応させて、２−置換フェニル−２−オキソ酢酸エチル（５ｂ）を製造する工程４−５、２−置換フェニル−２−オキソ酢酸エチル（５ｂ）のα位のカルボニル基を、トリフェニルホスフィンとＲ^１ _２ＣＸ_２（６）から調製したＷｉｔｔｉｇ（ウィッティヒ）試薬で処理してジハロメチレン化して２−（置換フェニル）アクリル酸エチル（７ｂ）を製造する工程４−６、２−（置換フェニル）アクリル酸エチル（７ｂ）と置換ヒドラジン類（８）を反応させてピラゾリノン誘導体（９ｂ）を製造する工程４−７、ピラゾリノン誘導体（９ｂ）のイソプロピルオキシ基を水酸基に変換して、ピラゾリノン誘導体（９ｃ）を製造する工程４−８、ピラゾリノン誘導体（９ｃ）をニトロ化して、製造方法−２及び製造方法−３の出発物質となるピラゾリノン誘導体（２ｂ）を製造する工程４−９、ピラゾリノン誘導体（２ｂ）のニトロ基を還元して、製造方法−１の出発物質となるピラゾリノン誘導体（２ａ）を製造する工程４−１０からなる。

工程４−１は、臭化ベンゼン類（４ｃ）をニトロ化して臭化ベンゼン類（４ｄ）を製造する工程である。

工程４−１のニトロ化は、例えば、濃硫酸中で濃硝酸と濃硫酸から調製した混酸を用いてニトロ化する方法や、無溶媒あるいはジクロロメタン等の溶媒中で発煙硝酸を用いてニトロ化する方法を利用することができる。反応条件等については特に制限は無く、ベンゼン環をニトロ化する一般的な方法に準じて実施することにより、収率及び位置選択性良く目的とする臭化ベンゼン類（４ｄ）を製造することができる。

反応終了後、目的物を含む反応系から常法により目的物を単離し、必要に応じて再結晶、蒸留、カラムクロマトグラフィ−等で精製することにより目的物を製造することができる。また、得られた目的生成物を精製することなく、そのまま次の工程の原料として用いることができる場合もある。

工程４−２は、臭化ベンゼン類（４ｄ）を塩基の存在下にイソプロピルアルコ−ルと反応させ、ニトロ基によって活性化されたフッ素原子をイソプロピルオキシ基で置換した臭化ベンゼン類（４ｅ）を製造する工程である。

反応は塩基の存在下に実施する。塩基としては、トリエチルアミンやトリブチルアミン、ＤＭＡＰ、ピリジンなどの有機塩基、水素化ナトリウムやナトリウムアミド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等の無機塩基等を例示することができる。収率が良い点で炭酸セシウムなどの無機塩基が好ましい。

工程４−２の反応は有機溶媒中で実施することができる。有機溶媒としては反応に害を及ぼさない有機溶媒であれば使用することができ、１，４−ジオキサンやＴＨＦ、ＤＭＥ、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、シクロペンチルメチルエ−テル等のエ−テル系溶媒、ベンゼンやトルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサンやオクタン等の炭化水素系溶媒、アセトニトリルやプロピオニトリル等のニトリル系溶媒、ＤＭＦやＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、ＤＭＳＯ等のスルホキシド系溶媒、さらにこれらの混合溶媒を例示することができる。また、有機溶媒は、使用する塩基によって適宜好適な有機溶媒を選択して使用すればよい。また、反応試剤であるイソプロピルアルコ−ルを溶媒として用いてもよい。

反応温度に特に制限は、室温程度の温度でも反応は充分進行し、収率よく目的物を得ることができる。

反応終了後、目的物を含む反応系から常法により目的物を単離し、必要に応じて再結晶、蒸留、カラムクロマトグラフィ−等で精製することにより目的物を製造することができる。また、得られた目的生成物を精製することなく、そのまま次の工程の原料として用いることができる場合もある。

工程４−３は、臭化ベンゼン類（４ｅ）のニトロ基を還元して臭化ベンゼン類（４ｆ）を製造する工程である。

ニトロ基の還元は、水素ガスやヒドラジンを用いる接触還元や、鉄やスズ、亜鉛等の金属あるいは金属化合物を用いる金属還元を用いることができる。

接触還元では、パラジウムや白金、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、オスミウム等の金属触媒を用いる。パラジウム触媒としては、パラジウムブラック、パラジウム担持炭素等を、白金触媒としては、白金担持炭素、酸化白金（ＩＶ）水和物等を、ニッケル触媒としては、ラネ−ニッケル等を、ルテニウムやロジウム、オスミウムの金属触媒としては、ルテニウム担持炭素、ロジウム担持炭素、オスミウム担持炭素等を例示することができる。金属触媒の添加量は、臭化ベンゼン類（４ｅ）に対して通常０．０００１〜１０モル％、好ましくは０．１〜１．０モル％程度であればよい。

水素ガスを還元剤として用いる場合、水素ガスの圧力に特に制限は無く、必要に応じて加圧してもよく、その場合は通常０．１〜１ＭＰａ、好ましくは０．１〜０．５ＭＰａの範囲で適宜選ばれた圧力で反応させればよい。ヒドラジンを還元剤として用いる場合には、臭化ベンゼン類（４ｅ）１モルに対して１〜２５モルのヒドラジンを用いることにより、収率よく目的物を得ることができる。

還元反応は、通常２０〜１００℃、好ましくは４０〜８０℃の範囲で適宜選ばれた反応温度で実施すればよい。

接触還元の反応では、必要に応じて適宜反応溶媒が用いられる。反応溶媒としては、例えば水の他、メタノ−ル、エタノ−ル、プロピルアルコ−ル、イソプロピルアルコ−ル、ブチルアルコ−ル、イソブチルアルコ−ル、ｓｅｃ−ブチルアルコ−ル、ｔｅｒｔ−ブチルアルコ−ル等のアルコ−ル系溶媒、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ジエチルエ−テル、ＤＭＥ、ジエトキシエタン、ＴＨＦ等のエ−テル系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒等の有機溶媒が挙げられ、メタノ−ル、酢酸エチル、ＴＨＦ、トルエン等が好ましい。これら反応溶媒は単独で用いても、二種以上適宜組み合わせて用いてもよい。

鉄やスズ、亜鉛等の金属あるいは金属化合物を用いる金属還元では、それぞれの金属に適した反応条件を適宜選択して反応を実施することにより、収率よく目的物を得ることができる。例えば、鉄−酢酸、鉄−塩酸、スズ−塩酸、亜鉛−塩酸等を用いればよい。反応には、必要に応じて適宜反応溶媒が用いられる。

反応終了後、目的物を含む反応系から常法により目的物を単離し、必要に応じて再結晶、蒸留、カラムクロマトグラフィ−等で精製することにより目的の臭化ベンゼン類（４ｆ）を製造することができる。また、得られた目的生成物を精製することなく、そのまま次の工程の原料として用いることができる場合もある。

工程４−４は、臭化ベンゼン類（４ｆ）のアミノ基をザンドマイヤ−反応によってハロゲン原子に変換して臭化ベンゼン類（４ｇ）を製造する工程である。

工程４−４は、銅（Ｉ）塩などを用いて芳香族ジアゾニウム塩をハロゲン化芳香族化合物に変換するいわゆるザンドマイヤ−反応である。臭化ベンゼン類（４ｆ）から調製した芳香族ジアゾニウム塩を、塩化銅（Ｉ）で処理すれば、アミノ基を塩素原子に、臭化銅（Ｉ）で処理すれば、アミノ基を臭素原子に変換することができる。また、ヨウ化カリウムで処理すれば、アミノ基をヨウ素原子に変換することができる。さらに、臭化ベンゼン類（４ｆ）から調製した芳香族ジアゾニウム塩を、テトラフルオロホウ酸銀で処理してテトラフルオロボラ−ト塩に変えて加熱すれば、アミノ基をフッ素原子に変換することができる。該ハロゲン化において、使用する溶媒や反応時間、反応温度等の反応条件は、使用する原料や反応試剤に好適な条件を適宜選択すればよい。

臭化ベンゼン類（４ｆ）のジアゾニウム塩の調製には、亜硝酸ナトリウムや亜硝酸イソアミルなどの亜硝酸化合物を用いることができる。

工程４−５は、臭化ベンゼン類（４ｇ）から調製したＧｒｉｇｎａｒｄ（グリニヤ−ル）試薬にシュウ酸ジエチルを反応させて、２−置換フェニル−２−オキソ酢酸エチル（５ｂ）を製造する工程である。

臭化ベンゼン類（４ｇ）のグリニヤ−ル試薬は、一般的なグリニヤ−ル試薬の調製方法に準じて調製することができる。金属マグネシウムに有機溶媒を加え、次いで臭化ベンゼン類（４ｇ）を加えて撹拌することにより、容易に調製することできる。有機溶媒としては、ＴＨＦ、ＤＭＥ、ジエチルエ−テル等のエ−テル系溶媒を用いることができ、収率が良い点でＴＨＦが好ましい。反応温度に特に制限は無く、室温で充分に反応は進行するが、必要に応じて加熱してもよい。また、触媒量のヨウ素を添加することにより、反応を促進することができる。

また、臭化ベンゼン類（４ｇ）のグリニヤ−ル試薬は、一般的な化学的手法であるグリニヤ−ル交換反応よっても調製することができ、例えば、イソプロピルマグネシウムクロリドとの反応によって調製することができる。臭化ベンゼン類（４ｇ）の溶液（例えばＴＨＦ溶液）に、低温下でイソプロピルマグネシウムクロリドのＴＨＦ溶液を加え、徐々に室温まで昇温させながら反応させることにより、臭化ベンゼン類（４ｇ）のグリニヤ−ル試薬を調製することができる。有機溶媒としては、ＴＨＦの他、ＤＭＥやジエチルエ−テル等のエ−テル系溶媒を用いることができ、収率が良い点でＴＨＦが好ましい。

さらに、臭化ベンゼン類（４ｇ）の代わりに置換フェニルヨ−ジドを用いてもグリニヤ−ル試薬が調製できることは、当業者において周知であり、市販されている置換フェニルヨ−ジド、あるいは市販の原料から容易に調製可能な置換フェニルヨ−ジドを用いることができる。

調製した臭化ベンゼン類（４ｇ）のグリニヤ−ル試薬は、単離すること無く、溶液のままシュウ酸ジエチルと反応させることができる。すなわち、例えばシュウ酸ジエチルの、例えばＴＨＦ溶液に、調製したグリニヤ−ル試薬を低温下で加え、徐々に室温まで昇温させながら反応させることにより、目的とする２−置換フェニル−２−オキソ酢酸エチル（５ｂ）を製造することができる。また、調製したグリニヤ−ル試薬の溶液にシュウ酸ジエチルの溶液（例えばＴＨＦ溶液）を低温下で加え、徐々に室温まで昇温させながら反応させることにより、目的とする２−置換フェニル−２−オキソ酢酸エチル（５ｂ）を製造することができる。有機溶媒としては、ＴＨＦ、ＤＭＥ、ジエチルエ−テル等のエ−テル系溶媒を用いることができ、収率が良い点でＴＨＦが好ましい。反応温度に特に制限は無いが、過激な反応を抑制するために、反応初期は−４０から−７８℃程度の低温下で実施し、徐々に室温まで昇温させながら反応させることが、収率が良い点で好ましい。

反応終了後、目的物を含む反応系から常法により目的物を単離し、必要に応じて再結晶、蒸留、カラムクロマトグラフィ−等で精製することにより目的物を製造することができる。また、得られた目的生成物を精製することなく、そのまま次の工程の原料として用いることができる場合もある。

工程４−６は、２−置換フェニル−２−オキソ酢酸エチル（５ｂ）のα位のカルボニル基を、トリフェニルホスフィンとＲ^１ _２ＣＸ_２（６）から調製したＷｉｔｔｉｇ（ウィッティヒ）試薬で処理してジハロメチレン化して２−（置換フェニル）アクリル酸エチル（７ｂ）を製造する工程である。

Ｒ^１が塩素原子である２−（置換フェニル）アクリル酸エチル（７ｂ）は、トリフェニルホスフィンと四塩化炭素（一般式（６）においてＲ^１＝Ｘ＝Ｃｌ）から調製したウィッティヒ試薬のジクロロメチレントリフェニルホスホラン（リンイリド）と、２−置換フェニル−２−オキソ酢酸エチル（５ｂ）を反応させることにより、容易に製造することができる。

ジクロロメチレントリフェニルホスホランは、トリフェニルホスフィンと四塩化炭素を、例えばジクロロメタンなどの有機溶媒中で０℃から室温程度の温度で反応させることにより、容易に調製することができる。ジクロロメチレントリフェニルホスホランと２−置換フェニル−２−オキソ酢酸エチル（５ｂ）との反応は、室温から１００℃程度の加熱条件下で実施することができる。反応は有機溶媒中で行うことができ、反応に害を及ぼさない溶媒であれば特に制限は無く使用することができ、ジクロロメタンやクロロホルム等のハロンゲン系溶媒が、収率が良い点で好ましい。反応終了後は通常の後処理により２−（置換フェニル）アクリル酸エチル（７ｂ）を得ることができ、シリカゲルカラムクロマトグラフィ−あるいは蒸留等により精製することができる。

リンイリドの調製に用いる第三級ホスフィンとしては、トリフェニルホスフィンに限定されるものではないが、入手容易であり、収率も良い点でトリフェニルホスフィンが好ましい。

Ｒ^１がフッ素原子である２−（置換フェニル）アクリル酸エチル（７ｂ）は、ウィッティヒ試薬であるジフルオロメチレントリフェニルホスホランと、２−置換フェニル−２−オキソ酢酸エチル（５ｂ）を反応させることにより、容易に製造することができる。

ジフルオロメチレントリフェニルホスホランを用いるα−ケトエステル類のジフルオロメチレン化反応としては、クロロジフルオロ酢酸ナトリウムとトリフェニルホスフィンから調製したジフルオロメチレントリフェニルホスホランを用いる方法（米国特許４００１３０１号公報、国際公開第２００１−０９５７２１号パンフレット、特開２００４−５０３４７５号公報）が開示されている。また、ジブロモジフルオロメタンとトリフェニルホスフィンをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド溶液中で反応させてホスホニウム塩を形成させ、次いで粉末亜鉛を加えてジフルオロメチレントリフェニルホスホランを調製し、α−ケトエステル類のジフルオロメチレン化反応に利用する方法（特開２００８−１９５６７８号公報、特開２００８−１９５６７９号公報）が開示されている。工程４−６では、これらの特許文献に記載された方法に準じて反応を行うことにより、目的とするＲ^１がフッ素原子の２−（置換フェニル）アクリル酸エチル（７ｂ）を容易に製造することができる。

また、工程４−６において、一般式（６）で表される化合物として、ジブロモジフルオロメタンの代わりにトリクロロフルオロメタンを用いてクロロフルオロメチレントリフェニルホスホランを調製し、２−置換フェニル−２−オキソ酢酸エチル（５ｂ）を反応させることにより、２個のＲ^１のうち、一方が塩素原子、他方がフッ素原子である２−（置換フェニル）アクリル酸エチル（７ｂ）を製造することができる。

反応終了後、目的物を含む反応系から常法により目的物を単離し、必要に応じて再結晶、蒸留、カラムクロマトグラフィ−等で精製することにより目的物を製造することができる。また、得られた目的生成物を精製することなく、そのまま次の工程の原料として用いることができる場合もある。

工程４−７は、２−（置換フェニル）アクリル酸エチル（７ｂ）と置換ヒドラジン類（８）を反応させてピラゾリノン誘導体（９ｂ）を製造する工程である。

置換ヒドラジン類（８）の具体的な例としては、ピラゾリジン、ヘキサヒドロピリダジン、１，２−ジアザシクロヘプタン、１，４，５−オキサジアゼパン等を例示することができる。これらの置換ヒドラジン類は、そのまま反応に用いることができるが、塩酸塩や硫酸塩等の化学的に許容される塩も反応に使用することができる。置換ヒドラジン類（８）は一部市販されているが、例えばヘキサヒドロピリダジンは既知の方法（特開平８−１０９１７０号公報、特開平１０−２９９８１号公報）によって製造することができる。

工程４−７の反応は、溶媒中で実施することができる。溶媒としては反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用することができ、１，４−ジオキサンやＴＨＦ、ＤＭＥ、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、シクロペンチルメチルエ−テル等のエ−テル系溶媒、ベンゼンやトルエン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサンやオクタン等の炭化水素系溶媒、アセトンやメチルエチルケトン、ジエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、酢酸エチルやプロピオン酸エチル等のエステル系溶媒、アセトニトリルやプロピオニトリル等のニトリル系溶媒、ＤＭＦやＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、ＤＭＳＯ等のスルホキシド系溶媒、水、さらにこれらの混合溶媒を例示することができる。好ましくは、１，４−ジオキサンやＴＨＦ等のエ−テル系溶媒を例示することができる。

反応温度に特に制限は無く、室温から使用する溶媒の還流温度までの範囲で適宜選ばれた温度で実施することができる。

反応を実施する際に塩基を添加することにより、反応を促進することもできる。塩基としては、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン等の有機塩基、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類を例示することができる。好ましくは、トリエチルアミン等の有機塩基や、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム等の無機塩基を例示することができる。また、置換ヒドラジン類（８）の塩を用いる場合には、塩を形成する酸に見合う量以上の塩基を添加して反応させることが、反応時間が短く、収率が良い点で好ましい。

反応終了後、目的物を含む反応系から常法により目的物を単離し、必要に応じて再結晶、蒸留、カラムクロマトグラフィ−等で精製することにより目的物を製造することができる。また、得られた目的生成物を精製することなく、そのまま次の工程の原料として用いることができる場合もある。

工程４−８は、ピラゾリノン誘導体（９ｂ）のイソプロピルオキシ基を水酸基に変換して、ピラゾリノン誘導体（９ｃ）を製造する工程である。

工程４−８の反応は、イソプロピルフェニルエ−テルを、酸を用いて開裂させる反応である。酸としては、硫酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸などのスルホン酸を例示することができる。安価であり、収率が良い点で硫酸が好ましく、濃硫酸がより好ましい。

反応は有機溶媒中で実施することができる。有機溶媒としては反応に害を及ぼさない有機溶媒であれば使用することができ、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、ベンゼンやトルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサンやオクタン等の炭化水素系溶媒、さらにこれらの混合溶媒を例示することができる。収率が良い点でハロゲン化溶媒が好ましい。

反応温度に特に制限は無く、室温から使用する溶媒の還流温度までの範囲で適宜選ばれた温度で実施することができるが、室温程度の温度で充分反応は進行し、収率よく目的物を得ることができる。

反応終了後、目的物を含む反応系から常法により目的物を単離し、必要に応じて再結晶、蒸留、カラムクロマトグラフィ−等で精製することにより目的物を製造することができる。また、得られた目的生成物を精製することなく、そのまま次の工程の原料として用いることができる場合もある。

工程４−９は、ピラゾリノン誘導体（９ｃ）をニトロ化して、製造方法−２の出発物質となるピラゾリノン誘導体（２ｂ）を製造する工程である。

工程４−９のニトロ化は、例えば、濃硫酸中で濃硝酸と濃硫酸から調製した混酸を用いてニトロ化する方法や、無溶媒あるいはジクロロメタン等の溶媒中で発煙硝酸を用いてニトロ化する方法を利用することができる。反応条件等については特に制限は無く、ベンゼン環をニトロ化する一般的な方法に準じて実施することにより、収率及び位置選択性良く目的とするピラゾリノン誘導体（２ｂ）を製造することができる。

反応終了後、目的物を含む反応系から常法により目的物を単離し、必要に応じて再結晶、蒸留、カラムクロマトグラフィ−等で精製することにより目的物を製造することができる。また、得られた目的生成物を精製することなく、そのまま次の工程の原料として用いることができる場合もある。

工程４−１０は、ピラゾリノン誘導体（２ｂ）を還元して、製造方法−１の出発物質となるピラゾリノン誘導体（２ａ）を製造する工程である。

工程４−１０の還元は、工程４−３の還元と同様に実施することにより、目的とするピラゾリノン誘導体（２ａ）を収率よく製造することができる。

本発明化合物の一部であるピラゾリノン誘導体（１ｃ）は、例えば以下の製造方法−５により製造することができる。

製造方法−５

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６ｂ、Ｒ^７ｂ及びＲ^８は前記と同じ意味を表す。）
製造方法−５は、ピラゾリノン誘導体（２ｃ）と一般式（３ｃ）で表されるアミノ酸エステルを塩基の存在下に反応させて、ピラゾリノン誘導体（４ｃ）を製造する工程５−１と、ピラゾリノン誘導体（４ｃ）のニトロ基を還元し、それに続く環化反応により、本発明化合物の一部であるピラゾリノン誘導体（１ｃ）を製造する工程５−２からなる。

工程５−１は、ピラゾリノン誘導体（２ｃ）と一般式（３ｃ）で表されるアミノ酸エステルを塩基の存在下に反応させて、ベンゼン環のニトロ基により活性化されたフッ素原子を、アミノ酸エステル（３ｃ）のアミノ基によって求核置換させて、ピラゾリノン誘導体（４ｃ）を製造する工程である。

工程５−１の反応は、塩基の存在下で実施する。塩基としては、トリエチルアミンやトリブチルアミン、ＤＭＡＰ、ピリジンなどの有機塩基、水素化ナトリウムやナトリウムアミド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類、メチルリチウムやブチルリチウム等のリチウム塩基等を例示することができる。収率が良い点でトリエチルアミンやＤＭＡＰ、ピリジンなどの有機塩基が好ましい。

工程５−１の反応は、有機溶媒中で実施することができる。有機溶媒としては反応に害を及ぼさない有機溶媒であれば使用することができ、１，４−ジオキサンやＴＨＦ、ＤＭＥ、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、シクロペンチルメチルエ−テル等のエ−テル系溶媒、ベンゼンやトルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサンやオクタン等の炭化水素系溶媒、アセトニトリルやプロピオニトリル等のニトリル系溶媒、ＤＭＦやＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、ＤＭＳＯ等のスルホキシド系溶媒、さらにこれらの混合溶媒を例示することができる。

反応温度に特に制限はないが、−７８℃から使用する溶媒の還流温度までの範囲で適宜選ばれた温度で反応させればよい。

反応終了後、目的物を含む反応系から常法により目的物を単離し、必要に応じて再結晶、蒸留、カラムクロマトグラフィ−等で精製することができる。また、得られた目的生成物を精製することなく、そのまま次の工程の原料として用いることができる場合もある。

工程５−１の出発物質であるアミノ酸エステル（３ｃ）のうち、一部の市販されていない化合物については、所望の置換基を有するように、相応しい市販化合物から、当業者において一般的な化学的方法によって簡便に調製することができる。また、アミノ酸エステル（３ｃ）は化学的に許容な塩を用いることができ、例えば、塩酸塩などを例示することができる。アミノ酸エステル（３ｃ）の塩酸塩などの塩を用いる場合には、その使用量に相当する塩基を追加して反応させることが、収率が良い点で好ましい。

工程５−２は、ピラゾリノン誘導体（４ｃ）のニトロ基を還元し、それに続く環化反応により、本発明化合物の一部であるピラゾリノン誘導体（１ｃ）を製造する工程である。

ニトロ基の還元は、水素ガスやヒドラジンを用いる接触還元や、鉄やスズ、亜鉛等の金属あるいは金属化合物を用いる金属還元を用いることができる。

接触還元では、パラジウムや白金、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、オスミウム等の金属触媒を用いる。パラジウム触媒としては、パラジウムブラック、パラジウム担持炭素等を、白金触媒としては、白金担持炭素、酸化白金（ＩＶ）水和物等を、ニッケル触媒としては、ラネ−ニッケル等を、ルテニウムやロジウム、オスミウムの金属触媒としては、ルテニウム担持炭素、ロジウム担持炭素、オスミウム担持炭素等を例示することができる。金属触媒の添加量は、ピラゾリノン誘導体（４ａ）に対して通常０．０００１〜１０モル％、好ましくは０．１〜１．０モル％程度であればよい。

水素ガスを還元剤として用いる場合、水素ガスの圧力に特に制限は無く、必要に応じて加圧してもよく、その場合は通常０．１〜１ＭＰａ、好ましくは０．１〜０．５ＭＰａの範囲で適宜選ばれた圧力で反応させればよい。ヒドラジンを還元剤として用いる場合には、ピラゾリノン誘導体（４ａ）１モルに対して１〜２５モルのヒドラジンを用いることにより、収率よく目的物を得ることができる。

還元反応は、通常２０〜１２０℃、好ましくは４０〜１００℃の範囲で適宜選ばれた反応温度で実施すればよい。

接触還元の反応では、必要に応じて適宜反応溶媒が用いられる。反応溶媒としては、例えば水の他、メタノ−ル、エタノ−ル、プロピルアルコ−ル、イソプロピルアルコ−ル、ブチルアルコ−ル、イソブチルアルコ−ル、ｓｅｃ−ブチルアルコ−ル、ｔｅｒｔ−ブチルアルコ−ル等のアルコ−ル系溶媒、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ジエチルエ−テル、ＤＭＥ、ジエトキシエタン、ＴＨＦ等のエ−テル系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒等の有機溶媒が挙げられ、メタノ−ル、酢酸エチル、ＴＨＦ、トルエン等が好ましい。これら反応溶媒は単独で用いても、二種以上適宜組み合わせて用いてもよい。

鉄やスズ、亜鉛等の金属あるいは金属化合物を用いる金属還元では、それぞれの金属に適した反応条件を適宜選択して反応を実施することにより、収率よく目的物を得ることができる。例えば、鉄−酢酸、鉄−塩酸、スズ−塩酸、亜鉛−塩酸等を用いればよい。反応には、必要に応じて適宜反応溶媒が用いられる。

反応終了後、目的物を含む反応系から常法により目的物を単離し、必要に応じて再結晶、蒸留、カラムクロマトグラフィ−等で精製することにより目的物を製造することができる。

製造方法−５における出発物質となるピラゾリノン誘導体（２ｃ）は、例えば以下の製造方法−６により製造することができる。

製造方法−６

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５は前記と同じ意味を表す。Ｘはハロゲン原子を表す。）
製造方法−６は、臭化ベンゼン類（５ｇ）のアミノ基をザンドマイヤ−反応によりハロゲン原子に変換して臭化ベンゼン類（５ｈ）を製造する工程６−１、臭化ベンゼン類（５ｈ）から調製したＧｒｉｇｎａｒｄ（グリニヤ−ル）試薬にシュウ酸ジエチルを反応させて、２−置換フェニル−２−オキソ酢酸エチル（５ｉ）を製造する工程６−２、２−置換フェニル−２−オキソ酢酸エチル（５ｉ）のα位のカルボニル基を、トリフェニルホスフィンとＲ^１ _２ＣＸ_２（６）から調製したＷｉｔｔｉｇ（ウィッティヒ）試薬で処理してジハロメチレン化して２−（置換フェニル）アクリル酸エチル（７ｂ）を製造する工程６−３、２−（置換フェニル）アクリル酸エチル（７ｂ）と置換ヒドラジン類（８）を反応させてピラゾリノン誘導体（２ｆ）を製造する工程６−４、ピラゾリノン誘導体（２ｆ）のベンゼン環上をニトロ化して、製造方法−５の出発物質となるピラゾリノン誘導体（２ｃ）を製造する工程６−５からなる。

工程６−１は、臭化ベンゼン類（５ｇ）のアミノ基をザンドマイヤ−反応によりハロゲン原子に変換して臭化ベンゼン類（５ｈ）を製造する工程である。

工程６−１は、銅（Ｉ）塩などを用いて芳香族ジアゾニウム塩をハロゲン化芳香族化合物に変換するいわゆるザンドマイヤ−反応である。臭化ベンゼン類（５ｇ）から調製した芳香族ジアゾニウム塩を、塩化銅（Ｉ）で処理すれば、アミノ基を塩素原子に、臭化銅（Ｉ）で処理すれば、アミノ基を臭素原子に変換することができる。また、ヨウ化カリウムで処理すれば、アミノ基をヨウ素原子に変換することができる。さらに、臭化ベンゼン類（５ｇ）から調製した芳香族ジアゾニウム塩を、テトラフルオロホウ酸銀で処理してテトラフルオロボラ−ト塩に変えて加熱すれば、アミノ基をフッ素原子に変換することができる。該ハロゲン化において、使用する溶媒や反応時間、反応温度等の反応条件は、使用する原料や反応試剤に好適な条件を適宜選択すればよい。

臭化ベンゼン類（５ｇ）のジアゾニウム塩の調製には、亜硝酸ナトリウムや亜硝酸イソアミルなどの亜硝酸化合物を用いることができる。

工程６−１に用いる臭化ベンゼン類（５ｇ）のうち、一部の市販されていない化合物については、ベンゼン環上に所望の置換基を有するように、相応しい市販化合物から、当業者において一般的な化学的方法によって簡便に調製することができる。

工程６−２は、臭化ベンゼン類（５ｈ）から調製したＧｒｉｇｎａｒｄ（グリニヤ−ル）試薬にシュウ酸ジエチルを反応させて、２−置換フェニル−２−オキソ酢酸エチル（５ｉ）を製造する工程である。

臭化ベンゼン類（５ｈ）のグリニヤ−ル試薬は、一般的なグリニヤ−ル試薬の調製方法に準じて調製することができる。金属マグネシウムに有機溶媒を加え、次いで臭化ベンゼン類（５ｈ）を加えて撹拌することにより、容易に調製することできる。有機溶媒としては、ＴＨＦ、ＤＭＥ、ジエチルエ−テル等のエ−テル系溶媒を用いることができ、収率が良い点でＴＨＦが好ましい。反応温度に特に制限は無く、室温で充分に反応は進行するが、必要に応じて加熱してもよい。また、触媒量のヨウ素を添加することにより、反応を促進することができる。

また、臭化ベンゼン類（５ｈ）のグリニヤ−ル試薬は、一般的な化学的手法であるグリニヤ−ル交換反応よっても調製することができ、例えば、イソプロピルマグネシウムクロリドとの反応によって調製することができる。臭化ベンゼン類（５ｈ）の溶液（例えばＴＨＦ溶液）に、低温下でイソプロピルマグネシウムクロリドのＴＨＦ溶液を加え、徐々に室温まで昇温させながら反応させることにより、臭化ベンゼン類（５ｈ）のグリニヤ−ル試薬を調製することができる。有機溶媒としては、ＴＨＦの他、ＤＭＥやジエチルエ−テル等のエ−テル系溶媒を用いることができ、収率が良い点でＴＨＦが好ましい。

さらに、臭化ベンゼン類（５ｈ）の代わりに置換フェニルヨ−ジドを用いてもグリニヤ−ル試薬が調製できることは、当業者において周知であり、市販されている置換フェニルヨ−ジド、あるいは市販の原料から容易に調製可能な置換フェニルヨ−ジドを用いることができる。

調製した臭化ベンゼン類（５ｈ）のグリニヤ−ル試薬は、単離すること無く、溶液のままシュウ酸ジエチルと反応させることができる。すなわち、例えばシュウ酸ジエチルの、例えばＴＨＦ溶液に、調製したグリニヤ−ル試薬を低温下で加え、徐々に室温まで昇温させながら反応させることにより、目的とする２−置換フェニル−２−オキソ酢酸エステル（５ｉ）を製造することができる。また、調製したグリニヤ−ル試薬の溶液にシュウ酸ジエチルの溶液（例えばＴＨＦ溶液）を低温下で加え、徐々に室温まで昇温させながら反応させることにより、目的とする２−置換フェニル−２−オキソ酢酸エチル（５ｉ）を製造することができる。有機溶媒としては、ＴＨＦ、ＤＭＥ、ジエチルエ−テル等のエ−テル系溶媒を用いることができ、収率が良い点でＴＨＦが好ましい。反応温度に特に制限は無いが、過激な反応を抑制するために、反応初期は−４０から−７８℃程度の低温下で実施し、徐々に室温まで昇温させながら反応させることが、収率が良い点で好ましい。

反応終了後、目的物を含む反応系から常法により目的物を単離し、必要に応じて再結晶、蒸留、カラムクロマトグラフィ−等で精製することにより目的物を製造することができる。また、得られた目的生成物を精製することなく、そのまま次の工程の原料として用いることができる場合もある。

工程６−３は、２−置換フェニル−２−オキソ酢酸エチル（５ｉ）のα位のカルボニル基を、トリフェニルホスフィンとＲ^１ _２ＣＸ_２（６）から調製したＷｉｔｔｉｇ（ウィッティヒ）試薬で処理してジハロメチレン化して２−（置換フェニル）アクリル酸エチル（７ｂ）を製造する工程である。

Ｒ^１が塩素原子である２−（置換フェニル）アクリル酸エチル（７ｂ）は、トリフェニルホスフィンと四塩化炭素（一般式（６）においてＲ^１＝Ｘ＝Ｃｌ）から調製したウィッティヒ試薬のジクロロメチレントリフェニルホスホラン（リンイリド）と、２−置換フェニル−２−オキソ酢酸エチル（５ｉ）を反応させることにより、容易に製造することができる。

ジクロロメチレントリフェニルホスホランは、トリフェニルホスフィンと四塩化炭素を、例えばジクロロメタンなどの有機溶媒中で０℃から室温程度の温度で反応させることにより、容易に調製することができる。ジクロロメチレントリフェニルホスホランと２−置換フェニル−２−オキソ酢酸エチル（５ｉ）との反応は、室温から１００℃程度の加熱条件下で実施することができる。反応は有機溶媒中で行うことができ、反応に害を及ぼさない溶媒であれば特に制限は無く使用することができ、ジクロロメタンやクロロホルム等のハロンゲン系溶媒が、収率が良い点で好ましい。反応終了後は通常の後処理により２−（置換フェニル）アクリル酸エチル（７ｂ）を得ることができ、シリカゲルカラムクロマトグラフィ−あるいは蒸留等により精製することができる。

リンイリドの調製に用いる第三級ホスフィンとしては、トリフェニルホスフィンに限定されるものではないが、入手容易であり、収率も良い点でトリフェニルホスフィンが好ましい。

Ｒ^１がフッ素原子である２−（置換フェニル）アクリル酸エチル（７ｂ）は、ウィッティヒ試薬であるジフルオロメチレントリフェニルホスホランと、２−置換フェニル−２−オキソ酢酸エチル（５ｉ）を反応させることにより、容易に製造することができる。

ジフルオロメチレントリフェニルホスホランを用いるα−ケトエステル類のジフルオロメチレン化反応としては、クロロジフルオロ酢酸ナトリウムとトリフェニルホスフィンから調製したジフルオロメチレントリフェニルホスホランを用いる方法（米国特許４００１３０１号公報、国際公開第２００１−０９５７２１号パンフレット、特開２００４−５０３４７５号公報）が開示されている。また、ジブロモジフルオロメタンとトリフェニルホスフィンをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド溶液中で反応させてホスホニウム塩を形成させ、次いで粉末亜鉛を加えてジフルオロメチレントリフェニルホスホランを調製し、α−ケトエステル類のジフルオロメチレン化反応に利用する方法（特開２００８−１９５６７８号公報、特開２００８−１９５６７９号公報）が開示されている。工程６−２では、これらの特許文献に記載された方法に準じて反応を行うことにより、目的とするＲ^１がフッ素原子の２−（置換フェニル）アクリル酸エチル（７ｂ）を容易に製造することができる。

また、工程６−３において、一般式（６）で表される化合物として、ジブロモジフルオロメタンの代わりにトリクロロフルオロメタンを用いてクロロフルオロメチレントリフェニルホスホランを調製し、２−置換フェニル−２−オキソ酢酸エチル（５ｉ）を反応させることにより、２個のＲ^１のうち、一方が塩素原子、他方がフッ素原子である２−（置換フェニル）アクリル酸エチル（７ｂ）を製造することができる。

反応終了後、目的物を含む反応系から常法により目的物を単離し、必要に応じて再結晶、蒸留、カラムクロマトグラフィ−等で精製することにより目的物を製造することができる。また、得られた目的生成物を精製することなく、そのまま次の工程の原料として用いることができる場合もある。

工程６−４は、２−（置換フェニル）アクリル酸エチル（７ｂ）と置換ヒドラジン類（８）又はその化学的に許容される塩を、場合によっては塩基の存在下に反応させることにより、ピラゾリノン誘導体（２ｆ）を製造する工程である。

置換ヒドラジン類（８）の具体的な例としては、ピラゾリジン、ヘキサヒドロピリダジン、１，２−ジアザシクロヘプタン、１，４，５−オキサジアゼパン等を例示することができる。これらの置換ヒドラジン類は、そのまま反応に用いることができるが、塩酸塩や硫酸塩等の化学的に許容される塩も反応に使用することができる。置換ヒドラジン類（８）は一部市販されているが、例えばヘキサヒドロピリダジンは既知の方法（特開平８−１０９１７０号公報、特開平１０−２９９８１号公報）によって製造することができる。

工程６−４の反応は、溶媒中で実施することができる。溶媒としては反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用することができ、１，４−ジオキサンやＴＨＦ、ＤＭＥ、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、シクロペンチルメチルエ−テル等のエ−テル系溶媒、ベンゼンやトルエン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサンやオクタン等の炭化水素系溶媒、アセトンやメチルエチルケトン、ジエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、酢酸エチルやプロピオン酸エチル等のエステル系溶媒、アセトニトリルやプロピオニトリル等のニトリル系溶媒、ＤＭＦやＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、ＤＭＳＯ等のスルホキシド系溶媒、水、さらにこれらの混合溶媒を例示することができる。好ましくは、１，４−ジオキサンやＴＨＦ等のエ−テル系溶媒を例示することができる。

反応温度に特に制限は無く、室温から使用する溶媒の還流温度までの範囲で適宜選ばれた温度で実施することができる。

反応を実施する際に塩基を添加することにより、反応を促進することもできる。塩基としては、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン等の有機塩基、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類を例示することができる。好ましくは、トリエチルアミン等の有機塩基や、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム等の無機塩基を例示することができる。また、置換ヒドラジン類（８）の塩を用いる場合には、塩を形成する酸に見合う量以上の塩基を添加して反応させることが、反応時間が短く、収率が良い点で好ましい。

反応終了後、目的物を含む反応系から常法により目的物を単離し、必要に応じて再結晶、蒸留、カラムクロマトグラフィ−等で精製することにより目的物を製造することができる。また、得られた目的生成物を精製することなく、そのまま次の工程の原料として用いることができる場合もある。

工程６−５は、ピラゾリノン誘導体（２ｆ）のベンゼン環をニトロ化し、ピラゾリノン誘導体（２ｃ）を製造する工程である。

工程６−５のニトロ化は、例えば、濃硫酸中で濃硝酸と濃硫酸から調製した混酸を用いてニトロ化する方法や、無溶媒あるいはジクロロメタン等の溶媒中で発煙硝酸を用いてニトロ化する方法を利用することができる。反応条件等については特に制限は無く、ベンゼン環をニトロ化する一般的な方法に準じて実施することにより、収率及び位置選択性良く目的とするピラゾリノン誘導体（２ｃ）を製造することができる。

反応終了後、目的物を含む反応系から常法により目的物を単離し、必要に応じて再結晶、蒸留、カラムクロマトグラフィ−等で精製することにより目的物を製造することができる。また、得られた目的生成物を精製することなく、そのまま次の工程の原料として用いることができる場合もある。

次に、本発明のピラゾリノン誘導体を有効成分とする本発明の除草剤及びその使用方法について説明する。

本発明のピラゾリノン誘導体は優れた雑草防除効果を有し、除草剤の有効成分として使用することができる。また、良好な残効性や作物−雑草間の選択性等の優れたプロファイルを有している。

本発明のピラゾリノン誘導体は、水田、畑、樹園地、湿地等に発生する１年生、越年生及び多年生の雑草を防除するのに有用である。より具体的には、メヒシバ、エノコログサ、イヌビエ、スズメノテッポウ、カラスムギ、アオビユ、スベリヒユ、アオゲイトウ、イチビ、シロザ、イヌタデ、マルバアサガオ、マメアサガオ、ヒメオドリコソウ、ホトケノザ、オナモミ、ブタクサ、ヤエムグラ、ハコベ、ナズナ、ヨモギ、オオイヌノフグリ等の畑地雑草や、タイヌビエ、タマガヤツリ、マツバイ、イヌホタルイ、ミズガヤツリ、クログワイ、コナギ、アゼナ、キカシグサ、ミズアオイ、ヒメミソハギ、ミゾハコベ、ウリカワ、オモダカ、アメリカアゼナ、タカサブロウ、イボクサ等の水田雑草等を防除することができる。

また本発明のピラゾリノン誘導体は、トウモロコシ、コムギ、ダイズ等の栽培作物に対して良好な選択性を有しており、各種の栽培作物（例えば、トウモロコシ、コムギ、オオムギ、イネ、ダイズ、ナタネ、テンサイ、綿花等）を適用作物とした除草剤としての優れたプロファイルを有する。

本発明のピラゾリノン誘導体は、出芽前及び出芽後にある雑草に対して優れた除草効果を示すことから、除草剤として用いるにあたっては、作物等の植え付け予定地に予め処理するか、あるいは作物等の植え付け後、雑草の発生始期から生育期に処理することで、本発明のピラゾリノン誘導体の特徴ある生理活性をより効果的に発揮させることができる。しかし本発明の除草剤は、このような態様での使用に限定されるものではなく、例えば、畑地、水田、水田刈り取り跡、休耕田畑、畦畔、農道、水路、牧草造成地、墓地、公園、道路、運動場、建物の周辺の空き地、開墾地、線路端又は森林等の雑草の駆除のために使用することもできる。この場合、雑草の発生始期までに処理するのが経済的にも最も有利かつ効果的であるが、必ずしもこれに限定されず、生育期にある雑草も防除することが可能である。

本発明のピラゾリノン誘導体を除草剤として使用するにあたっては、農薬製剤上の常法に従い、使用上都合の良い形状に製剤して使用すればよい。一般には、本発明のピラゾリノン誘導体を、適当な液体担体あるいは固体担体に適当な割合に配合して、溶解、分散、懸濁、混合、含浸若しくは吸着させ、使用目的に叶った剤形に製剤化して使用する。

本発明の除草剤の製剤形態としては、例えば、水和剤、顆粒水和剤、水溶剤、乳剤、液剤、油剤、噴霧剤、粉剤、ＤＬ（ドリフトレス）型粉剤、粒剤、微粒剤、微粒剤Ｆ、細粒剤Ｆ、フロアブル剤、ドライフロアブル剤、ジャンボ剤、錠剤、ペ−スト剤等を挙げることができる。

これらの製剤は、必要に応じて、例えば乳化剤、分散剤、展着剤、浸透剤、湿潤剤、結合剤、増粘剤、防腐剤、酸化防止剤、着色剤等の補助剤を適当な割合で更に添加され、公知の方法で調製することができる。

製剤化する際に使用される液体担体としては、例えば、水；メタノ−ルやエタノ−ル、プロピルアルコ−ル、イソプロピルアルコ−ル、エチレングリコ−ル等のアルコ−ル類；アセトンやメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；ジオキサンやテトラヒドロフラン、ジプロピルエ−テル、エチレングリコ−ルモノメチルエ−テル、ジエチレングリコ−ルモノメチルエ−テル、プロピレングリコ−ルモノメチルエ−テル等のエ−テル類；ヘキサンやオクタン、シクロヘキサン、灯油、燃料油、機械油等の脂肪族炭化水素類；ベンゼンやトルエン、キシレン、ソルベントナフサ、メチルナフタレン等の芳香族炭化水素類：ジクロロメタンやクロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類；ＤＭＦやジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等の酸アミド類、酢酸エチルや酢酸ブチル、フタル酸ジイソプロピル、フタル酸ジブチル、脂肪酸グリセリンエステル等のエステル類；アセトニトリルやプロピオニトリル等のニトリル類；ジメチルスルホキシド類等のスルホキシド類；等を挙げることができる。これらの液体担体は単独若しくは二種以上を適当な比率で混合して使用することもできる。

製剤化する際に使用される固体担体としては、カオリンやベントナイト、酸性白土、クレイ等の粘土類、滑石粉やろう石粉等のタルク類、珪藻土やホワイトカ−ボン、雲母粉等のシリカ類等の鉱物性粉末；大豆粉やＣＭＣ、タバコ粉、小麦粉（穀物粉）、木粉等の植物性粉末；炭酸カルシウムや重炭酸ナトリウム、塩化カリウム、硫酸アンモニウム、硫酸カリウム等の無機塩類；乳糖やブドウ糖等の糖類；アルミナや活性炭等のその他の固体担体；等が挙げられる。これらの固体担体は単独で若しくは二種以上を適当な割合で混合して使用することもできる。

製剤化する際に使用する液体担体又は固体担体は、製剤全体に対して通常１〜９９重量％、好ましくは約１０〜９９重量％の割合で用いられる。

製剤化する際には、目的に応じて、乳化剤、分散剤、展着剤、浸透剤、湿潤剤等の補助剤を使用する。補助剤は、用途に応じて一種又は二種以上を併用してもよいが、全く使用しないことも可能である。担体への有効成分の乳化、分散、可溶化及び／又は湿潤の目的で、通常界面活性剤が用いられる。

界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエ−テル、ポリオキシエチレンアルキルアリ−ルエ−テル、ポリオキシエチレンアルキルポリオキシプロピレンブロックコポリマ−、ポリエチレングリコ−ル脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン多価アルコ−ル脂肪酸エステル、しょ糖脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン系界面活性剤；アルキル硫酸エステル塩、アルキルアリ−ルスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシアルキレンアリルフェニルエ−テルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエ−テルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルアリ−ルエ−テルリン酸エステル塩、リグニンスルホン酸塩、ナフタレンスルホネ−トホルムアルデヒド重縮合物等のアニオン性界面活性剤；アルキルトリメチルアンモニウムクロリド（Ｃ_１２〜_１８），メチル・ポリオキシエチレン・アルキルアンモニウムクロリド（Ｃ_１２〜_１８）、アルキル・Ｎ−メチルピリジウムブロミド（Ｃ_１２〜_１８）、モノ又はジアルキル（Ｃ_１２〜_１８）メチル化アンモニウムクロリド，アルキル（Ｃ_１２〜_１８）ペンタメチルプロピレンジアミンジクロリド等のアンモニウム型界面活性剤や、アルキルジメチルベンザルコニウムクロリド（Ｃ_１２〜_１８）、ベンゼトニウムクロリド（オクチルフェノキシエトキシエチルジメチルベンジルアンモニウムクロリド）等のベンザルコニウム型界面活性剤等のカチオン系界面活性剤；ジアルキル（Ｃ_８〜_１２）ジアミノエチルベタイン、アルキル（Ｃ_１２〜_１８）ジメチルベンジルベタイン、ジアルキル（Ｃ_８〜_１２）ジアミノエチルグリシン、アルキル（Ｃ_１２〜_１８）ジメチルベンジルグリシン等の両性系界面活性剤などが挙げられる。これらの界面活性剤は、用途に応じて一種又は二種以上を用いることができる。また、界面活性剤は、製剤全体に対して通常０．１〜５０重量％、好ましくは約０．１〜２５重量％の割合で用いられる。

結合剤及び増粘剤としては、例えば、デキストリン、カルボキシメチルセルロ−スのナトリウム塩、ポリカルボン酸系高分子化合物、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコ−ル、リグニンスルホン酸ナトリウム、リグニンスルホン酸カルシウム、ポリアクリル酸ナトリウム、アラビアガム、アルギン酸ナトリウム、マンニト−ル、ソルビト−ル、ベントナイト系鉱物質、ポリアクリル酸とその誘導体、ホワイトカ−ボン、天然の糖類誘導体（例えば、キサンタンガム、グア−ガム等）等が挙げられる。

本発明の除草剤における本発明のピラゾリノン誘導体の含有割合は、使用目的によって適宜加減すればよいため特に制限されないが、通常０．０１〜９０重量％程度であり、例えば、乳剤、水和剤、顆粒水和剤、液剤、水溶剤、フロアブル剤等では、１〜９０重量％の割合であり、油剤、粉剤、ＤＬ型粉剤等では通常、０．０１〜１０重量％の割合であり、微粒剤、微粒剤Ｆ、細粒剤Ｆ、粒剤等では通常、０．０５〜１０重量％の割合である。乳剤、水和剤、顆粒水和剤、液剤、水溶剤、フロアブル剤等は、通常は水等で適宜希釈して使用され、通常は約１００〜１００，０００倍に希釈して使用する。

次に、本発明の除草剤の使用方法について説明する。本発明の除草剤は、土壌散布、水面散布、茎葉散布、空中散布等、公知の農薬の施用方法にて用いることができる。

本発明の除草剤を畑地又は水田用の除草剤として用いる場合の使用量（すなわち、有効量）は、適用地域、適用時期、施用方法、対象草種、栽培作物等を考慮して適宜設定すれば良いが、通常、本発明化合物として畑地又は水田１ヘクタ−ルあたり１〜５０００ｇ程度、好ましくは１０〜１０００ｇ程度である。

本発明の除草剤は、畑地雑草防除用としては通常、出芽前土壌混和処理剤、出芽前土壌処理剤又は出芽後茎葉処理剤として使用される。水田雑草防除用としては通常、湛水土壌処理剤又は茎葉兼土壌処理剤として使用される。

また、本発明の除草剤は、必要に応じて、１種又は２種以上の他の除草剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、植物成長調節剤等との混合使用又は併用することもできる。本発明の除草剤は、これらの１種又は２種以上の除草剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、植物成長調節剤等の他の有効成分を配合していてもよいし、これらの他の有効成分と混合して使用してもよい。

本発明化合物と同時に施用及び／又は配合して使用することのできる、他の除草剤の有効成分としては、例えば、
（１）フェノキシ脂肪酸系除草性化合物［２，４−ＰＡ、ＭＣＰ、ＭＣＰＢ、フェノチオ−ル、メコプロップ、フルロキシピル、トリクロピル、クロメプロップ、ナプロアニリド等］、
（２）安息香酸系除草性化合物［２，３，６−ＴＢＡ、ジカンバ、クロピラリド、ピクロラム、アミノピラリド、キンクロラック、キンメラック等］、
（３）尿素系除草性化合物［ジウロン、リニュロン、クロルトルロン、イソプロツロン、フルオメツロン、イソウロン、テブチウロン、メタベンズチアズロン、クミルロン、ダイムロン、メチルダイムロン等］、
（４）トリアジン系除草性化合物［アトラジン、アメトリン、シアナジン、シマジン、プロパジン、シメトリン、ジメタメトリン、プロメトリン、メトリブジン、トリアジフラム等］、
（５）ビピリジニウム系除草性化合物［パラコ−ト、ジクワット等］、
（６）ヒドロキシベンゾニトリル系除草性化合物［ブロモキシニル、アイオキシニル等］、
（７）ジニトロアニリン系除草性化合物［ペンディメタリン、プロジアミン、トリフルラリン等］、
（８）有機リン系除草性化合物［アミプロホスメチル、ブタミホス、ベンスリド、ピペロホス、アニロホス、グリホサ−ト、グルホシネ−ト、グルホシネ−ト−Ｐ、ビアラホス等］、
（９）カ−バメ−ト系除草性化合物［ジアレ−ト、トリアレ−ト、ＥＰＴＣ、ブチレ−ト、ベンチオカ−ブ、エスプロカルブ、モリネ−ト、ジメピペレ−ト、スエップ、クロルプロファム、フェンメディファム、フェニソファム、ピリブチカルブ、アシュラム等］、
（１０）酸アミド系除草性化合物［プロパニル、プロピザミド、ブロモブチド、エトベンザニド等］、
（１１）クロロアセトアニリド系除草性化合物［アセトクロ−ル、アラクロ−ル、ブタクロ−ル、ジメテナミド、プロパクロ−ル、メタザクロ−ル、メトラクロ−ル、プレチラクロ−ル、テニルクロ−ル、ペトキサミド等］、
（１２）ジフェニルエ−テル系除草性化合物［アシフルオルフェン、ビフェノックス、オキシフルオルフェン、ラクトフェン、フォメサフェン、クロメトキシニル、アクロニフェン等］、
（１３）環状イミド系除草性化合物［オキサジアゾン、シニドンエチル、カルフェントラゾンエチル、スルフェントラゾン、フルミクロラックペンチル、フルミオキサジン、ピラフルフェンエチル、オキサジアルギル、ペントキサゾン、フルチアセットメチル、ブタフェナシル、ベンズフェンジゾン、ベンカルバゾン、サフルフェナシル等］、
（１４）ピラゾ−ル系除草性化合物［ベンゾフェナップ、ピラゾレ−ト、ピラゾキシフェン、トプラメゾン、ピラスルホト−ル等］、
（１５）トリケトン系除草性化合物［イソキサフルト−ル、ベンゾビシクロン、スルコトリオン、メソトリオン、テンボトリオン、テフリルトリオン等］、
（１６）アリ−ルオキシフェノキシプロピオン酸系除草性化合物［クロジナホッププロパルギル、シハロホップブチル、ジクロホップメチル、フェノキサプロップエチル、フルアジホップブチル、ハロキシホップメチル、キザロホップエチル、メタミホップ等］、
（１７）トリオンオキシム系除草性化合物［アロキシジム、セトキシジム、ブトロキシジム、クレソジム、クロプロキシジム、シクロキシジム、テプラロキシジム、トラルコキシジム、プロフォキシジム等］、
（１８）スルホニル尿素系除草性化合物［クロルスルフロン、スルホメツロンメチル、メトスルフロンメチル、クロリムロンエチル、トリベニュロンメチル、トリアスルフロン、ベンスルフロンメチル、チフェンスルフロンメチル、ピラゾスルフロンエチル、プリミスルフロンメチル、ニコスルフロン、アミドスルフロン、シノスルフロン、イマゾスルフロン、リムスルフロン、ハロスルフロンメチル、プロスルフロン、エタメトスルフロンメチル、トリフルスルフロンメチル、フラザスルフロン、シクロスルファムロン、フルピルスルフロン、スルホスルフロン、アジムスルフロン、エトキシスルフロン、オキサスルフロン、ヨ−ドスルフロンメチルナトリウム、フォラムスルフロン、メソスルフロンメチル、トリフロキシスルフロン、トリトスルフロン、オルソスルファムロン、フルセトスルフロン、プロピリスルフロン等］、
（１９）イミダゾリノン系除草性化合物［イマザメタベンズメチル、イマザメタピル、イマザモックス、イマザピル、イマザキン、イマゼタピル等］、
（２０）スルホンアミド系除草性化合物［フルメトスラム、メトスラム、ジクロスラム、フロラスラム、クロランスラムメチル、ペノキススラム、ピロキススラム等］、
（２１）ピリミジニルオキシ安息香酸系除草性化合物［ピリチオバックナトリウム、ビスピリバックナトリウム、ピリミノバックメチル、ピリベンゾキシム、ピリフタリド、ピリミスルファン等］、
（２２）その他の系統の除草性化合物［ベンタゾン、ブロマシル、タ−バシル、クロルチアミド、イソキサベン、ジノセブ、アミトロ−ル、シンメチリン、トリジファン、ダラポン、ジフルフェンゾピルナトリウム、ジチオピル、チアゾピル、フルカルバゾンナトリウム、プロポキシカルバゾンナトリウム、メフェナセット、フルフェナセット、フェントラザミド、カフェンストロ−ル、インダノファン、オキサジクロメホン、ベンフレセ−ト、ＡＣＮ、ピリデ−ト、クロリダゾン、ノルフルラゾン、フルルタモン、ジフルフェニカン、ピコリナフェン、ベフルブタミド、クロマゾン、アミカルバゾン、ピノキサデン、ピラクロニル、ピロキサスルホン、チエンカルバゾンメチル、アミノシクロピラクロ−ル、イプフェンカルバゾン等］等が挙げられる。

植物生長調節剤の有効成分としては、例えば、ヒメキサゾ−ル、パクロブトラゾ−ル、ウニコナゾ−ル−Ｐ、イナベンフィド、プロヘキサジオンカルシウム、アビグリシン、１−ナフチルアセトアミド、アブシジン酸、インド−ル酪酸、エチクロゼ−ト、エテホン、クロキシホナック、クロルメコ−ト、ジクロルプロップ、ジベレリン、プロヒドロジャスモン、ベンジルアミノプリン、ホルクロルフェニュロン、マレイン酸ヒドラジド、過酸化カルシウム、メピコ−トクロリド、４−ＣＰＡ等が挙げられる。

殺菌剤の有効成分としては、例えば、
（１）ポリハロアルキルチオ系殺菌性化合物［キャプタン、フォルペット等］、
（２）有機リン系殺菌性化合物［ＩＢＰ、ＥＤＤＰ、トルクロフォスメチル等］、
（３）ベンズイミダゾ−ル系殺菌性化合物［ベノミル、カルベンダジム、チオファネ−トメチル、チアベンダゾ−ル等］、
（４）カルボキシアミド系殺菌性化合物［カルボキシン、メプロニル、フルトラニル、チフルザミド、フラメトピル、ボスカリド、ペンチオピラド等］、
（５）ジカルボキシイミド系殺菌性化合物［プロシミドン、イプロジオン、ビンクロゾリン等］、
（６）アシルアラニン系殺菌性化合物［メタラキシル等］、
（７）アゾ−ル系殺菌性化合物［トリアジメフォン、トリアジメノ−ル、プロピコナゾ−ル、テブコナゾ−ル、シプロコナゾ−ル、エポキシコナゾ−ル、プロチオコナゾ−ル、イプコナゾ−ル、トリフルミゾ−ル、プロクロラズ、ペンコナゾ−ル、フルシラゾ−ル、ジニコナゾ−ル、ブロムコナゾ−ル、ジフェノコナゾ−ル、メトコナゾ−ル、テトラコナゾ−ル、マイクロブタニル、フェンブコナゾ−ル、ヘキサコナゾ−ル、フルキンコナゾ−ル、トリティコナゾ−ル、ビテルタノ−ル、イマザリル、フルトリアホ−ル等］、
（８）モルフォリン系殺菌性化合物［ドデモルフ、トリデモルフ、フェンプロピモルフ等］、
（９）ストロビルリン系殺菌性化合物［アゾキシストロビン、クレソキシムメチル、メトミノストロビン、トリフロキシストロビン、ピコキシストロビン、ピラクロストロビン、フルオキサストロビン、ジモキシストロビン等］、
（１０）抗生物質系殺菌性化合物［バリダマイシンＡ、ブラストサイジンＳ、カスガマイシン、ポリオキシン等］、
（１１）ジチオカ−バメ−ト系殺菌性化合物［マンコゼブ、マネブ、チウラム等］、
（１２）その他の殺菌性化合物［フサライド、プロベナゾ−ル、イソプロチオラン、トリシクラゾ−ル、ピロキロン、フェリムゾン、アシベンゾラルＳメチル、カルプロパミド、ジクロシメット、フェノキサニル、チアジニル、ジクロメジン、テクロフタラム、ペンシクロン、オキソリニック酸、ＴＰＮ、トリフォリン、フェンプロピジン、スピロキサミン、フルアジナム、イミノオクタジン、フェンピクロニル、フルジオキソニル、キノキシフェン、フェンヘキサミド、シルチオファム、プロキナジド、シフルフェナミド、塩基性硫酸銅カルシウム、ジクロフルアニド、シプロジニル、ピリメタニル、メパニピリム、ジエトフェンカルブ、ピリベンカルブ、ファモキサドン、フェナミドン、ゾキサミド、エタボキサム、アミスルブロム、イプロバリカルブ、ベンチアバリカルブ、シアゾファミド、マンジプロパミド、メトラフェノン、フルオピラム、ビキサフェン等］等が挙げられる。

殺虫剤の有効成分としては、例えば、
（１）有機リン系殺虫性化合物［フェンチオン、フェニトロチオン、ピリミホスメチル、ダイアジノン、キナルホス、イソキサチオン、ピリダフェンチオン、クロルピリホス、クロルピリホスメチル、バミドチオン、マラチオン、フェントエ−ト、ジメトエ−ト、ジスルホトン、モノクロトホス、テトラクロルビンホス、クロルフェンビンホス、プロパホス、アセフェ−ト、トリクロルホン、ＥＰＮ、ピラクロホス、ブタチオホス、クロルエトキシホス、シアノホス、ジクロフェンチオン、ジクロルボス、ジメチルビンホス、エチオン、エトプロホス、エトリムホス、ホルモチオン、イソフェンホス、メスルフェンホス、メチダチオン、ナレッド、オキシデプロホス、パラチオン、ホサロン、ホスメット、プロフェノホス、プロチオホス、サリチオン、スルプロホス、テブピリムホス、テメホス、テルブホス、チオメトン、フォレ−ト等］、
（２）カルバメ−ト系殺虫性化合物［カルバリル、メトルカルブ、イソプロカルブ、ＢＰＭＣ、プロポキスル、ＸＭＣ、カルボフラン、カルボスルファン、ベンフラカルブ、フラチオカルブ、メソミル、チオジカルブ、アラニカルブ、ベンダイオカルブ、クロエトカルブ、エチオフェンカルブ、フェノブカルブ、オキサミル、ピリミカ−ブ、キシリルカルブ、アルジカルブ等］、
（３）合成ピレスロイド系殺虫性化合物［テフルトリン、ビフェントリン、シクロプロトリン、エトフェンプロックス、アクリナトリン、アレスリン、ベンフルスリン、ベ−タ− シフルトリン、シフルトリン、シハロトリン、シペルメトリン、デルタメトリン、エスフェンバレレ−ト、フェンプロパトリン、フェンバレレ−ト、フルシトリネ−ト、フルフェンプロックス、フルメスリン、フルバリネ−ト、ハルフェンプロックス、イミプロトリン、ペルメトリン、プラレトリン、ピレトリン、レスメトリン、シグマ−サイパ−メスリン、シラフルオフェン、トラロメトリン、トランスフルトリン、テトラメトリン、フェノトリン、シフェノトリン、アルファシペルメトリン、ゼ−タシペルメトリン、ラムダシハロトリン、ガンマシハロトリン、フラメトリン、タウフルバリネ−ト、メトフルトリン、プロフルトリン、ジメフルトリン、プロトリフェンビュ−ト等］、
（４）ネライストキシン系殺虫性化合物［カルタップ、ベンスルタップ、チオシクラム等］、
（５）ネオニコチノイド系殺虫性化合物［イミダクロプリド、ニテンピラム、アセタミプリド、チアメトキサム、チアクロプリド、ジノテフラン、クロチアニジン等］、
（６）ベンゾイルフェニル尿素系殺虫性化合物［クロルフルアズロン、フルアズロン、フルフェノクスロン、ヘキサフルムロン、ルフェヌロン、ノバルロン、ビストリフルロン、ジフルベンズロン、フルシクロクスロン、ノビフルムロン、テフルベンズロン、トリフルムロン等］、
（７）マクロライド系殺虫性化合物［エマメクチン、アバメクチン、ミルベメクチン、レピメクチン、スピノサド、スピネトラム等］、
（８）その他の殺虫性化合物［ブプロフェジン、テブフェノジド、クロマフェノジド、ハロフェノジド、メトキシフェノジド、フィプロニル、エチプロ−ル、アセトプロ−ル、バニリプロ−ル、ピリプロ−ル、ピラフルプロ−ル、ピメトロジン、ピリフルキナゾン、ジアフェンチウロン、インドキサカルブ、メタフルミゾン、トルフェンピラド、フルフェネリウム、ピリダリル、フロニカミド、スピロメシフェン、スピロテトラマット、フルベンジアミド、クロラントラニリプロ−ル、ピリプロキシフェン、シロマジン、メトキサジアゾン、トリアゼメイト、クロルデン、硫酸ニコチン、トラロピリル、Ｂｔトキシン系殺虫剤等］等が挙げられる。

殺ダニ剤の有効成分としては、例えば、ヘキシチアゾクス、ピリダベン、フェンピロキシメ−ト、テブフェンピラド、クロルフェナピル、エトキサゾ−ル、ピリミジフェン、アセキノシル、ビフェナゼ−ト、スピロジクロフェン、フェナザキン、ブロモプロピレ−ト、ホルメタネ−ト、アミトラズ、ベンゾキシメ−ト、キノメチオネ−ト、クロルベンジレ−ト、クロルフェンソン、クロフェンテジン、シフルメトフェン、ジコホル、酸化フェンブタスズ、フェノチオカルブ、フルアクリピリム、プロパルギット、ポリナクチン複合体、テトラジホン、アミドフルメット、シエノピラフェン等が挙げられ、
殺線虫剤の有効成分としては、例えば、フォスチアゼ−ト、カズサフォス、ベンクロチアズ、メタム・アンモニウム、メタム・ナトリウム、ＤＣＩＰ、塩酸レバミゾ−ル、メチルイソチオシアネ−ト、酒石酸モランテル、イミシアホス等が挙げられる。

上記一般名で表される化合物は、公知文献（例えば、「ザ・ペスティサイドマニュアル（Ｔｈｅ Ｐｅｓｔｉｃｉｄｅ Ｍａｎｕａｌ，１６ｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ，２０１２）」、「渋谷成美，他２名，ＳＨＩＢＵＹＡ ＩＮＤＥＸ−２０１４−１７ｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ，２０１４年２月」等を参照。）に記載の化合物である。

中でも、殺草スペクトラムの拡大や難防除雑草に対する相乗効果の観点から、アミドスルフロン、アジムスルフロン、ベンスルフロンメチル、クロリムロン、シクロスルファムロン、エトキシスルフロン、フラザスルフロン、フルセトスルフロン、フルピルスルフロン、ホラムスルフロン、ハロスルフロンメチル、イマゾスルフロン、メソスルフロン、ニコスルフロン、オルソスルファムロン、オキサスルフロン、ピリミスルフロン、ピラゾスルフロンエチル、リムスルフロン、スルホメツロン、スルホスルフロン、トリフロキシスルフロン、クロルスルフロン、シノスルフロン、エタメスルフロン、ヨ−ドスルフロン、メトスルフロン、プロスルフロン、チフェンスルフロン、トリアスルフロン、トリベヌロン、トリフルスルフロン、トリトスルフロン、ビスピリバック、ピリミノバックメチル、ピリチオバックナトリウム塩、ピリフタリド、ピリミスルファン、ペノキススラム、プロピリスルフロン等のＡＬＳ阻害型除草剤；
イソノルロン、イソウロン、メタベンズチアズロン、モニソウロン、ノルロン、アニスロン、ブツロン、クロブロムロン、クロレツロン、クロトルロン、クロロクスロン、ダイムロン、クミルロン、ジフェノクスロン、ジメフロン、ジウロン、フェヌロン、フルメツロン、フルオチウロン、イソプロツロン、リヌロン、メチウロン、メチルダイムロン、メトベンズロン、メトブロムロン、メトクスロン、モノリヌロン、モヌロン、ネブロン、アトラジン、ジメタメトリン、メソプロトリン、プロメトリン、シメトリン等の光合成阻害型除草剤；
クロラジホップ、クロジナホップ、クロホップ、シハロホップブチル、ジクロホップ、フェノキサプロップ、フェノキサプロップ−Ｐ、フェンチアプロップ、フルアジホップ、フルアジホップ−Ｐ、ハロキシホップ、ハロキシホップ−Ｐ、イソキサピリホップ、メタミホップ、プロパキザホップ、キザロホップ、キザロホップ−Ｐ、アロキシジム、ブトキシジム、クレトジム、クロプロキシジム、シクロキシジム、プロホキシジム、セトキシジム、テプラロキシジム、トラルコキシジム等の脂肪酸生合成阻害型除草剤；
ベフルブタミド、ピコリナフェン、ジフルフェニカン等のＰＤＳ阻害型除草剤；
ベンゾフェナップ、ピラスルホト−ル、ピラゾレ−ト、ピラゾキシフェン、メソトリオン、スルコトリオン、テフリルトリオン、テムボトリオン、ベンゾビシクロン、イソキサクロト−ル、イソキサフルト−ル等のＨＰＰＤ阻害型除草剤；
ペントキサゾン、アザフェニジン、フルミクロラック、フルミオキサジン、フルミプロピン、ピラフルフェンエチル、オキサジアルギル、オキサジアゾン等のＰＰＯ阻害型除草剤；
インダノファン、オキサジクロメホン、ブタクロ−ル、プレチラクロ−ル、テニルクロ−ル、ナプロアニリド、クロメプロップ、フェントラザミド、イプフェンカルバゾン、メフェナセット、ブロモブチド、アニロホス、エスプロカルブ、ピリブチカルブ、チオベンカルブ、ベンフレセ−ト、モリネ−ト、キノクラミン、ＭＣＰＡエチル、ＭＣＰＡチオエチル、ＭＣＰＡナトリウム塩、ＭＣＰＢ、カフェンストロ−ル、ピラクロニル、フェノキサスルフォン等のその他の作用メカニズム型除草剤が好ましい。

更に水田用除草剤として用いる場合には、アジムスルフロン、ベンスルフロンメチル、シクロスルファムロン、フルセトスルフロン、オルソスルファムロン、エトキシスルフロン、ハロスルフロンメチル、ビスピリバックナトリウム塩、ピリミノバックメチル、ピリフタリド、ペノキススラム、ピリミスルファン、ピラゾスルフロンエチル、イマゾスルフロン、ダイムロン、クミルロン、シメトリン、シハロホップブチル、メタミホップ、ベンゾフェナップ、ピラゾレ−ト、ピラゾキシフェン、ベンゾビシクロン、テフリルトリオン、ペントキサゾン、オキサジアゾン、インダノファン、オキサジクロメホン、ブタクロ−ル、プレチラクロ−ル、テニルクロ−ル、ナプロアニリド、クロメプロップ、フェントラザミド、メフェナセット、ブロモブチド、カフェンストロ−ル、アニロホス、エスプロカルブ、ピリブチカルブ、チオベンカルブ、ベンフレセ−ト、モリネ−ト、キノクラミン、ＭＣＰＡチオエチル、ＭＣＰＢ、ピラクロニル及びプロピリスルフロン、フェノキサスルフォンが特に好ましい。

本発明化合物を有効成分として含有する除草剤は、更に薬害軽減剤（例えば、フリラゾ−ル、ジクロルミッド、ベノキサコ−ル、アリドクロ−ル、イソキサジフェンエチル、フェンクロラゾ−ルエチル、メフェンピルジエチル、クロキントセットメキシル、フェンクロリム、シプロスルファミド、シオメトリニル、オキサベトリニル、フルクソフェニム、フルラゾ−ル、２−ジクロロメチル−２−メチル−１，３−ジオキソラン、１，８−ナフタル酸無水物等）、色素、肥料（例えば、尿素等）等を適宜混合してもよい。

本発明化合物を有効成分として含有する除草剤は、畑、水田、芝生、果樹園等の農耕地又は非農耕地用の除草剤として使用することができる。本発明化合物を有効成分として含有する除草剤は、例えば、以下に挙げられる「作物」等を栽培する農耕地等における除草剤として有用である。

農作物：トウモロコシ、イネ、コムギ、オオムギ、ライムギ、エンバク、ソルガム、ワタ、ダイズ、ピ−ナッツ、ソバ、テンサイ、ナタネ、ヒマワリ、サトウキビ、タバコ等。

野菜：ナス科野菜（ナス、トマト、ピ−マン、トウガラシ、ジャガイモ等）、ウリ科野菜（キュウリ、カボチャ、ズッキ−ニ、スイカ、メロン等）、アブラナ科野菜（ダイコン、カブ、セイヨウワサビ、コ−ルラビ、ハクサイ、キャベツ、カラシナ、ブロッコリ−、カリフラワ−等）、キク科野菜（ゴボウ、シュンギク、ア−ティチョ−ク、レタス等）、ユリ科野菜（ネギ、タマネギ、ニンニク、アスパラガス等）、セリ科野菜（ニンジン、パセリ、セロリ、アメリカボウフウ等）、アカザ科野菜（ホウレンソウ、フダンソウ等）、シソ科野菜（シソ、ミント、バジル等）、イチゴ、サツマイモ、ヤマノイモ、サトイモ等。

果樹：仁果類（リンゴ、セイヨウナシ、ニホンナシ、カリン、マルメロ等）、核果類（モモ、スモモ、ネクタリン、ウメ、オウトウ、アンズ、プル−ン等）、カンキツ類（ウンシュウミカン、オレンジ、レモン、ライム、グレ−プフル−ツ等）、堅果類（クリ、クルミ、ハシバミ、ア−モンド、ピスタチオ、カシュ−ナッツ、マカダミアナッツ等）、液果類（ブル−ベリ−、クランベリ−、ブラックベリ−、ラズベリ−等）、ブドウ、カキ、オリ−ブ、ビワ、バナナ、コ−ヒ−、ナツメヤシ、ココヤシ、アブラヤシ等。

果樹以外の樹；チャ、クワ、花木、街路樹（トネリコ、カバノキ、ハナミズキ、ユ−カリ、イチョウ、ライラック、カエデ、カシ、ポプラ、ハナズオウ、フウ、プラタナス、ケヤキ、クロベ、モミノキ、ツガ、ネズ、マツ、トウヒ、イチイ）等。

その他：花卉類（バラ、カ−ネ−ション、キク、トルコギキョウ、カスミソウ、ガ−ベラ、マリ−ゴ−ルド、サルビア、ペチュニア、バ−ベナ、チュ−リップ、アスタ−、リンドウ、ユリ、パンジ−、シクラメン、ラン、スズラン、ラベンダ−、ストック、ハボタン、プリムラ、ポインセチア、グラジオラス、カトレア、デ−ジ−、シンビジュ−ム、ベゴニア等）、観葉植物等。

上記「作物」には、イソキサフルト−ル等のＨＰＰＤ阻害剤、イマゼタピル、チフェンスルフロンメチル等のＡＬＳ阻害剤、グリホサ−ト等のＥＰＳＰ合成酵素阻害剤、グルホシネ−ト等のグルタミン合成酵素阻害剤、セトキシジム等のアセチルＣｏＡカルボキシラ−ゼ阻害剤、フルミオキサジン等のＰＰＯ阻害剤、ブロモキシニル、ジカンバ、２，４−Ｄ等の除草剤に対する耐性が、古典的な育種法もしくは遺伝子組換え技術により付与されたナタネ、コムギ、ヒマワリ、イネ、トウモロコシ、ダイズ等の作物も含まれる。

古典的な育種法により耐性が付与された「作物」の例として、イミダゾリノン系ＡＬＳ阻害型除草剤に耐性のナタネ、コムギ、ヒマワリ、イネ、トウモロコシ；スルホニル尿素系ＡＬＳ阻害型除草剤に耐性のダイズ；アセチルＣｏＡカルボキシラ−ゼ阻害剤に耐性が付与された作物の例としてＳＲコ−ン；等の作物を挙げることができる。

遺伝子組換え技術により耐性が付与された「作物」の例として、グリホサ−ト耐性のトウモロコシ、ダイズ、ワタ、ナタネ、テンサイ品種；グルホシネ−ト耐性のトウモロコシ、ダイズ、ワタ、ナタネ品種；ブロモキシニル耐性のワタ；等の作物を挙げることができる。

また、上記「作物」には、遺伝子組換え技術を用いて、例えば、バチルス属で知られている選択的毒素等を合成する事が可能となった作物や、選択的な作用を有する抗病原性物質を産生する能力を付与された作物、油糧成分改質やアミノ酸含量増強形質などの有用形質を付与した作物も含まれる。

さらには、上記の古典的な除草剤形質あるいは除草剤耐性遺伝子、殺虫性害虫抵抗性遺伝子、抗病原性物質産生遺伝子、油糧成分改質やアミノ酸含量増強形質などの有用形質について、これらを複数組み合わせたスタック品種も上記「作物」に含まれる。

除草剤耐性となった作物に本発明化合物を使用する際は、その作物が耐性となっている除草剤（例えば、グリホサ−トまたはその塩、グルホシネ−トまたはその塩、ジカンバまたはその塩、イマゼタピルまたはその塩、イソキサフルト−ル等）と本発明化合物との体系処理及び／又は混合処理により総合的に雑草を防除することができる。

以下、実施例、参考例、製剤例及び試験例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

実施例−１

４−（２−アミノ−４−クロロ−６−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−３−オン（２７８ｍｇ，０．８６ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（８．６ｍＬ）に溶解し、炭酸セシウム（２８０ｍｇ，０．８６ｍｍｏｌ）とブロモ酢酸メチル（１５２ｍｇ，０．９５ｍｍｏｌ）を加え室温で１８時間攪拌した。反応終了後、反応液に水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を水で２回次いで飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−（酢酸エチル：メタノ−ル＝１０：１）で溶出して精製することにより、８−クロロ−５−（５−クロロ−３−オキソ−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−４−イル）−６−フルオロ−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−３（４Ｈ）−オンの乳白色固体（１５４ｍｇ，収率：４８％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ９．４８（ｓ，１Ｈ），６．８９（ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ，１Ｈ），４．７５（ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ，１Ｈ），４．５０（ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ，１Ｈ），３．６２−４．０１（ｍ，４Ｈ），２．０８−１．９９（ｍ，４Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１１５．６（ｓ，１Ｆ）．
実施例−２

５−クロロ−４−（４−クロロ−６−フルオロ−３−ヒドロキシ−２−ニトロフェニル）−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−３−オン（１．１６ｇ，３．２０ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（１６ｍＬ）に溶解し、炭酸カリウム（１．３３ｇ，９．６ｍｍｏｌ）と２−ブロモプロピオン酸エチル（６５１ｍｇ，３．５２ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で２２時間攪拌した。反応終了後、反応液に水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を水で二回、次いで、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−（酢酸エチル：メタノ−ル＝１０：１）で溶出して精製することにより、２−［６−クロロ−３−（５−クロロ−３−オキソ−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−４−イル）−４−フルオロ−２−ニトロフェニルオキシ］プロピオン酸エチルの黄色固体（１．２８ｇ，収率：８７％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ７．３７（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，０．５Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，０．５Ｈ），４．８９（ｍ，１Ｈ），４．２１（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ），４．２０（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ），３．８６（ｍ，１Ｈ），３．７７−３．６５（ｍ，２Ｈ），３．５９（ｍ，１Ｈ），２．０２−１．９７（ｍ，２Ｈ），１．９２−１．８７（ｍ，２Ｈ），１．６４−１．５９（ｍ，３Ｈ），１．２７（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１．５Ｈ），１．２６（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１．５Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１１１．１（ｓ，０．５Ｆ），−１１１．５（ｓ，０．５Ｆ）．
２−［６−クロロ−３−（５−クロロ−３−オキソ−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−４−イル）−４−フルオロ−２−ニトロフェニルオキシ］プロピオン酸エチル（１．２８ｇ，２．７８ｍｍｏｌ）に酢酸エチル（５．４ｍＬ）と酢酸（２．８ｍＬ）、水（０．５ｍＬ）加えた後、氷冷下で還元鉄（１．５５ｇ，２７．８ｍｍｏｌ）を加え８０℃で１時間攪拌した。反応終了後、反応液をセライトろ過し酢酸エチルで洗浄した。ろ液を水で二回次いで飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し減圧濃縮することにより、８−クロロ−５−（５−クロロ−３−オキソ−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−４−イル）−６−フルオロ−２−メチル−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−３（４Ｈ）−オンの白色固体（４８３ｍｇ，収率：４５％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ９．４２（ｂｒｓ，０．６Ｈ），９．３２（ｂｒｓ，０．４Ｈ），６．８８（ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ，１Ｈ），４．８６（ｍ，０．４Ｈ），４．６９（ｍ，０．６Ｈ），４．０３（ｍ，１Ｈ），３．８８（ｍ，１Ｈ），３．７４（ｍ，１Ｈ），３．６０（ｍ，１Ｈ），２．０２−２．１３（ｍ，２Ｈ），２．０１−１．８９（ｍ，２Ｈ），１．７３−１．６６（ｍ，１．８Ｈ），１．５１−１．４４（ｍ，１．２Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１１５（ｓ，０．６Ｆ），−１１５．８（ｓ，０．４Ｆ）．
実施例−３

４−（２−アミノ−４−クロロ−６−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−３−オン（３００ｍｇ，０．９３ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（９ｍＬ）に溶解し、炭酸セシウム（３３２ｍｇ，１．０２ｍｍｏｌ）と２−ブロモ酪酸メチル（１９０ｍｇ，１．０２ｍｍｏｌ）を加え室温で１７時間攪拌した。反応終了後、反応液に水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を水で２回、次いで飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−（酢酸エチル：メタノ−ル＝１０：１）で溶出して精製することにより、８−クロロ−５−（５−クロロ−３−オキソ−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−４−イル）−２−エチル−６−フルオロ−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−３（４Ｈ）−オンの薄茶色固体（６５．９ｍｇ，収率：１８％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ９．３８（ｂｒｓ，０．５Ｈ），９．２０（ｂｒｓ，０．５Ｈ），６．８８（ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ，１Ｈ），４．６３（ｍ，０．５Ｈ），４．３８（ｍ，０．５Ｈ），４．０２（ｍ，１Ｈ），３．８８（ｍ，１Ｈ），３．７３（ｍ，１Ｈ），３．６１（ｍ，１Ｈ），２．２１−１．６５（ｍ，６Ｈ），１．２３−１．００（ｍ，３Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１１６．０（ｓ，０．５Ｆ），−１１６．１（ｓ，０．５Ｆ）．
実施例−４

４−（２−アミノ−４−クロロ−６−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−３−オン（３００ｍｇ，０．９０ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（１３ｍＬ）溶液に炭酸カリウム（３１０ｍｇ，２．２５ｍｍｏｌ）及び２−ブロモ吉草酸エチル（０．３２ｍＬ，１．８０ｍｍｏｌ）を加え、室温で４０時間攪拌した。反応終了後、反応液に水（５０ｍＬ）を加え、クロロホルム（１００ｍＬ×３）で抽出した。合一した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−（酢酸エチル：メタノ−ル＝９：１）で精製することにより、８−クロロ−５−（５−クロロ−３−オキソ−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−４−イル）−６−フルオロ−２−プロピル−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−３（４Ｈ）−オンの淡黄色固体（６４．４ｍｇ，収率：１７％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ９．３７（ｂｒｓ，０．５Ｈ），９．１９（ｂｒｓ，０．５Ｈ），６．８７（ｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，１Ｈ），４．７３（ｍ，０．５Ｈ），４．３７（ｍ，０．５Ｈ），４．０９−３．５４（ｍ，４Ｈ），２．１５−１．８８（ｍ，５Ｈ），１．８２−１．４４（ｍ，３Ｈ），１．０８−０．８９（ｍ，３Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１１６．０（ｓ，０．５Ｆ），−１１６．１（ｓ，０．５Ｆ）．
実施例−５

５−クロロ−４−（４−クロロ−６−フルオロ−３−ヒドロキシ−２−ニトロフェニル）−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−３−オン（５００ｍｇ，１．３７ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（７ｍＬ）溶液に炭酸カリウム（１９９ｍｇ，１．４４ｍｍｏｌ）を加えて１００℃に加熱し、２−ブロモ−Ｎ，Ｎ−ジエチル−２，２−ジフルオロアセトアミド（３３１ｍｇ，１．４４ｍｍｏｌ）を加えて同温にて４時間攪拌した。反応終了後、反応液に水（５０ｍＬ）を注ぎ、酢酸エチル（５０ｍＬ×３）で抽出した。合一した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−（酢酸エチル：メタノ−ル＝９：１）で精製することにより、２−［６−クロロ−３−（５−クロロ−３−オキソ−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−４−イル）−４−フルオロ−２−ニトロフェノキシ］−Ｎ，Ｎ−ジエチル−２，２−ジフルオロアセトアミドの黄色固体（３１３ｍｇ，収率：４５％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ７．４７（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），３．８８（ｍ，１Ｈ），３．７８−３．６７（ｍ，２Ｈ），３．６６−３．５４（ｍ，３Ｈ），３．５２−３．４１（ｍ，２Ｈ），２．０８−１．９８（ｍ，２Ｈ），１．９７−１．８６（ｍ，２Ｈ），１．２８−１．２３（ｍ，３Ｈ），１．２３−１．１８（ｍ，３Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−６９．１（ｄ，Ｊ＝１３９Ｈｚ，１Ｆ），−７２．４（ｄ，Ｊ＝１３９Ｈｚ，１Ｆ），−１０６．３（ｓ，１Ｆ）．
２−［６−クロロ−３−（５−クロロ−３−オキソ−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−４−イル）−４−フルオロ−２−ニトロフェノキシ］−Ｎ，Ｎ−ジエチル−２，２−ジフルオロアセトアミド（３１２ｍｇ，０．６１０ｍｍｏｌ）の酢酸エチル（１．２ｍＬ）溶液に、水（０．１ｍＬ）及び酢酸（０．６ｍＬ）を加えた後、還元鉄（１７０ｍｇ，３．０５ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で３時間攪拌した。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、不溶物をろ別後、ろ液に水（３０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（３０ｍＬ×３）で抽出した。有機層を水（３０ｍＬ×１）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（３０ｍＬ×３）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−（酢酸エチル：メタノ−ル＝９：１）で精製することにより、８−クロロ−５−（５−クロロ−３−オキソ−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−４−イル）−２，２，６−トリフルオロ−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−３（４Ｈ）−オンの白色固体（１２６ｍｇ，収率：５１％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ１０．７（ｂｒｓ，１Ｈ），７．０２（ｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，１Ｈ），４．０１−３．９６（ｍ，４Ｈ），２．１３−２．０５（ｍ，２Ｈ），２．０５−１．９５（ｍ，２Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−７３．１（ｄ，Ｊ＝１５０Ｈｚ，１Ｆ），−８９．８（ｄ，Ｊ＝１５０Ｈｚ，１Ｆ），−１１１．２（ｓ，１Ｆ）．
実施例−６

４−（２−アミノ−４−クロロ−６−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−１，２−オキシジエチレン−４−ピラゾリン−３−オン（２５０ｍｇ，０．７２０ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（７．２ｍＬ）溶液に炭酸セシウム（２６０ｍｇ，０．７９２ｍｍｏｌ）及びブロモ酢酸エチル（９２μＬ，０．７９２ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間攪拌した。反応終了後、反応液に水（５０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（５０ｍＬ×３）で抽出した。合一した有機層を水（５０ｍＬ×４）及び飽和食塩水（３０ｍＬ×１）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮することにより、２−［２−アミノ−６−クロロ−３−（５−クロロ−３−オキソ−１，２−オキシジエチレン−４−ピラゾリン−４−イル）−４−フルオロフェノキシ］酢酸エチルの白色固体を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ６．５２（ｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，１Ｈ），５．２７（ｂｒｓ，２Ｈ），４．６６（ｄ，Ｊ＝１６．３Ｈｚ，１Ｈ），４．５６（ｄ，Ｊ＝１６．３Ｈｚ，１Ｈ），４．３１−４．２３（ｍ，４Ｈ），４．２６（ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９７−３．９１（ｍ，４Ｈ），１．３０（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，３Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１１４．０（ｓ，１Ｆ）．
得られた２−［２−アミノ−６−クロロ−３−（５−クロロ−３−オキソ−１，２−オキシジエチレン−４−ピラゾリン−４−イル）−４−フルオロフェノキシ］酢酸エチルをアセトニトリル（１２ｍＬ）に溶かし、８５〜９５℃で２４時間攪拌した。反応終了後、反応液を減圧濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィ−（酢酸エチル：メタノ−ル＝９：１）で精製することにより、５−クロロ−４−（８−クロロ−６−フルオロ−３−オキソ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−５−イル）−１，２−オキシジエチレン−４−ピラゾリン−３−オンの白色固体（１２５ｍｇ，収率：４６％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ９．５２（ｂｒｓ，１Ｈ），６．８９（ｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，１Ｈ），４．７５（ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ，１Ｈ），４．５０（ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ，１Ｈ），４．３７−４．３０（ｍ，４Ｈ），４．００−３．９４（ｍ，４Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１１５．７（ｓ，１Ｆ）．
実施例−７

４−（２−アミノ−４−クロロ−６−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−１，２−オキシジエチレン−４−ピラゾリン−３−オン（３００ｍｇ，０．８６０ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（１２ｍＬ）溶液に炭酸カリウム（３００ｍｇ，２．１５ｍｍｏｌ）及び２−ブロモプロピオン酸エチル（２３０μＬ，１．７２ｍｍｏｌ）を加え、室温で１９時間攪拌した後、１５時間還流した。反応終了後、反応液に水（５０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（５０ｍＬ×３）で抽出した。合一した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をクロロホルムとヘキサンの混合溶媒から再結晶することにより、５−クロロ−４−（８−クロロ−６−フルオロ−２−メチル−３−オキソ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−５−イル）−１，２−オキシジエチレン−４−ピラゾリン−３−オンの白色固体（１８０ｍｇ，収率：５１％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ９．４７（ｂｒｓ，０．６Ｈ），９．３１（ｂｒｓ，０．４Ｈ），６．８８（ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ，１Ｈ），４．８８（ｑ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，０．４Ｈ），４．４８（ｑ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，０．６Ｈ），４．３８−４．２９（ｍ，４Ｈ），４．０１−３．９３（ｍ，４Ｈ），１．７０（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，１．８Ｈ），１．４６（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，１．２Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１１５．９（０．６Ｆ），−１１６．２（ｓ，０．４Ｆ）．
実施例−８

４−（２−アミノ−４−クロロ−６−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−１，２−オキシジエチレン−４−ピラゾリン−３−オン（３００ｍｇ，０．８６０ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（１２ｍＬ）溶液に炭酸カリウム（３００ｍｇ，２．１５ｍｍｏｌ）及び２−ブロモ酪酸メチル（２３０μＬ，１．７２ｍｍｏｌ）を加え、室温で２３時間攪拌した。反応終了後、反応液に水（５０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（５０ｍＬ×３）で抽出した。合一した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−（酢酸エチル：メタノ−ル＝９：１）で精製することにより、５−クロロ−４−（８−クロロ−２−エチル−６−フルオロ−３−オキソ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−５−イル）−１，２−オキシジエチレン−４−ピラゾリン−３−オンの白色固体（２３１ｍｇ，収率：６４％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ９．４４（ｂｒｓ，０．５Ｈ），９．２５（ｂｒｓ，０．５Ｈ），６．８８（ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ，１Ｈ），４．７２−４．５５（ｍ，０．５Ｈ），４．３７−４．２９（ｍ，４．５Ｈ），４．０１−３．９３（ｍ，４Ｈ），２．２８−１．６６（ｍ，２Ｈ），１．１７（ｍ，１．５Ｈ），１．０９（ｍ，１．５Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１１６．１（０．５Ｆ），−１１６．３（ｓ，０．５Ｆ）．
実施例−９

４−（２−アミノ−４−クロロ−６−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−１，２−オキシジエチレン−４−ピラゾリン−３−オン（３００ｍｇ，０．８６０ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（１２ｍＬ）溶液に炭酸カリウム（３００ｍｇ，２．１５ｍｍｏｌ）及び２−ブロモ吉草酸エチル（３００μＬ，１．７２ｍｍｏｌ）を加え、室温で２４時間攪拌した。反応終了後、反応液に水（３０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（３０ｍＬ×３）で抽出した。合一した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−（酢酸エチル：メタノ−ル＝９：１）で精製することにより、５−クロロ−４−（８−クロロ−６−フルオロ−３−オキソ−２−プロピル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−５−イル）−１，２−オキシジエチレン−４−ピラゾリン−３−オンの淡黄色固体（５９．５ｍｇ，収率：１６％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ９．４３（ｂｒｓ，０．５Ｈ），９．２５（ｂｒｓ，０．５Ｈ），６．８８（ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ，１Ｈ），４．８１−４．６８（ｍ，０．５Ｈ），４．４０−４．３０（ｍ，４．５Ｈ），４．００−３．９４（ｍ，４Ｈ），２．１９−２．０５（ｍ，０．５Ｈ），２．０３−１．８９（ｍ，０．５Ｈ），１．８０−１．４６（ｍ，３Ｈ），１．０２（ｍ，１．５Ｈ），０．９６（ｍ，１．５Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１１６．１（ｓ，０．５Ｆ），−１１６．２（ｓ，０．５Ｆ）．
実施例−１０

５−クロロ−４−（４−クロロ−６−フルオロ−３−ヒドロキシ−２−ニトロフェニル）−１，２−オキシジエチレン−４−ピラゾリン−３−オン（５００ｍｇ，１．３２ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（７ｍＬ）溶液に炭酸カリウム（１９２ｍｇ，１．３９ｍｍｏｌ）を加えて１００℃に加熱し、２−ブロモ−Ｎ，Ｎ−ジエチル−２，２−ジフルオロアセトアミド（３１９ｍｇ，１．３９ｍｍｏｌ）を加えて同温にて３時間攪拌した。反応終了後、反応液に水（５０ｍＬ）を注ぎ、酢酸エチル（５０ｍＬ×３）で抽出した。合一した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−（酢酸エチル：メタノ−ル＝９：１）で精製することにより、２−［６−クロロ−３−（５−クロロ−３−オキソ−１，２−オキシジエチレン−４−ピラゾリン−４−イル）−４−フルオロ−２−ニトロフェノキシ］−Ｎ，Ｎ−ジエチル−２，２−ジフルオロアセトアミドの黄色固体（２２１ｍｇ，収率：３２％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ７．４７（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），４．２８−４．２０（ｍ，４Ｈ），３．９５−３．８６（ｍ，４Ｈ），３．６１−３．５２（ｍ，２Ｈ），３．５１−３．３９（ｍ，２Ｈ），１．２５（ｍ，３Ｈ），１．２０（ｍ，３Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−６９．０（ｄ，Ｊ＝１３９Ｈｚ，１Ｆ），−７２．４（ｄ，Ｊ＝１３９Ｈｚ，１Ｆ），−１０６．４（ｓ，１Ｆ）．
２−［６−クロロ−３−（５−クロロ−３−オキソ−１，２−オキシジエチレン−４−ピラゾリン−４−イル）−４−フルオロ−２−ニトロフェノキシ］−Ｎ，Ｎ−ジエチル−２，２−ジフルオロアセトアミド（５１８ｍｇ，０．９８２ｍｍｏｌ）の酢酸エチル（２ｍＬ）溶液に、水（０．２ｍＬ）及び酢酸（１ｍＬ）を加えた後、還元鉄（２７４ｍｇ，４．９１ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で３時間攪拌した。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、不溶物をろ別後、ろ液に水（５０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（５０ｍＬ×３）で抽出した。有機層を水（５０ｍＬ×２）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５０ｍＬ×３）及び飽和食塩水（５０ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−（酢酸エチル：メタノ−ル＝９：１）で精製することにより、５−クロロ−４−（８−クロロ−２，２，６−トリフルオロ−３−オキソ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−５−イル）−１，２−オキシジエチレン−４−ピラゾリン−３−オンの白色固体（１８５ｍｇ，収率：４４％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ１０．７（ｂｒｓ，１Ｈ），７．０２（ｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，１Ｈ），４．４２−４．３２（ｍ，４Ｈ），４．０２−３．９４（ｍ，４Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−７３．１（ｄ，Ｊ＝１６４Ｈｚ，１Ｆ），−９０．０（ｄ，Ｊ＝１６４Ｈｚ，１Ｆ），−１１１．４（ｓ，１Ｆ）．
参考例−１

２−クロロ−４−フルオロアニソ−ル（３８ｇ，２３７ｍｍｏｌ）の濃硫酸（１００ｍＬ）溶液に、臭素（１９ｍＬ，７３７ｍｍｏｌ）を氷冷下で加えて、１．５時間攪拌した。氷水に反応溶液を少しずつ加えて、ジエチルエ−テル（３００ｍＬ×３）で抽出した。有機層を５％チオ硫酸ナトリウム水溶液（３００ｍＬ）で洗浄した後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過、減圧濃縮を経て得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィ−（ヘキサン：酢酸エチル＝１：０〜１０：１）で精製することにより、５−ブロモ−２−クロロ−４−フルオロアニソ−ルの白色固体（８．０ｇ，収率：１４％）と２−ブロモ−６−クロロ−４−フルオロアニソ−ルの白色固体（１６．７ｇ，収率：３０％）を得た。

・５−ブロモ−２−クロロ−４−フルオロアニソ−ル：^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ７．１９（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．０７（ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，１Ｈ），３．８８（ｓ，３Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１１６．１（ｓ，１Ｆ）．
・２−ブロモ−６−クロロ−４−フルオロアニソ−ル：^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ７．２２（ｄｄ，Ｊ＝７．６ ａｎｄ ３．０Ｈｚ，１Ｈ），７．１１（ｄｄ，Ｊ＝７．９ ａｎｄ ３．０Ｈｚ，１Ｈ），３．８６（ｓ，３Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１１５．４（ｓ，１Ｆ）．
参考例−２

撹拌機を装備した三ッ口フラスコ（２０Ｌ）に２−クロロ−４−フルオロフェノ−ル（２．８８ｋｇ，１９．７ｍｏｌ）を量り取り、これに２．５Ｎ水酸化ナトリウム水溶液（８Ｌ）を室温で攪拌しながら３０分かけてゆっくりと加えた。この溶液にクロロギ酸エチル（２．１１ｋｇ，１９．４ｍｏｌ）を室温で滴下し、滴下後さらに２時間攪拌した。反応終了後、有機層を分離し、さらに水層をジクロロメタン（３．０Ｌ×２）で抽出した。有機層を合わせ水（２．０Ｌ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ別後、ろ液から減圧下に溶媒を留去することにより、（２−クロロ−４−フルオロフェニル）エチルカ−ボネ−トの油状物（３．９８ｋｇ，収率：９３．９％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ７．２２−７．１８（ｍ，２Ｈ），７．００（ｄｄｄ，Ｊ＝９．１，７．７ ａｎｄ ３．０Ｈｚ，１Ｈ），４．３５（ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），１．４０（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，３Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１１３．９（ｓ，１Ｆ）．
・（２−クロロ−４−フルオロ−５−ニトロフェニル）エチルカ−ボネ−トの合成１
滴下ロ−ト及び撹拌機を装備した三ッ口フラスコ（２Ｌ）に、（２−クロロ−４−フルオロフェニル）エチルカ−ボネ−ト（６５６ｇ，３．０ｍｏｌ）を入れ、氷冷下に濃硫酸（３００ｍＬ）を加え充分撹拌して懸濁させた。次いで激しく撹拌しながら硝酸（２４０ｍＬ，６０％か７０％）と濃硫酸（２４０ｍＬ，９８％）より調製した混酸を滴下ロ−トより反応温度が上がらない（２０〜３０℃）程度に２時間かけてゆっくり加えた。滴下終了後さらに２時間激しく撹拌した後、冷水（５．０Ｌ）に加え、析出した白色固体を濾過し水で洗浄後、充分乾燥することにより、（２−クロロ−４−フルオロ−５−ニトロフェニル）エチルカ−ボネ−トの白色固体（７９１ｇ，３．０ｍｏｌ，収率：定量的）を得た。

・（２−クロロ−４−フルオロ−５−ニトロフェニル）エチルカ−ボネ−トの合成２
（２−クロロ−４−フルオロフェニル）エチルカ−ボネ−ト（１８．６ｇ，８５ｍｍｏｌ）の濃硫酸（２１ｍＬ）溶液に３０℃を超えないように９０％発煙硝酸（４．２ｍＬ）をゆっくり加えた。この混合溶液を室温にて２時間撹拌した後、氷に注ぎいれ、トルエンで抽出した。有機層を水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した、溶媒を減圧留去することにより、粗生成物を得た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィ−（ヘキサン：酢酸エチル＝１０／１）で精製することにより、（２−クロロ−４−フルオロ−５−ニトロフェニル）エチルカ−ボネ−トの淡黄色固体（１６．７ｇ，６３．８ｍｍｏｌ，収率：７５％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ８．０５（ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，１Ｈ），７．４５（ｄ，Ｊ＝１０．０Ｈｚ，１Ｈ），４．３９（ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），１．４３（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，３Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１１７．２（ｓ，１Ｆ）．
・（５−アミノ−２−クロロ−４−フルオロフェニル）エチルカ−ボネ−トの合成１
撹拌機を装備した三ッ口セパラブルフラスコ（３０００ｃｃ）に、（２−クロロ−４−フルオロ−５−ニトロフェニル）エチルカ−ボネ−ト（３９５．４ｇ，１．５ｍｏｌ）と５％パラジウム炭素（１５ｇ）及びトルエン（１０００ｍＬ）を入れ、激しく撹拌しながら水素ガスを導入した。反応の進行とともに発熱するが、水素が系外に出ない速度で水素を導入することにより反応温度を５０〜６０℃に維持した。反応終了後、水（１００〜２００ｍＬ）を加え、反応混合物を濾過することにより触媒を濾別した。濾液の有機層を分離し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾別し、溶媒を減圧下に留去することにより、（５−アミノ−２−クロロ−４−フルオロフェニル）エチルカ−ボネ−トの淡黄色油状物をほぼ定量的に得た。

・（５−アミノ−２−クロロ−４−フルオロフェニル）エチルカ−ボネ−トの合成２
（２−クロロ−４−フルオロ−５−ニトロフェニル）エチルカ−ボネ−ト（１６．７ｇ，６３．４ｍｍｏｌ）のトルエン（２５０ｍＬ）溶液に、５％パラジウム／炭素（２．７ｇ）を加え、水素雰囲気下、７０℃で２４時間撹拌した。反応終了後、セライトろ過により触媒を取除き、ろ液から減圧下に溶媒を留去することにより、（５−アミノ−２−クロロ−４−フルオロフェニル）エチルカ−ボネ−トの褐色固体（１４．８ｇ，６３．４ｍｍｏｌ，定量的）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ７．０７（ｄ，Ｊ＝１０．３Ｈｚ，１Ｈ），６．６４（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），４．３３（ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），３．７３（ｂｒｓ，２Ｈ），１．３９（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，３Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１３５．５（ｓ，１Ｆ）．
（５−アミノ−２−クロロ−４−フルオロフェニル）エチルカ−ボネ−ト（１．０ｇ，４．３ｍｍｏｌ）の酢酸（４．３ｍＬ）溶液を氷冷した後、亜硝酸ナトリウム（０．４４ｇ，６．４ｍｍｏｌ）の濃硫酸（３．３ｍＬ）溶液を反応温度が上がらない（１０℃）程度に３０分間かけてゆっくり加え、同温にて３０分間撹拌した。この混合溶液に臭化銅（Ｉ）（０．９７ｇ，６．４ｍｍｏｌ）及び２５％臭化水素酸−酢酸溶液（２．８ｍＬ）を加え、５０℃で１時間撹拌した。反応終了後、氷浴にて冷却した後、１０％水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和した。この溶液を酢酸エチル（５０ｍＬ×３）で抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得られたた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−（ヘキサン：酢酸エチル＝９／１）にて精製することにより、（５−ブロモ−２−クロロ−４−フルオロフェニル）エチルカ−ボネ−トの白色固体（０．８４ｇ，２．８ｍｍｏｌ，収率：６６％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ７．４７（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，１Ｈ），７．２６（ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，１Ｈ），４．３５（ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），１．４１（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，３Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１０７．６（ｓ，１Ｆ）．
（５−ブロモ−２−クロロ−４−フルオロフェニル）エチルカ−ボネ−ト（３．０ｇ，１０ｍｍｏｌ）のエタノ−ル（５ｍＬ）溶液に、２３％水酸化ナトリウム水溶液（２．１ｍＬ）を滴下した。混合物を室温で２時間撹拌した。反応終了後、濃塩酸で中和した後、エ−テル（２０ｍＬ×３）で抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下に留去することにより、５−ブロモ−２−クロロ−４−フルオロフェノ−ルの褐色固体（１．９ｇ，収率：８２％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ７．２３（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，１Ｈ），７．１４（ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，１Ｈ），５．３９（ｓ，１Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１１６．０（ｓ，１Ｆ）．
炭酸カリウム（１．２ｇ，８．９ｍｍｏｌ）に、５−ブロモ−２−クロロ−４−フルオロフェノ−ル（１．０ｇ，４．４ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（５ｍＬ）溶液及びヨウ化メチル（０．５５ｍＬ，８．８ｍｍｏｌ）を加え、室温で２０時間撹拌した。反応終了後、反応混合物に水（２０ｍＬ）を加え、エ−テル（２０ｍＬ×３）で抽出した。有機層を飽和食塩水（２０ｍＬ）で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下に留去することにより、５−ブロモ−２−クロロ−４−フルオロアニソ−ルの白色固体（０．９５１ｇ，収率：９０％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ７．１９（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．０７（ｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，１Ｈ），３．８８（ｓ，３Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１１６．１（ｓ，１Ｆ）．
参考例−３

濃硫酸（５７ｍＬ）を氷浴にて冷却し、６９％硝酸（２５．５ｇ，２７９ｍｍｏｌ）を２５分かけて滴下し、混酸を調製した。この混酸に氷冷下で２−ブロモ−１，４−ジフルオロベンゼン（５０ｇ，２５４ｍｍｏｌ）のジクロロエタン（１２５ｍＬ）溶液を１．５時間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、反応液をさらに室温にて２時間攪拌した。反応終了後、氷水（５００ｇ）に反応溶液を少しずつ加え、次いでエ−テル（３００ｍＬ×２）で抽出した。有機層を水（３００ｍＬ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（３００ｍＬ）、飽和食塩水（３００ｍＬ）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィ−（ヘキサン：クロロホルム＝４／１）で精製することにより、１−ブロモ−２，５−ジフルオロ−４−ニトロベンゼンの淡黄色固体（５６ｇ，収率：９３％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ７．８９（ｄｄ，Ｊ＝７．３ ａｎｄ ６．５Ｈｚ，１Ｈ），７．５９（ｄｄ，Ｊ＝９．５ ａｎｄ ５．５Ｈｚ，１Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１０７．９（ｄ，Ｊ＝１５．２Ｈｚ，１Ｆ），−１２０．１（ｄ，Ｊ＝１５．２Ｈｚ，１Ｆ）．
水素化ナトリウムの５５％油分散（１２．３ｇ，２８２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（４７０ｍＬ）懸濁液を氷浴にて冷却し、４−ブロモ−２，５−ジフルオロニトロベンゼン（５６ｇ，２３６ｍｍｏｌ）を加えた後、メタノ−ル（２４ｍＬ，５８８ｍｍｏｌ）をゆっくり加えた。この混合溶液を室温にて３０分間撹拌した後、氷水（５００ｇ）へ注ぎいれ、クロロホルム（１００ｍＬ×３）で抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に溶媒を留去することにより、５−ブロモ−４−フルオロ−２−ニトロアニソ−ルの褐色固体（５９ｇ，収率：定量的）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ７．７１（ｄｄ，Ｊ＝７．７ ａｎｄ １．８Ｈｚ，１Ｈ），７．３０（ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，１Ｈ），３．９７（ｓ，３Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１１４．８（ｓ，１Ｆ）．
５−ブロモ−４−フルオロ−２−ニトロアニソ−ル（５９ｇ，２３５ｍｍｏｌ）に、酢酸エチル（４７０ｍＬ）、酢酸（２３０ｍＬ）及び水（４２．４ｇ）を加えて氷浴にて冷却し、還元鉄（６７．８ｇ，１．２１ｍｍｏｌ）を加えた。この混合液を８０℃で１時間撹拌した後、室温まで冷却した後、セライトろ過を行い、不溶の酢酸鉄を取除いた。ろ液を酢酸エチル（２００ｍＬ）で希釈した後、水（３００ｍＬ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（３００ｍＬ）及び飽和食塩水（３００ｍＬ）で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に溶媒を留去することにより、４−ブロモ−５−フルオロ−２−メトキシアニリン（４６ｇ，２０９ｍｍｏｌ，収率：８９％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ６．８４（ｄ，Ｊ＝６．２Ｈｚ，１Ｈ），６．５０（ｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，１Ｈ），３．９０（ｂｒｓ，２Ｈ），３．８２（ｓ，３Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１１７．８（ｓ，１Ｆ）．
４−ブロモ−５−フルオロ−２−メトキシアニリン（９．２ｇ，４１．８ｍｍｏｌ）、塩化銅（Ｉ）（８．２８ｇ，８３．６ｍｍｏｌ）及び塩化銅（ＩＩ）（１６．８６ｇ，１２５ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（２００ｍＬ）溶液に、室温で亜硝酸イソアミル（１７．６ｍＬ，１２６ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（６０ｍＬ）溶液を滴下した。この混合溶液を室温にて４時間撹拌した後、２Ｎ塩酸（１００ｍＬ）に注ぎいれ、酢酸エチル（５０ｍＬ×３）で抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去することにより、褐色固体の粗生成物を得た。このものをシリカゲルカラム（ヘキサン）で精製することにより、５−ブロモ−２−クロロ−４−フルオロアニソ−ルの白色固体（６．６ｇ，収率：６６％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ７．１９（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．０７（ｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，１Ｈ），３．８８（ｓ，３Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１１６．１（ｓ，１Ｆ）．
参考例−４

合成１
５−ブロモ−２−クロロ−４−フルオロアニソ−ル（９．２３ｇ，３８．５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（４０ｍＬ）溶液に、イソプロピルマグネシウムクロリド溶液（２０．２ｍＬ，２Ｍ−ＴＨＦ溶液）を−４０℃で加え、室温で３０分間撹拌した。得られたグリニャ−ル試薬のＴＨＦ溶液を、シュウ酸ジエチル（５．０６ｍＬ，３６．６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５ｍＬ）溶液に−４０℃で滴下し、０℃で１時間撹拌した。反応溶液に飽和塩化アンモニウム水溶液（５０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（１００ｍＬ×３）で抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−（ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）で溶出させ、２−（４−クロロ−２−フルオロ−５−メトキシフェニル）−２−オキソ酢酸エチルの無色液体（７．２４ｇ，収率：７２％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ７．４２（ｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，１Ｈ），７．２５（ｄ，Ｊ＝９．９Ｈｚ，１Ｈ），４．４３（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ），１．４０（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１１９．７（ｓ，１Ｆ）．
トリフェニルホスフィン（２９．８ｇ，１１３．６ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２３ｍＬ）溶液に、四塩化炭素（１０．９６ｍＬ，１１３．６ｍｍｏｌ）を０℃で加えた。この溶液に、２−（４−クロロ−２−フルオロ−５−メトキシフェニル）−２−オキソ酢酸エチル（１４．８ｇ，５６．８ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（６ｍＬ）溶液を加えて、室温で１５時間攪拌した。反応終了後、反応液にヘプタンを加え、減圧下にジクロロメタンを除去した。残渣にＤＭＦと水の５０％混合溶液を加えて洗浄した。この有機層を水で洗浄した後、溶媒を減圧下で除去することにより、３，３−ジクロロ−２−（４−クロロ−２−フルオロ−５−メトキシフェニル）アクリル酸エチルの無色液体（１６．６ｇ，収率：８９％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ７．１８（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），６．８５（ｄ，Ｊ＝６．２Ｈｚ，１Ｈ），４．２６（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．８９（ｓ，３Ｈ），１．２７（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１２１．６（ｓ，１Ｆ）．
合成２
マグネシウム（２．５５ｇ，１０５ｍｍｏｌ）に室温でＴＨＦ（２５ｍＬ）、次いでヨウ素（１０ｍｇ）を加えた後、５−ブロモ−２−クロロ−４−フルオロアニソ−ル（２３．９ｇ，１００ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５０ｍＬ）溶液をゆっくり加えた後、さらに１時間撹拌し、グリニャ−ル試薬を調製した。このグリニャ−ル試薬をシュウ酸ジエチル（１４．５ｍＬ，１０５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１４．５ｍＬ）溶液に−４０℃以下で滴下した。滴下終了後、０℃まで反応溶液の温度を上げて、１時間攪拌した。反応終了後、反応溶液に飽和塩化アンモニウム水溶液（１００ｍＬ）を加え、水（１００ｍＬ）で希釈し、酢酸エチル（２００ｍＬ×２）で抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去した。粗生成物を減圧蒸留（１２５−１３０℃／４ｍｍＨｇ）して、２−（４−クロロ−２−フルオロ−５−メトキシフェニル）−２−オキソ酢酸エチルの淡黄色油状物（１７．８ｇ，収率：６８％）を得た。

トリフェニルホスフィン（８．６ｇ，３２．８ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（６０ｍＬ）溶液に、氷冷下で四塩化炭素（５．１ｇ，３２．８ｍｍｏｌ）を加えて、１５分間攪拌した。その後、２−（４−クロロ−２−フルオロ−５−メトキシフェニル）−２−オキソ酢酸エチル（４．２７ｇ，１６．４ｍｍｏｌ）を加えて、室温で２４時間攪拌した。反応終了後、反応溶液から減圧下に溶媒を除去し、析出した固体にクロロホルム（１５ｍＬ）とエ−テル（９０ｍＬ）の混合溶媒を加え、不溶物をろ別し、クロロホルム（５ｍＬ）とエ−テル（３０ｍＬ）の混合溶媒で洗浄した。ろ液と洗浄液を合わせ、減圧濃縮して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−（ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）で精製して、３，３−ジクロロ−２−（４−クロロ−２−フルオロ−５−メトキシフェニル）アクリル酸エチルの無色油状物（４．４ｇ，収率：８２％）を得た。

参考例−５

３，３−ジクロロ−２−（４−クロロ−２−フルオロ−５−メトキシフェニル）アクリル酸エチル（１４．７４ｇ，４５．０ｍｍｏｌ）に１，４−ジオキサン（１５０ｍＬ）とヘキサヒドロピリダジン二臭化水素塩（１１．７２ｇ，４７．３ｍｍｏｌ）を加え、さらにトリエチルアミン（１９．７６ｍＬ，１４２ｍｍｏｌ）を加え、１５時間還流した。反応終了後、反応液に水（１００ｍＬ）を加え、減圧下で溶媒を除去した。析出した固体をろ過して、水とジエチルエ−テルで洗浄した後に減圧乾燥することにより、５−クロロ−４−（２−フルオロ−４−クロロ−５−メトキシフェニル）−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−３−オンの白色固体（１３．３７ｇ，収率：９０％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ７．３３（ｄ，Ｊ＝９．９Ｈｚ，１Ｈ），７．０９（ｄ，Ｊ＝６．２Ｈｚ，１Ｈ），３．８９（ｓ，３Ｈ），３．８５−３．８２（ｍ，２Ｈ），３．６１（ｍ，２Ｈ），２．０５−２．００（ｍ，２Ｈ），１．９４−１．９２（ｍ，２Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１１９．９（ｓ，１Ｆ）．
５−クロロ−４−（４−クロロ−２−フルオロ−５−メトキシフェニル）−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−３−オン（１３．３７ｇ，４０．４ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（６０ｍＬ）溶液に、−４０℃で１Ｍ三臭化ホウ素のジクロロメタン溶液（８０．８ｍＬ）を加えた。反応温度を室温までゆっくり上昇させながら、４時間攪拌した。反応終了後、氷水に反応液を加え、１Ｍ−ＨＣｌ水溶液（５０ｍＬ）を加えた。析出した固体をろ過して、乾燥させることにより５−クロロ−４−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒドロキシフェニル）−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−３−オンの白色固体（１２．０７ｇ，収率：９４％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ_６）：δ１０．２７（ｂｒｓ，１Ｈ），７．３８（ｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，１Ｈ），７．０２（ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，１Ｈ），３．７１−３．６０（ｍ，４Ｈ），１．９７−１．８７（ｍ，２Ｈ），１．８５−１．７５（ｍ，２Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ_６）：δ−１２２．１（ｓ，１Ｆ）．
参考例−６

３，３−ジクロロ−２−（４−クロロ−２−フルオロ−５−メトキシフェニル）アクリル酸エチル（１１．４７ｇ，３５．０ｍｍｏｌ）に１，４−ジオキサン（９０ｍＬ）と１，４，５−オキサジアゼパン二臭化水素塩（９．７０ｇ，３６．７ｍｍｏｌ）を加え、さらにトリエチルアミン（１５．３７ｍＬ，１１０ｍｍｏｌ）を加え、１５時間還流した。反応終了後、反応液に水（１００ｍＬ）を加え、減圧下で溶媒を除去した。析出した固体をろ過して、水とジエチルエ−テルで洗浄した後に減圧乾燥することにより、５−クロロ−４−［４−クロロ−２−フルオロ−５−メトキシフェニル］−１，２−オキシジエチレン−４−ピラゾリン−３−オンの白色固体（９．４４ｇ，収率：５８％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ７．１８（ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，１Ｈ），７．１１（ｄ，Ｊ＝６．２Ｈｚ，１Ｈ），４．３０−４．２６（ｍ，２Ｈ），４．２５−４．２１（ｍ，２Ｈ），３．９６−３．９２（ｍ，４Ｈ），３．９０（ｓ，３Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１２０．０（ｓ，１Ｆ）．
５−クロロ−４−［４−クロロ−２−フルオロ−５−メトキシフェニル］−１，２−オキシジエチレン−４−ピラゾリン−３−オン（９．４４ｇ，２７．２ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（７０ｍＬ）溶液に、−４０℃で１Ｍ三臭化ホウ素のジクロロメタン溶液（５４．４ｍＬ）を加えた。反応温度を室温までゆっくり上昇させながら、４時間攪拌した。反応終了後、氷水に反応液を加え、１Ｍ−ＨＣｌ水溶液（５０ｍＬ）を加えた。析出した固体をろ過して、乾燥させることにより５−クロロ−４−［４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒドロキシフェニル］−１，２−オキシジエチレン−４−ピラゾリン−３−オンの白色固体（７．２３ｇ，収率：８０％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ_６）：δ１０．２３（ｂｒｓ，１Ｈ），７．３６（ｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，１Ｈ），７．０４（ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，１Ｈ），４．３０−４．２６（ｍ，２Ｈ），４．１８−４．１３（ｍ，２Ｈ），３．８７−３．７９（ｍ，４Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ_６）：δ−１２２．０（ｓ，１Ｆ）．
参考例−７

濃硫酸（５７ｍＬ）を氷浴にて冷却し、６９％硝酸（２５．５ｇ，２７９ｍｍｏｌ）を２５分かけて滴下し、混酸を調製した。この混酸に氷冷下で２−ブロモ−１，４−ジフルオロベンゼン（５０ｇ，２５４ｍｍｏｌ）のジクロロエタン（１２５ｍＬ）溶液を１．５時間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、反応液をさらに室温にて２時間攪拌した。反応終了後、氷水（５００ｇ）に反応溶液を少しずつ加え、次いでエ−テル（３００ｍＬ×２）で抽出した。有機層を水（３００ｍＬ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（３００ｍＬ）、飽和食塩水（３００ｍＬ）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィ−（ヘキサン：クロロホルム＝４／１）で精製することにより、１−ブロモ−２，５−ジフルオロ−４−ニトロベンゼンの淡黄色固体（５６ｇ，収率：９３％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ７．８９（ｄｄ，Ｊ＝７．３ ａｎｄ ６．５Ｈｚ，１Ｈ），７．５９（ｄｄ，Ｊ＝９．５ ａｎｄ ５．５Ｈｚ，１Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１０７．９（ｄ，Ｊ＝１５．２Ｈｚ，１Ｆ），−１２０．１（ｄ，Ｊ＝１５．２Ｈｚ，１Ｆ）．
４−ブロモ−２，５−ジフルオロニトロベンゼン（４８．７ｇ，２０５ｍｍｏｌ）、炭酸セシウム（１００ｇ，３０７ｍｍｏｌ）、２−プロパノ−ル（５０ｍＬ）の混合溶液を室温にて１２時間撹拌した。反応終了後、水（５００ｇ）へ注ぎいれ、析出した固体をろ取した。このものを減圧乾燥することにより、１−ブロモ−２−フルオロ−５−イソプロピルオキシ−４−ニトロベンゼンの褐色固体（５１．０ｇ，収率：９０％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ７．６４（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ），７．２９（ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，１Ｈ），４．６１（ｓｅｐ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，１Ｈ），１．４０（ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，６Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１１４．７（ｓ，１Ｆ）．
１−ブロモ−２−フルオロ−５−イソプロピルオキシ−４−ニトロベンゼン（５１．０ｇ，１８４ｍｍｏｌ）に酢酸エチル（３５０ｍＬ）、酢酸（１８０ｍＬ）及び水（３３ｇ）を加えた混合液に、還元鉄（５１．４ｇ，０．９２ｍｏｌ）を加えた。この混合液を８０℃で１時間撹拌した後、室温まで冷却した後、セライトろ過を行い、不溶の酢酸鉄を取除いた。ろ液を酢酸エチル（２００ｍＬ）で希釈した後、水（３００ｍＬ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（３００ｍＬ）及び飽和食塩水（３００ｍＬ）で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に溶媒を留去することにより、４−ブロモ−５−フルオロ−２−イソプロピルオキシアニリンの褐色油状物（４０．８ｇ，収率：９０％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ６．８７（ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，１Ｈ），６．５０（ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ，１Ｈ），４．４３（ｓｅｐ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，１Ｈ），３．９０（ｂｒｓ，２Ｈ），１．３４（ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，６Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１１７．４（ｓ，１Ｆ）．
４−ブロモ−５−フルオロ−２−イソプロピルオキシアニリン（２４．８ｇ，１００ｍｍｏｌ）、塩化銅（Ｉ）（１４．８５ｇ，１５０ｍｍｏｌ）及び塩化銅（ＩＩ）（２０．１７ｇ，１５０ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（３２ｍＬ）溶液に、室温で亜硝酸イソアミル（２１．０ｍＬ，１５０ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（３２ｍＬ）溶液を滴下した。この混合溶液を室温にて４時間撹拌した後、２Ｎ塩酸（１００ｍＬ）に注ぎいれ、トルエン（５０ｍＬ×３）で抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、減圧下に溶媒を留去することにより、褐色油状の粗生成物を得た。このものを減圧下で蒸留することにより、１−ブロモ−４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロピルオキシベンゼンの無色透明油状物（１９．０ｇ，収率：７１％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ７．１８（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．１１（ｄ，Ｊ＝６．２Ｈｚ，１Ｈ），４．４６（ｓｅｐ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，１Ｈ），１．３７（ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，６Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１１５．５（ｓ，１Ｆ）．
参考例−８

５−ブロモ−２−クロロ−４−フルオロフェノ−ル（１１．９７ｇ，５０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１０．３７ｇ，７５ｍｍｏｌ）、アセトン（２００ｍＬ）の混合溶液に、２−ヨ−ドプロパン（７．５３ｍＬ，７５ｍｍｏｌ）を加え、２時間加熱還流させた。反応終了後、氷水（２００ｇ）へ注ぎいれ、ジエチルエ−テル（１００ｍＬ×２）で抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィ−（ヘキサン）で精製することにより、１−ブロモ−４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロピルオキシベンゼンの無色透明油状物（１１．４ｇ，収率：８５％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ７．１８（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．１１（ｄ，Ｊ＝６．２Ｈｚ，１Ｈ），４．４６（ｓｅｐ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，１Ｈ），１．３７（ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，６Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１１５．５（ｓ，１Ｆ）．
参考例−９

マグネシウム（０．３７５ｇ，１５．４ｍｍｏｌ）に室温でＴＨＦ（３ｍＬ）、次いでヨウ素（１ｍｇ）を加えた後、１−ブロモ−４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロピルオキシベンゼン（３．９３ｇ，１４．７ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（３ｍＬ）溶液をゆっくり加えた後、さらに１時間撹拌し、グリニャ−ル試薬を調製した。このグリニャ−ル試薬をシュウ酸ジエチル（２．０３ｍＬ，１４．７ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２ｍＬ）溶液に−４０℃以下で滴下した。滴下終了後、０℃まで反応溶液の温度を上げて、１時間攪拌した。反応終了後、反応溶液に飽和塩化アンモニウム水溶液（１０ｍＬ）を加え、水（１０ｍＬ）で希釈し、ジクロロメタン（２０ｍＬ×３）で抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去することにより、２−（４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロピルオキシフェニル）−２−オキソ酢酸エチルの橙色油状物（３．９５ｇ，収率：９３％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ７．４３（ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，１Ｈ），７．２３（ｄ，Ｊ＝９．８Ｈｚ，１Ｈ），４．６０（ｓｅｐ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，１Ｈ），４．４３（ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），１．４０（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，３Ｈ），１．３９（ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，６Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１１９．８（ｓ，１Ｆ）．
トリフェニルホスフィン（７．１８ｇ，２７．４ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（５．５ｍＬ）溶液に、氷冷下で四塩化炭素（２．６４ｍＬ，２７．４ｍｍｏｌ）を加えて、５分間攪拌した。その後、２−（４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロピルオキシフェニル）−２−オキソ酢酸エチル（３．９５ｇ，１３．７ｍｍｏｌ）を加えて、室温で１２時間攪拌した。反応終了後、反応液にヘプタンを加え、減圧下にジクロロメタンを除去した。残渣にＤＭＦと水の５０％混合溶液を加えて洗浄した。この有機層を水で洗浄した後、溶媒を減圧下で除去することにより、３，３−ジクロロ−２−（４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロピルオキシフェニル）アクリル酸エチルの淡黄色液体（３．５９ｇ，収率：７４％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ７．１６（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），６．８８（ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，１Ｈ），４．４７（ｓｅｐ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，１Ｈ），４．２５（ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），１．３７（ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，６Ｈ），１．２６（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，３Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１２０．６（ｓ，１Ｆ）．
参考例−１０

ヘキサヒドロピリダジン二臭化水素塩（５．２１ｇ，２１．０ｍｍｏｌ）に３，３−ジクロロ−２−（４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロピルオキシフェニル）アクリル酸エチル（７．１１ｇ，２０．０ｍｍｏｌ）の１，４−ジオキサン（２０ｍＬ）溶液を加え、さらにトリエチルアミン（８．７８ｍＬ，６３．０ｍｍｏｌ）を加え、１２時間還流した。反応終了後、反応液に水（５０ｍＬ）を加え酢酸エチル（５０ｍＬ×３）で抽出した。有機層を飽和食塩水（２０ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を除去することにより、５−クロロ−４−（２−フルオロ−４−クロロ−５−イソプロピルオキシフェニル）−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−３−オンの淡黄色油状物（５．５７ｇ，収率：７８％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ７．１７（ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ，１Ｈ），７．１３（ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，１Ｈ），４．５１（ｓｅｐ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，１Ｈ），３．８６−３．７９（ｍ，２Ｈ），３．６５−３．５９（ｍ，２Ｈ），２．０５−１．９８（ｍ，２Ｈ），１．９５−１．８５（ｍ，２Ｈ），１．３７（ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，６Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１１９．３（ｓ，１Ｆ）．
５−クロロ−４−（２−フルオロ−４−クロロ−５−イソプロピルオキシフェニル）−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−３−オン（５．５７ｇ，１５．５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１５ｍＬ）溶液に、０℃で濃硫酸（７ｍＬ）を加えた。反応温度を室温まで上昇させ、さらに１時間攪拌した。反応終了後、氷水に反応液を加え、析出した固体をろ過して、乾燥させることにより５−クロロ−４−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒドロキシフェニル）−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−３−オンの白色固体（４．３１ｇ，収率：８８％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ_６）：δ１０．２７（ｂｒｓ，１Ｈ），７．３８（ｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，１Ｈ），７．０２（ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，１Ｈ），３．７１−３．６０（ｍ，４Ｈ），１．９７−１．８７（ｍ，２Ｈ），１．８５−１．７５（ｍ，２Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ_６）：δ−１２２．１（ｓ，１Ｆ）．
参考例−１１

６９％硝酸（１２ｍＬ）に、０℃で５−クロロ−４−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒドロキシフェニル）−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−３−オン（１．８４ｇ，５．８０ｍｍｏｌ）を少量ずつ加え、０℃で１０分間攪拌した。反応終了後、反応液を氷水に注ぎ、析出した固体をろ取した。得られた固体を水及びジエチルエ−テルで洗浄した後、減圧乾燥することにより、５−クロロ−４−（４−クロロ−６−フルオロ−３−ヒドロキシ−２−ニトロフェニル）−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−３−オンの紫色固体（２．０３ｇ，収率：９６％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ９．８３（ｂｒｓ，１Ｈ），７．４９（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），３．９１（ｍ，１Ｈ），３．７８−３．６９（ｍ，２Ｈ），３．６４（ｍ，１Ｈ），２．１１−１．９８（ｍ，２Ｈ），１．９８−１．８８（ｍ，２Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１１６．８（ｓ，１Ｆ）．
参考例−１２

５−クロロ−４−（４−クロロ−６−フルオロ−３−ヒドロキシ−２−ニトロフェニル）−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−３−オン（２．００ｇ，５．５２ｍｍｏｌ）の酢酸（５５ｍＬ）溶液に、還元鉄（９２５ｍｇ，１６．６ｍｍｏｌ）を加え、室温で８時間攪拌した。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、不溶物をろ別後、ろ液に水（１００ｍＬ）を加え、酢酸エチル（１００ｍＬ×３）で抽出した。有機層を水（１００ｍＬ×２）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１００ｍＬ×２）及び飽和食塩水（１００ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮することにより、４−（２−アミノ−４−クロロ−６−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−３−オンの茶色固体（１．４０ｇ，収率：７７％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ６．５３（ｄ，Ｊ＝９．４Ｈｚ，１Ｈ），５．５５（ｂｒｓ，１Ｈ），４．６４（ｂｒｓ，２Ｈ），３．９８（ｍ，１Ｈ），３．８４−３．７０（ｍ，２Ｈ），３．５７（ｍ，１Ｈ），２．０８−１．９８（ｍ，２Ｈ），１．９７−１．８１（ｍ，２Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１１９．８（ｓ，１Ｆ）．
参考例−１３

１，４，５−オキサジアゼパン二臭化水素塩（５．５４ｇ，２１．０ｍｍｏｌ）に３，３−ジクロロ−２−（４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロピルオキシフェニル）アクリル酸エチル（７．１１ｇ，２０．０ｍｍｏｌ）の１，４−ジオキサン（２０ｍＬ）溶液を加え、さらにトリエチルアミン（８．７８ｍＬ，６３．０ｍｍｏｌ）を加え、１２時間還流した。反応終了後、反応液に水（５０ｍＬ）を加え酢酸エチル（５０ｍＬ×３）で抽出した。有機層を飽和食塩水（２０ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を除去することにより、５−クロロ−４−［４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロピルオキシフェニル］−１，２−オキシジエチレン−４−ピラゾリン−３−オンの淡黄色油状物（６．０７ｇ，収率：８１％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ７．１７（ｄ，Ｊ＝９．３Ｈｚ，１Ｈ），７．１３（ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，１Ｈ），４．５１（ｓｅｐ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，１Ｈ），４．２９−４．２５（ｍ，２Ｈ），４．２４−４．２０（ｍ，２Ｈ），３．９７−３．９１（ｍ，４Ｈ），１．３７（ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，６Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１１９．５（ｓ，１Ｆ）．
５−クロロ−４−［４−クロロ−２−フルオロ−５−イソプロピルオキシフェニル］−１，２−オキシジエチレン−４−ピラゾリン−３−オン（５．８２ｇ，１５．５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１５ｍＬ）溶液に、０℃で濃硫酸（７ｍＬ）を加えた。反応温度を室温まで上昇させ、さらに１時間攪拌した。反応終了後、氷水に反応液を加え、析出した固体をろ過して、乾燥させることにより５−クロロ−４−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒドロキシフェニル）−１，２−オキシジエチレン−４−ピラゾリン−３−オンの白色固体（４．１６ｇ，収率：８１％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ_６）：δ１０．２３（ｂｒｓ，１Ｈ），７．３６（ｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，１Ｈ），７．０４（ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，１Ｈ），４．３０−４．２６（ｍ，２Ｈ），４．１８−４．１３（ｍ，２Ｈ），３．８７−３．７９（ｍ，４Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ_６）：δ−１２２．０（ｓ，１Ｆ）．
参考例−１４

６９％硝酸（６ｍＬ）に、０℃で５−クロロ−４−（４−クロロ−２−フルオロ−５−ヒドロキシフェニル）−１，２−オキシジエチレン−４−ピラゾリン−３−オン（１．００ｇ，３．００ｍｍｏｌ）を少量ずつ加え、０℃で１０分間攪拌した。反応終了後、反応液を氷水に注ぎ、析出した固体をろ取した。得られた固体を水及びジエチルエ−テルで洗浄した後、減圧乾燥することにより、５−クロロ−４−（４−クロロ−６−フルオロ−３−ヒドロキシ−２−ニトロフェニル）−１，２−オキシジエチレン−４−ピラゾリン−３−オンの茶色固体（１．１２ｇ，収率：９９％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ９．８０（ｂｒｓ，１Ｈ），７．５０（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），４．３７−４．１７（ｍ，４Ｈ），４．００−３．８６（ｍ，４Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１１６．９（ｓ，１Ｆ）．
参考例−１５

５−クロロ−４−（４−クロロ−６−フルオロ−３−ヒドロキシ−２−ニトロフェニル）−１，２−オキシジエチレン−４−ピラゾリン−３−オン（４．００ｇ，１０．６ｍｍｏｌ）の酢酸（１００ｍＬ）溶液に、還元鉄（１．７７ｇ，３１．７ｍｍｏｌ）を加え、室温で２７時間攪拌した。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、不溶物をろ別後、ろ液に水（２００ｍＬ）を加え、酢酸エチル（１００ｍＬ×３）で抽出した。有機層を水（１００ｍＬ×２）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１００ｍＬ×３）及び飽和食塩水（１００ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮することにより、４−（２−アミノ−４−クロロ−６−フルオロ−３−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−１，２−オキシジエチレン−４−ピラゾリン−３−オンの茶色固体（２．５２ｇ，収率：６９％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ６．５１（ｄ，Ｊ＝９．４Ｈｚ，１Ｈ），５．９２（ｂｒｓ，１Ｈ），４．６３（ｂｒｓ，２Ｈ），４．３３−４．３０（ｍ，２Ｈ），４．３０−４．２５（ｍ，２Ｈ），３．９７−３．９３（ｍ，４Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１２０．０（ｓ，１Ｆ）．
実施例−１１

５−クロロ−４−（４−クロロ−２，６−ジフルオロ−３−ニトロフェニル）−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−３−オン（１．００ｇ，２．７５ｍｍｏｌ）の１，４−ジオキサン（１４ｍＬ）溶液に、トリエチルアミン（１．７８ｍＬ，１２．８ｍｍｏｌ）とグリシンエチルエステル塩酸塩（６１３ｍｇ，４．２６ｍｍｏｌ）を加え、９０℃で２２時間攪拌した。反応終了後、反応液へ水（５０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（５０ｍＬ×３）で抽出した。合一した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−（酢酸エチル：メタノ−ル＝９：１）で精製することにより、Ｎ−［３−クロロ−６−（５−クロロ−３−オキソ−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−４−イル）−５−フルオロ−２−ニトロフェニル］グリシンエチルエステルの黄色固体（４４９ｍｇ，収率：３７％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ６．７４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），５．３４（ｍ，１Ｈ），４．１８（ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９０（ｍ，１Ｈ），３．８４−３．７０（ｍ，４Ｈ），３．６５（ｍ，１Ｈ），２．０９−２．０１（ｍ，２Ｈ），１．９８−１．９１（ｍ，２Ｈ），１．２５（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，３Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１０３．５（ｓ，１Ｆ）．

Ｎ−［３−クロロ−６−（５−クロロ−３−オキソ−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−４−イル）−５−フルオロ−２−ニトロフェニル］グリシンエチルエステル（４７０ｍｇ，１．０５ｍｍｏｌ）の酢酸（５ｍＬ）溶液に、水（２００μＬ）および還元鉄（２９３ｍｇ，５．２５ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で２時間攪拌した。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、不溶物をろ別後、ろ液に水（５０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（５０ｍＬ×３）で抽出した。合一した有機層を水（５０ｍＬ×２）飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５０ｍＬ×３）および飽和食塩水（５０ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−（酢酸エチル：メタノ−ル＝９：１）で精製することにより、８−クロロ−５−（５−クロロ−３−オキソ−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−４−イル）−６−フルオロ−３，４−ジヒドロキノキサリン−２（１Ｈ）−オンの淡黄色固体（２４３ｍｇ，収率：６２％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ７．７１（ｂｒｓ，１Ｈ），６．６３（ｄ，Ｊ＝９．３Ｈｚ，１Ｈ），５．１４（ｂｒｓ，１Ｈ），４．１２（ｄ，Ｊ＝１６．２Ｈｚ，１Ｈ），３．９７（ｄ，Ｊ＝１６．２Ｈｚ，１Ｈ），３．９６（ｍ，１Ｈ），３．８２（ｍ，１Ｈ），３．７４（ｍ，１Ｈ），３．６９（ｍ，１Ｈ），２．１０−２．０１（ｍ，２Ｈ），２．０１−１．８８（ｍ，２Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１１６．１（ｓ，１Ｆ）．
実施例−１２

５−クロロ−４−（４−クロロ−２，６−ジフルオロ−３−ニトロフェニル）−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−３−オン（１．００ｇ，２．７５ｍｍｏｌ）の１，４−ジオキサン（１４ｍＬ）溶液に、トリエチルアミン（３ｍＬ，２１．７ｍｍｏｌ）とＬ−アラニンメチルエステル塩酸塩（１．０２ｇ，７．２３ｍｍｏｌ）を加え、９０℃〜１２０℃で２７時間攪拌した。反応終了後、反応液へ水（５０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（５０ｍＬ×３）で抽出した。合一した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−（酢酸エチル：メタノ−ル＝９：１）で精製することにより、Ｎ−［３−クロロ−６−（５−クロロ−３−オキソ−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−４−イル）−５−フルオロ−２−ニトロフェニル］−Ｌ−アラニンメチルエステルの黄色固体（４９１ｍｇ，収率：４０％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ６．８４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，０．６Ｈ），６．８１（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，０．４Ｈ），５．３８（ｍ，０．４Ｈ），５．２２（ｍ，０．６Ｈ），３．９９−３．７７（ｍ，３Ｈ），３．７７−３．６０（ｍ，２Ｈ），３．６６（ｓ，１．２Ｈ），３．６２（ｓ，１．８Ｈ），２．０９−１．９８（ｍ，２Ｈ），１．９８−１．９０（ｍ，２Ｈ），１．３３−１．２８（ｍ，３Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１０２．４（ｓ，０．４Ｆ），−１０２．９（ｓ，０．６Ｆ）．

Ｎ−［３−クロロ−６−（５−クロロ−３−オキソ−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−４−イル）−５−フルオロ−２−ニトロフェニル］−Ｌ−アラニンメチルエステル（４９１ｍｇ，１．１０ｍｍｏｌ）の酢酸（５．５ｍＬ）溶液に、水（２００μＬ）および還元鉄（３１０ｍｇ，５．５０ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で６時間攪拌した。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、不溶物をろ別後、ろ液に水（５０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（５０ｍＬ×３）で抽出した。有機層を水（５０ｍＬ×２）飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５０ｍＬ×３）および飽和食塩水（５０ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−（酢酸エチル：メタノ−ル＝９：１）で精製後、クロロホルムに溶解し、ヘキサンを加えて析出した固体をろ取することにより、（Ｓ）−８−クロロ−５−（５−クロロ−３−オキソ−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−４−イル）−６−フルオロ−３−メチル−３，４−ジヒドロキノキサリン−２（１Ｈ）−オンの白色固体（１５８ｍｇ，収率：３７％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ７．６６（ｂｒｓ，１Ｈ），６．６４（ｄ，Ｊ＝９．４Ｈｚ，０．５Ｈ），６．６４（ｄ，Ｊ＝９．４Ｈｚ，０．５Ｈ），５．１３（ｂｒｓ，０．５Ｈ），５．０６（ｂｒｓ，０．５Ｈ），４．１６−３．９３（ｍ，２Ｈ），３．８８−３．７８（ｍ，１Ｈ），３．７８−３．６６（ｍ，１Ｈ），３．６６−３．５５（ｍ，１Ｈ），２．１０−２．０１（ｍ，２Ｈ），２．０１−１．８８（ｍ，２Ｈ），１．５４−１．４３（ｍ，３Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１１６．０（ｓ，０．５Ｆ），−１１６．２（ｓ，０．５Ｆ）．
実施例−１３

５−クロロ−４−（４−クロロ−２，６−ジフルオロ−３−ニトロフェニル）−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−３−オン（１．００ｇ，２．７５ｍｍｏｌ）の１，４−ジオキサン（１４ｍＬ）溶液に、トリエチルアミン（２．１ｍＬ，１５．１ｍｍｏｌ）とＤ−アラニンメチルエステル塩酸塩（１．２０ｇ，８．２５ｍｍｏｌ）を加え、１１５℃で２３時間攪拌した。反応終了後、反応液へ水（５０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（５０ｍＬ×３）で抽出した。合一した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−（酢酸エチル：メタノ−ル＝９：１）で精製することにより、Ｎ−［３−クロロ−６−（５−クロロ−３−オキソ−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−４−イル）−５−フルオロ−２−ニトロフェニル］−Ｄ−アラニンメチルエステルの黄色固体（４４６ｍｇ，収率：３６％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ６．８４（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，０．６Ｈ），６．８１（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，０．４Ｈ），５．２８（ｍ，０．４Ｈ），５．２２（ｍ，０．６Ｈ），４．００−３．７８（ｍ，３Ｈ），３．７７−３．５９（ｍ，２Ｈ），３．６７（ｓ，１．２Ｈ），３．６３（ｓ，１．８Ｈ），２．０９−１．９９（ｍ，２Ｈ），１．９９−１．９５（ｍ，２Ｈ），１．３４−１．２８（ｍ，３Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１０２．４（ｓ，０．４Ｆ），−１０２．９（ｓ，０．６Ｆ）．

Ｎ−［３−クロロ−６−（５−クロロ−３−オキソ−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−４−イル）−５−フルオロ−２−ニトロフェニル］−Ｄ−アラニンメチルエステル（３０２ｍｇ，０．６７５ｍｍｏｌ）の酢酸（３．４ｍＬ）溶液に、水（１２０μＬ）および還元鉄（１８８ｍｇ，３．３８ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で２時間攪拌した。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、不溶物をろ別後、ろ液に水（５０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（５０ｍＬ×３）で抽出した。有機層を水（５０ｍＬ×２）飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５０ｍＬ×３）および飽和食塩水（５０ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−（酢酸エチル：メタノ−ル＝９：１）で精製後、酢酸エチルおよびヘキサンで洗浄することにより、（Ｒ）−８−クロロ−５−（５−クロロ−３−オキソ−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−４−イル）−６−フルオロ−３−メチル−３，４−ジヒドロキノキサリン−２（１Ｈ）−オンの白色固体（１５８ｍｇ，収率：６１％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ７．６６（ｂｒｓ，１Ｈ），６．６４（ｄ，Ｊ＝９．４Ｈｚ，０．５Ｈ），６．６３（ｄ，Ｊ＝９．４Ｈｚ，０．５Ｈ），５．１３（ｂｒｓ，０．５Ｈ），５．０６（ｂｒｓ，０．５Ｈ），４．１６−３．９６（ｍ，２Ｈ），３．８８−３．７８（ｍ，１Ｈ），３．７８−３．６６（ｍ，１Ｈ），３．６６−３．５４（ｍ，１Ｈ），２．１０−２．００（ｍ，２Ｈ），２．００−１．８７（ｍ，２Ｈ），１．５５−１．５０（ｍ，１．５Ｈ），１．４９−１．４３（ｍ，１．５Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１１６．０（ｓ，０．５Ｆ），−１１６．２（ｓ，０．５Ｆ）．
実施例−１４

５−クロロ−４−（４−クロロ−２，６−ジフルオロ−３−ニトロフェニル）−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−３−オン（１．００ｇ，２．７５ｍｍｏｌ）の１，４−ジオキサン（１４ｍＬ）溶液に、トリエチルアミン（２．５ｍＬ，１８．２ｍｍｏｌ）とＤＬ−２−アミノ酪酸メチル塩酸塩（１．４３ｇ，９．１０ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃で２１時間攪拌した。反応終了後、反応液へ水（５０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（５０ｍＬ×３）で抽出した。合一した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−（酢酸エチル：メタノ−ル＝９：１）で精製することにより、２−［｛３−クロロ−６−（５−クロロ−３−オキソ−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−４−イル）−５−フルオロ−２−ニトロフェニル｝アミノ］ブテン酸メチルの黄色固体（５５４ｍｇ，収率：４４％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ６．８５（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，０．６Ｈ），６．８０（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，０．４Ｈ），５．３７（ｍ，０．４Ｈ），５．２３（ｍ，０．６Ｈ），３．９２−３．６２（ｍ，５Ｈ），３．６５（ｓ，１．２Ｈ），３．６１（ｓ，１．８Ｈ），２．０９−１．９９（ｍ，２Ｈ），１．９９−１．８７（ｍ，２Ｈ），１．７３−１．５９（ｍ，２Ｈ），０．９０−０．８５（ｍ，１．８Ｈｚ），０．８５−０．８０（ｍ，１．２Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１０２．２（ｓ，０．４Ｆ），−１０２．８（ｓ，０．６Ｆ）．

２−［｛３−クロロ−６−（５−クロロ−３−オキソ−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−４−イル）−５−フルオロ−２−ニトロフェニル｝アミノ］ブテン酸メチル（３６６ｍｇ，０．７９３ｍｍｏｌ）の酢酸（４ｍＬ）溶液に、水（１４０μＬ）および還元鉄（２２１ｍｇ，３．９７ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で２時間攪拌した。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、不溶物をろ別後、ろ液に水（５０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（５０ｍＬ×３）で抽出した。有機層を水（５０ｍＬ×２）飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５０ｍＬ×３）および飽和食塩水（５０ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−（酢酸エチル：メタノ−ル＝９：１）で精製することにより、８−クロロ−５−（５−クロロ−３−オキソ−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−４−イル）−３−エチル−６−フルオロ−３，４−ジヒドロキノキサリン−２（１Ｈ）−オンの白色固体（２４１ｍｇ，収率：６２％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ７．６８（ｂｒｓ，１Ｈ），６．６１（ｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，０．５Ｈ），６．５９（ｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，０．５Ｈ），５．２０（ｂｒｓ，１Ｈ），４．０４−３．９２（ｍ，２Ｈ），３．８８−３．６６（ｍ，２Ｈ），３．６６−３．５４（ｍ，１Ｈ），２．１０−２．００（ｍ，２Ｈ），２．００−１．７０（ｍ，４Ｈ），１．１２−１．０２（ｍ，１．５Ｈ），１．０２−０．９３（ｍ，１．５Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１１６．２（ｓ，０．５Ｆ），−１１６．２（ｓ，０．５Ｆ）．
参考例−１６

４−ブロモ−３，５−ジフルオロアニリン（２５．０ｇ，１１７ｍｍｏｌ）、塩化銅（Ｉ）（２３．１ｇ，２３０ｍｍｏｌ）及び塩化銅（ＩＩ）（４７．０ｇ，３５０ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（１５０ｍＬ）混合液に、室温で亜硝酸イソアミル（４９．０ｍＬ，３５０ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（５０ｍＬ）溶液を滴下した。この混合溶液を室温にて４時間撹拌した後、２Ｎ塩酸（３００ｍＬ）に注ぎいれ、ジエチルエ−テル（２００ｍＬ×３）で抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去することにより、褐色固体の粗生成物を得た。このものをシリカゲルカラム（ヘキサン）で精製することにより、２−ブロモ−５−クロロ−１，３−ジフルオロベンゼンの黄色油状物（２１．４ｇ，収率：８１％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ７．０５−６．９６（ｍ，２Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１０３．３（ｓ，２Ｆ）．
２−ブロモ−５−クロロ−１，３−ジフルオロベンゼン（１９．４７ｇ，８５．６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（４０ｍＬ）溶液に、イソプロピルマグネシウムクロリド溶液（４３．７ｍＬ，２Ｍ−ＴＨＦ溶液）を−４０℃で加え、室温で２０分間撹拌した。得られたグリニャ−ル試薬のＴＨＦ溶液を、シュウ酸ジエチル（１１．２ｍＬ，８１．１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１０ｍＬ）溶液に−４０℃で滴下し、０℃で３０分間撹拌した。反応溶液に飽和塩化アンモニウム水溶液（５０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（１００ｍＬ×３）で抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮することにより、２−（４−クロロ−２，６−ジフルオロフェニル）−２−オキソ酢酸エチルの白色固体（１９．７ｇ，収率：９２％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ７．１０−７．０２（ｍ，２Ｈ），４．４２（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），１．３９（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１０８．３（ｓ，２Ｆ）．
トリフェニルホスフィン（４１．５ｇ，１５８ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（８０ｍＬ）溶液に、四塩化炭素（１５．３ｍＬ）を氷冷下で加えた。次いで、２−（４−クロロ−２，６−ジフルオロフェニル）−２−オキソ酢酸エチル（１９．６６ｇ，７９．１ｍｍｏｌ）を加えて、室温で１２時間撹拌した。反応終了後、反応液にヘプタン（１００ｍＬ）を加えた後、減圧下にジクロロメタンを除去した。この残渣を５０％ＤＭＦ水溶液で洗浄後、減圧濃縮することにより、３，３−ジクロロ−２−（４−クロロ−２，６−ジフルオロフェニル）アクリル酸エチルの黄色油状物（２２．６ｇ，収率：９１％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ７．０４−６．９７（ｍ，２Ｈ），４．２４（ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），１．２３（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，３Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１０８．７（ｓ，２Ｆ）．
参考例−１７

３，３−ジクロロ−２−（４−クロロ−２，６−ジフルオロフェニル）アクリル酸エチル（９．５５ｇ，３０．３ｍｍｏｌ）の１，４−ジオキサン（６１ｍＬ）溶液に、トリエチルアミン（１３．９ｍＬ，９９．９ｍｍｏｌ）及びヘキサヒドロピリダジン二臭化水素塩（８．２６ｇ，３３．３ｍｍｏｌ）を加え、６時間還流した。反応終了後、反応液に水（５０ｍＬ）を注ぎ、酢酸エチル（５０ｍＬ×３）で抽出した。合一した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をジエチルエ−テルで洗浄後、乾燥することにより、５−クロロ−４−（４−クロロ−２，６−ジフルオロフェニル）−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−３−オンの白色固体（８．４０ｇ，収率：８７％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ７．０１（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），３．８６−３．８１（ｍ，２Ｈ），３．６７−３．６３（ｍ，２Ｈ），２．０５−１．９８（ｍ，２Ｈ），１．９５−１．８７（ｍ，２Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１０７．５（ｓ，２Ｆ）．
参考例−１８

５−クロロ−４−（４−クロロ−２，６−ジフルオロフェニル）−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−３−オン（２．５０ｇ，７．８３ｍｍｏｌ）の濃硫酸（８ｍＬ）の懸濁液に、６９％硝酸（０．７５０ｇ，８．２２ｍｍｏｌ）と濃硫酸（２．４ｍＬ）から調製した混酸を氷冷下で滴下し、同温にて２時間攪拌した。反応終了後、氷水（１００ｇ）中に反応液を注ぎ、析出した固体をろ取し、水及びジエチルエ−テルで洗浄後、乾燥することにより、５−クロロ−４−（４−クロロ−２，６−ジフルオロ−３−ニトロフェニル）−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−３−オンの淡黄色固体（２．５２ｇ，収率：８８％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ７．１８（ｄｄ，Ｊ＝８．４ ａｎｄ ２．１Ｈｚ，１Ｈ），３．９１−３．７８（ｍ，２Ｈ），３．７７−３．６４（ｍ，２Ｈ），２．０８−２．００（ｍ，２Ｈ），１．９８−１．９０（ｍ，２Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１０１．０（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｆ），−１１４．７（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｆ）．
参考例−１９

３，３−ジクロロ−２−（４−クロロ−２，６−ジフルオロフェニル）アクリル酸エチル（６．００ｇ，１９．０ｍｍｏｌ）の１，４−ジオキサン（３８ｍＬ）溶液に、トリエチルアミン（８．８ｍＬ，６２．８ｍｍｏｌ）及び１，４，５−オキサジアゼパン二臭化水素塩（５．５２ｇ，２０．９ｍｍｏｌ）を加え、１９時間還流した。反応終了後、反応液に水（５０ｍＬ）を注ぎ、酢酸エチル（１００ｍＬ×４）で抽出した。合一した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物をジエチルエ−テルで洗浄後、乾燥することにより、５−クロロ−４−（４−クロロ−２，６−ジフルオロフェニル）−１，２−オキシジエチレン−４−ピラゾリン−３−オンの黄褐色固体（５．６１ｇ，収率：８８％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ７．０１（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），４．２９−４．２６（ｍ，２Ｈ），４．２６−４．２２（ｍ，２Ｈ），３．９６−３．９２（ｍ，４Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１０７．６（ｓ，２Ｆ）．
参考例−２０

５−クロロ−４−（４−クロロ−２，６−ジフルオロフェニル）−１，２−オキシジエチレン−４−ピラゾリン−３−オン（５．３０ｇ，１５．８ｍｍｏｌ）の濃硫酸（１６ｍＬ）の懸濁液に、６９％硝酸（１．５２ｇ，１６．６ｍｍｏｌ）と濃硫酸（５ｍＬ）から調製した混酸を氷冷下で滴下し、同温にて１．５時間攪拌した。反応終了後、氷水（１００ｇ）中に反応液を注ぎ、酢酸エチル（１００ｍＬ×２）で抽出した。合一した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた粗生成物を酢酸エチル及びジエチルエ−テルで洗浄することにより、５−クロロ−４−（４−クロロ−２，６−ジフルオロ−３−ニトロフェニル）−１，２−オキシジエチレン−４−ピラゾリン−３−オンの淡黄色固体（１．０４ｇ，収率：６７％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ７．１８（ｄｄ，Ｊ＝８．５ ａｎｄ ２．１Ｈｚ，１Ｈ），４．３５−４．２３（ｍ，４Ｈ），４．００−３．９１（ｍ，４Ｈ）；^１９Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ−１０１．０（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｆ），−１１４．７（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｆ）．
以上の実施例、参考例に示した方法に準じた方法より製造できる本発明のピラゾリノン誘導体（１）の具体例を表−１、表−２及び表−３に例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

次に、本発明化合物を有効成分とする除草剤の製剤例、及び本発明の除草剤を用いた試験例を挙げて、本発明を更に詳細に説明するが、本発明の除草剤はこれらに限定されるものではない。なお、製剤例中の「部」は重量部を示す。

製剤例−１（乳剤）
本発明化合物を１０部、キシレン３１部、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２７部、１−メチル−２−ピロリドン２２部、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン１部、ＮＫ．ＳＴ−３０（竹本油脂）９部を均一に混合し乳剤を得た。

製剤例−２（水和剤）
本発明化合物を５０部、珪藻土２５部、クレ−２２部、ルノックス１０００Ｃ（東邦化学製）３部の混合物を均等に混合粉砕して水和剤を得た。

製剤例−３（粒剤）
本発明化合物を５部、ベントナイト３５部、タルク５５部、リグニンスルホン酸ソ−ダ５部の混合物を均一に混合粉砕したのち、水を加えて混練し、押し出し造粒器で粒剤化した後、乾燥、整粒して粒剤を得た。

以上に示した方法に準じて調製した製剤を使用して、下記試験例に示す方法に従って本発明のピラゾリノン誘導体の除草効果を調査した。供試雑草に対する除草効果あるいは供試作物に対する薬害について、下記に示す基準で判定し、０〜５の６段階スコアで評価した。
除草効果及び薬害の判定基準
５：９０％以上の除草効果／薬害
４：７０％〜９０％の除草効果／薬害
３：５０％〜７０％の除草効果／薬害
２：３０％〜５０％の除草効果／薬害
１：１０％〜３０％の除草効果／薬害
０：０％〜１０％の除草効果／薬害
試験例−１（湛水条件における雑草発生前処理による除草効果試験）
３０ｃｍ^２のプラスチックカップに水田土壌を充填し、代かき後この中にタイヌビエ（Echinochloa crus−galli）、タマガヤツリ（Cyperus difformis）、コナギ（Monochoria vaginalis）、ホタルイ（Scirpus juncoides）、マツバイ（Eleocharis acicularis）、その他１年生広葉雑草としてアゼナ（Lindernia procumbens）、キカシグサ（Rotala indica）、ミゾハコベ（Elatine triandra）の種子を播種して湛水状態に保った。雑草播種当日に製剤例に準じて調製した本発明化合物の水和剤または乳剤を希釈し、所定の薬量になるように湛水処理した。処理後約１５日に供試雑草に対する除草効果について、前述した０〜５の６段階の判定基準で評価した。表−４にその結果を示す。

試験例−２（畑条件における雑草発生前土壌処理による除草効果試験）
面積６５ｃｍ^２深さ２ｃｍのバットに畑土壌を充填し、これにアオビユ（Amaranthus viridis）、シロザ（Chenopodium album）、イチビ（Abutilon theophrasti）、メヒシバ（Digitaria ciliaris）の種子を播種し、その上に０．５ｃｍの覆土をした。翌日、製剤例に準じて調製した本発明化合物の水和剤または乳剤を希釈し、所定の薬量になるように覆土上に均一に噴霧処理した。処理後約２１日に供試雑草に対する除草効果について、前述した０〜５の６段階の判定基準で評価した。表−５にその結果を示す。

試験例−３（畑条件における雑草発生前土壌処理による除草効果及び薬害試験）
面積８１ｃｍ^２深さ３．５ｃｍのバットに畑土壌を充填し、これにアオビユ（Amaranthus viridis）、シロザ（Chenopodium album）の種子及びトウモロコシとダイズの種子を播種し、その上に０．５ｃｍの覆土をした。翌日、製剤例に準じて調製した本発明化合物の水和剤または乳剤を希釈し、所定の薬量になるように覆土上に均一に噴霧処理した。処理後約２１日に供試雑草に対する除草効果及びトウモロコシとダイズに対する薬害について、前述した０〜５の６段階の判定基準で評価した。表−６にその結果を示す。

試験例−４（畑条件における雑草発生後茎葉処理による除草効果試験）
面積６５ｃｍ^２深さ２ｃｍのバットに畑土壌を充填し、これにアオビユ（Amaranthus viridis）、イチビ（Abutilon theophrasti）、シロザ（Chenopodium album）の種子を播種し、その上に０．５ｃｍの覆土をした。これに適宜散水し１４日間生育させた。製剤例に準じて調製した本発明化合物の水和剤または乳剤を希釈し所定の薬量になるように植物の茎葉部にヘクタ−ル当たり４０００リットルの水量で均一に噴霧処理した。処理後１４日後に供試雑草に対する除草効果について、前述した０〜５の６段階の判定基準で評価した。表−７にその結果を示す。

試験例−５（畑条件における雑草発生後茎葉処理による除草効果及び薬害試験）
面積８１ｃｍ^２深さ３．５ｃｍのバットに畑土壌を充填し、これにマルバアサガオ（Ipomoea purpurea）、アオビユ（Amaranthus viridis）、イチビ（Abutilon theophrasti）、シロザ（Chenopodium album）の種子及びトウモロコシの種子を播種し、その上に０．５ｃｍの覆土をした。これに適宜散水し１４日間生育させた。製剤例に準じて調製した本発明化合物の水和剤または乳剤を希釈し所定の薬量になるように植物の茎葉部にヘクタ−ル当たり４０００リットルの水量で均一に噴霧処理した。処理後１４日後に供試雑草に対する除草効果及びトウモロコシに対する薬害について、前述した０〜５の６段階の判定基準で評価した。表−８にその結果を示す。

本発明のピラゾリノン誘導体の有効量を、水田又は畑等に処理することにより、有害な雑草を効果的に防除することができる。

Claims (14)

1. 一般式（１）
   

   

   ［式中、Ｒ^１は、ハロゲン原子を表し、Ｒ^２及びＲ^３は、一体となって、トリメチレン基（−（ＣＨ_２）_３−）、テトラメチレン基（−（ＣＨ_２）_４−）、ペンタメチレン基（−（ＣＨ_２）_５−）又はオキシジエチレン基（−（ＣＨ_２）_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−）を表す。Ａｒは、一般式（Ａｒ−ａ）
   

   

   （式中、Ｒ^４は、水素原子又はハロゲン原子を表し、Ｒ^５は、ハロゲン原子を表す。Ｒ^６ａは、水素原子を表す。Ｒ^７ａは、水素原子又はＣ_１−Ｃ_６アルキル基を表す。）で示される３−オキソ−１，４−ベンゾオキサジン−５−イル基；一般式（Ａｒ−ｂ）
   

   

   （式中、Ｒ^４及びＲ^５は、前記と同じ意味を表す。）で示される２，２−ジフルオロ−３−オキソ−１，４−ベンゾオキサジン−５−イル基；又は一般式（Ａｒ−ｃ）
   

   

   （式中、Ｒ^４及びＲ^５は、前記と同じ意味を表す。Ｒ^６ｂは、水素原子を表し、Ｒ^７ｂは、水素原子又はＣ_１−Ｃ_６アルキル基を表す。）で示される３，４−ジヒドロ−２−オキソキノキサリン−５−イル基；を表す。］で示されるピラゾリノン誘導体。
2. Ｒ^１が塩素原子であり、一体となったＲ^２及びＲ^３が、トリメチレン基又はオキシジエチレン基であり、Ｒ^４がフッ素原子又は塩素原子であり、Ｒ^５が塩素原子又はフッ素原子である請求項１に記載のピラゾリノン誘導体。
3. Ｒ^７ａ及びＲ^７ｂがメチル基、エチル基又はプロピル基である請求項１又は２に記載のピラゾリノン誘導体。
4. 一般式（１）で示される化合物が、８−クロロ−５−（５−クロロ−３−オキソ−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−４−イル）−２−エチル−６−フルオロ−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−３（４Ｈ）−オン、８−クロロ−５−（５−クロロ−３−オキソ−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−４−イル）−６−フルオロ−２−プロピル−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−３（４Ｈ）−オン、５−クロロ−４−（８−クロロ−６−フルオロ−３−オキソ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−５−イル）−１，２−オキシジエチレン−４−ピラゾリン−３−オン、５−クロロ−４−（８−クロロ−２−エチル−６−フルオロ−３−オキソ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−５−イル）−１，２−オキシジエチレン−４−ピラゾリン−３−オン、５−クロロ−４−（８−クロロ−６−フルオロ−３−オキソ−２−プロピル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−５−イル）−１，２−オキシジエチレン−４−ピラゾリン−３−オン、（Ｓ）−８−クロロ−５−（５−クロロ−３−オキソ−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−４−イル）−６−フルオロ−３−メチル−３，４−ジヒドロキノキサリン−２（１Ｈ）−オン、（Ｒ）−８−クロロ−５−（５−クロロ−３−オキソ−１，２−テトラメチレン−４−ピラゾリン−４−イル）−６−フルオロ−３−メチル−３，４−ジヒドロキノキサリン−２（１Ｈ）−オンからなる群より選択される１つの化合物である請求項１に記載のピラゾリノン誘導体。
5. 一般式（２ａ）
   

   

   ［式中、Ｒ^１は、ハロゲン原子を表し、Ｒ^２及びＲ^３は、一体となって、トリメチレン基（−（ＣＨ_２）_３−）、テトラメチレン基（−（ＣＨ_２）_４−）、ペンタメチレン基（−（ＣＨ_２）_５−）又はオキシジエチレン基（−（ＣＨ_２）_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−）を表す。Ｒ^４は、水素原子又はハロゲン原子を表し、Ｒ^５は、ハロゲン原子を表す。］で示されるピラゾリノン誘導体と、一般式（３ａ）
   

   

   （式中、Ｒ^６ａは、水素原子を表し、Ｒ^７ａは、水素原子又はＣ_１−Ｃ_６アルキル基を表す。Ｒ^８はＣ_１−Ｃ_４アルキル基を表す。）で示されるブロモ酢酸エステル類を、塩基の存在下に反応させることを特徴とする、一般式（１ａ）
   

   

   （式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６ａ及びＲ^７ａは、前記と同じ意味を表す。）で示されるピラゾリノン誘導体の製造方法。
6. 一般式（２ｂ）
   

   

   （式中、Ｒ^１は、ハロゲン原子を表し、Ｒ^２及びＲ^３は、一体となって、トリメチレン基（−（ＣＨ_２）_３−）、テトラメチレン基（−（ＣＨ_２）_４−）、ペンタメチレン基（−（ＣＨ_２）_５−）又はオキシジエチレン基（−（ＣＨ_２）_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−）を表す。Ｒ^４は、水素原子又はハロゲン原子を表し、Ｒ^５は、ハロゲン原子を表す。）で示されるピラゾリノン誘導体と、一般式（３ａ）
   

   

   （式中、Ｒ^６ａは、水素原子を表し、Ｒ^７ａは、水素原子又はＣ_１−Ｃ_６アルキル基を表す。Ｒ^８はＣ_１−Ｃ_４アルキル基を表す。）で示されるブロモ酢酸エステル類を、塩基の存在下に反応させ、一般式（４ａ）
   

   

   （式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６ａ、Ｒ^７ａ及びＲ^８は、前記と同じ意味を表す。）で示されるピラゾリノン誘導体を得、次いで還元することを特徴とする、一般式（１ａ）
   

   

   （式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６ａ及びＲ^７ａは、前記と同じ意味を表す。）で示されるピラゾリノン誘導体の製造方法。
7. 一般式（２ｂ）
   

   

   （式中、Ｒ^１は、ハロゲン原子を表し、Ｒ^２及びＲ^３は、一体となって、トリメチレン基（−（ＣＨ_２）_３−）、テトラメチレン基（−（ＣＨ_２）_４−）、ペンタメチレン基（−（ＣＨ_２）_５−）又はオキシジエチレン基（−（ＣＨ_２）_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−）を表す。Ｒ^４は、水素原子又はハロゲン原子を表し、Ｒ^５は、ハロゲン原子を表す。）で示されるピラゾリノン誘導体と、一般式（３ｂ）
   

   

   （式中、Ｒ^８はＣ_１−Ｃ_４アルキル基を表す。）で示されるブロモジフルオロ酢酸アミドを、塩基の存在下に反応させて、一般式（４ｂ）
   

   

   （式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^８は、前記と同じ意味を表す。）で示されるピラゾリノン誘導体を得、次いで還元することを特徴とする、一般式（１ｂ）
   

   

   （式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５は、前記と同じ意味を表す。）で示されるピラゾリノン誘導体の製造方法。
8. 一般式（２ｃ）
   

   

   （式中、Ｒ^１は、ハロゲン原子を表し、Ｒ^２及びＲ^３は、一体となって、トリメチレン基（−（ＣＨ_２）_３−）、テトラメチレン基（−（ＣＨ_２）_４−）、ペンタメチレン基（−（ＣＨ_２）_５−）又はオキシジエチレン基（−（ＣＨ_２）_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−）を表す。Ｒ^４は、水素原子又はハロゲン原子を表し、Ｒ^５は、ハロゲン原子を表す。）で示されるピラゾリノン誘導体と、一般式（３ｃ）
   

   

   （式中、Ｒ^６ｂは、水素原子を表し、Ｒ^７ｂは、水素原子又はＣ_１−Ｃ_６アルキル基を表す。Ｒ^８はＣ_１−Ｃ_４アルキル基を表す。）で示されるアミノ酸エステル類を、塩基の存在下に反応させ、一般式（４ｃ）
   

   

   （式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６ｂ、Ｒ^７ｂ及びＲ^８は、前記と同じ意味を表す。）で示されるピラゾリノン誘導体を得、次いで還元することを特徴とする、一般式（１ｃ）
   

   

   （式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６ｂ及びＲ^７ｂは、前記と同じ意味を表す。）で示されるピラゾリノン誘導体の製造方法。
9. 請求項１から４のいずれか一項に記載のピラゾリノン誘導体を有効成分として含有する除草剤。
10. 畑地雑草防除用または水田雑草防除用である請求項９に記載の除草剤。
11. 畑地雑草防除用であり、該畑地における作物が小麦、大豆またはトウモロコシである請求項１０に記載の除草剤。
12. 茎葉及び／または土壌処理剤である請求項９から１１のいずれか一項に記載の除草剤。
13. 請求項１から４のいずれか一項に記載のピラゾリノン誘導体の、雑草を防除するための使用。
14. 請求項１から４のいずれか一項に記載のピラゾリノン誘導体の有効量を適用することを含む雑草防除方法。