JP2016046329A - リソグラフィ装置、物品の製造方法、情報処理装置及び決定方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第1ショットサイズのショット領域の配列を有する第1層上に、前記第1ショットサイズのショット領域を複数カバーする第2ショットサイズのショット領域の配列を有する第2層を形成するリソグラフィ装置であって、前記第2層のショット領域の配列を示す候補ショットレイアウトを仮定して、前記候補ショットレイアウトで前記第2層を形成する場合における前記第1層の各ショット領域に形成されたパターンと前記第2層に形成されるパターンとの相対的な位置ずれ量を演算する演算部と、前記演算部で演算された前記位置ずれ量が許容範囲内に収まっている前記候補ショットレイアウトを、前記第2層を形成する際のショットレイアウトとして決定する決定部と、を有することを特徴とするリソグラフィ装置を提供する。
【選択図】図1
Description
図1は、本発明の第1の実施形態におけるリソグラフィ装置1の構成を示す概略図である。リソグラフィ装置1は、半導体デバイスなどの製造工程であるリソグラフィ工程で使用され、本実施形態では、原版としてのマスクのパターンを投影光学系によって基板に投影して基板を露光する露光装置として具現化される。
図9は、本発明の第2の実施形態におけるリソグラフィ装置9の構成を示す概略図である。リソグラフィ装置9は、半導体デバイスなどの製造工程であるリソグラフィ工程で使用され、本実施形態では、基板上のインプリト材を原版としてのモールドで成形して基板上のパターンを形成するインプリント装置として具現化される。リソグラフィ装置9は、モールドと基板上のインプリント材とを接触させた状態でインプリント材を硬化させ、基板上の硬化したインプリント材からモールドを引き離すことで基板上にパターンを形成するインプリント処理を行う。
第1記憶部109、演算部110及び第2記憶部111の機能は、リソグラフィ装置1の外部の情報処理装置が備えていてもよい。この場合、リソグラフィ装置1及び9は、演算部110によって演算された、或いは、第2記憶部111に記憶された下層の各ショット領域に形成されたパターンと原版のパターンとの相対的な位置ずれ量を情報処理装置から取得する。このように、第1記憶部109、演算部110及び第2記憶部111の機能を備えた情報処理装置も本発明の一側面を構成する。
本発明の実施形態における物品の製造方法は、例えば、半導体デバイスなどの物品を製造するのに好適である。かかる製造方法は、リソグラフィ装置1又は9を用いて、パターンを基板に形成する工程と、パターンを形成された基板を処理する工程とを含む。また、かかる製造方法は、上述した工程に続いて、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージングなど)を含みうる。本実施形態における物品の製造方法は、従来に比べて、物品の性能、品質、生産性及び生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
Claims (13)
- 第1ショットサイズのショット領域の配列を有する第1層上に、前記第1ショットサイズのショット領域を複数カバーする第2ショットサイズのショット領域の配列を有する第2層を形成するリソグラフィ装置であって、
前記第2層のショット領域の配列を示す候補ショットレイアウトを仮定して、前記候補ショットレイアウトで前記第2層を形成する場合における前記第1層の各ショット領域に形成されたパターンと前記第2層に形成されるパターンとの相対的な位置ずれ量を演算する演算部と、
前記演算部で演算された前記位置ずれ量が許容範囲内に収まっている前記候補ショットレイアウトを、前記第2層を形成する際のショットレイアウトとして決定する決定部と、
を有することを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記演算部は、前記第1層のショットレイアウトに対して選択可能な複数の候補ショットレイアウトを仮定して、前記複数の候補ショットレイアウトのそれぞれで前記第2層を形成する場合における前記第1層の各ショット領域に形成されたパターンと前記第2層に形成されるパターンとの相対的な位置ずれ量を演算し、
前記決定部は、前記複数の候補ショットレイアウトのうち、前記演算部で演算された前記位置ずれ量が許容範囲内に収まっている前記候補ショットレイアウトの1つを、前記第2層を形成する際のショットレイアウトとして決定することを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記決定部は、前記演算部で演算された前記位置ずれ量が最小となる候補ショットレイアウトを、前記第2層を形成する際のショットレイアウトとして決定することを特徴とする請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記決定部は、前記演算部で演算された前記位置ずれ量が許容範囲内に収まっている前記候補ショットレイアウトのうち、当該候補ショットレイアウトに含まれるショット領域の数が最小となる候補ショットレイアウトを、前記第2層を形成する際のショットレイアウトとして決定することを特徴とする請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第2層に形成されるパターンは、前記第2層を形成する際に用いられる原版のパターンであることを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記原版のパターンの位置の理想位置からの第1ずれ量、及び、前記第1層の各ショット領域に形成されたパターンの位置の理想位置からの第2ずれ量を記憶する記憶部を更に有し、
前記演算部は、前記記憶部に記憶された前記第1ずれ量及び前記第2ずれ量に基づいて、前記位置ずれ量を求めることを特徴とする請求項5に記載のリソグラフィ装置。 - 前記第1層の各ショット領域に設けられたマークと、前記原版に設けられたマークとの相対位置を検出する検出部を更に有し、
前記演算部は、前記検出部によって検出された前記相対位置に基づいて、前記位置ずれ量を求めることを特徴とする請求項5に記載のリソグラフィ装置。 - 前記原版のパターンの位置の理想位置からのずれ量を記憶する記憶部と、
前記第1層の各ショット領域に形成されたパターンの位置の理想位置からのずれ量を計測する計測部と、
を更に有し、
前記演算部は、前記記憶部に記憶された前記ずれ量、及び、前記計測部によって計測された前記ずれ量に基づいて、前記位置ずれ量を求めることを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記原版のパターンを投影光学系によって基板に投影することで前記第2層を形成することを特徴とする請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 基板上のインプリント材を前記原版で成形することで前記第2層を形成することを特徴とする請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 請求項1乃至10のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を処理する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。 - 第1ショットサイズのショット領域の配列を有する第1層上に、前記第1ショットサイズのショット領域を複数カバーする第2ショットサイズのショット領域の配列を有する第2層を形成するリソグラフィ装置におけるショットレイアウトを決定する情報処理装置であって、
前記第2層のショット領域の配列を示す候補ショットレイアウトを仮定して、前記候補ショットレイアウトで前記第2層を形成する場合における前記第1層の各ショット領域に形成されたパターンと前記第2層に形成されるパターンとの相対的な位置ずれ量を演算する演算部と、
前記演算部で演算された前記位置ずれ量が許容範囲内に収まっている前記候補ショットレイアウトを、前記第2層を形成する際のショットレイアウトとして決定する決定部と、
を有することを特徴とする情報処理装置。 - 第1ショットサイズのショット領域の配列を有する第1層上に、前記第1ショットサイズのショット領域を複数カバーする第2ショットサイズのショット領域の配列を有する第2層を形成する際のショットレイアウトを決定する決定方法であって、
前記第2層のショット領域の配列を示す候補ショットレイアウトを仮定して、前記候補ショットレイアウトで前記第2層を形成する場合における前記第1層の各ショット領域に形成されたパターンと前記第2層を形成されるパターンとの相対的な位置ずれ量を演算する工程と、
前記工程で演算された前記位置ずれ量が許容範囲内に収まっている前記候補ショットレイアウトを、前記第2層を形成する際のショットレイアウトとして決定する工程と、
を有することを特徴とする決定方法。
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