JP2016045932A - 表示装置および入力装置 - Google Patents

Abstract

【課題】入力装置を備えた表示装置において、入力装置により検出される信号が、ノイズの影響を受けにくくなるようにする。
【解決手段】表示装置１は、基板２１と、基板２１と対向する基板３１と、基板２１または基板３１に設けられた引き回し配線ＷＲＴと、基板３１の上面上に設けられた絶縁体部ＩＰｄと、を有する。引き回し配線ＷＲＴは、平面視において、周辺領域Ａｓ内に配置され、絶縁体部ＩＰｄは、平面視において、表示領域Ａｄと重なるように配置されている。絶縁体部ＩＰｄの側方に、絶縁体部ＩＰｄの誘電率よりも低い誘電率を有する絶縁体部、または、空間ＳＰｓ１が設けられている。絶縁体部、または、空間ＳＰｓ１は、平面視において、周辺領域Ａｓ内で、引き回し配線ＷＲＴと重なるように、配置されている。
【選択図】図６

Description

本発明は表示装置に関し、特に、静電容量方式の入力装置を備えた表示装置に関する。

近年、表示装置の表示面側に、タッチパネルあるいはタッチセンサと呼ばれる入力装置を取り付け、タッチパネルに指やタッチペンなどの入力具などを接触させて入力動作を行ったときに、入力位置を検出して出力する技術がある。このようなタッチパネルを有する表示装置は、キーボード、マウス、またはキーパッドなどの入力装置を必要としないため、コンピュータのほか、携帯電話などの携帯情報端末などで、広く使用されている。

タッチパネルに指などが接触した接触位置を検出する検出方式の一つとして、静電容量方式がある。静電容量方式を用いたタッチパネルでは、タッチパネルの面内に、誘電層を挟んで対向配置された一対の電極、すなわち駆動電極および検出電極からなる複数の容量素子が設けられている。そして、指やタッチペンなどの入力具を容量素子に接触させて入力動作を行ったときに、容量素子の静電容量が変化することを利用して、入力位置を検出する。

このような表示装置は、表示領域と、表示領域の周辺に位置する周辺領域とを有しており、表示領域内に、入力位置を検出するための駆動電極および検出電極が配置されている。例えば、特開２０１３−１６１４１号公報（特許文献１）には、活性領域、および、活性領域の周縁部に位置する非活性領域に区分される薄膜基板と、薄膜基板の活性領域に形成されたセンシングパターンと、を有するタッチスクリーンパネルが記載されている。

特開２０１３−１６１４１号公報

このような表示装置では、周辺領域内に、駆動電極と電気的に接続された引き回し配線を含む駆動電極ドライバ、または、検出電極と電気的に接続された引き回し配線が配置されている。また、表示領域内では、対向基板に含まれる基板の上面上には、例えば偏光板または樹脂などからなる誘電体が設けられている。

ところが、周辺領域内でも、表示領域内と同様に、対向基板に含まれる基板の上面上に、例えば偏光板または樹脂などからなる誘電体が設けられている場合、周辺領域で、表示装置に指または入力具を近づけたときに、周辺領域内に配置された引き回し配線と、指または入力具との間の静電容量が、相対的に大きくなる。したがって、周辺領域で、表示装置に指または入力具を近づけたときに、引き回し配線に指または入力具からのノイズが伝わりやすく、引き回し配線を通して検出される信号が、ノイズの影響を受けやすく、ノイズの強度に対する信号の強度の比が小さくなり、入力装置の検出性能を向上させることができない。

本発明は、上述のような従来技術の問題点を解決すべくなされたものであって、入力装置を備えた表示装置において、周辺領域で、表示装置に指または入力具を近づけたときに、入力装置により検出される信号が、ノイズの影響を受けにくい表示装置を提供することを目的とする。

本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。

本発明の一態様としての表示装置は、第１基板と、第１基板と対向する第２基板と、第１基板に設けられた複数の画素と、第１基板または第２基板に設けられた第１配線と、第２基板の第１主面上に設けられた第１絶縁体部と、第１絶縁体部の側方に設けられた第２絶縁体部または空間と、を有する。第２絶縁体部は、第１絶縁体部の誘電率よりも低い誘電率を有する。複数の画素は、平面視において、第２基板の第１主面の第１領域内に配置され、第１配線は、平面視において、第２基板の第１主面の領域であって、第１領域よりも第２基板の外周側に位置する領域である第２領域内に配置され、第１絶縁体部は、平面視において、第１領域と重なるように配置されている。第２絶縁体部または空間は、平面視において、第２領域内で、第１配線と重なるように配置されている。第１配線を通して信号が検出されることにより入力位置が検出される。

実施の形態１の表示装置の一構成例を示すブロック図である。 タッチ検出デバイスに指が接触または近接した状態を表す説明図である。 タッチ検出デバイスに指が接触または近接した状態の等価回路の例を示す説明図である。 駆動信号および検出信号の波形の一例を示す図である。 実施の形態１の表示装置を実装したモジュールの一例を示す平面図である。 実施の形態１の表示装置におけるタッチ検出機能付き表示デバイスを示す断面図である。 実施の形態１の表示装置におけるタッチ検出機能付き表示デバイスを示す回路図である。 実施の形態１の表示装置の駆動電極および検出電極の一構成例を示す斜視図である。 実施の形態１の表示装置におけるタッチ検出機能付き表示デバイスの他の例を示す断面図である。 実施の形態１の表示装置におけるタッチ検出機能付き表示デバイスの他の例を示す断面図である。 比較例１の表示装置におけるタッチ検出機能付き表示デバイスを示す断面図である。 実施の形態１の表示装置におけるタッチ検出機能付き表示デバイスのバックライトフレームによる支持構造を示す断面図である。 バックライトユニットおよびバックライトフレームの構造を示す分解斜視図である。 偏光板の一構成例を示す断面図である。 偏光板の他の構成例を示す断面図である。 偏光板の他の構成例を示す断面図である。 実施の形態１の表示装置におけるタッチ検出機能付き表示デバイスの他の例を示す断面図である。 実施の形態１の表示装置におけるタッチ検出機能付き表示デバイスの他の例を示す断面図である。 保護膜に対する偏光板の密着力の大きさを測定する方法を説明するための図である。 保護膜に対する偏光板の密着力の大きさを測定する方法を説明するための図である。 保護膜に対する偏光板の密着力の大きさを測定する方法を説明するための図である。 実施の形態２の表示装置を実装したモジュールの一例を示す平面図である。 実施の形態２の表示装置におけるタッチ検出機能付き表示デバイスを示す断面図である。 実施の形態２の表示装置におけるタッチ検出機能付き表示デバイスを示す回路図である。 比較例２の表示装置におけるタッチ検出機能付き表示デバイスを示す断面図である。 実施の形態２の表示装置におけるタッチ検出機能付き表示デバイスの他の例を示す断面図である。 実施の形態２の表示装置におけるタッチ検出機能付き表示デバイスの他の例を示す断面図である。

以下に、本発明の各実施の形態について、図面を参照しつつ説明する。

なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っても適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実施の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。

また本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。

さらに、実施の形態で用いる図面においては、断面図であっても図面を見やすくするためにハッチングを省略する場合もある。また、平面図であっても図面を見やすくするためにハッチングを付す場合もある。

また、以下の実施の形態において、Ａ〜Ｂとして範囲を示す場合には、特に明示した場合を除き、Ａ以上Ｂ以下を示すものとする。

（実施の形態１）
初めに、実施の形態１として、入力装置としてのタッチパネルを備えた表示装置を、インセルタイプのタッチ検出機能付き液晶表示装置に適用した例について説明する。なお、本願明細書では、入力装置とは、少なくとも電極に対して近接または接触する物体の容量に応じて変化する静電容量を検出する入力装置である。また、タッチ検出機能付き液晶表示装置とは、表示装置を形成するアレイ基板および対向基板のいずれか一方にタッチ検出用の検出電極が設けられた液晶表示装置である。また、本実施の形態１においては、駆動電極が、表示装置の駆動電極として動作し、かつ、入力装置の駆動電極として動作するように設けられている、という特徴を持つインセルタイプのタッチ検出機能付き表示装置について述べる。

＜全体構成＞
初めに、図１を参照し、実施の形態１の表示装置の全体構成について説明する。図１は、実施の形態１の表示装置の一構成例を示すブロック図である。

表示装置１は、タッチ検出機能付き表示デバイス１０と、制御部１１と、ゲートドライバ１２と、ソースドライバ１３と、駆動電極ドライバ１４と、タッチ検出部４０とを備えている。

タッチ検出機能付き表示デバイス１０は、表示デバイス２０と、タッチ検出デバイス３０とを有する。表示デバイス２０は、本実施の形態１では、表示素子として液晶表示素子を用いた表示デバイスとする。したがって、以下では、表示デバイス２０を、液晶表示デバイス２０と称する場合がある。タッチ検出デバイス３０は、静電容量方式のタッチ検出デバイス、すなわち静電容量型のタッチ検出デバイスである。そのため、表示装置１は、タッチ検出機能を有する入力装置を備えた表示装置である。また、タッチ検出機能付き表示デバイス１０は、液晶表示デバイス２０と、タッチ検出デバイス３０とを一体化した表示デバイスであり、タッチ検出機能を内蔵した表示デバイス、すなわちインセルタイプのタッチ検出機能付き表示デバイスである。

なお、タッチ検出機能付き表示デバイス１０は、表示デバイス２０の上に、タッチ検出デバイス３０を装着した表示デバイスであってもよい。また、表示デバイス２０は、液晶表示素子を用いた表示デバイスに代え、例えば、有機ＥＬ（Electroluminescence）表示デバイスであってもよい。

表示デバイス２０は、ゲートドライバ１２から供給される走査信号Ｖｓｃａｎに従って、表示領域において、１水平ラインずつ順次走査を行うことにより表示を行う。タッチ検出デバイス３０は、後述するように、静電容量型タッチ検出の原理に基づいて動作し、検出信号Ｖｄｅｔを出力する。

制御部１１は、外部より供給された映像信号Ｖｄｉｓｐに基づいて、ゲートドライバ１２、ソースドライバ１３、駆動電極ドライバ１４およびタッチ検出部４０に対してそれぞれ制御信号を供給し、これらが互いに同期して動作するように制御する回路である。

ゲートドライバ１２は、制御部１１から供給される制御信号に基づいて、タッチ検出機能付き表示デバイス１０の表示駆動の対象となる１水平ラインを順次選択する機能を有している。

ソースドライバ１３は、制御部１１から供給される画像信号Ｖｓｉｇの制御信号に基づいて、タッチ検出機能付き表示デバイス１０に含まれた副画素ＳＰｉｘ（後述する図７参照）に、画素信号Ｖｐｉｘを供給する回路である。

駆動電極ドライバ１４は、制御部１１から供給される制御信号に基づいて、タッチ検出機能付き表示デバイス１０に含まれた駆動電極ＣＯＭＬ（後述する図５または図６参照）に、駆動信号Ｖｃｏｍを供給する回路である。

タッチ検出部４０は、制御部１１から供給される制御信号と、タッチ検出機能付き表示デバイス１０のタッチ検出デバイス３０から供給された検出信号Ｖｄｅｔに基づいて、タッチ検出デバイス３０に対する指やタッチペンなどの入力具のタッチ、すなわち後述する接触または近接の状態、の有無を検出する回路である。そして、タッチ検出部４０は、タッチがある場合においてタッチ検出領域におけるその座標、すなわち入力位置などを求める回路である。タッチ検出部４０は、タッチ検出信号増幅部４２と、Ａ／Ｄ（Analog/Digital）変換部４３と、信号処理部４４と、座標抽出部４５と、検出タイミング制御部４６とを備えている。

タッチ検出信号増幅部４２は、タッチ検出デバイス３０から供給される検出信号Ｖｄｅｔを増幅する。タッチ検出信号増幅部４２は、検出信号Ｖｄｅｔに含まれる高い周波数成分、すなわちノイズ成分を除去し、タッチ成分を取り出してそれぞれ出力する低域通過アナログフィルタを備えていてもよい。

＜静電容量型タッチ検出の原理＞
次に、図１〜図４を参照し、本実施の形態１の表示装置１におけるタッチ検出の原理について説明する。図２は、タッチ検出デバイスに指が接触または近接した状態を表す説明図である。図３は、タッチ検出デバイスに指が接触または近接した状態の等価回路の例を示す説明図である。図４は、駆動信号および検出信号の波形の一例を示す図である。

図２に示すように、静電容量型タッチ検出においては、タッチパネルあるいはタッチセンサと呼ばれる入力装置は、誘電体Ｄを挟んで互いに対向配置された駆動電極Ｅ１および検出電極Ｅ２を有する。これらの駆動電極Ｅ１および検出電極Ｅ２により容量素子Ｃ１が形成されている。図３に示すように、容量素子Ｃ１の一端は、駆動信号源である交流信号源Ｓに接続され、容量素子Ｃ１の他端は、タッチ検出部である電圧検出器ＤＥＴに接続される。電圧検出器ＤＥＴは、例えば図１に示すタッチ検出信号増幅部４２に含まれる積分回路からなる。

交流信号源Ｓから容量素子Ｃ１の一端、すなわち駆動電極Ｅ１に、例えば数ｋＨｚ〜数百ｋＨｚ程度の周波数を有する交流矩形波Ｓｇが印加されると、容量素子Ｃ１の他端、すなわち検出電極Ｅ２側に接続された電圧検出器ＤＥＴを介して、出力波形である検出信号Ｖｄｅｔが発生する。なお、この交流矩形波Ｓｇは、例えば図４に示す駆動信号Ｖｃｏｍに相当するものである。

指が接触および近接していない状態、すなわち非接触状態では、図３に示すように、容量素子Ｃ１に対する充放電に伴って、容量素子Ｃ１の容量値に応じた電流Ｉ_１が流れる。電圧検出器ＤＥＴは、交流矩形波Ｓｇに応じた電流Ｉ_１の変動を、電圧の変動に変換する。この電圧の変動は、図４において、実線の波形Ｖ_０で示されている。

一方、指が接触または近接した状態、すなわち接触状態では、指によって形成される静電容量Ｃ２の影響を受け、駆動電極Ｅ１および検出電極Ｅ２により形成される容量素子Ｃ１の容量値が小さくなる。そのため、図３に示す容量素子Ｃ１に流れる電流Ｉ_１が変動する。電圧検出器ＤＥＴは、交流矩形波Ｓｇに応じた電流Ｉ_１の変動を電圧の変動に変換する。この電圧の変動は、図４において、破線の波形Ｖ_１で示されている。この場合、波形Ｖ_１は、上述した波形Ｖ_０と比べて振幅が小さくなる。これにより、波形Ｖ_０と波形Ｖ_１との電圧差分の絶対値｜ΔＶ｜は、指などの外部から近接する物体の影響に応じて変化することになる。なお、電圧検出器ＤＥＴは、波形Ｖ_０と波形Ｖ_１との電圧差分の絶対値｜ΔＶ｜を精度よく検出するため、回路内のスイッチングにより、交流矩形波Ｓｇの周波数に合わせて、コンデンサの充放電をリセットする期間Ｒｅｓｅｔを設けた動作とすることが好ましい。

図１に示す例では、タッチ検出デバイス３０は、駆動電極ドライバ１４から供給される駆動信号Ｖｃｏｍに従って、１つまたは複数の駆動電極ＣＯＭＬ（後述する図５または図６参照）に対応した１つの検出ブロックごとにタッチ検出を行う。すなわち、タッチ検出デバイス３０は、１つまたは複数の駆動電極ＣＯＭＬの各々に対応した１つの検出ブロックごとに、図３に示す電圧検出器ＤＥＴを介して、検出信号Ｖｄｅｔを出力し、出力した検出信号Ｖｄｅｔを、タッチ検出部４０のタッチ検出信号増幅部４２に供給する。

Ａ／Ｄ変換部４３は、駆動信号Ｖｃｏｍに同期したタイミングで、タッチ検出信号増幅部４２から出力されるアナログ信号をそれぞれサンプリングしてデジタル信号に変換する回路である。

信号処理部４４は、Ａ／Ｄ変換部４３の出力信号に含まれる、駆動信号Ｖｃｏｍをサンプリングした周波数以外の周波数成分、すなわちノイズ成分を低減するデジタルフィルタを備えている。信号処理部４４は、Ａ／Ｄ変換部４３の出力信号に基づいて、タッチ検出デバイス３０に対するタッチの有無を検出する論理回路である。信号処理部４４は、指による差分の電圧のみを取り出す処理を行う。この指による差分の電圧は、上述した波形Ｖ_０と波形Ｖ_１との差分の絶対値｜ΔＶ｜である。信号処理部４４は、１つの検出ブロック当たりの絶対値｜ΔＶ｜を平均化する演算を行い、絶対値｜ΔＶ｜の平均値を求めてもよい。これにより、信号処理部４４は、ノイズによる影響を低減できる。信号処理部４４は、検出した指による差分の電圧を所定のしきい値電圧と比較し、このしきい値電圧以上であれば、外部から近接する外部近接物体の接触状態と判断し、しきい値電圧未満であれば、外部近接物体の非接触状態と判断する。このようにして、タッチ検出部４０によるタッチ検出が行われる。

座標抽出部４５は、信号処理部４４においてタッチが検出されたときに、タッチが検出された位置の座標、すなわちタッチパネルにおける入力位置を求める論理回路である。検出タイミング制御部４６は、Ａ／Ｄ変換部４３と、信号処理部４４と、座標抽出部４５とが同期して動作するように制御する。座標抽出部４５は、タッチパネル座標を信号出力Ｖｏｕｔとして出力する。

＜モジュール＞
図５は、実施の形態１の表示装置を実装したモジュールの一例を示す平面図である。図５に示すように、実施の形態１におけるタッチ検出機能付き表示デバイス１０は、基板２１と、基板３１と、複数の駆動電極ＣＯＭＬと、複数の検出電極ＴＤＬとを有する。基板３１は、一方の主面としての上面と、他方の主面としての下面と、を有する。ここで、基板３１の上面内または基板３１の下面内で、互いに交差、好適には直交する２つの方向を、Ｘ軸方向およびＹ軸方向とする。このとき、複数の駆動電極ＣＯＭＬは、平面視において、Ｙ軸方向にそれぞれ延在し、かつ、Ｘ軸方向に配列されている。また、複数の検出電極ＴＤＬは、平面視において、Ｘ軸方向にそれぞれ延在し、かつ、Ｙ軸方向に配列されている。

図７を用いて後述するように、複数の駆動電極ＣＯＭＬの各々は、平面視において、Ｙ軸方向に配列された複数の副画素ＳＰｉｘと重なるように設けられている。すなわち、１つの駆動電極ＣＯＭＬは、複数の副画素ＳＰｉｘに対して共通な電極として設けられている。

なお、本願明細書では、「平面視において」とは、基板３１または基板２１の主面としての上面に垂直な方向から視た場合を意味する。

図５に示す例では、タッチ検出機能付き表示デバイス１０は、平面視において、Ｘ軸方向にそれぞれ延在し、かつ、互いに対向する２つの辺と、Ｙ軸方向にそれぞれ延在し、かつ、互いに対向する２つの辺とを備え、矩形形状を有する。Ｙ軸方向におけるタッチ検出機能付き表示デバイス１０の一方の側には、端子部ＴＭが設けられている。端子部ＴＭと複数の検出電極ＴＤＬの各々との間は、それぞれ引き回し配線ＷＲＴにより電気的に接続されている。端子部ＴＭは、配線基板ＷＳと電気的に接続されており、配線基板ＷＳは、このモジュールの外部に実装されたタッチ検出部４０（図１参照）と接続されている。したがって、検出電極ＴＤＬは、引き回し配線ＷＲＴ、端子部ＴＭおよび配線基板ＷＳを介して、タッチ検出部４０と接続されている。

タッチ検出機能付き表示デバイス１０は、ＣＯＧ１９を有する。ＣＯＧ１９は、基板２１に実装されたチップであり、図１に示した制御部１１、ゲートドライバ１２、ソースドライバ１３など、表示動作に必要な各回路を内蔵したものである。また、ＣＯＧ１９は、駆動電極ドライバ１４を内蔵してもよい。ＣＯＧ１９と複数の駆動電極ＣＯＭＬの各々との間は、それぞれ引き回し配線ＷＲＣにより電気的に接続されている。

なお、基板２１および基板３１として、例えばガラス基板、または、例えば樹脂からなるフィルムなど、各種の透明な基板を用いることができる。また、本願明細書では、透明な基板における「透明」とは、可視光に対する透過率が例えば８０％以上であることを意味する。

＜タッチ検出機能付き表示デバイス＞
次に、図５〜図８を参照し、タッチ検出機能付き表示デバイス１０の構成例を詳細に説明する。図６は、実施の形態１の表示装置におけるタッチ検出機能付き表示デバイスを示す断面図である。図７は、実施の形態１の表示装置におけるタッチ検出機能付き表示デバイスを示す回路図である。図８は、実施の形態１の表示装置の駆動電極および検出電極の一構成例を示す斜視図である。図６は、図５のＡ−Ａ線に沿った断面図である。

タッチ検出機能付き表示デバイス１０は、アレイ基板２と、対向基板３と、カバー板４と、液晶層６と、封止部７と、を有する。対向基板３は、アレイ基板２の主面としての上面と、対向基板３の主面としての下面とが対向するように、設けられている。液晶層６は、アレイ基板２と対向基板３との間に設けられている。アレイ基板２の外周部と対向基板３の外周部との間には、封止部７が設けられており、アレイ基板２と対向基板３との間の空間は、その空間の外周部を封止部により封止されている。そして、外周部が封止部により封止された空間には、液晶層６が封入されている。

アレイ基板２は、基板２１を有する。また、対向基板３は、基板３１を有する。

基板３１は、一方の主面としての上面を有し、基板３１の上面は、表示領域Ａｄと、表示領域Ａｄよりも基板３１の外周側に位置する領域である周辺領域Ａｓとを含む。したがって、周辺領域Ａｓは、基板３１の上面の領域であって、表示領域Ａｄよりも基板３１の外周側に位置する領域である。または、表示領域Ａｄおよび周辺領域Ａｓは、基板３１の他方の主面としての下面に含まれてもよい。

あるいは、表示領域Ａｄおよび周辺領域Ａｓは、基板２１の一方の主面としての上面に含まれてもよい。このとき、基板２１は、一方の主面としての上面を有し、基板２１の上面は、表示領域Ａｄと、表示領域Ａｄよりも基板２１の外周側に位置する領域である周辺領域Ａｓとを有する。したがって、周辺領域Ａｓは、基板２１の上面の領域であって、表示領域Ａｄよりも基板２１の外周側に位置する領域である。

図７に示すように、表示領域Ａｄで、基板２１には、複数の走査線ＧＣＬ、複数の信号線ＳＧＬ、および、複数の薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor；ＴＦＴ）であるＴＦＴ素子Ｔｒが形成されている。なお、図６では、走査線ＧＣＬ、信号線ＳＧＬおよびＴＦＴ素子Ｔｒの図示は、省略する。また、走査線は、ゲート配線を意味し、信号線は、ソース配線を意味する。

図７に示すように、複数の走査線ＧＣＬは、表示領域Ａｄで、Ｘ軸方向にそれぞれ延在し、かつ、Ｙ軸方向に配列されている。複数の信号線ＳＧＬは、表示領域Ａｄで、Ｙ軸方向にそれぞれ延在し、かつ、Ｘ軸方向に配列されている。したがって、複数の信号線ＳＧＬの各々は、平面視において、複数の走査線ＧＣＬと交差する。このように、平面視において、互いに交差する複数の走査線ＧＣＬと複数の信号線ＳＧＬとの交点に、副画素ＳＰｉｘが配置され、複数の異なる色の副画素ＳＰｉｘにより１つの画素Ｐｉｘが形成される。すなわち、複数の副画素ＳＰｉｘは、基板２１に設けられ、平面視において、表示領域Ａｄ内に配置されており、Ｘ軸方向およびＹ軸方向にマトリクス状に配列されている。

平面視において、複数の走査線ＧＣＬの各々と複数の信号線ＳＧＬの各々とが交差する交差部には、ＴＦＴ素子Ｔｒが形成されている。したがって、表示領域Ａｄで、基板２１上には、複数のＴＦＴ素子Ｔｒが形成されており、これらの複数のＴＦＴ素子Ｔｒは、Ｘ軸方向およびＹ軸方向にマトリクス状に配列されている。すなわち、複数の副画素ＳＰｉｘの各々には、ＴＦＴ素子Ｔｒが設けられている。また、複数の副画素ＳＰｉｘの各々には、ＴＦＴ素子Ｔｒに加え、液晶素子ＬＣが設けられている。

ＴＦＴ素子Ｔｒは、例えばｎチャネル型のＭＯＳ（Metal Oxide Semiconductor）としての薄膜トランジスタからなる。ＴＦＴ素子Ｔｒのゲート電極は、走査線ＧＣＬに接続されている。ＴＦＴ素子Ｔｒのソース電極またはドレイン電極の一方は、信号線ＳＧＬに接続されている。ＴＦＴ素子Ｔｒのソース電極またはドレイン電極の他方は、液晶素子ＬＣの一端に接続されている。液晶素子ＬＣは、例えば、一端がＴＦＴ素子Ｔｒのソース電極またはドレイン電極に接続され、他端が駆動電極ＣＯＭＬに接続されている。

図５および図６に示すように、アレイ基板２は、複数の駆動電極ＣＯＭＬと、引き回し配線ＷＲＣと、絶縁膜２４と、複数の画素電極２２とを有する。複数の駆動電極ＣＯＭＬは、平面視において、表示領域Ａｄの内部で、基板２１の一方の主面としての上面上に設けられている。引き回し配線ＷＲＣは、駆動電極ＣＯＭＬとＣＯＧ１９（図５参照）とを電気的に接続する配線であり、平面視において、周辺領域Ａｓの内部で、基板２１の一方の主面としての上面上に形成されている。複数の駆動電極ＣＯＭＬの各々の表面、複数の引き回し配線ＷＲＣの各々の表面を含めて基板２１の上面上には、絶縁膜２４が形成されている。表示領域Ａｄで、絶縁膜２４上には、複数の画素電極２２が形成されている。したがって、絶縁膜２４は、駆動電極ＣＯＭＬと画素電極２２とを、電気的に絶縁する。

図６および図７に示すように、複数の画素電極２２は、平面視において、表示領域Ａｄの内部で、Ｘ軸方向およびＹ軸方向にマトリクス状に配列された複数の副画素ＳＰｉｘの各々の内部にそれぞれ形成されている。したがって、複数の画素電極２２は、Ｘ軸方向およびＹ軸方向にマトリクス状に配列されている。

図６に示す例では、複数の駆動電極ＣＯＭＬの各々は、基板２１と画素電極２２との間に形成されている。また、図７で模式的に示すように、複数の駆動電極ＣＯＭＬの各々は、平面視において、複数の画素電極２２と重なるように設けられている。そして、複数の画素電極２２の各々と複数の駆動電極ＣＯＭＬの各々との間に電圧が印加され、複数の副画素ＳＰｉｘの各々に設けられた液晶素子ＬＣに電界が形成されることにより、表示領域Ａｄに画像が表示される。

このように、タッチ検出機能付き表示デバイス１０が液晶表示デバイス２０を含む場合には、液晶素子ＬＣと、複数の画素電極２２と、駆動電極ＣＯＭＬと、複数の走査線ＧＣＬと、複数の信号線ＳＧＬとにより、画像の表示を制御する表示制御部が形成される。表示制御部は、アレイ基板２と対向基板３との間に設けられている。なお、タッチ検出機能付き表示デバイス１０は、液晶表示装置としての液晶表示デバイス２０に代え、有機ＥＬ表示装置など各種の表示装置としての表示デバイスを含んでもよい（実施の形態２においても同様）。

複数の駆動電極ＣＯＭＬの各々は、画素電極２２を挟んで基板２１と反対側に形成されていてもよい。また、図６に示す例では、駆動電極ＣＯＭＬと画素電極２２との配置が、横電界モードとしてのＦＦＳ（Fringe Field Switching）モードにおける配置となっている。しかし、駆動電極ＣＯＭＬと画素電極２２との配置は、駆動電極ＣＯＭＬと画素電極２２とが平面視で重ならない、横電界モードとしてのＩＰＳ（In Plane Switching）モードにおける配置でもよい。あるいは、駆動電極ＣＯＭＬと画素電極２２との配置は、縦電界モードとしてのＴＮ（Twisted Nematic）モードまたはＶＡ（Vertical Alignment）モードにおける配置でもよい（実施の形態２においても同様）。

液晶層６は、電界の状態に応じてそこを通過する光を変調するものであり、例えば、前述のＦＦＳモード、または、ＩＰＳモード等の横電界モードに対応した液晶層が用いられる。すなわち、液晶表示デバイス２０として、ＦＦＳモードまたはＩＰＳモード等の横電界モードによる液晶表示デバイスが用いられる。あるいは、前述したように、ＴＮモードまたはＶＡモード等の縦電界モードによる液晶表示デバイスが用いられてもよい。なお、図６に示す液晶層６とアレイ基板２との間、および、液晶層６と対向基板３との間には、それぞれ配向膜が設けられていてもよい（実施の形態２においても同様）。

図７に示すように、Ｘ軸方向に配列された複数の副画素ＳＰｉｘ、すなわち液晶表示デバイス２０の同一の行に属する複数の副画素ＳＰｉｘは、走査線ＧＣＬにより互いに接続されている。走査線ＧＣＬは、ゲートドライバ１２（図１参照）と接続され、ゲートドライバ１２により走査信号Ｖｓｃａｎ（図１参照）が供給される。また、Ｙ軸方向に配列された複数の副画素ＳＰｉｘ、すなわち液晶表示デバイス２０の同一の列に属する複数の副画素ＳＰｉｘは、信号線ＳＧＬにより互いに接続されている。信号線ＳＧＬは、ソースドライバ１３（図１参照）と接続され、ソースドライバ１３により画素信号Ｖｐｉｘ（図１参照）が供給される。

駆動電極ＣＯＭＬは、駆動電極ドライバ１４（図５参照）と接続され、駆動電極ドライバ１４により駆動信号Ｖｃｏｍ（図１参照）が供給される。つまり、図７に示す例では、同一の列に属する複数の副画素ＳＰｉｘが１つの駆動電極ＣＯＭＬを共有するようになっている。複数の駆動電極ＣＯＭＬは、表示領域Ａｄで、Ｙ軸方向にそれぞれ延在し、かつ、Ｘ軸方向に配列されている。前述したように、複数の信号線ＳＧＬは、表示領域Ａｄで、Ｙ軸方向にそれぞれ延在し、かつ、Ｘ軸方向に配列されているため、複数の駆動電極ＣＯＭＬの各々が延在する方向は、複数の信号線ＳＧＬの各々が延在する方向と平行である。

なお、駆動電極ＣＯＭＬは、平面視において、Ｙ軸方向に延在するため、平面視において、周辺領域Ａｓ内に配置された引き回し配線ＷＲＣは、図５の平面図では示されているが、図６の断面図では示されていない。

また、複数の駆動電極ＣＯＭＬの各々が延在する方向は限定されず、例えば、実施の形態２で後述するように、複数の駆動電極ＣＯＭＬの各々が延在する方向は、複数の走査線ＧＣＬの各々が延在する方向と平行な方向であってもよい。

図１に示すゲートドライバ１２は、走査信号Ｖｓｃａｎを、図７に示す走査線ＧＣＬを介して、各副画素ＳＰｉｘのＴＦＴ素子Ｔｒのゲート電極に印加することにより、液晶表示デバイス２０においてマトリクス状に形成された副画素ＳＰｉｘのうちの１行、すなわち１水平ラインを表示駆動の対象として順次選択する。図１に示すソースドライバ１３は、画素信号Ｖｐｉｘを、図７に示す信号線ＳＧＬを介して、ゲートドライバ１２により順次選択される１水平ラインを構成する複数の副画素ＳＰｉｘにそれぞれ供給する。そして、１水平ラインを構成する複数の副画素ＳＰｉｘにおいて、供給される画素信号Ｖｐｉｘに応じた表示が行われる。

駆動電極ドライバ１４（図５参照）は、駆動信号Ｖｃｏｍを印加し、１つまたは複数の駆動電極ＣＯＭＬに対応した１つの検出ブロックごとに駆動電極ＣＯＭＬを駆動する。

液晶表示デバイス２０においては、ゲートドライバ１２が走査線ＧＣＬを時分割的に順次走査するように駆動することにより、副画素ＳＰｉｘが、１水平ラインずつ順次選択される。また、液晶表示デバイス２０においては、１水平ラインに属する副画素ＳＰｉｘに対して、ソースドライバ１３が画素信号Ｖｐｉｘを供給することにより、１水平ラインずつ表示が行われる。この表示動作を行う際、駆動電極ドライバ１４は、その１水平ラインに対応した駆動電極ＣＯＭＬを含む検出ブロックに対して、駆動信号Ｖｃｏｍを印加する。

本実施の形態１の表示装置１における駆動電極ＣＯＭＬは、液晶表示デバイス２０の駆動電極として動作し、かつ、タッチ検出デバイス３０の駆動電極として動作する。

タッチ検出デバイス３０は、アレイ基板２に設けられた複数の駆動電極ＣＯＭＬと、対向基板３に設けられた複数の検出電極ＴＤＬとを有する。複数の検出電極ＴＤＬは、平面視において、複数の駆動電極ＣＯＭＬの各々が延在する方向と交差する方向にそれぞれ延在する。言い換えれば、複数の検出電極ＴＤＬは、平面視において複数の駆動電極ＣＯＭＬとそれぞれ交差するように、互いに間隔を空けて配列されている。そして、複数の検出電極ＴＤＬの各々は、アレイ基板２に含まれる基板２１の上面に垂直な方向において、駆動電極ＣＯＭＬと対向している。複数の検出電極ＴＤＬの各々は、タッチ検出部４０のタッチ検出信号増幅部４２（図１参照）にそれぞれ接続されている。

複数の駆動電極ＣＯＭＬの各々と複数の検出電極ＴＤＬの各々との平面視における交差部には、静電容量が発生する。そして、複数の駆動電極ＣＯＭＬの各々と複数の検出電極ＴＤＬの各々との間の静電容量に応じた信号が発生し、発生した信号が、引き回し配線ＷＲＣを含む駆動電極ドライバ１４、および、引き回し配線ＷＲＴを通して検出されることにより、入力位置が検出される。すなわち、検出電極ＴＤＬが形成された基板３１（図６参照）のような電極基板と、駆動電極ＣＯＭＬとにより、入力位置を検出する検出部、すなわち入力装置が形成される。

このような構成により、タッチ検出デバイス３０では、タッチ検出動作を行う際、駆動電極ドライバ１４により、スキャン方向Ｓｃａｎに１つまたは複数の駆動電極ＣＯＭＬに対応した１つの検出ブロックが順次選択される。そして、選択された検出ブロックにおいて、駆動電極ＣＯＭＬには、駆動電極ＣＯＭＬと検出電極ＴＤＬとの間の静電容量を測定するための駆動信号Ｖｃｏｍが入力され、検出電極ＴＤＬから、入力位置を検出するための検出信号Ｖｄｅｔが出力される。このようにタッチ検出デバイス３０では、１検出ブロックごとにタッチ検出が行われるようになっている。つまり、１つの検出ブロックは、前述したタッチ検出の原理における駆動電極Ｅ１に対応し、検出電極ＴＤＬは、検出電極Ｅ２に対応している。

なお、表示動作の際の検出ブロックの範囲と、タッチ検出動作の際の検出ブロックの範囲とは、共通であってもよく、異なっていてもよい。

図８に示すように、平面視において、互いに交差した複数の駆動電極ＣＯＭＬと複数の検出電極ＴＤＬは、マトリクス状に配列された静電容量式タッチセンサを形成する。よって、タッチ検出デバイス３０のタッチ検出面全体を走査することにより、指などが接触または近接した位置を検出することが可能である。

なお、タッチ検出デバイス３０として、駆動電極として動作する共通電極と、検出電極とが設けられた相互容量方式のタッチ検出デバイス３０には限定されない。例えば、タッチ検出デバイス３０として、検出電極のみが設けられた、自己容量方式のタッチ検出デバイス３０を適用することができる。この自己容量方式では、検出電極ＴＤＬが、検出回路と切り離され、電源と電気的に接続された時に、検出電極ＴＤＬに電荷量が蓄積される。次に、検出電極ＴＤＬが電源から切り離され、検出回路と電気的に接続された時に、検出回路に流れ出る電荷量を検出する。

ここで、検出電極ＴＤＬに指が接触または近接した場合、指による容量により、検出電極ＴＤＬの静電容量が変化し、検出電極ＴＤＬが検出回路と接続された時に、検出回路に流れ出る電荷量が変化する。したがって、流れ出る電荷量を検出回路により測定して検出電極ＴＤＬの静電容量の変化を検出することにより、検出電極ＴＤＬに指が接触または近接したか否かを判定することができる。

図５および図６に示すように、対向基板３は、基板３１と、カラーフィルタ層３２と、検出電極ＴＤＬと、引き回し配線ＷＲＴと、保護膜３３とを有する。基板３１は、主面としての上面と、上面と反対側の主面としての下面とを有している。カラーフィルタ層３２は、基板３１の一方の主面としての下面に設けられている。検出電極ＴＤＬは、タッチ検出デバイス３０の検出電極であり、平面視において、表示領域Ａｄの内部で、基板３１の他方の主面としての上面上に設けられている。引き回し配線ＷＲＴは、検出電極ＴＤＬと端子部ＴＭ（図５参照）とを電気的に接続する配線であり、平面視において、周辺領域Ａｓの内部で、基板３１の他方の主面としての上面上に形成されている。保護膜３３は、基板３１の上面上に、検出電極ＴＤＬおよび引き回し配線ＷＲＴを覆うように設けられている。

検出電極ＴＤＬおよび引き回し配線ＷＲＴの材料として、金属を含む金属材料を用いてもよく、例えば酸化インジウムスズ（Indium Tin Oxide；ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（Indium Zinc Oxide；ＩＺＯ）または酸化スズ（ＳｎＯ）等の透明導電材料を用いてもよい。

図５に示すように、検出電極ＴＤＬは、複数設けられている。複数の検出電極ＴＤＬは、表示領域Ａｄの内部で、平面視において、Ｘ軸方向にそれぞれ延在し、かつ、Ｙ軸方向に配列されている。また、端子部ＴＭは、表示領域Ａｄを中心としてＹ軸方向における一方の側に位置する部分の周辺領域Ａｓに設けられている。そのため、引き回し配線ＷＲＴは、Ｙ軸方向に延在する延在部ＥＸ１を含む。また、引き回し配線ＷＲＴは、延在部ＥＸ１の検出電極ＴＤＬ側の端部と、検出電極ＴＤＬとを接続する接続部ＣＮ１を含む。接続部ＣＮ１は、例えばＸ軸方向など、延在部ＥＸ１が延在するＹ軸方向と交差する方向に延在する。接続部ＣＮ１の検出電極ＴＤＬ側の端部は、検出電極ＴＤＬと接続され、接続部ＣＮ１の端子部ＴＭ側の端部は、延在部ＥＸ１の検出電極ＴＤＬ側の端部と接続されている。

平面視において、接続部ＣＮ１の長さは、延在部ＥＸ１の長さよりも短く、引き回し配線ＷＲＴの面積に対する接続部ＣＮ１の面積の比である面積比率は、引き回し配線ＷＲＴの面積に対する延在部ＥＸ１の面積の比である面積比率よりも小さい。また、延在部ＥＸ１および接続部ＣＮ１は、周辺領域Ａｓの内部で、基板３１の上面上に設けられている。したがって、複数の引き回し配線ＷＲＴの各々も、周辺領域Ａｓの内部で、基板３１の上面上に設けられている。

なお、Ｘ軸方向における端子部ＴＭの位置によっては、引き回し配線ＷＲＴは、延在部ＥＸ１と端子部ＴＭとを接続する接続部ＣＴ１を含むものであってもよい。接続部ＣＴ１も、周辺領域Ａｓの内部で、基板３１の上面上に設けられる。

カラーフィルタ層３２として、例えば赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青（Ｂ）の３色に着色されたカラーフィルタがＸ軸方向に配列される。これにより、図７に示すように、Ｒ、ＧおよびＢの３色の色領域３２Ｒ、３２Ｇおよび３２Ｂの各々にそれぞれ対応した複数の副画素ＳＰｉｘが形成され、１組の色領域３２Ｒ、３２Ｇおよび３２Ｂの各々にそれぞれ対応した複数の副画素ＳＰｉｘにより１つの画素Ｐｉｘが形成される。画素Ｐｉｘは、走査線ＧＣＬが延在する方向（Ｘ軸方向）、および、信号線ＳＧＬが延在する方向（Ｙ軸方向）に沿って、マトリクス状に配列されている。また、画素Ｐｉｘがマトリクス状に配列された領域が、例えば前述した表示領域Ａｄである。なお、表示領域Ａｄの周辺に、ダミー画素が設けられたダミー領域が設けられていてもよい。

カラーフィルタ層３２の色の組み合わせとして、Ｒ、ＧおよびＢ以外の他の色を含む複数の色の組み合わせでもよい。また、カラーフィルタ層３２は、設けられていなくてもよい。あるいは、１つの画素Ｐｉｘが、カラーフィルタ層３２が設けられていない副画素ＳＰｉｘ、すなわち白色の副画素ＳＰｉｘを含んでもよい。また、ＣＯＡ（Color filter On Array）技術により、カラーフィルタがアレイ基板２に設けられていてもよい。

図６に示すように、基板としてのカバー板４は、対向基板３を挟んでアレイ基板２と反対側に設けられている。すなわち、カバー板４は、表示領域Ａｄおよび周辺領域Ａｓで、対向基板３の上面と対向するように設けられている。カバー板４として、例えばガラス基板、または、例えば樹脂からなるフィルムなど、各種の透明な基板を用いることができる。

なお、図６に示すように、アレイ基板２を挟んで対向基板３と反対側には、偏光板２５が設けられていてもよい。

Ｙ軸方向に配列された複数の検出電極ＴＤＬの各々は、平面視において、複数の導電線により形成されたメッシュ形状を有していてもよい。すなわち、複数の検出電極ＴＤＬの各々は、例えば２つの導電線を有し、それらの２つの導電線の各々が、平面視において、交互に逆方向に屈曲しながら全体としてＸ軸方向に延在するジグザグ形状を有し、Ｙ軸方向において隣り合う２つの導電線の互いに逆方向に屈曲する部分同士が結合されていてもよい。あるいは、Ｙ軸方向に配列された複数の検出電極ＴＤＬの各々は、平面視において、交互に逆方向に屈曲しながら全体としてＸ軸方向に延在するジグザグ形状を有していてもよい。

＜保護膜上の絶縁体部の配置＞
次に、図５、図６、図９および図１０を参照し、保護膜上の絶縁体部の配置について説明する。図９および図１０は、実施の形態１の表示装置におけるタッチ検出機能付き表示デバイスの他の例を示す断面図である。

図５、図６および図９に示すように、表示領域Ａｄで、保護膜３３上に、絶縁体部ＩＰｄが設けられている。すなわち、絶縁体部ＩＰｄは、保護膜３３上に設けられており、かつ、平面視において、表示領域Ａｄと重なるように配置されている。言い換えれば、絶縁体部ＩＰｄは、基板３１の上面上に、保護膜３３を介して設けられており、かつ、平面視において、表示領域Ａｄと重なるように配置されている。

絶縁体部ＩＰｄは、例えば偏光板３４と、樹脂３５とを含む。偏光板３４は、基板３１の上面上に、保護膜３３を介して設けられている。樹脂３５は、偏光板３４上に設けられている。カバー板４は、樹脂３５上に設けられており、樹脂３５により偏光板３４に接着されている。なお、偏光板３４の構造の詳細については、後述する。

図６に示すように、平面視において、周辺領域Ａｓの内部であって、検出電極ＴＤＬの引き回し配線ＷＲＴと重なる部分で、保護膜３３上に、絶縁体部ＩＰｄと同層に、空間ＳＰｓ１が設けられている。すなわち、空間ＳＰｓ１は、絶縁体部ＩＰｄの側方に設けられ、平面視において、周辺領域Ａｓ内で、引き回し配線ＷＲＴと重なるように配置されている。空間ＳＰｓ１の誘電率は、絶縁体部ＩＰｄの誘電率に比べて低い。これにより、図１１を用いて後述するように、周辺領域Ａｓで、カバー板４に指または入力具を近づけたときに、引き回し配線ＷＲＴと、指または入力具との間の静電容量が相対的に小さくなる。

あるいは、図９に示すように、平面視において、周辺領域Ａｓの内部であって、検出電極ＴＤＬの引き回し配線ＷＲＴと重なる部分で、保護膜３３上に、絶縁体部ＩＰｄと同層に、絶縁体部ＩＰｄの誘電率よりも低い誘電率を有する絶縁体部ＩＰｓが設けられていてもよい。すなわち、絶縁体部ＩＰｓは、絶縁体部ＩＰｄの側方に設けられ、平面視において、周辺領域Ａｓ内で、引き回し配線ＷＲＴと重なるように配置されていてもよい。これにより、図１１を用いて後述するように、周辺領域Ａｓで、カバー板４に指または入力具を近づけたときに、引き回し配線ＷＲＴと、指または入力具との間の静電容量が、相対的に小さくなる。

なお、絶縁体部ＩＰｄは、平面視において、表示領域Ａｄの全面に設けられていてもよく、平面視において、表示領域Ａｄの全面から周辺領域Ａｓの一部にかけて設けられていてもよい。このような場合、絶縁体部ＩＰｄに含まれる偏光板３４を、平面視において、表示領域Ａｄの全面に設けることができるので、液晶表示装置であるタッチ検出機能付き表示デバイス１０は、表示領域Ａｄの全面において、画像を表示することができる。

また、図１０に示すように、絶縁体部ＩＰｄが、偏光板３４を含み、偏光板３４とカバー板４との間に空間ＳＰｄが設けられていてもよい。このとき、平面視において、周辺領域Ａｓの内部で、保護膜３３の上方に、空間ＳＰｄと同層に、空間ＳＰｓ２が設けられていてもよい。すなわち、空間ＳＰｓ２は、空間ＳＰｄの側方に設けられ、平面視において、周辺領域Ａｓ内で、引き回し配線ＷＲＴと重なるように配置されていてもよい。空間ＳＰｓ２の誘電率は、空間ＳＰｄの誘電率と等しいが、空間ＳＰｓ１の誘電率は、絶縁体部ＩＰｄの誘電率よりも低い。これにより、図１１を用いて後述するように、周辺領域Ａｓで、カバー板４に指または入力具を近づけたときに、引き回し配線ＷＲＴと、指または入力具との間の静電容量が相対的に小さくなる。

なお、前述したように、入力装置として、検出電極ＴＤＬのみが設けられた、自己容量方式のタッチ検出デバイス３０（図８参照）に適用する場合を考える。このような場合には、入力装置は、基板３１と、基板３１に設けられた検出電極ＴＤＬと、基板３１に設けられた引き回し配線ＷＲＴと、基板３１の上面上に設けられた絶縁体部ＩＰｄと、絶縁体部ＩＰｄの側方に設けられた絶縁体部ＩＰｓまたは空間ＳＰｓ１と、を有する。また、入力装置において、検出電極ＴＤＬの静電容量に応じた信号が引き回し配線ＷＲＴを通して検出されることにより、入力位置が検出される。

＜周辺領域におけるノイズの低減＞
次に、本実施の形態１の表示装置において、周辺領域におけるノイズが低減されることを、比較例１の表示装置と比較して説明する。図１１は、比較例１の表示装置におけるタッチ検出機能付き表示デバイスを示す断面図である。

比較例１の表示装置１０１のタッチ検出機能付き表示デバイス１１０でも、実施の形態１の表示装置と同様に、平面視において、表示領域Ａｄの内部で、保護膜３３上に、絶縁体部ＩＰｄが設けられている。すなわち、絶縁体部ＩＰｄは、保護膜３３上に設けられており、かつ、平面視において、表示領域Ａｄと重なるように配置されている。絶縁体部ＩＰｄは、保護膜３３上に設けられた偏光板３４と、偏光板３４上に設けられた樹脂３５とを含む。

しかし、比較例１の表示装置１０１のタッチ検出機能付き表示デバイス１１０では、平面視において、周辺領域Ａｓの内部であって、検出電極ＴＤＬの引き回し配線ＷＲＴと重なる部分で、保護膜３３上に、絶縁体部ＩＰｄと同層に、絶縁体部ＩＰｓ１００が形成されている。絶縁体部ＩＰｓ１００は、保護膜３３上に設けられた偏光板３４ｓと、偏光板３４ｓ上に設けられた樹脂３５ｓとを含む。

偏光板３４ｓは、偏光板３４と同層に形成されており、偏光板３４の材料と同種の材料からなる。樹脂３５ｓは、樹脂３５と同層に形成されており、樹脂３５の材料と同種の材料からなる。すなわち、比較例１では、絶縁体部ＩＰｓ１００は、絶縁体部ＩＰｄの材料と同種の材料からなり、絶縁体部ＩＰｓ１００の誘電率は、絶縁体部ＩＰｄの誘電率に比べて低くはない。

そのため、周辺領域Ａｓで、カバー板４に指または入力具を近づけたときに、引き回し配線ＷＲＴと、指または入力具との間の静電容量が、相対的に大きくなる。したがって、周辺領域Ａｓで、カバー板４に指または入力具を近づけたときに、引き回し配線ＷＲＴに指または入力具からのノイズが伝わりやすくなる。そして、検出電極ＴＤＬから引き回し配線ＷＲＴを通して検出される信号が、ノイズの影響を受けやすく、ノイズの強度に対する信号の強度の比、すなわちＳＮ比が小さくなる。

一方、実施の形態１では、図９または図６に示すように、絶縁体部ＩＰｄの誘電率よりも低い誘電率を有する絶縁体部ＩＰｓ、または、空間ＳＰｓ１が、絶縁体部ＩＰｄの側方に設けられ、絶縁体部ＩＰｓまたは空間ＳＰｓ１は、平面視において、周辺領域Ａｓ内で、引き回し配線ＷＲＴと重なるように配置されている。絶縁体部ＩＰｓの誘電率、および、空間ＳＰｓ１の誘電率のいずれも、絶縁体部ＩＰｄの誘電率に比べて低い。そのため、周辺領域Ａｓで、カバー板４に指または入力具を近づけたときに、引き回し配線ＷＲＴと、指または入力具との間の静電容量が相対的に小さくなる。したがって、周辺領域Ａｓで、カバー板４に指または入力具を近づけたときに、引き回し配線ＷＲＴに指または入力具からのノイズが伝わりにくくなる。そして、検出電極ＴＤＬから引き回し配線ＷＲＴを通して検出される信号が、ノイズの影響を受けにくく、ＳＮ比が大きくなり、入力装置の検出性能を向上させることができる。

さらに、実施の形態１では、相対的に高い誘電率を有する絶縁体部ＩＰｄが、平面視において、表示領域Ａｄと重なるように設けられている。そのため、表示領域Ａｄで、カバー板４に指または入力具を近づけたときに、検出電極ＴＤＬと、指または入力具との間の静電容量が相対的に大きくなる。したがって、入力装置の検出性能を向上させることができる。

図５を用いて前述したように、引き回し配線ＷＲＴが、延在部ＥＸ１と、接続部ＣＮ１と、を含み、引き回し配線ＷＲＴの面積に対する接続部ＣＮ１の面積の比が、引き回し配線ＷＲＴの面積に対する延在部ＥＸ１の面積の比よりも小さい場合を考える。このような場合には、絶縁体部ＩＰｓまたは空間ＳＰｓ１は、平面視において、少なくとも延在部ＥＸ１と重なるように配置されることが好ましい。これにより、絶縁体部ＩＰｓまたは空間ＳＰｓ１が、平面視において、引き回し配線ＷＲＴのうちより大きな面積比率を有する延在部ＥＸ１と重なるため、周辺領域Ａｓで、カバー板４に指または入力具を近づけたときに、引き回し配線ＷＲＴに指または入力具からのノイズが伝わりにくくなる。

また、絶縁体部ＩＰｓまたは空間ＳＰｓ１は、平面視において、延在部ＥＸ１に加え、接続部ＣＮ１とも重なるように配置されることがより好ましい。これにより、絶縁体部ＩＰｓまたは空間ＳＰｓ１が、平面視において、延在部ＥＸ１のみと重なるように配置される場合に比べ、周辺領域Ａｓで、カバー板４に指または入力具を近づけたときに、引き回し配線ＷＲＴに指または入力具からのノイズがさらに伝わりにくくなる。

＜バックライトフレームによる支持構造＞
次に、図１２および図１３を参照し、バックライトフレームによる支持構造について説明する。図１２は、実施の形態１の表示装置におけるタッチ検出機能付き表示デバイスのバックライトフレームによる支持構造を示す断面図である。図１３は、バックライトユニットおよびバックライトフレームの構造を示す分解斜視図である。なお、図１２では、理解を簡単にするために、駆動電極ＣＯＭＬ、絶縁膜２４、画素電極２２およびカラーフィルタ層３２の図示を省略している。また、図１３では、粘着テープ５５の図示を省略している。

図１２に示す例では、表示装置１は、タッチ検出機能付き表示デバイス１０と、バックライトユニット５１と、バックライトフレーム５２と、を有する。バックライトフレーム５２、すなわちバックライトベゼルは、底部５３と、底部５３の外周に設けられた枠部５４とを有する。枠部５４で囲まれた領域の内部であって、底部５３上には、バックライトユニット５１が設けられている。また、枠部５４で囲まれた領域の内部であって、バックライトユニット５１上には、粘着テープ５５を介してタッチ検出機能付き表示デバイス１０が設けられている。具体的には、タッチ検出機能付き表示デバイス１０の偏光板２５が、粘着テープ５５を介してバックライトユニット５１の上方に設けられている。

図１３に示すように、バックライトユニット５１は、反射板５６と、導光板５７と、発光ダイオード（Light Emitting Diode；ＬＥＤ）ユニット５８と、を有する。反射板５６上に、導光板５７が設けられており、導光板５７の側方に、ＬＥＤユニット５８が設けられている。ＬＥＤユニット５８は、支持部材５８ａと、複数のＬＥＤ５８ｂとを有する。支持部材５８ａは、導光板５７の側面と対向するように設けられており、ＬＥＤ５８ｂは、導光板５７の側面とそれぞれ対向し、かつ、導光板５７の側面に沿って配列するように、支持部材５８ａに取り付けられている。

図１２および図１３に示す例では、ＬＥＤ５８ｂからの光は、導光板５７および反射板５６により、導光板５７の上面全面から出射され、タッチ検出機能付き表示デバイス１０の偏光板２５に入射される。偏光板２５に入射された光が、タッチ検出機能付き表示デバイス１０の各副画素ＳＰｉｘで、液晶層６を透過することにより、平面視において、表示領域Ａｄの内部で、画像が表示される。

図１２に二点鎖線で示すように、カバー板４は、設けられていなくてもよい。すなわち、表示装置１は、カバー板４を有していなくてもよい。図１２に示すように、カバー板４が設けられておらず、バックライトフレーム５２の枠部５４の上端の高さ位置が、保護膜３３の上面の高さ位置よりも高い場合であって、空間ＳＰｓ１が絶縁体部ＩＰｄの側方に設けられ、空間ＳＰｓ１が、平面視において、周辺領域Ａｓ内で、引き回し配線ＷＲＴと重なるように配置されている場合を考える。このような場合、空間ＳＰｓ１は、絶縁体部ＩＰｄと、バックライトフレーム５２の枠部５４との間に設けられた溝部ＴＲ１である。

このような場合でも、溝部ＴＲ１の幅が、指または入力具が溝部ＴＲ１内に入らない程度に短い場合には、周辺領域Ａｓで、対向基板３に指または入力具を近づけたときに、指または入力具が溝部ＴＲ１内に入らない。そのため、周辺領域Ａｓで、対向基板３に指または入力具を近づけたときの、引き回し配線ＷＲＴと、指または入力具との間の静電容量は、溝部ＴＲ１である空間ＳＰｓ１が設けられない場合に比べ、小さくなる。したがって、平面視において、周辺領域Ａｓで、対向基板３に指または入力具を近づけたときに、引き回し配線ＷＲＴに指または入力具からのノイズが伝わりにくく、検出電極ＴＤＬから引き回し配線ＷＲＴを通して出力される信号がノイズの影響を受けにくく、信号対雑音比、すなわちＳＮ比が大きくなる。

なお、表示領域Ａｄにおける偏光板３４からなる絶縁体部ＩＰｄの上方、および、周辺領域Ａｓにおける溝部ＴＲ１の上方に、カバー板４が設けられていてもよい。カバー板４は、例えば図示しない接続部材を介して、バックライトフレーム５２に接続されていてもよい。また、図９に示したように、周辺領域Ａｓで、絶縁体部ＩＰｄの側方に、溝部ＴＲ１である空間ＳＰｓ１に代えて絶縁体部ＩＰｓが設けられ、その絶縁体部ＩＰｓの上方にカバー板４が設けられていてもよい。

＜偏光板＞
次に、図１４〜図１６を参照し、偏光板の構造について説明する。図１４は、偏光板の一構成例を示す断面図である。図１４に示す例では、偏光板３４は、接着層６１と、導電層６２と、カバー層６３と、偏光層６４と、カバー層６５と、を含む。なお、図１４では、偏光板３４に加えて基板３１および保護膜３３を図示し、検出電極ＴＤＬおよび引き回し配線ＷＲＴ（図６参照）の図示を省略している。

偏光層６４は偏光機能を有する層である。偏光層６４は、例えばポリビニルアルコール（Polyvinyl alcohol；ＰＶＡ）を主成分として含有する絶縁膜からなり、その主成分であるＰＶＡに、例えばヨウ素を含有する化合物の分子を吸着配向させることにより、形成されている。

偏光層６４の保護膜３３側とは反対側の面には、偏光層６４の保護膜３３側とは反対側の面を覆うように、カバー層６５が形成されている。カバー層６５は、例えばトリアセチルセルロース（Triacetylcellulose；ＴＡＣ）を主成分として含有する。なお、図示は省略するが、カバー層６５上には、ハードコート層が形成されていてもよい。また、偏光層６４の、保護膜３３側の面には、保護膜３３側の面を覆うように、カバー層６３が形成されている。カバー層６３は、カバー層６５と同様に、例えばＴＡＣを主成分として含有している。

カバー層６３の保護膜３３側には、導電層６２が形成されている。導電層６２は、透光性および導電性を有する層であり、例えば酸化インジウムスズ（Indium Tin Oxide；ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（Indium Zinc Oxide；ＩＺＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ）または有機導電膜などからなる。この導電層６２は、外部から印加された静電気が液晶層６に伝わり表示が乱れるのを抑制するか、または、タッチ検出感度の劣化を抑制する。

導電層６２の保護膜３３側には、接着層６１が形成されている。接着層６１は、偏光板３４の導電層６２を保護膜３３と接着している。

このように、偏光板３４は、絶縁膜からなる偏光層６４と、導電性を有する導電層６２と、を含む複数の層がいずれかの順で積層された積層膜６６を含む。偏光板３４が導電層６２を含む場合、偏光板３４が、導電層６２の厚さの分だけ、別の絶縁膜を含む場合に比べ、検出電極ＴＤＬと、指または入力具との間の静電容量が大きくなる。したがって、周辺領域Ａｓで、カバー板４に指または入力具を近づけたときに、検出電極ＴＤＬに指または入力具からのノイズが伝わりやすく、検出電極ＴＤＬから出力される信号がノイズの影響を受けやすく、信号対雑音比、すなわちＳＮ比が小さくなる。

一方、偏光板３４が導電層６２を含む場合、偏光板３４が、導電層６２を含まず、絶縁膜のみからなる場合に比べ、ノイズの影響が、基板３１の面内において、指または入力具を近づけた位置よりも離れた位置まで及びやすくなる。このような場合、偏光板３４が、平面視において、周辺領域Ａｓ内にも配置されていると、周辺領域Ａｓで発生したノイズの影響が、表示領域Ａｄまで及ぶことになる。

このように、偏光板３４が導電層６２を含む場合には、絶縁体部ＩＰｄの側方に、絶縁体部ＩＰｄの誘電率よりも低い誘電率を有する絶縁体部ＩＰｓ、または、空間ＳＰｓ１が設けられることにより、周辺領域Ａｓでノイズが発生しにくくなる効果が大きくなる。したがって、周辺領域Ａｓで、カバー板４に指または入力具を近づけたときに、検出電極ＴＤＬに指または入力具からのノイズがさらに伝わりにくくなり、入力装置により検出される信号がノイズの影響をさらに受けにくくなり、ＳＮ比をさらに大きくすることができる。

すなわち、図９に示したように、周辺領域Ａｓ内で、絶縁体部ＩＰｄの側方に、絶縁体部ＩＰｄの誘電率よりも低い誘電率を有する絶縁体部ＩＰｓが設けられている場合であって、偏光板３４が導電層６２を含むときは、絶縁体部ＩＰｓは、偏光板３４を含まないこと、つまり導電層を含まないことが好ましい。これにより、表示領域Ａｄにおけるノイズの影響が、周辺領域Ａｓに及ぶことを防止または抑制することができる。

なお、絶縁体部が複数の絶縁層と複数の導電層とが積層された積層膜からなる場合、絶縁体部の誘電率とは、複数の絶縁層の各々による静電容量の直列和としての全静電容量に基づいて定められる平均的な誘電率を意味する。

図１５および図１６は、偏光板の他の構成例を示す断面図である。図１５に示す例では、導電層６２（図１４参照）が形成されておらず、カバー層６３と接着層６１ａとが接している。また、図１５に示す例では、接着層６１ａ中に、導電性粒子が含有されることにより、接着層６１ａが導電層として用いられる。一方、図１６に示す例では、偏光層６４とカバー層６３との間に、導電性を有する接着層６１ｂが形成されており、偏光層６４とカバー層６５との間に、導電性を有する接着層６１ｃが形成されている。これにより、接着層６１ｂおよび６１ｃが導電層として用いられる。

このとき、図１５に示す偏光板３４も、図１４に示す偏光板３４と同様に、絶縁膜からなる偏光層６４と、導電性を有する導電層である接着層６１ａと、を含む複数の層がいずれかの順で積層された積層膜６６を含む。また、図１６に示す偏光板３４も、図１４に示す偏光板３４と同様に、絶縁膜からなる偏光層６４と、導電性を有する導電層である接着層６１ｂおよび６１ｃと、を含む複数の層がいずれかの順で積層された積層膜６６を含む。したがって、絶縁体部ＩＰｄの側方に、絶縁体部ＩＰｄの誘電率よりも低い誘電率を有する絶縁体部ＩＰｓ、または、空間ＳＰｓ１が設けられることにより、周辺領域Ａｓでノイズが発生しにくくなる効果が大きくなる。

＜保護膜の材料＞
次に、図１７および図１８を参照し、保護膜の材料について説明する。図１７および図１８は、実施の形態１の表示装置におけるタッチ検出機能付き表示デバイスの他の例を示す断面図である。

好適には、保護膜３３は、紫外線（Ultraviolet；ＵＶ）硬化型の材料からなる。これにより、保護膜３３の材料を塗布して塗布膜を形成した後、形成された塗布膜に紫外線からなる光を照射することにより、塗布膜を硬化させて保護膜を形成することができる。そのため、保護膜３３を形成する際に熱処理を行う必要がないので、例えば液晶層６など、タッチ検出機能付き表示デバイスの各部分が熱処理により劣化することを、防止または抑制することができる。

また、保護膜３３が紫外線硬化型の材料からなる場合、タッチ検出機能付き表示デバイス１０は、紫外線を吸収する紫外線吸収層７１を有する。そして、好適には、紫外線吸収層７１は、液晶層６を挟んでアレイ基板２と反対側、すなわち液晶層６と保護膜３３との間に設けられている。

液晶層６を形成する液晶分子は、紫外線が照射されると、分解して変質するおそれがある。また、液晶層６を挟んでアレイ基板２側もしくは対向基板３側に設けられた配向膜（図示は省略）も、紫外線が照射されると、分解して変質するおそれがある。そのため、紫外線吸収層７１が、液晶層６を挟んでアレイ基板２と反対側、すなわち液晶層６と保護膜３３との間に設けられることにより、保護膜３３を形成する際に照射された紫外線が紫外線吸収層７１に吸収されるので、液晶層６または配向膜（図示は省略）に紫外線が到達することを防止または抑制することができる。したがって、液晶層６または配向膜（図示は省略）が紫外線に照射されて分解して変質することを、防止または抑制することができる。

このような紫外線吸収層７１として、無機材料としての酸化チタン（ＴｉＯ_２）または酸化亜鉛（ＺｎＯ）などの無機材料からなる透明な膜、または、ベンゾトリアゾールなどの有機材料からなる透明な膜を用いることができる。

なお、本願明細書では、透明な膜における「透明」とは、可視光に対する透過率が例えば８０％以上であることを意味する。

また、紫外線からなる光を照射する光源として、単一波長を有する光、または、単一波長およびその周辺の波長領域の波長を有する光を放射するＬＥＤランプを用いることが好ましい。あるいは、紫外線からなる光を照射する光源として、長波長領域の波長を有する光、および、短波長領域の波長を有する光が例えばフィルタなどにより除去された光を放射する光源を用いることが好ましい。

図１７に示す例では、紫外線吸収層７１は、基板３１の一方の主面としての上面上に設けられており、保護膜３３は、紫外線吸収層７１上に設けられている。すなわち、紫外線吸収層７１は、保護膜３３の直下に配置されている。図１７に示す例では、紫外線吸収層７１として、例えば基板３１に対する保護膜３３の密着性を向上させる機能を兼ねたものが、設けられてもよい。

図１８に示す例では、紫外線吸収層７１は、基板３１の他方の主面としての下面に設けられている。図１８に示す例では、紫外線吸収層７１は、カラーフィルタ層３２と兼用されているが、平面視において、液晶層６が配置されている領域全面を覆うように、設けられていることが好ましい。また、図示は省略するが、紫外線吸収層７１は、基板３１とカラーフィルタ層３２との間、または、カラーフィルタ層３２を挟んで基板３１と反対側であって、配向膜（図示は省略）よりも基板３１側に、カラーフィルタ層３２と別に設けられてもよい。

あるいは、保護膜３３は、熱硬化型の材料からなる。これにより、保護膜３３の材料を塗布して塗布膜を形成した後、形成された塗布膜を熱処理することにより、塗布膜を硬化させて保護膜３３を形成することができる。そのため、紫外線硬化型の材料からなる保護膜を形成する必要がないので、材料コストを低減することができる。

また、保護膜３３の絶縁性は、高い方が好ましい。好適には、保護膜３３のシート抵抗は、１×１０^９Ω／ｓｑｕａｒｅ以上である。保護膜３３のシート抵抗が、１×１０^９Ω／ｓｑｕａｒｅ未満の場合、保護膜３３で覆われた検出電極ＴＤＬ同士が短絡するおそれがある。一方、保護膜３３のシート抵抗が、１×１０^９Ω／ｓｑｕａｒｅ以上の場合、保護膜３３で覆われた検出電極ＴＤＬ同士が短絡することを防止または抑制することができ、入力装置の検出性能を向上させることができる。

＜保護膜に対する偏光板の密着力＞
次に、保護膜３３に対する偏光板３４の密着力について説明する。

好適には、基板３１に対する保護膜３３の密着力は、保護膜３３に対する偏光板３４の密着力よりも大きい。これにより、基板３１上に保護膜３３を形成した後、例えば接着層６１（図１４参照）を用いて偏光板３４を保護膜３３上に接着する際に、偏光板３４の位置が所望の位置からずれた場合でも、偏光板３４を保護膜３３から剥離して再度接着し直すことができる。そのため、偏光板３４を含む絶縁体部ＩＰｄの側方に、例えば空間ＳＰｓ１（図６参照）などを、位置精度よく設けることができる。したがって、周辺領域Ａｓ（図６参照）で、カバー板４に指または入力具を近づけたときに、引き回し配線ＷＲＴと、指または入力具との間の静電容量を相対的に小さくすることができる。

また、このような保護膜３３に対する偏光板３４の密着力の大きさは、例えば粘着テープにより偏光板３４を保護膜３３から剥離する際の強度を測定する粘着テープ試験方法により測定することができる。図１９〜図２１は、保護膜に対する偏光板の密着力の大きさを測定する方法を説明するための図である。

まず、図１９に示すように、アレイ基板２と対向基板３とが対向配置された状態で、アレイ基板２と対向基板３との間に液晶層６が充填され、封止部７により液晶層６が封止された後、基板３１上に保護膜３３が形成され、さらに、保護膜３３上に偏光板３４が接着された構造体を用意する。次に、偏光板３４の一方の端部に粘着テープ（図示は省略）を接着し、接着された粘着テープを引っ張ることにより、偏光板３４を保護膜３３から剥離する。

例えば、図２０に示すように、偏光板３４を剥離する際に、偏光板３４と一緒に保護膜３３が剥離される場合には、基板３１に対する保護膜３３の密着力は、保護膜３３に対する偏光板３４の密着力よりも小さい。このような場合、基板３１上に保護膜３３を形成した後、偏光板３４を保護膜３３上に接着する際に、平面視における偏光板３４の位置が所望の位置からずれた場合には、偏光板３４を保護膜３３から剥離して再度接着し直すことができない。

一方、図２１に示すように、偏光板３４を剥離する際に、保護膜３３が剥離されず、偏光板３４のみが剥離される場合には、基板３１に対する保護膜３３の密着力は、保護膜３３に対する偏光板３４の密着力よりも大きい。このような場合、基板３１上に保護膜３３を形成した後、偏光板３４を保護膜３３上に接着する際に、平面視における偏光板３４の位置が所望の位置からずれた場合でも、偏光板３４を保護膜３３から剥離して再度接着し直すことができる。

＜本実施の形態の主要な特徴と効果＞
本実施の形態１の表示装置では、絶縁体部ＩＰｓまたは空間ＳＰｓ１が、絶縁体部ＩＰｄの側方に設けられ、平面視において、周辺領域Ａｓ内で、引き回し配線ＷＲＴと重なるように配置されている。絶縁体部ＩＰｓの誘電率、および、空間ＳＰｓ１の誘電率のいずれも、絶縁体部ＩＰｄの誘電率に比べて低い。そのため、周辺領域Ａｓで、カバー板４に指または入力具を近づけたときに、引き回し配線ＷＲＴと、指または入力具との間の静電容量が相対的に小さくなる。したがって、周辺領域Ａｓで、カバー板４に指または入力具を近づけたときに、引き回し配線ＷＲＴに指または入力具からのノイズが伝わりにくくなり、入力装置により検出される信号がノイズの影響を受けにくくなり、ＳＮ比が大きくなる。

本実施の形態１では、駆動電極ＣＯＭＬは、信号線ＳＧＬに沿って延在し、検出電極ＴＤＬは、走査線ＧＣＬに沿って延在している。また、端子部ＴＭは、表示領域Ａｄに対して、信号線ＳＧＬの延在方向における一方の側に設けられており、端子部ＴＭと検出電極ＴＤＬとの間は、引き回し配線ＷＲＴにより電気的に接続されている。このような場合、検出電極ＴＤＬの材料として金属材料を用いたときに、周辺領域Ａｓのうち引き回し配線ＷＲＴが設けられる領域の割合が増加する。そのため、上記した本実施の形態１の効果、すなわち、周辺領域Ａｓで、カバー板４に指または入力具を近づけたときに、引き回し配線ＷＲＴに指または入力具からのノイズが伝わりにくくなり、入力装置により検出される信号がノイズの影響を受けにくくなり、ＳＮ比が大きくなるという効果が、特に大きくなる。

なお、本実施の形態１では、検出電極ＴＤＬ、引き回し配線ＷＲＴおよび保護膜３３が、基板３１の上面上に形成される場合について説明した。しかし、本実施の形態１の表示装置１のタッチ検出機能付き表示デバイス１０は、検出電極ＴＤＬ、引き回し配線ＷＲＴおよび保護膜３３が、基板３１の下面、または、基板２１の上面もしくは下面に形成される場合にも適用可能である。このような場合でも、絶縁体部ＩＰｄの側方に、絶縁体部ＩＰｄの誘電率よりも低い誘電率を有する絶縁体部ＩＰｓ、または、空間ＳＰｓ１が設けられることにより、引き回し配線ＷＲＴに指または入力具からのノイズが伝わりにくくなる。

また、本実施の形態１では、入力装置としてのタッチパネルを備えた表示装置を、表示装置の駆動電極ＣＯＭＬが入力装置の駆動電極を兼ねた、インセルタイプのタッチ検出機能付き液晶表示装置に適用した例について説明した。一方、入力装置としてのタッチパネルを備えた表示装置を、表示装置の駆動電極ＣＯＭＬと入力装置の駆動電極とが別々に形成された、インセルタイプのタッチ検出機能付き液晶表示装置に適用することができる（実施の形態２においても同様）。あるいは、入力装置としてのタッチパネルを備えた表示装置を、各種の表示装置に別体として入力装置が備えられたオンセルタイプの表示装置に適用することができる（実施の形態２においても同様）。

（実施の形態２）
実施の形態１では、平面視において、駆動電極は、信号線に沿って延在し、検出電極は、走査線に沿って延在していた。それに対して、実施の形態２では、駆動電極は、走査線に沿って延在し、検出電極は、信号線に沿って延在している。

本実施の形態２の表示装置における全体構成は、実施の形態１の表示装置における全体構成と同様にすることができ、その説明を省略する。

＜モジュール＞
図２２は、実施の形態２の表示装置を実装したモジュールの一例を示す平面図である。図２２に示すように、実施の形態２におけるタッチ検出機能付き表示デバイス１０は、実施の形態１におけるタッチ検出機能付き表示デバイス１０と同様に、基板２１と、基板３１と、複数の駆動電極ＣＯＭＬと、複数の検出電極ＴＤＬとを有する。基板３１は、一方の主面としての上面と、他方の主面としての下面と、を有する。ここで、基板３１の上面内または基板３１の下面内で、互いに交差、好適には直交する２つの方向を、Ｘ軸方向およびＹ軸方向とする。このとき、複数の駆動電極ＣＯＭＬは、平面視において、Ｘ軸方向にそれぞれ延在し、かつ、Ｙ軸方向に配列されている。また、複数の検出電極ＴＤＬは、平面視において、Ｙ軸方向にそれぞれ延在し、かつ、Ｘ軸方向に配列されている。

図２４を用いて後述するように、複数の駆動電極ＣＯＭＬの各々は、平面視において、Ｘ軸方向に配列された複数の副画素ＳＰｉｘと重なるように設けられている。すなわち、１つの駆動電極ＣＯＭＬは、複数の副画素ＳＰｉｘに対して共通な電極として設けられている。

図２２に示す例でも、実施の形態１と同様に、Ｙ軸方向におけるタッチ検出機能付き表示デバイス１０の一方の側には、端子部ＴＭが設けられている。端子部ＴＭと複数の検出電極ＴＤＬの各々との間は、それぞれ引き回し配線ＷＲＴにより電気的に接続されている。端子部ＴＭは、配線基板ＷＳと電気的に接続されており、配線基板ＷＳは、このモジュールの外部に実装されたタッチ検出部４０（図１参照）と接続されている。したがって、検出電極ＴＤＬは、引き回し配線ＷＲＴ、端子部ＴＭおよび配線基板ＷＳを介して、タッチ検出部４０と接続されている。

タッチ検出機能付き表示デバイス１０は、駆動電極ドライバ１４と、ＣＯＧ１９とを有する。ＣＯＧ１９は、基板２１に実装されたチップであり、図１に示した制御部１１、ゲートドライバ１２、ソースドライバ１３など、表示動作に必要な各回路を内蔵したものである。また、駆動電極ドライバ１４と、ＣＯＧ１９との間は、電気的に接続されており、駆動電極ドライバ１４と複数の駆動電極ＣＯＭＬの各々との間は、電気的に接続されている。なお、駆動電極ドライバ１４は、複数の駆動電極ＣＯＭＬの各々と駆動電極ドライバ１４とを電気的に接続する引き回し配線ＷＲＣを含む。

なお、本実施の形態２でも、実施の形態１と同様に、基板２１および基板３１として、例えばガラス基板、または、例えば樹脂からなるフィルムなど、各種の透明な基板を用いることができる。

＜タッチ検出機能付き表示デバイス＞
図２３は、実施の形態２の表示装置におけるタッチ検出機能付き表示デバイスを示す断面図である。図２４は、実施の形態２の表示装置におけるタッチ検出機能付き表示デバイスを示す回路図である。図２３は、図２２のＡ−Ａ線に沿った断面図である。

本実施の形態２でも、実施の形態１と同様に、タッチ検出機能付き表示デバイス１０は、アレイ基板２と、対向基板３と、カバー板４と、液晶層６と、封止部７と、を有する。対向基板３は、アレイ基板２の主面としての上面と、対向基板３の主面としての下面とが対向するように、設けられている。液晶層６は、アレイ基板２と対向基板３との間に設けられている。

アレイ基板２は、基板２１を有する。また、対向基板３は、基板３１を有する。

基板３１は、一方の主面としての上面を有し、基板３１の上面は、表示領域Ａｄと、表示領域Ａｄよりも基板３１の外周側に位置する領域である周辺領域Ａｓとを含む。したがって、周辺領域Ａｓは、基板３１の上面の領域であって、表示領域Ａｄよりも基板３１の外周側に位置する領域である。または、表示領域Ａｄおよび周辺領域Ａｓは、基板３１の他方の主面としての下面に含まれてもよい。

あるいは、表示領域Ａｄおよび周辺領域Ａｓは、基板２１の一方の主面としての上面に含まれてもよい。このとき、基板２１は、一方の主面としての上面を有し、基板２１の上面は、表示領域Ａｄと、表示領域Ａｄよりも基板２１の外周側に位置する領域である周辺領域Ａｓとを有する。したがって、周辺領域Ａｓは、基板２１の上面の領域であって、表示領域Ａｄよりも基板２１の外周側に位置する領域である。

図２４に示すように、表示領域Ａｄで、基板２１には、複数の走査線ＧＣＬ、複数の信号線ＳＧＬ、および、複数のＴＦＴ素子Ｔｒが形成されている。なお、図２３では、走査線ＧＣＬ、信号線ＳＧＬおよびＴＦＴ素子Ｔｒの図示は、省略する。

本実施の形態２でも、実施の形態１と同様に、図２４に示すように、複数の走査線ＧＣＬは、表示領域Ａｄで、Ｘ軸方向にそれぞれ延在し、かつ、Ｙ軸方向に配列されている。複数の信号線ＳＧＬは、表示領域Ａｄで、Ｙ軸方向にそれぞれ延在し、かつ、Ｘ軸方向に配列されている。そして、平面視において、互いに交差する複数の走査線ＧＣＬと複数の信号線ＳＧＬとの交点に、副画素ＳＰｉｘが配置され、複数の異なる色の副画素ＳＰｉｘにより１つの画素Ｐｉｘが形成される。ＴＦＴ素子Ｔｒは、例えばｎチャネル型のＭＯＳとしての薄膜トランジスタからなる。

本実施の形態２でも、実施の形態１と同様に、図２２および図２３に示すように、アレイ基板２は、複数の駆動電極ＣＯＭＬと、引き回し配線ＷＲＣと、絶縁膜２４と、複数の画素電極２２とを有する。また、図２３および図２４に示すように、複数の画素電極２２は、平面視において、表示領域Ａｄの内部で、Ｘ軸方向およびＹ軸方向にマトリクス状に配列された複数の副画素ＳＰｉｘの各々の内部にそれぞれ形成されている。なお、本実施の形態２では、引き回し配線ＷＲＣは、駆動電極ドライバ１４に含まれている。引き回し配線ＷＲＣを含む駆動電極ドライバ１４は、駆動電極ＣＯＭＬとＣＯＧ１９とを電気的に接続する。

図２３に示す例では、実施の形態１で図６を用いて説明した場合と同様に、複数の駆動電極ＣＯＭＬの各々は、基板２１と画素電極２２との間に形成されている。また、図２４で模式的に示すように、複数の駆動電極ＣＯＭＬの各々は、平面視において、複数の画素電極２２と重なるように設けられている。そして、複数の画素電極２２の各々と複数の駆動電極ＣＯＭＬの各々との間に電圧が印加され、複数の副画素ＳＰｉｘの各々に設けられた液晶素子ＬＣに電界が形成されることにより、表示領域Ａｄに画像が表示される。

本実施の形態２でも、実施の形態１と同様に、液晶素子ＬＣと、複数の画素電極２２と、駆動電極ＣＯＭＬと、複数の走査線ＧＣＬと、複数の信号線ＳＧＬとにより、画像の表示を制御する表示制御部が形成される。そして、複数の駆動電極ＣＯＭＬと画素電極２２との配置、液晶層６および配向膜についても、実施の形態１と同様にすることができる。

本実施の形態２でも、実施の形態１と同様に、図２４に示すように、Ｘ軸方向に配列された複数の副画素ＳＰｉｘ、すなわち液晶表示デバイス２０の同一の行に属する複数の副画素ＳＰｉｘは、走査線ＧＣＬにより互いに接続されている。走査線ＧＣＬは、ゲートドライバ１２（図１参照）と接続され、ゲートドライバ１２により走査信号Ｖｓｃａｎ（図１参照）が供給される。また、駆動電極ＣＯＭＬは、駆動電極ドライバ１４（図１参照）と接続され、駆動電極ドライバ１４により駆動信号Ｖｃｏｍ（図１参照）が供給される。

一方、図２４に示す例では、実施の形態１と異なり、同一の行に属する複数の副画素ＳＰｉｘが１つの駆動電極ＣＯＭＬを共有するようになっている。複数の駆動電極ＣＯＭＬは、表示領域Ａｄで、Ｘ軸方向にそれぞれ延在し、かつ、Ｙ軸方向に配列されている。前述したように、複数の走査線ＧＣＬは、表示領域Ａｄで、Ｘ軸方向にそれぞれ延在し、かつ、Ｙ軸方向に配列されているため、複数の駆動電極ＣＯＭＬの各々が延在する方向は、複数の走査線ＧＣＬの各々が延在する方向と平行である。

図２２に示すように、ＣＯＧ１９は、表示領域Ａｄを中心としてＹ軸方向における一方の側に位置する部分の周辺領域Ａｓに設けられている。そのため、引き回し配線ＷＲＣを含む駆動電極ドライバ１４は、Ｙ軸方向に延在する延在部ＥＸ２を含む。引き回し配線ＷＲＣを含む駆動電極ドライバ１４は、延在部ＥＸ２と、複数の駆動電極ＣＯＭＬの各々とをそれぞれ接続する複数の接続部ＣＮ２を含む。接続部ＣＮ２は、例えばＸ軸方向など、延在部ＥＸ２が延在するＹ軸方向と交差する方向に延在する。接続部ＣＮ２の駆動電極ＣＯＭＬ側の端部は、駆動電極ＣＯＭＬと接続され、接続部ＣＮ２のＣＯＧ１９側の端部は、延在部ＥＸ２の駆動電極ＣＯＭＬ側の端部と接続されている。延在部ＥＸ２および接続部ＣＮ２は、周辺領域Ａｓの内部で、基板２１の上面上に設けられている。

なお、Ｘ軸方向におけるＣＯＧ１９の位置によっては、引き回し配線ＷＲＣを含む駆動電極ドライバ１４は、延在部ＥＸ２とＣＯＧ１９とを接続する接続部ＣＴ２を含むものであってもよい。接続部ＣＴ２も、基板２１の上面上に設けられる。

なお、平面視において、周辺領域Ａｓ内に配置された、引き回し配線ＷＲＣを含む駆動電極ドライバ１４は、図２２の平面図および図２３の断面図のいずれにも示されている。

本実施の形態２の表示装置の液晶表示デバイス２０におけるゲートドライバ１２、ソースドライバ１３および駆動電極ドライバ１４を用いた表示動作も、実施の形態１の表示装置の液晶表示デバイス２０における表示動作と同様に行うことができる。

本実施の形態２の表示装置１における駆動電極ＣＯＭＬも、実施の形態１の表示装置１における駆動電極ＣＯＭＬと同様に、液晶表示デバイス２０の駆動電極として動作し、かつ、タッチ検出デバイス３０の駆動電極として動作する。

本実施の形態２でも、実施の形態１と同様に、タッチ検出デバイス３０は、アレイ基板２に設けられた複数の駆動電極ＣＯＭＬと、対向基板３に設けられた複数の検出電極ＴＤＬとを有する。複数の検出電極ＴＤＬは、平面視において、複数の駆動電極ＣＯＭＬの各々が延在する方向と交差する方向にそれぞれ延在する。そして、複数の駆動電極ＣＯＭＬの各々と複数の検出電極ＴＤＬの各々との間の静電容量に応じた信号が発生し、発生した信号が、引き回し配線ＷＲＣを含む駆動電極ドライバ１４、および、引き回し配線ＷＲＴを通して検出されることにより、入力位置が検出される。すなわち、検出電極ＴＤＬが形成された基板３１（図２３参照）のような電極基板と、駆動電極ＣＯＭＬとにより、入力位置を検出する検出部、すなわち入力装置が形成される。

実施の形態１および本実施の形態２のいずれにおいても、引き回し配線ＷＲＣにより駆動電極ＣＯＭＬに駆動信号が供給され、引き回し配線ＷＲＴを通して検出信号が検出される。また、実施の形態１では、例えば空間ＳＰｓ１（図６参照）が、平面視において、周辺領域Ａｓ内で、引き回し配線ＷＲＴと重なるように配置されているため、引き回し配線ＷＲＴを通して検出される検出信号にノイズが入ることを防ぐ効果があった。一方、本実施の形態２では、例えば空間ＳＰｓ１（図２３参照）が、平面視において、周辺領域Ａｓ内で、引き回し配線ＷＲＣを含む駆動電極ドライバ１４と重なるように配置されているため、引き回し配線ＷＲＣにより駆動電極ＣＯＭＬに供給される駆動信号にノイズが入ることを防ぐ効果がある。

本実施の形態２の表示装置のタッチ検出デバイス３０におけるタッチ検出動作も、実施の形態１の表示装置のタッチ検出デバイス３０におけるタッチ検出動作と同様にすることができる。

実施の形態１で図８を用いて説明したように、平面視において、互いに交差した複数の駆動電極ＣＯＭＬと複数の検出電極ＴＤＬは、マトリクス状に配列された静電容量式タッチセンサを形成する。よって、タッチ検出デバイス３０のタッチ検出面全体を走査することにより、指などが接触または近接した位置を検出することが可能である。

また、本実施の形態２のタッチ検出デバイス３０として、実施の形態１のタッチ検出デバイス３０と同様に、自己容量方式のタッチ検出デバイス３０を適用することができる。

本実施の形態２でも、実施の形態１と同様に、図２２および図２３に示すように、対向基板３は、基板３１と、カラーフィルタ層３２と、検出電極ＴＤＬと、引き回し配線ＷＲＴと、保護膜３３とを有する。ただし、図２２に示すように、検出電極ＴＤＬは、平面視において、Ｙ軸方向に延在するため、図２３に示す断面では、平面視において、周辺領域Ａｓの内部で、引き回し配線ＷＲＴが配置されていない。

本実施の形態２でも、実施の形態１と同様に、図２３に示すように、基板としてのカバー板４は、対向基板３を挟んでアレイ基板２と反対側に設けられている。すなわち、カバー板４は、表示領域Ａｄおよび周辺領域Ａｓで、対向基板３の上面と対向するように設けられている。

本実施の形態２でも、実施の形態１と同様に、Ｘ軸方向に配列された複数の検出電極ＴＤＬの各々は、平面視において、複数の導電線により形成されたメッシュ形状を有していてもよく、平面視において、交互に逆方向に屈曲しながら全体としてＹ軸方向に延在するジグザグ形状を有していてもよい。

＜保護膜上の絶縁体部の配置＞
次に、図２２および図２３を参照し、保護膜上の絶縁体部の配置について説明する。

図２２および図２３に示すように、表示領域Ａｄで、保護膜３３上に、絶縁体部ＩＰｄが設けられている。すなわち、絶縁体部ＩＰｄは、保護膜３３上に設けられており、かつ、平面視において、表示領域Ａｄと重なるように配置されている。言い換えれば、絶縁体部ＩＰｄは、基板３１の上面上に、保護膜３３を介して設けられており、かつ、平面視において、表示領域Ａｄと重なるように配置されている。

絶縁体部ＩＰｄは、例えば偏光板３４と、樹脂３５とを含む。偏光板３４は、基板３１の主面としての上面上に、保護膜３３を介して設けられている。樹脂３５は、偏光板３４上に設けられている。カバー板４は、樹脂３５上に設けられており、樹脂３５により偏光板３４に接着されている。なお、偏光板３４の構造については、後述する。

図２３に示すように、平面視において、周辺領域Ａｓの内部であって、駆動電極ＣＯＭＬの引き回し配線ＷＲＣを含む駆動電極ドライバ１４と重なる部分で、保護膜３３上に、絶縁体部ＩＰｄと同層に、空間ＳＰｓ１が設けられている。すなわち、空間ＳＰｓ１は、絶縁体部ＩＰｄの側方に設けられ、平面視において、周辺領域Ａｓ内で、引き回し配線ＷＲＣを含む駆動電極ドライバ１４と重なるように配置されている。空間ＳＰｓ１の誘電率は、絶縁体部ＩＰｄの誘電率に比べて低い。これにより、図２５を用いて後述するように、周辺領域Ａｓで、カバー板４に指または入力具を近づけたときに、引き回し配線ＷＲＣを含む駆動電極ドライバ１４と、指または入力具との間の静電容量が、相対的に小さくなる。

あるいは、実施の形態１で図９を用いて説明したように、平面視において、周辺領域Ａｓの内部であって、駆動電極ＣＯＭＬの引き回し配線ＷＲＣを含む駆動電極ドライバ１４と重なる部分で、保護膜３３上に、絶縁体部ＩＰｄと同層に、絶縁体部ＩＰｄの誘電率よりも低い誘電率を有する絶縁体部ＩＰｓが設けられていてもよい。すなわち、絶縁体部ＩＰｓは、絶縁体部ＩＰｄの側方に設けられ、平面視において、周辺領域Ａｓ内で、引き回し配線ＷＲＣを含む駆動電極ドライバ１４と重なるように配置されていてもよい。このような場合にも、周辺領域Ａｓで、カバー板４に指または入力具を近づけたときに、引き回し配線ＷＲＣを含む駆動電極ドライバ１４と、指または入力具との間の静電容量が、相対的に小さくなる。

なお、本実施の形態２でも、実施の形態１と同様に、絶縁体部ＩＰｄは、平面視において、表示領域Ａｄの全面から周辺領域Ａｓの一部にかけて設けられていてもよい。

また、実施の形態１で図１０を用いて説明したように、絶縁体部ＩＰｄが、偏光板３４を含み、偏光板３４とカバー板４との間に空間ＳＰｄが設けられていてもよい。そして、空間ＳＰｓ２が、空間ＳＰｄの側方に設けられ、平面視において、周辺領域Ａｓ内で、引き回し配線ＷＲＣを含む駆動電極ドライバ１４と重なるように配置されていてもよい。このような場合にも、周辺領域Ａｓで、カバー板４に指または入力具を近づけたときに、引き回し配線ＷＲＣを含む駆動電極ドライバ１４と、指または入力具との間の静電容量が、相対的に小さくなる。

＜周辺領域におけるノイズの低減＞
次に、本実施の形態２の表示装置において、周辺領域におけるノイズが低減されることを、比較例２の表示装置と比較して説明する。図２５は、比較例２の表示装置におけるタッチ検出機能付き表示デバイスを示す断面図である。

比較例２の表示装置１０１のタッチ検出機能付き表示デバイス１１０でも、実施の形態２の表示装置と同様に、平面視において、表示領域Ａｄの内部で、保護膜３３上に、絶縁体部ＩＰｄが設けられている。すなわち、絶縁体部ＩＰｄは、保護膜３３上に設けられており、かつ、平面視において、表示領域Ａｄと重なるように配置されている。絶縁体部ＩＰｄは、保護膜３３上に設けられた偏光板３４と、偏光板３４上に設けられた樹脂３５とを含む。

しかし、比較例２の表示装置１０１のタッチ検出機能付き表示デバイス１１０では、平面視において、周辺領域Ａｓの内部であって、駆動電極ＣＯＭＬの引き回し配線ＷＲＣを含む駆動電極ドライバ１４と重なる部分で、保護膜３３上に、絶縁体部ＩＰｄと同層に、絶縁体部ＩＰｓ１００が形成されている。絶縁体部ＩＰｓ１００は、保護膜３３上に設けられた偏光板３４ｓと、偏光板３４ｓ上に設けられた樹脂３５ｓとを含む。

偏光板３４ｓは、偏光板３４と同層に形成されており、偏光板３４の材料と同種の材料からなる。樹脂３５ｓは、樹脂３５と同層に形成されており、樹脂３５の材料と同種の材料からなる。すなわち、比較例２では、絶縁体部ＩＰｓ１００は、絶縁体部ＩＰｄの材料と同種の材料からなり、絶縁体部ＩＰｓ１００の誘電率は、絶縁体部ＩＰｄの誘電率に比べて低くはない。

そのため、周辺領域Ａｓで、カバー板４に指または入力具を近づけたときに、引き回し配線ＷＲＣを含む駆動電極ドライバ１４と、指または入力具との間の静電容量が、相対的に大きくなる。したがって、周辺領域Ａｓで、カバー板４に指または入力具を近づけたときに、引き回し配線ＷＲＣを含む駆動電極ドライバ１４に、指または入力具からのノイズが伝わりやすくなる。そして、引き回し配線ＷＲＣを含む駆動電極ドライバ１４を通して駆動電極ＣＯＭＬに入力される信号が、ノイズの影響を受けやすく、ノイズの強度に対する信号の強度の比、すなわちＳＮ比が小さくなる。

一方、実施の形態２では、図２３に示すように、絶縁体部ＩＰｄの誘電率よりも低い誘電率を有する絶縁体部ＩＰｓ（図９参照）、または、空間ＳＰｓ１が、絶縁体部ＩＰｄの側方に設けられ、絶縁体部ＩＰｓまたは空間ＳＰｓ１は、平面視において、周辺領域Ａｓ内で、引き回し配線ＷＲＣを含む駆動電極ドライバ１４と重なるように配置されている。絶縁体部ＩＰｓの誘電率、および、空間ＳＰｓ１の誘電率のいずれも、絶縁体部ＩＰｄの誘電率に比べて低い。そのため、周辺領域Ａｓで、カバー板４に指または入力具を近づけたときに、引き回し配線ＷＲＣを含む駆動電極ドライバ１４と、指または入力具との間の静電容量が、相対的に小さくなる。したがって、周辺領域Ａｓで、カバー板４に指または入力具を近づけたときに、引き回し配線ＷＲＣを含む駆動電極ドライバ１４に指または入力具からのノイズが伝わりにくくなる。そして、引き回し配線ＷＲＣを含む駆動電極ドライバ１４を通して駆動電極ＣＯＭＬに入力される信号が、ノイズの影響を受けにくく、ＳＮ比が大きくなり、入力装置の検出性能を向上させることができる。

さらに、実施の形態２では、相対的に高い誘電率を有する絶縁体部ＩＰｄが、平面視において、表示領域Ａｄと重なるように設けられている。そのため、表示領域Ａｄで、カバー板４に指または入力具を近づけたときに、検出電極ＴＤＬと、指または入力具との間の静電容量が相対的に大きくなる。したがって、入力装置の検出性能を向上させることができる。

また、絶縁体部ＩＰｓまたは空間ＳＰｓ１は、平面視において、延在部ＥＸ２に加え、接続部ＣＮ２とも重なるように配置されることがより好ましい。これにより、絶縁体部ＩＰｓまたは空間ＳＰｓ１が、平面視において、延在部ＥＸ２のみと重なるように配置される場合に比べ、周辺領域Ａｓで、カバー板４に指または入力具を近づけたときに、引き回し配線ＷＲＣを含む駆動電極ドライバ１４に指または入力具からのノイズがさらに伝わりにくくなる。

なお、引き回し配線ＷＲＴ、および、引き回し配線ＷＲＣを含む駆動電極ドライバ１４以外の配線であって、入力位置を検出するための何らかの配線が、周辺領域Ａｓ内に配置されている場合でも、平面視において、周辺領域Ａｓ内で、当該配線と重なるように、絶縁体部ＩＰｓまたは空間ＳＰｓ１が配置されることができる。このような場合でも、周辺領域Ａｓで、カバー板４に指または入力具を近づけたときに、当該配線に指または入力具からのノイズが伝わりにくくなる。

＜バックライトフレームによる支持構造＞
本実施の形態２でも、実施の形態１で図１２および図１３を用いて説明した、バックライトフレーム５２による支持構造を適用することができる。また、図１２を用いて説明したように、カバー板４が設けられておらず、バックライトフレーム５２の枠部５４の上端の高さ位置が、保護膜３３の上面の高さ位置よりも高い場合であって、空間ＳＰｓ１が絶縁体部ＩＰｄの側方に設けられ、空間ＳＰｓ１が、平面視において、周辺領域Ａｓ内で、引き回し配線ＷＲＣを含む駆動電極ドライバ１４と重なるように配置されている場合を考える。このような場合、空間ＳＰｓ１は、絶縁体部ＩＰｄと、バックライトフレーム５２の枠部５４との間に設けられた溝部ＴＲ１である。

このような場合でも、実施の形態１と同様に、平面視において、周辺領域Ａｓで、カバー板４に指または入力具を近づけたときの、引き回し配線ＷＲＣを含む駆動電極ドライバ１４と、指または入力具との間の静電容量を、溝部ＴＲ１である空間ＳＰｓ１が設けられない場合に比べ、小さくすることができる。

＜偏光板＞
本実施の形態２でも、実施の形態１で図１４〜図１６を用いて説明した、偏光板の構造を適用することができる。また、実施の形態１と同様に、偏光板３４が導電層６２を含む場合には、絶縁体部ＩＰｄの側方に、絶縁体部ＩＰｄの誘電率よりも低い誘電率を有する絶縁体部ＩＰｓ（図９参照）、または、空間ＳＰｓ１が設けられることにより、周辺領域Ａｓでノイズが発生しにくくなる効果が大きくなる。したがって、周辺領域Ａｓで、カバー板４に指または入力具を近づけたときに、駆動電極ＣＯＭＬに指または入力具からのノイズがさらに伝わりにくくなり、入力装置により検出される信号がノイズの影響をさらに受けにくくなり、ＳＮ比をさらに大きくすることができる。

また、本実施の形態２でも、実施の形態１と同様に、図９に示したように、周辺領域Ａｓ内で、絶縁体部ＩＰｄの側方に、絶縁体部ＩＰｄの誘電率よりも低い誘電率を有する絶縁体部ＩＰｓが設けられている場合であって、図１４に示したように、偏光板３４が導電層６２を含むときは、絶縁体部ＩＰｓは、導電層を含まないことが好ましい。これにより、表示領域Ａｄにおけるノイズの影響が、周辺領域Ａｓに及ぶことを防止または抑制することができる。

＜保護膜の材料＞
次に、図２６および図２７を参照し、保護膜の材料について説明する。図２６および図２７は、実施の形態２の表示装置におけるタッチ検出機能付き表示デバイスの他の例を示す断面図である。

本実施の形態２でも、実施の形態１で図１７および図１８を用いて説明した、保護膜の材料を適用することができる。すなわち、好適には、保護膜３３は、紫外線硬化型の材料からなり、紫外線吸収層７１が、液晶層６を挟んでアレイ基板２と反対側、すなわち液晶層６と保護膜３３との間に設けられている。これにより、実施の形態１と同様に、保護膜３３を形成する際に熱処理を行う必要がなく、また、液晶層６または配向膜（図示は省略）が紫外線に照射されて分解して変質することを、防止または抑制することができる。

図２６に示す例では、紫外線吸収層７１は、基板３１の一方の主面としての上面上に設けられており、保護膜３３は、紫外線吸収層７１上に設けられている。すなわち、紫外線吸収層７１は、保護膜３３の直下に配置されている。図２６に示す例では、紫外線吸収層７１として、例えば基板３１に対する保護膜３３の密着性を向上させる機能を兼ねたものが、設けられてもよい。

図２７に示す例では、紫外線吸収層７１は、基板３１の他方の主面としての下面に設けられている。図２７に示す例では、紫外線吸収層７１は、カラーフィルタ層３２と兼用されているが、平面視において、液晶層６が配置されている領域全面を覆うように、設けられていることが好ましい。また、図示は省略するが、紫外線吸収層７１は、基板３１とカラーフィルタ層３２との間、または、カラーフィルタ層３２を挟んで基板３１と反対側であって、配向膜（図示は省略）よりも基板３１側に、カラーフィルタ層３２と別に設けられてもよい。

あるいは、実施の形態１と同様に、保護膜３３は、熱硬化型の材料からなる。これにより、実施の形態１と同様に、紫外線硬化型の材料からなる保護膜を形成する必要がないので、材料コストを低減することができる。

また、実施の形態１と同様に、好適には、保護膜３３のシート抵抗は、１×１０^９Ω／ｓｑｕａｒｅ以上である。これにより、実施の形態１と同様に、保護膜３３で覆われた検出電極ＴＤＬ同士が短絡することを防止または抑制することができ、入力装置の検出性能を向上させることができる。

＜保護膜に対する偏光板の密着力＞
本実施の形態２でも、実施の形態１で図１９〜図２１を用いて説明したように、基板３１に対する保護膜３３の密着力は、保護膜３３に対する偏光板３４の密着力よりも大きい。これにより、基板３１上に保護膜３３を形成した後、例えば接着層６１（図１４参照）を用いて偏光板３４を保護膜３３上に接着する際に、偏光板３４の位置が所望の位置からずれた場合でも、偏光板３４を保護膜３３から剥離して再度接着し直すことができる。そのため、偏光板３４を含む絶縁体部ＩＰｄの側方に、例えば空間ＳＰｓ１（図２３参照）などを、位置精度よく設けることができる。したがって、周辺領域Ａｓで、カバー板４に指または入力具を近づけたときに、引き回し配線ＷＲＣを含む駆動電極ドライバ１４と、指または入力具との間の静電容量を、相対的に小さくすることができる。

＜本実施の形態の主要な特徴と効果＞
本実施の形態２の表示装置では、絶縁体部ＩＰｓまたは空間ＳＰｓ１が、絶縁体部ＩＰｄの側方に設けられ、平面視において、周辺領域Ａｓ内で、引き回し配線ＷＲＣを含む駆動電極ドライバ１４と重なるように配置されている。絶縁体部ＩＰｓの誘電率、および、空間ＳＰｓ１の誘電率のいずれも、絶縁体部ＩＰｄの誘電率に比べて低い。そのため、周辺領域Ａｓで、カバー板に指または入力具を近づけたときに、引き回し配線ＷＲＣを含む駆動電極ドライバ１４と、指または入力具との間の静電容量が、相対的に小さくなる。したがって、周辺領域Ａｓで、カバー板４に指または入力具を近づけたときに、引き回し配線ＷＲＣを含む駆動電極ドライバ１４にノイズが伝わりにくくなり、入力装置により検出される信号がノイズの影響を受けにくくなり、ＳＮ比が大きくなる。

すなわち、本実施の形態２の表示装置では、絶縁体部ＩＰｓまたは空間ＳＰｓ１が、平面視において、周辺領域Ａｓ内で、引き回し配線ＷＲＣを含む駆動電極ドライバ１４と重なるように配置されているため、引き回し配線ＷＲＣにより駆動電極ＣＯＭＬに供給される駆動信号にノイズが入ることを防ぐ効果がある。

なお、本実施の形態２では、駆動電極ＣＯＭＬ、および、引き回し配線ＷＲＣを含む駆動電極ドライバ１４が、基板２１の上面上に形成される場合について説明した。しかし、本実施の形態２の表示装置１のタッチ検出機能付き表示デバイス１０は、駆動電極ＣＯＭＬ、および、引き回し配線ＷＲＣを含む駆動電極ドライバ１４が、基板２１の下面、または、基板３１の上面もしくは下面に形成される場合にも適用可能である。このような場合でも、絶縁体部ＩＰｄの側方に、絶縁体部ＩＰｄの誘電率よりも低い誘電率を有する絶縁体部ＩＰｓ、または、空間ＳＰｓ１が設けられることにより、引き回し配線ＷＲＣを含む駆動電極ドライバ１４に指または入力具からのノイズが伝わりにくくなる。

以上、本発明者によってなされた発明をその実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。

また、前記実施の形態においては、開示例として液晶表示装置の場合を例示したが、その他の適用例として、有機ＥＬ表示装置、その他の自発光型表示装置、あるいは電気泳動素子等を有する電子ペーパー型表示装置等、あらゆるフラットパネル型の表示装置が挙げられる。また、中小型から大型まで、特に限定することなく適用が可能であることはいうまでもない。

本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例および修正例に想到し得るものであり、それら変更例および修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。

例えば、前述の各実施の形態に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除もしくは設計変更を行ったもの、または、工程の追加、省略もしくは条件変更を行ったものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含まれる。

本発明は、表示装置および入力装置に適用して有効である。

１ 表示装置
２ アレイ基板
３ 対向基板
４ カバー板
６ 液晶層
７ 封止部
１０ タッチ検出機能付き表示デバイス
１１ 制御部
１２ ゲートドライバ
１３ ソースドライバ
１４ 駆動電極ドライバ
１９ ＣＯＧ
２０ 液晶表示デバイス（表示デバイス）
２１ 基板
２２ 画素電極
２４ 絶縁膜
２５ 偏光板
３０ タッチ検出デバイス
３１ 基板
３２ カラーフィルタ層
３２Ｂ、３２Ｇ、３２Ｒ 色領域
３３ 保護膜
３４、３４ｓ 偏光板
３５、３５ｓ 樹脂
４０ タッチ検出部
４２ タッチ検出信号増幅部
４３ Ａ／Ｄ変換部
４４ 信号処理部
４５ 座標抽出部
４６ 検出タイミング制御部
５１ バックライトユニット
５２ バックライトフレーム
５３ 底部
５４ 枠部
５５ 粘着テープ
５６ 反射板
５７ 導光板
５８ 発光ダイオードユニット（ＬＥＤユニット）
５８ａ 支持部材
５８ｂ ＬＥＤ
６１、６１ａ〜６１ｃ 接着層
６２ 導電層
６３、６５ カバー層
６４ 偏光層
６６ 積層膜
７１ 紫外線吸収層
Ａｄ 表示領域
Ａｓ 周辺領域
Ｃ１ 容量素子
Ｃ２ 静電容量
ＣＮ１、ＣＮ２、ＣＴ１、ＣＴ２ 接続部
ＣＯＭＬ 駆動電極
Ｄ 誘電体
ＤＥＴ 電圧検出器
Ｅ１ 駆動電極
Ｅ２ 検出電極
ＥＸ１、ＥＸ２ 延在部
ＧＣＬ 走査線
ＩＰｄ、ＩＰｓ 絶縁体部
ＬＣ 液晶素子
Ｐｉｘ 画素
Ｒｅｓｅｔ 期間
Ｓ 交流信号源
Ｓｃａｎ スキャン方向
Ｓｇ 交流矩形波
ＳＧＬ 信号線
ＳＰｄ、ＳＰｓ１、ＳＰｓ２ 空間
ＳＰｉｘ 副画素
ＴＤＬ 検出電極
ＴＭ 端子部
Ｔｒ ＴＦＴ素子
ＴＲ１ 溝部
Ｖｃｏｍ 駆動信号
Ｖｄｅｔ 検出信号
Ｖｄｉｓｐ 映像信号
Ｖｏｕｔ 信号出力
Ｖｐｉｘ 画素信号
Ｖｓｃａｎ 走査信号
Ｖｓｉｇ 画像信号
ＷＲＣ、ＷＲＴ 引き回し配線
ＷＳ 配線基板

Claims (21)

1. 第１基板と、
   前記第１基板と対向する第２基板と、
   前記第１基板に設けられた複数の画素と、
   前記第１基板または前記第２基板に設けられた第１配線と、
   前記第２基板の第１主面上に設けられた第１絶縁体部と、
   前記第１絶縁体部の側方に設けられた第２絶縁体部または空間と、
   を有し、
   前記第２絶縁体部は、前記第１絶縁体部の誘電率よりも低い誘電率を有し、
   前記複数の画素は、平面視において、前記第２基板の前記第１主面の第１領域内に配置され、
   前記第１配線は、平面視において、前記第２基板の前記第１主面の領域であって、前記第１領域よりも前記第２基板の外周側に位置する領域である第２領域内に配置され、
   前記第１絶縁体部は、平面視において、前記第１領域と重なるように配置され、
   前記第２絶縁体部または前記空間は、平面視において、前記第２領域内で、前記第１配線と重なるように配置されており、
   前記第１配線を通して信号が検出されることにより入力位置が検出される、表示装置。
2. 請求項１記載の表示装置において、
   前記第２基板に設けられた第１電極を有し、
   前記第１電極は、平面視において、前記第１領域内に配置され、
   前記第１配線は、前記第２基板に設けられ、かつ、前記第１電極と電気的に接続されており、
   前記第１電極の静電容量に応じた前記信号が検出されることにより、前記入力位置が検出される、表示装置。
3. 請求項２記載の表示装置において、
   前記第１領域および前記第２領域で、前記第２基板の前記第１主面上に、前記第１電極および前記第１配線を覆うように設けられた保護膜を有し、
   前記第２基板の前記第１主面と反対側の第２主面が前記第１基板と対向し、
   前記第１絶縁体部および前記第２絶縁体部は、前記第２基板の前記第１主面上に、前記保護膜を介して設けられている、表示装置。
4. 請求項３記載の表示装置において、
   前記第１領域および前記第２領域で、前記第２基板の前記第１主面と対向するように設けられた第３基板を有する、表示装置。
5. 請求項３記載の表示装置において、
   前記第１絶縁体部は、前記第２基板の前記第１主面上に、前記保護膜を介して設けられた偏光板を含む、表示装置。
6. 請求項５記載の表示装置において、
   前記偏光板は、絶縁膜からなる偏光層と、導電性を有する導電層と、を含む複数の層がいずれかの順で積層された積層膜からなる、表示装置。
7. 請求項５記載の表示装置において、
   前記第１領域および前記第２領域で、前記第２基板の前記第１主面と対向するように設けられた第３基板を有し、
   前記第１絶縁体部は、前記偏光板上に設けられた絶縁性の樹脂を含み、
   前記第３基板は、前記樹脂により前記偏光板に接着されている、表示装置。
8. 請求項２記載の表示装置において、
   平面視において、第１方向にそれぞれ延在し、かつ、前記第１方向と交差する第２方向に配列された複数の走査線と、
   平面視において、前記第２方向にそれぞれ延在し、かつ、前記第１方向に配列された複数の信号線と、
   を有し、
   前記第１電極は、前記第１方向に延在する、表示装置。
9. 請求項５記載の表示装置において、
   前記第２基板に対する前記保護膜の密着力は、前記保護膜に対する前記偏光板の密着力よりも大きい、表示装置。
10. 請求項３記載の表示装置において、
    前記第１基板と前記第２基板との間に挟まれた液晶層と、
    前記液晶層と前記保護膜との間に設けられ、紫外線を吸収する紫外線吸収層と、
    を有し、
    前記保護膜は、紫外線硬化型の材料からなる、表示装置。
11. 請求項３記載の表示装置において、
    前記第１基板と前記第２基板との間に挟まれた液晶層を有し、
    前記保護膜は、熱硬化型の材料からなる、表示装置。
12. 請求項３記載の表示装置において、
    前記保護膜のシート抵抗は、１×１０^９Ω／ｓｑｕａｒｅ以上である、表示装置。
13. 請求項１記載の表示装置において、
    前記第１基板に設けられた第１電極を有し、
    前記第１電極は、平面視において、前記第１領域内に配置され、
    前記第１配線は、前記第１基板に設けられ、かつ、前記第１電極と電気的に接続されている、表示装置。
14. 請求項１３記載の表示装置において、
    前記第２基板に設けられた第２電極と、
    前記第２基板に設けられた第２配線と、
    を有し、
    前記第２電極は、平面視において、前記第１領域内に配置され、
    前記第２配線は、平面視において、前記第２領域内に配置され、
    前記第１電極と前記第２電極との静電容量に応じた前記信号が検出されることにより、前記入力位置が検出される、表示装置。
15. 請求項１４記載の表示装置において、
    前記第１領域および前記第２領域で、前記第２基板の前記第１主面上に、前記第２電極および前記第２配線を覆うように設けられた保護膜を有し、
    前記第２基板の前記第１主面と反対側の第２主面が前記第１基板と対向し、
    前記第１絶縁体部および前記第２絶縁体部は、前記第２基板の前記第１主面上に、前記保護膜を介して設けられている、表示装置。
16. 請求項１５記載の表示装置において、
    前記第１領域および前記第２領域で、前記第２基板の前記第１主面と対向するように設けられた第３基板を有する、表示装置。
17. 請求項１５記載の表示装置において、
    前記第１絶縁体部は、前記第２基板の前記第１主面上に、前記保護膜を介して設けられた偏光板を含む、表示装置。
18. 請求項１７記載の表示装置において、
    前記偏光板は、絶縁膜からなる偏光層と、導電性を有する導電層と、を含む複数の層がいずれかの順で積層された積層膜からなる、表示装置。
19. 請求項１７記載の表示装置において、
    前記第１領域および前記第２領域で、前記第２基板の前記第１主面と対向するように設けられた第３基板を有し、
    前記第１絶縁体部は、前記偏光板上に設けられた樹脂を含み、
    前記第３基板は、前記樹脂により前記偏光板に接着されている、表示装置。
20. 請求項１３記載の表示装置において、
    平面視において、第１方向にそれぞれ延在し、かつ、前記第１方向と交差する第２方向に配列された複数の走査線と、
    平面視において、前記第２方向にそれぞれ延在し、かつ、前記第１方向に配列された複数の信号線と、
    を有し、
    前記第１電極は、前記第１方向に延在する、表示装置。
21. 第１基板と、
    前記第１基板に設けられた第１電極と、
    前記第１基板に設けられた第１配線と、
    前記第１基板の第１主面上に設けられた第１絶縁体部と、
    前記第１絶縁体部の側方に設けられた第２絶縁体部または空間と、
    を有し、
    前記第１配線は、前記第１電極と電気的に接続され、
    前記第２絶縁体部は、前記第１絶縁体部の誘電率よりも低い誘電率を有し、
    前記第１電極は、平面視において、前記第１基板の前記第１主面の第１領域内に配置され、
    前記第１配線は、平面視において、前記第１基板の前記第１主面の領域であって、前記第１領域よりも前記第１基板の外周側に位置する領域である第２領域内に配置され、
    前記第１絶縁体部は、平面視において、前記第１領域と重なるように配置され、
    前記第２絶縁体部または前記空間は、平面視において、前記第２領域内で、前記第１配線と重なるように配置されており、
    前記第１電極の静電容量に応じた信号が前記第１配線を通して検出されることにより、入力位置が検出される、入力装置。

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