JP2016029691A - 表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造 - Google Patents

表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造 Download PDF

Info

Publication number
JP2016029691A
JP2016029691A JP2014151766A JP2014151766A JP2016029691A JP 2016029691 A JP2016029691 A JP 2016029691A JP 2014151766 A JP2014151766 A JP 2014151766A JP 2014151766 A JP2014151766 A JP 2014151766A JP 2016029691 A JP2016029691 A JP 2016029691A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wire
silver
mass
palladium
palladium alloy
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2014151766A
Other languages
English (en)
Inventor
道孝 三上
Michitaka Mikami
道孝 三上
斌 劉
Bin Liu
斌 劉
和彦 安原
Kazuhiko Yasuhara
和彦 安原
千葉 淳
Atsushi Chiba
淳 千葉
純一 岡崎
Junichi Okazaki
純一 岡崎
菜那子 前田
Nanako Maeda
菜那子 前田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tanaka Denshi Kogyo KK
Original Assignee
Tanaka Denshi Kogyo KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tanaka Denshi Kogyo KK filed Critical Tanaka Denshi Kogyo KK
Priority to JP2014151766A priority Critical patent/JP2016029691A/ja
Priority to SG10201505546YA priority patent/SG10201505546YA/en
Priority to TW104123525A priority patent/TW201604981A/zh
Priority to CN201510438069.7A priority patent/CN105321917A/zh
Publication of JP2016029691A publication Critical patent/JP2016029691A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L24/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/05599Material
    • H01L2224/056Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/05617Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
    • H01L2224/05624Aluminium [Al] as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/4501Shape
    • H01L2224/45012Cross-sectional shape
    • H01L2224/45014Ribbon connectors, e.g. rectangular cross-section
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/4501Shape
    • H01L2224/45012Cross-sectional shape
    • H01L2224/45015Cross-sectional shape being circular
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45139Silver (Ag) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4554Coating
    • H01L2224/45565Single coating layer
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4554Coating
    • H01L2224/45599Material
    • H01L2224/456Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45638Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45644Gold (Au) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4554Coating
    • H01L2224/45599Material
    • H01L2224/456Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45663Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than 1550°C
    • H01L2224/45664Palladium (Pd) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4554Coating
    • H01L2224/45599Material
    • H01L2224/456Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45663Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than 1550°C
    • H01L2224/45669Platinum (Pt) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00011Not relevant to the scope of the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)

Abstract

【課題】被覆材ないし芯材の種類や線径が変更されても、個別に接合条件を設定することなく、安定して超音波接合することができ、超音波接合時のプロセスウィンドウ幅が広い表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造を提供する。【解決手段】純度99.99質量%以上の銀(Ag)および金(Au)、および純度99.9質量%以上のパラジウム(Pd)によるAg−1〜5質量%Pd合金またはAg−1〜5質量%Pd−0.05〜10質量%(AuまたはPt)合金からなる芯材と、純度99.99質量%以上の金(Au)、パラジウム(Pd)、白金(Pt)またはこれらの合金からなる表面改質層とから構成される表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造。そのワイヤ表面は、その芯材の結晶粒界とともにそのワイヤの長手方向に交差する濃色リングが二十〜三十μm幅の間隔に形成され、かつ、その芯材の大小の縦長溝内にその表面改質層が埋設された表面形態とする。【選択図】図1

Description

本発明は、半導体装置に用いられるICチップ電極と外部リード等の基板の接続に好適な表面改質銀パラジウム合金ボンディングワイヤに関し、特に車載用やパワー半導体や高速デバイス用などの高温環境下で使用される超音波接続用ボンディング・バンプワイヤ、あるいは、15μm以下の極細線でも使用されるフリーエアーボール(FAB)用表面改質銀ボンディングワイヤに関する。
従来から半導体装置のICチップ電極と外部リードとを接続する銀パラジウム合金ボンディングワイヤは、さまざまな種類のものが開発されてきた。例えば、「Agに、Pdを1〜30wt%含有せしめて成る」もの(特開昭57−021830号公報)、Agに、Pd等「の少なくとも1種を合計で500〜3000重量ppm添加されて成る」もの(特開昭64−087736号公報)、Pd等「の少なくとも1種を0.005〜7質量%の範囲で含有し、残部を銀および銀の不可避的不純物からなる銀合金」(特開平9−275120号公報)、「Pdが10質量%以下、…であり、更にAuを40質量%以下含み、残部がAg及び不可避不純物からなる」もの(特開平11−288962号公報)、「純度99.99質量%以上の銀(Ag)と純度99.999質量%以上の金(Au)と純度99.99質量%以上のパラジウム(Pd)とからなる三元合金系ボンディングワイヤであって、金(Au)が4〜10質量%、パラジウム(Pd)が2〜5質量%、酸化性非貴金属添加元素が15〜70質量ppmおよび残部が銀(Ag)からな」り、「酸化性非貴金属添加元素としては、カルシウム(Ca),希土類元素(Y、La、Ce、Eu、Gd、NdおよびSm)、ベリリウム(Be)、マグネシウム(Mg)、スズ(Sn)、インジウム(In)、ビスマス(Bi)がある。好ましくは、カルシウム(Ca)および希土類元素、特にランタン(La)、ベリリウム(Be)がよい。(0013段落))」もの((特開2012−169374号公報)後述する特許文献1)、「複合銀ワイヤが、該金を4質量%以上8質量%以下で含み、かつ、パラジウムを2〜4質量%で含む」もの(特開2013−21280号公報)などである。
また、コーティング銀ボンディングワイヤとしては、金(Au)を被覆したもの(特公昭54−23794号公報、特開昭56−021354号公報)、パラジウム(Pd)、白金(Pt)またはニッケル(Ni)を被覆したもの(特開2004−14884号公報)、金(Au)、パラジウム(Pd)、白金(Pt)等を被覆したもの(特開2007−123597号公報)、「銀、金、パラジウム、白金、アルミニウムのうち一種以上を主成分元素とする芯材と、該主成分元素と異なる導電性金属を主成分とする外皮層を芯材の外側に有するボンディングワイヤであって、前記外皮層の厚さが0.001〜0.09μmの範囲である」もの((特開2007−123597号公報)後述する特許文献2)などがある。
また、コーティング銀ボンディングワイヤには、「AES分析による有機被膜の厚みがSiO換算で0.5〜3nmであり、」「金属製ワイヤの材質が、Au、Au合金、Au−Ag合金、Ag、Cuのいずれかである」もの((特開2012−109356号公報)後述する特許文献3)も知られている。
これらの銀ボンディングワイヤの線径も、フリーエアーボール(FAB)用銀ボンディングワイヤの場合には十数μmから数十μmまでの線径のものが一般的であり、パワー系半導体用太線の場合には数十μmから数百μmまでのものが一般的である。
ここで、FABとは、ボンディングツール先端から延出したボンディングワイヤの先端へ窒素や窒素‐水素等の非酸化性ガスまたは還元ガスを吹き付けながらスパーク放電することによりボンディングワイヤの先端に形成される溶融ボールをいう。FABの場合、ボンディングワイヤの溶融ボールが第一ボンドされるまでは不活性雰囲気または還元性雰囲気が保たれているので、銀パラジウム合金ボンディングワイヤ自体も第一ボンディング時に硫化することがない。
また、このようなボンディングワイヤであっても、溶融ボールを作らずに直接超音波によって第一ボンディングと第二ボンディングを超音波法のみで接続するウェッジボンディング法や、そのウェッジボンディングしたコーティング銀ワイヤをクランプによって引きちぎるスタッドバンプ法などの超音波によるボンディング法もある。また、超音波接合をさらに容易にするため、銀ワイヤを押しつぶして平坦にした矩形断面形状のリボンワイヤも超音波接合することができる。そして、これらの方法で超音波接合されたワイヤは、その後モールド樹脂によって封止され、半導体装置となる。なお、アルミパッドは、純アルミニウム(Al)金属やこのアルミニウム(Al)金属に0.3〜2.0質量%の銅(Cu)、ケイ素(Si)、ニッケル(Ni)等が添加された合金が多用され、通常は真空蒸着等の乾式メッキによって形成される。
しかしながら、上記の銀パラジウム合金ボンディングワイヤはこれまでボンディングワイヤとして実用化されなかった。銀パラジウム合金ボンディングワイヤが実用化されなかった理由は次のとおりである。
まず、無垢の高純度銀ボンディングワイヤは、ボンディング接続前に表面が硫化して硫化銀膜が形成されるという致命的な欠点が有るため、銀パラジウム合金ボンディングワイヤの利用が考えられた。ところが、パラジウム(Pd)の含有量が5質量%以下の銀パラジウム合金ボンディングワイヤは、耐硫化性の点で高純度銀ボンディングワイヤとあまり大差がなく、コーティングする必要があった。しかし、コーティングした銀パラジウム合金ボンディングワイヤは、FABの溶融ボール形状がばらつき、接合性が安定しなかった。
他方、地金価格が銀よりも安価な銅ボンディングワイヤが開発され、高温環境下で使用される超音波接続用ボンディング・バンプワイヤでも安価な銅ボンディングワイヤが使用されるに至った。
また、金価格が沈静化すれば、銅ボンディングワイヤよりも高価なパラジウム(Pd)の含有量が5質量%を超える銀パラジウム合金ボンディングワイヤは、ボンディング性能の良い金ボンディングワイヤに置き換わった。結局、銀パラジウム合金ボンディングワイヤの需要がないためその開発は取り残されていたのが実情である。
しかも、ボンディングワイヤが20μmから18μmへ、そして18μmから15μmへ細くなっていくと、銀パラジウム合金ボンディングワイヤは硬く伸線加工しづらくなる。このためコーティングすると、第一ボンドの接合条件には影響がないものの、第二ボンドの超音波による接合領域が少なくなっていった。また、超音波の条件によってはまったく接合できる接合領域がなくなるなど、超音波による第二ボンディングがますます不安定になるという技術的な課題があった。この課題は超音波による第一ボンディングでもスタッドボンディングでも、少なからず超音波接合に係る課題であった。
これは、超音波装置による細線用ボンディングワイヤの接合条件は、周波数(数十〜数百kHz程度)と出力(最大数W程度)と加圧力(数〜数十gf程度)によって定まるため、第一ボンドの接合条件よりも制約が多いからである。第二ボンドの最適な超音波条件は、芯材の成分組成以外に、芯材の表面形態および表面被覆層の材質や膜厚にも左右されると考えられる。
特開2012−169374号公報 特開2007−123597号公報 特開2012−109356号公報
本発明は、超音波による接合性が不安定になるという上記課題を解決するためになされたもので、仕上げダイスによって形成される表面改質銀パラジウム合金ワイヤの断面形状を真円なものに近づけることによって超音波接合時のプロセスウィンドウ幅が広い、安価な表面改質銀パラジウム合金ワイヤ、特に車載用やパワー半導体や高速デバイス用などの高温環境下で使用される超音波接続用ボンディングワイヤの構造を提供することを目的とする。
本発明者らは、純度99.99質量%以上の銀(Ag)および純度99.9質量%以上のパラジウム(Pd)による銀パラジウム合金を縮径していくと、そのワイヤの結晶粒系は細かくなり、そのワイヤの長手方向に交差する濃色リングが数十μm幅の間隔に形成されることをみつけた。すなわち、走査電子顕微鏡でワイヤを観察したときに、ワイヤ上でリング状に濃く見える箇所を濃色リングと称する。この濃色リングは、ロット間でばらつくものの、銀パラジウム合金に微量元素を添加すると、濃色リングが濃くなる傾向にある。また、この濃色リングは、銀パラジウム合金に金(Au)元素を含有すると、薄くなる傾向にある。銀パラジウム合金または銀パラジウム金合金は、状態図からすると完全固溶するが、一連の連続伸線工程におけるワイヤの強加工中に銀パラジウム合金の格子内部の追随できなかった線状の転移網等のひずみが合金表面に顕在化したものと考えられる。
本発明者らは、濃色リングのロット間でばらつく原因が伸線ダイスの不均一性によるものと考えた。すなわち、一連の伸線ダイスは摩耗等により不均一な形状となり、ワイヤ表面の長手方向に大小の縦長の溝ができる。仕上げダイスは比較的真円形状のダイスを用いるが、伸線された銀パラジウム合金は固いので、大小の不規則な縦長溝を埋めるまでには至らない。このため、第一ボンド時のFABが安定しなかったり、第二ボンド時のプロセスウィンドウ幅が狭かったりしたものである。本発明は、耐硫化性および耐酸化性が高く、高融点の貴金属層または貴金属合金層でこの不均一な大小の縦長溝を穴埋めすることによって銀パラジウム合金ワイヤの接合性を向上させようとするものである。
本発明の課題を解決するための表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造の一つは、純度99.99質量%以上の銀(Ag)および純度99.9質量%以上のパラジウム(Pd)によるAg−1〜5重量%(1重量%以上から5重量%以下を意味する。以下同様である。)Pd合金からなる芯材と、純度99.99質量%以上の金(Au)、パラジウム(Pd)、白金(Pt)またはこれらの合金からなる表面改質層とから構成される銀パラジウム合金ワイヤの構造であって、そのワイヤ表面は、その芯材の結晶粒界とともにそのワイヤの長手方向に交差する濃色リングが数十μm幅の間隔に形成され、かつ、その芯材の大小の縦溝内にその表面改質層が埋設された表面形態であることを特徴とする。
また、本発明の課題を解決するための表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造の一つは、純度99.99質量%以上の銀(Ag)および金(Au)または白金(Pt)、および純度99.9質量%以上のパラジウム(Pd)によるAg−1〜5質量%Pd−0.05〜10質量%(AuまたはPt)合金からなる芯材と、純度99.99質量%以上の金(Au)、パラジウム(Pd)、白金(Pt)またはこれらの合金からなる表面改質層とから構成される銀パラジウム合金ワイヤの構造であって、その芯材表面は、その芯材の結晶粒界とともにそのワイヤの長手方向に交差する濃色リングが数十μm幅の間隔に形成され、かつ、その芯材の大小の縦溝内にその表面改質層が埋設された表面形態であることを特徴とする。
本発明の表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造における好ましい実施態様は、以下のとおりである。
本発明の表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造において、芯材がAg−1〜5質量%Pd合金にさらにCa、La、Y、Eu、CeまたはGeのうちの少なくとも1種を総量で10〜90質量ppm含有することが好ましい。
また、本発明の表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造において、芯材がAg−1〜5質量%Pd−0.05〜10質量%(AuまたはPt)合金にさらにCa、La、Y、Eu、CeまたはGeのうちの少なくとも1種を総量で10〜90質量ppm含有することが好ましい。
また、本発明の表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造において、上記被覆材が純度99.99質量%以上の金(Au)であることが好ましい。
また、本発明の表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造において、上記表面改質層の厚さがワイヤ全体の質量分析の結果から算出された0.5〜8nmの理論的膜厚であることが好ましい。
また、本発明の表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造において、上記表面改質銀パラジウム合金ワイヤの最上層には、さらに総有機炭素量(TOC値)が50〜3,000μg/mの有機カーボン層が存在していることが好ましい。
本発明の表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造における用語の定義は、以下のとおりである。
「表面改質層」としては、純度99.99質量%以上の金(Au)、パラジウム(Pd)、白金(Pt)またはこれらの合金である。「これらの合金」には、上記の高純度貴金属を1〜40質量%および残部が純度99.99質量%以上の銅(Cu)からなる銅合金も含まれる。純度99.99質量%以上の金(Au)の表面改質層は芯材よりも柔らかいので、芯材の大小の縦溝内に充填され、余剰の金(Au)が極薄の透明な表面改質層を形成するが、膜厚が厚いとFABの溶融条件がばらついてしまう。他方、パラジウム(Pd)または白金(Pt)の表面改質層は芯材よりも加工硬化しやすい。このため表面改質層の膜厚が厚くなると、膜の応力が高くなり、表面改質層が芯材から剥離してしまう。また、金(Au)と同様に、パラジウム(Pd)または白金(Pt)の膜厚が厚いとFABの溶融条件がばらついてしまう。このような現象は、均一に表面改質された膜では観察されず、ダイヤモンドダイス内面の凹凸溝よりも薄くなった表面改質膜で観察される現象である。
なお、「透明な表面改質層」が存在するとしたのは、無垢の銀パラジウム合金ワイヤの一側面を削り取ってFABを形成すると、真球の溶融ボールができるのに対し、表面改質銀パラジウム合金ワイヤの一側面を同様に削り取ってFABを形成すると、偏心した溶融ボールができるからである。
純度がさらに高くなって、特に99.999%以上の高純度の金(Au)やパラジウム(Pd)や白金(Pt)を用いた場合は、その展延性が増し、透明な極薄の表面改質層が得られる。特に、展延性の観点から純度99.999質量%以上の金(Au)がより好ましい。
本発明の表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造において、「0.5〜8nmの理論的膜厚」を持ち出すのは、図2から明らかなように、薄すぎて透明な極薄の表面改質層を直接観察することができないからである。「理論的膜厚」は、ワイヤ全体を溶解し、その溶液中の表面改質層の濃度を高周波誘導結合プラズマ発光分光分析法(ICP-AES)により求め、その濃度からボンディングワイヤの線径における均一な膜厚として算出したものである。上記表面改質層の厚さは、ワイヤ全体の質量分析の結果から算出された0.5〜8nmの理論的膜厚であることが好ましい。なお、この「理論的膜厚」は、測定可能な数十nmの膜厚の範囲ではワイヤの縮径率から算出した表面改質層の膜厚と良い一致を示していた。
また、本発明の表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造において、総有機炭素量(TOC値)が200〜1,000μg/mであることが好ましい。
本発明の表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造において、当該表面改質銀パラジウム合金ワイヤがフリーエアーボール(FAB)用ボンディングワイヤであることが好ましい。
本発明の表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造において、上記芯材の成分組成を、純度99.99質量%以上の銀(Ag)および純度99.9質量%以上のパラジウム(Pd)からなるAg−1〜5質量%Pd合金、または純度99.99質量%以上の銀(Ag)および金(Au)または白金(Pt)、および純度99.9質量%以上のパラジウム(Pd)によるAg−1〜5重量%Pd−0.05〜10質量%(AuまたはPt)合金としたのは、純度99.99質量%以上の銀(Ag)ワイヤでは表面が硫化し、また、酸素の侵入により不純物が酸化物を形成してしまうためである。また、これらの合金ワイヤは、ボンディングワイヤとして第一ボンドのFAB形成時に真球ボールができるようにし、ループ特性を安定化させるためである。また、純アルミニウム(Al)パッドやAl−1質量%Si合金等のパッドと接続する際にアルミスプラッシュが生じないようにするためである。
また、上記の超音波接合用銀パラジウム合金ワイヤの場合には、貴金属以外の微量金属成分を10〜90質量ppmとすることが好ましい。下限を10質量ppmとしたのは、銀パラジウム合金マトリックス中に酸素やイオウが溶存していても、これらの所定の金属成分が酸素やイオウを固定化するためである。銀パラジウム合金マトリックスを酸素欠乏状態にしておくと、表面改質層とあいまってワイヤ表面における銀(Ag)とイオウ(S)との反応(Ag・S反応)および芯材内部での酸化性金属と酸素との反応を遅延させることができる。
他方、上限を90質量ppm未満としたのは、「フォーナインゴールド」を表示する純金合金ボンディングワイヤに合わせたためである。なお、金属成分が90質量ppm以下であれば、表面改質銀パラジウム合金ワイヤの表面層近傍に微量添加金属や金属不純物が高濃度あるいは低濃度に偏析することはない。
本発明における表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造において、理論的膜厚を所定の極薄層とするのは、超音波接合時に被覆材のバルク的な性質を除くためである。本発明において表面改質層は極薄層なので、第一ボンドおよび第二ボンドの接合界面では表面改質層の影響を無視することができる。他方、大気中では貴金属としての耐硫化性および耐酸化性の性質が発揮され、表面改質層がない銀パラジウム合金ワイヤよりも耐硫化性および耐酸化性が向上する。また、表面改質層は極薄なので、たとえ加工硬化性のパラジウム(Pd)であっても比較的柔らかい芯材が吸収する結果、在来のパラジウム被覆ボンディングワイヤのように伸線中にダイヤモンドダイスが異常に摩耗することはない。
なお、理論的膜厚を0.5〜8nmとしたのは次の理由による。すなわち、理論的膜厚が0.5nm未満の場合は、ワイヤ表面に縦長の溝が多数形成されたときにその溝を埋め尽くすだけの量が足りなくなるおそれがあるからである。また、理論的膜厚が8nmを超える場合は、超音波接合が被覆材の影響を受け、セカンドウィンドウ試験の接合可能な領域が著しく減少してしまうおそれがあるからである。よって、理論的膜厚がこの範囲内であれば、超音波の接合性を安定させることができ、超音波の設定条件をひろくとることができ、安定した接合強度が得られる効果があるからである。
また、本発明の表面改質銀パラジウム合金ワイヤにおいて、FABにより溶融ボールを形成する場合は、第二ボンドの超音波接合よりも極薄の表面改質層の影響を受けないので、既知の芯材組成と同様に、溶融ボールが真球形状になってパッドへ接合される。
本発明におけるワイヤ表面の濃色リング模様は、高純度の単体元素からなる所定範囲の銀パラジウム合金ワイヤの芯材を伸線することによって形成される。伸線中のワイヤ上に貴金属の被覆材を表面改質し、理論的膜厚が数ナノメートル(nm)まで積層構造を縮径しても、この濃色リング模様は形成される。すなわち、濃色リング模様は極薄の透明な貴金属層の有無に影響されないようにみえる。
最終線径まで伸線してから貴金属の被覆材を表面改質しても、本発明の目的を達成することができない。なぜなら縦長溝を表面改質層で埋めることができないからである。本発明の透明な極薄の表面模様を形成するには、芯材と被覆材の組合せの種類にもよるが、一般的にワイヤの直径で1/10以上の縮径が必要である。なお、このように芯材の表面に極薄の表面模様が形成されれば、表面改質層は極薄なので、通常の伸線速度および縮径率によってこの透明な表面模様が崩れることはない。
また、本発明の表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造において、当該総有機炭素量(TOC値)を50〜3,000μg/mの有機カーボン層としたのは、芯材の周囲を取り囲む被覆材の厚さをできるだけ薄くしているためである。銀パラジウム合金ワイヤの硫化を防止するには総有機炭素量が多いほど好ましいが、FABを形成した場合、キャピラリに炭素粉として残るので好ましくない。
総有機炭素量(TOC値)を求めることができれば、ボールボンディング用ワイヤの線径が一般的に15〜25μmであることから、総有機炭素量(TOC値)から容易に有機カーボン層の理論的厚さを計算で求めることができる。よって、表面改質層が厚い場合の最適値から薄い場合の最適値までの好ましい範囲として50〜3,000μg/mの有機カーボン層とした。より好ましくは200μg/mから1,000μg/mまでの範囲である。
なお、極薄のカーボン層は直接測定できないため表面改質銀パラジウム合金ワイヤの表面の総有機炭素量(TOC値)を求めた。この総有機炭素量(TOC値)は、芯材と被覆材の種類および超音波接合する半導体の用途によって適宜選択することができる。
有機カーボン層は、表面改質銀パラジウム合金ボンディングワイヤの全面に極薄の有機カーボン層を設けることが好ましい。第一義的に、大気中のイオウや酸素がワイヤ表面の金属層とくっつきにくくし、表面改質銀パラジウム合金ボンディングワイヤの表面にイオウ層が存在しても、硫化銀層まで発達させないようにするためである。50〜3,000μg/m、より好ましくは200〜1,000μg/mの範囲では、純水による湯温湯洗や超音波洗浄、あるいは、有機高分子化合物の超希薄溶液の浸漬によって制御することができる。より好ましくは希薄溶液による浸漬が良い。総有機炭素量(TOC値)の変動が少ないからである。
有機高分子化合物としては、特開平6−151497号で開示されているパラフィン系炭化水素、ナフテン系炭化水素、芳香族系炭化水素等の鉱油系、ポリオレフィン、アルキルベンゼン、脂肪酸、高級アルコール、脂肪酸せっけん、ポリグリコール、ポリフェニルエーテル、脂肪酸ジエステル、ポリオールエステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、スルフォン酸塩、アミン、アミン塩、シリコーン、燐酸エステル、フルオロカーボン、フルオロポリエーテル、フルオログリコール等の合成油系、牛脂、豚脂、パーム油、大豆油、菜種油、ひまし油、松根油等の天然油脂系を用いても良い。また、それら数成分の混合系でも良い。あるいは、特開2002−241782号で開示されている非イオン系界面活性剤、すなわちポリエチレングリコール、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリコール、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビット脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステルおよびポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステルからなる群より選ばれた1種または2種以上でもよい。また、エタノール、メタノール、1−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、2−メチル−1−プロパノール、2−メチル−2−プロパノール、エチレングリコール、グリセリンなどの水溶性アルコールでも良い。
本発明の伸線加工面の全面に有機カーボン層が形成されていることとしたのは、一部でも形成されていない箇所があると、そこから大気中のイオウ(S)が表面の銀(Ag)と結合して芯材内部へ拡がってしまうおそれがあるからである。
本発明におけるワイヤ表面の間隔が空いた濃色リング模様、あるいは、透明な極薄の表面改質層および有機カーボン層は、いずれも第一ボンディングのFAB接合時に消失し、また、第二ボンディングの超音波接合時にも消失する。
本発明の表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造によれば、芯材上の間隔が空いた濃色リングは芯材の高純度金属に伴うものなので、安定して銀パラジウム合金ワイヤに形成することができ、ボンディングワイヤの品質のチェックに利用することができる。このため適度な間隔の濃色リングは、ばらつきが大きな超音波の接合性を安定させることができ、超音波の設定条件をひろくとることができ、ボンディングワイヤの安定した接合強度が得られる効果がある。よって、表面改質銀パラジウム合金ワイヤをさらに細線化することができる。他方、溶融ボールを形成するボンディングワイヤの場合も、被覆材の厚さの影響を受けないで、被覆材の材質によらず安定した真球ボールが得られる。また、本発明の表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造によれば、細線化した場合でも、被覆材の影響を受けないので、用途に適した微量成分を芯材に添加してループ形成等を良好にすることができる。さらに、本発明の表面改質銀パラジウム合金ワイヤは、表面改質層が固相として存在するため芯材の硫化や酸化を防止することができる。また、本発明のワイヤは、第二ボンドの超音波の接合性が安定し、使用開始までのボンディングワイヤとしての製品寿命を保証することができる。
また、表面改質銀パラジウム合金ワイヤの表面に有機カーボン層を形成した場合は、付随的効果とし従来のボンディングワイヤと同様にキャピラリに対するワイヤ表面の滑りをよくすることができる。また、本発明の表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造によれば、繰り返しボンディングしてもキャピラリが汚染することはない。
表1の芯材および被覆材の成分組成を有する銀パラジウム合金(銀(Ag)、金(Au)および銅(Cu)は純度99.9999質量%以上、他のパラジウム(Pd)と白金(Pt)の合金化成分はそれぞれ純度99.999質量%以上)を均一に溶融鋳造し、中間熱処理(600℃×0.5時間)をしながら圧延し、その後伸線して被覆材を被覆する前の太線(直径0.5mm)を得た。
表1の番号1に示すAg−3.5質量%Pd合金からなる芯材を直径0.5mmまで伸線し、この太線の外周に金(Au)を0.1μm程度表面改質した。その後、湿式でダイヤモンドダイスにより連続伸線し、最終的に直径15μmの超音波接合用ワイヤを得た。このワイヤの外観を走査電子顕微鏡により観察した平面的構造を図1に示し、さらに拡大して観察した側面的構造を図2に示す。なお、図示しないが、低倍率で観察すると、ワイヤの表面にはワイヤの長手方向に交差する濃色リングがみられた。この濃色リングは、20μm前後の長さの間隔で連なっていた。
実施品1〜実施品16のワイヤを化学的に溶解し、その溶液中の表面改質層の濃度を高周波誘導結合プラズマ発光分光分析法(株式会社島津製作所のICPS-8100)により求め、その濃度からボンディングワイヤの線径における均一な膜厚として算出したところ、ワイヤとしての理論的膜厚は、すべて5nmであった。また、平均の縮径率は6〜20%、最終線速は100−300m/分である。なお、後述の実施品のセカンドウィンドウ試験と表面形態の撮影のためのワイヤは別途作製した。
Figure 2016029691
(セカンドウィンドウ試験)
超音波装置によるセカンドウィンドウ試験は、X軸に超音波電流を10mAから130mAまで10mAごとに13段階設け、Y軸に加圧力を10gfから100gfまで10gfごとに10段階設け、全130の領域中で接合可能な領域の個数を求める試験である。表2に示す例では、実施例1の成分組成を有する製造直後の直径30μmのワイヤについて、 ケイ・アンド・エス社製全自動リボンボンダーICONN型超音波装置にて、Agめっきされたリードフレーム(QFP−200)上に120kHzの周波数およびボンディング温度表示が「200deg」でセカンドウィンドウ試験を各ウィンドウにつき1,000本行ったものである。表2に示す例の場合の接合可能な領域(黒色のボックス)の個数は71個である。不着またはボンダが停止した領域(白色のボックス)の個数は29個である。この試験結果から、線径が太く超音波出力が大きなワイヤの場合には、太線の線径や被覆材の種類等を適宜選択すれば良いことがわかる。
Figure 2016029691
その後、表1に示す表面改質銀パラジウム合金ワイヤ(実施品1〜実施品16)を純水またはそれぞれの濃度の有機化合物溶液に連続浸漬した後、それぞれの最適温度で調質熱処理をして本発明の表面改質銀パラジウム合金ワイヤ(実施品1〜実施品16)を得た。
(総有機炭素量(TOC)の測定)
総有機炭素量(TOC)の測定は、次のようにして行った。
総有機炭素量の測定は、それぞれ10,000mの純銀合金接続線を秤量し、0.1N−NaOH水溶液を200g加えてウォーターバスで30分間煮沸して抽出を行い、冷却後8N−HClを2.5ml加えて軽く振盪し、高純度空気で15分間バブリングする。これを島津製作所製TOC−5000型有機炭素測定機に供給して有機炭素濃度を測定し、この値から総有機炭素重量を計算して20μm径の純銀合金接続線の表面積で除して表面の非イオン性界面活性剤の総有機炭素量とした。
(実施品のセカンドウィンドウ試験)
次いで、上記本発明のボールボンディング用純銀合金接続線(実施品1〜実施品16)を20℃×湿度50%のクリーンルーム内で96時間保管する前後で、表2に示すようなセカンドウィンドウ試験をしたところ、表3の結果を得た。
Figure 2016029691
なお、セカンドウィンドウ試験についての良否の判定は、全100の領域中で接合可能な領域が60個以上を○印とし、40〜59個までを●印とし、39個以下を×印とした。また、セカンド接合性試験の合格レベルとしては、最良クラスのものを○印とし、優秀クラスのものを●印とし、不合格レベルのクラスを×として判断した。ただし、超音波装置による出力は、ボンディングワイヤの線径に応じて最適な周波数(40〜120kHz程度)と最適な出力(0.1〜5W程度)で適宜定めた。
比較例
実施例と同様にして直径1mmの太線からそれぞれ直径15μmのワイヤを得、表1に示すそれぞれの濃度の有機化合物溶液に連続浸漬し、比較例のボールボンディング用純銀合金接続線(比較品1〜比較品3)を得た。ただし、比較品1および比較品2は実施例と同様の中間熱処理(600℃×0.5時間)をした。比較品3は、実施例と異なる中間熱処理(600℃×0.5時間および700℃×0.5時間)をした。なお、平均の縮径率は6〜20%、最終線速は100〜300m/分である。
比較品1は、銀パラジウム合金の芯材の周囲を取り囲むパラジウム(Pd)表面改質層の理論的膜厚は0.05nmである。
比較品2は、銀パラジウム合金の芯材の周囲を取り囲む金(Au)表面改質層の理論的膜厚は20nmである。表面改質層は透明であるが、後述する表3に示す通り、ウィンドウ数は少なかった。
比較品3は、銀パラジウム合金の芯材の周囲を取り囲む金(Au)表面改質層の理論的膜厚は5nmである。しかし、後述する表3に示す通り、ウィンドウ数は少なかった。高温の700℃の調質熱処理により表面改質層が消失したためである。
次いで、この比較品1〜比較品3を20℃×湿度50%のクリーンルーム内で96時間保管した前後の比較例のボールボンディング用銀パラジウム合金接続について、表2に示すようなセカンドウィンドウ試験をしたところ、表3の結果を得た。
超音波のセカンドウィンドウ試験から明らかなように、ボールボンディング用銀パラジウム合金接続(実施品1〜実施品16)は接合可能な領域がすべて40個以上あり、多少接合条件が変化しても安定した超音波接合が得られることがわかる。他方、比較例のボールボンディング用銀パラジウム合金接続(比較品1〜比較品3)は、製造直後のボンディングワイヤであってもいずれも18個以下しかない。しかも、製造後20℃×湿度50%のクリーンルーム内で96時間保管したものは、すべて10個以下しかなく、わずかに接合条件が変動するだけで接合可能な領域が外れ、良好な接合が得られないことがわかる。
なお、本発明および比較例のボールボンディング用銀パラジウム合金接続(実施品1〜実施品16および比較品1〜比較品3)は、1万mを超えてもすべてキャピラリの詰まりがなく、これまでと同様、キャピラリの滑り性は良好であることがわかる。
本発明の表面改質銀パラジウム合金ワイヤは、汎用IC、ディスクリートIC、メモリICの他、高温高湿の用途ながら低コストが要求されるLED用のICパッケージ、自動車半導体用ICパッケージ等の半導体用途がある。

図1は、本発明にかかる表面改質銀パラジウム合金ワイヤの平面的構造を示す。 図2は、本発明にかかる表面改質銀パラジウム合金ワイヤの側面的構造を示す。
また、上記の超音波接合用銀パラジウム合金ワイヤの場合には、貴金属以外の微量金属成分、すなわち、Ca、La、Y、Eu、CeまたはGeのうちの少なくとも1種を10〜90質量ppmとすることが好ましい。下限を10質量ppmとしたのは、銀パラジウム合金マトリックス中に酸素やイオウが溶存していても、これらの所定の金属成分が酸素やイオウを固定化するためである。銀パラジウム合金マトリックスを酸素欠乏状態にしておくと、表面改質層とあいまってワイヤ表面における銀(Ag)とイオウ(S)との反応(Ag・S反応)および芯材内部での酸化性金属と酸素との反応を遅延させることができる。
他方、上限を90質量ppm以下としたのは、「フォーナインゴールド」を表示する純金合金ボンディングワイヤに合わせたためである。なお、金属成分が90質量ppm以下であれば、表面改質銀パラジウム合金ワイヤの表面層近傍に微量添加金属や金属不純物が高濃度あるいは低濃度に偏析することはない。
なお、ワイヤ全体の質量分析の結果から算出された理論的膜厚を0.5〜8nmとしたのは次の理由による。すなわち、理論的膜厚が0.5nm未満の場合は、ワイヤ表面に縦長の溝が多数形成されたときにその溝を埋め尽くすだけの量が足りなくなるおそれがあるからである。また、理論的膜厚が8nmを超える場合は、超音波接合が被覆材の影響を受け、セカンドウィンドウ試験の接合可能な領域が著しく減少してしまうおそれがあるからである。よって、理論的膜厚がこの範囲内であれば、超音波の接合性を安定させることができ、超音波の設定条件をひろくとることができ、安定した接合強度が得られる効果があるからである。
本発明の課題を解決するための表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造の一つは、純度99.99質量%以上の銀(Ag)および純度99.9質量%以上のパラジウム(Pd)によるAg−1〜5重量%(1重量%以上から5重量%以下を意味する。以下同様である。)Pd合金からなる芯材と、純度99.99質量%以上の金(Au)、パラジウム(Pd)、白金(Pt)またはこれらの合金からなる表面改質層とから構成される銀パラジウム合金ワイヤの構造であって、そのワイヤ表面は、その芯材の結晶粒界とともにそのワイヤの長手方向に交差する濃色リングが二十〜三十μm幅の間隔に形成され、かつ、その芯材の大小の縦溝内にその表面改質層が埋設された表面形態であることを特徴とする。
また、本発明の課題を解決するための表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造の一つは、純度99.99質量%以上の銀(Ag)および金(Au)または白金(Pt)、および純度99.9質量%以上のパラジウム(Pd)によるAg−1〜5質量%Pd−0.05〜10質量%(AuまたはPt)合金からなる芯材と、純度99.99質量%以上の金(Au)、パラジウム(Pd)、白金(Pt)またはこれらの合金からなる表面改質層とから構成される銀パラジウム合金ワイヤの構造であって、その芯材表面は、その芯材の結晶粒界とともにそのワイヤの長手方向に交差する濃色リングが二十〜三十μm幅の間隔に形成され、かつ、その芯材の大小の縦溝内にその表面改質層が埋設された表面形態であることを特徴とする。
表1の番号1に示すAg−3.5質量%Pd合金からなる芯材を直径0.5mmまで伸線し、この太線の外周に金(Au)を0.1μm程度表面被覆した。その後、湿式でダイヤモンドダイスにより連続伸線し、最終的に直径15μmの超音波接合用ワイヤを得た。このワイヤの外観を走査電子顕微鏡により観察した平面的構造を図1に示し、さらに拡大して観察した側面的構造を図2に示す。なお、図示しないが、低倍率で観察すると、ワイヤの表面にはワイヤの長手方向に交差する濃色リングがみられた。この濃色リングは、20μm前後の長さの間隔で連なっていた。

Claims (8)

  1. 純度99.99質量%以上の銀(Ag)および純度99.9質量%以上のパラジウム(Pd)によるAg−1〜5質量%Pd合金からなる芯材と、純度99.99質量%以上の金(Au)、パラジウム(Pd)、白金(Pt)またはこれらの合金からなる表面改質層とから構成される銀パラジウム合金ワイヤの構造であって、そのワイヤ表面は、その芯材の結晶粒界とともにそのワイヤの長手方向に交差する濃色リングが数十μm幅の間隔に形成され、かつ、その芯材の大小の縦長溝内にその表面改質層が埋め込まれた表面形態であることを特徴とする表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造。
  2. 純度99.99質量%以上の銀(Ag)および金(Au)または白金(Pt)、および純度99.9質量%以上のパラジウム(Pd)によるAg−1〜5質量%Pd−0.05〜10質量%(AuまたはPt)合金からなる芯材と、純度99.99質量%以上の金(Au)、パラジウム(Pd)、白金(Pt)またはこれらの合金からなる表面改質層とから構成される銀パラジウム合金ワイヤの構造であって、そのワイヤ表面は、その芯材の結晶粒界とともにそのワイヤの長手方向に交差する濃色リングが数十μm幅の間隔に形成され、かつ、その芯材の大小の縦長溝内にその表面改質層が埋め込まれた表面形態であることを特徴とする表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造。
  3. 上記芯材が、さらにCa、La、Y、Eu、CeまたはGeのうちの少なくとも1種を総量で10〜90質量ppm含有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造。
  4. 上記表面改質層が純度99.999質量%以上の金(Au)であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造。
  5. 上記表面改質層の厚さがワイヤ全体の質量分析の結果から算出された0.5〜8nmの理論的膜厚であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造。
  6. 上記表面改質銀パラジウム合金ワイヤの最上層には、さらに総有機炭素量(TOC値)が50〜3,000μg/mの有機カーボン層が存在していることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造。
  7. 上記総有機炭素量(TOC値)が200〜1,000μg/mであることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造。
  8. 上記表面改質銀パラジウム合金ワイヤがフリーエアーボール用ボンディングワイヤであることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造。
JP2014151766A 2014-07-25 2014-07-25 表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造 Withdrawn JP2016029691A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014151766A JP2016029691A (ja) 2014-07-25 2014-07-25 表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造
SG10201505546YA SG10201505546YA (en) 2014-07-25 2015-07-15 Structure of surface-modified silver-palladium alloy wire
TW104123525A TW201604981A (zh) 2014-07-25 2015-07-21 表面改質銀鈀合金線的結構
CN201510438069.7A CN105321917A (zh) 2014-07-25 2015-07-23 表面改质银钯合金线的结构

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014151766A JP2016029691A (ja) 2014-07-25 2014-07-25 表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2016029691A true JP2016029691A (ja) 2016-03-03

Family

ID=55248996

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014151766A Withdrawn JP2016029691A (ja) 2014-07-25 2014-07-25 表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2016029691A (ja)
CN (1) CN105321917A (ja)
SG (1) SG10201505546YA (ja)
TW (1) TW201604981A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180010965A (ko) * 2016-07-20 2018-01-31 삼성전자주식회사 본딩 와이어 및 이를 이용한 와이어 본딩
JP2019529694A (ja) * 2016-09-09 2019-10-17 ヘレウス マテリアルズ シンガポール ピーティーイー. リミテッド 被覆したワイヤ
WO2021065036A1 (ja) * 2019-10-01 2021-04-08 田中電子工業株式会社 ワイヤ接合構造とそれに用いられるボンディングワイヤ及び半導体装置

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20230112722A (ko) * 2021-02-05 2023-07-27 헤라우스 매터리얼즈 싱가포르 피티이 엘티디 코팅된 와이어

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013139635A (ja) * 2012-01-02 2013-07-18 Wire technology co ltd 合金線材およびその製造方法
JP5399581B1 (ja) * 2013-05-14 2014-01-29 田中電子工業株式会社 高速信号用ボンディングワイヤ
JP5507730B1 (ja) * 2013-04-02 2014-05-28 田中電子工業株式会社 ボールボンディング用貴金属希薄銀合金ワイヤ

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013139635A (ja) * 2012-01-02 2013-07-18 Wire technology co ltd 合金線材およびその製造方法
JP5507730B1 (ja) * 2013-04-02 2014-05-28 田中電子工業株式会社 ボールボンディング用貴金属希薄銀合金ワイヤ
JP5399581B1 (ja) * 2013-05-14 2014-01-29 田中電子工業株式会社 高速信号用ボンディングワイヤ

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180010965A (ko) * 2016-07-20 2018-01-31 삼성전자주식회사 본딩 와이어 및 이를 이용한 와이어 본딩
KR102471720B1 (ko) * 2016-07-20 2022-11-29 삼성전자주식회사 본딩 와이어 및 이를 이용한 와이어 본딩
JP2019529694A (ja) * 2016-09-09 2019-10-17 ヘレウス マテリアルズ シンガポール ピーティーイー. リミテッド 被覆したワイヤ
US11236430B2 (en) 2016-09-09 2022-02-01 Heraeus Materials Singapore Pte. Ltd. Coated wire
WO2021065036A1 (ja) * 2019-10-01 2021-04-08 田中電子工業株式会社 ワイヤ接合構造とそれに用いられるボンディングワイヤ及び半導体装置
JPWO2021065036A1 (ja) * 2019-10-01 2021-04-08
JP7269361B2 (ja) 2019-10-01 2023-05-08 田中電子工業株式会社 ワイヤ接合構造とそれに用いられるボンディングワイヤ及び半導体装置

Also Published As

Publication number Publication date
SG10201505546YA (en) 2016-02-26
CN105321917A (zh) 2016-02-10
TW201604981A (zh) 2016-02-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101742450B1 (ko) 반도체 장치용 본딩 와이어
US7820913B2 (en) Bonding wire for semiconductor device
JP5546670B1 (ja) 超音波接合用コーティング銅ワイヤの構造
TWI395823B (zh) 包鈀(Pd)銅球銲接合線
JP5246314B2 (ja) 半導体用銅合金ボンディングワイヤ
TWI508204B (zh) High-speed signal line with bonding wire
JP6710141B2 (ja) ボールボンディング用銅合金線
JP5668087B2 (ja) 半導体装置接合用銅希薄ニッケル合金ワイヤの構造
KR20120035093A (ko) 반도체용 본딩 와이어
JP2016029691A (ja) 表面改質銀パラジウム合金ワイヤの構造
JP2014070252A (ja) 半導体装置接続用銅白金合金細線
EP3236490A1 (en) Bonding wire for semiconductor device
PH12016000032B1 (en) Palladium (pd)-coated copper wire for ball bonding
TWI510652B (zh) Construction of thin copper alloy wire for copper alloy for joining semiconductor device
JP6898705B2 (ja) ボールボンディング用銅合金細線
JP6369994B2 (ja) ボールボンディング用銅合金細線
JP5669335B1 (ja) 銀金合金ボンディングワイヤ
JP4655426B2 (ja) 半導体素子接続用Auボンディングワイヤおよびその製造方法
CN115398607A (zh) 金被覆接合丝线及其制造方法、半导体丝线接合结构、以及半导体装置
JP5024907B2 (ja) 金(Au)合金ボンディングワイヤ
JP2004022887A (ja) ボンディング用金合金線
JP2009105250A (ja) ボールボンディング用金合金線
JP2006073693A (ja) ボンディングワイヤ

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20150317

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20161018