JP2016028986A - 板ガラスの製造方法、および板ガラスの製造装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】発熱体の付着物の、溶融スズ上の溶融ガラスへの落下を抑制でき、且つ、発熱体の劣化を抑制できる、板ガラスの製造方法を提供すること。【解決手段】板ガラスの製造方法は、フロートバス10内の溶融スズ20上にスパウトリップ14から溶融ガラス30を連続的に供給し、スパウトリップ14の下方に間隔を空けて設けられるタイル15に接触させた溶融ガラス30を溶融スズ20上で流動させる。この板ガラスの製造方法は、スパウトリップ14とタイル15との間に設けられ、タイル15における溶融ガラス30との接触面152よりも上流側に設けられる発熱体30を用いてタイル15を加熱し、また、スパウトリップ14とタイル15との間の隙間空間113に、不活性ガスを吹き込む。【選択図】図1
Description
本発明は、板ガラスの製造方法、および板ガラスの製造装置に関する。
板ガラスの製造装置は、フロートバス内の溶融スズ上に溶融ガラスを連続的に供給し、下流方向に流動させて帯板状のガラスリボンに成形する。フロートバス内の空間は、仕切り壁(フロントリンテル)によって、下流側のメイン空間と、上流側のスパウト空間とに仕切られている。メイン空間は、スパウト空間よりも十分に大きく、溶融スズの酸化を防止するため、還元性ガスで満たされている。
この板ガラスの製造装置は、スパウト空間に配置されるスパウトリップを介して、フロートバス内の溶融スズ上に溶融ガラスを供給する。溶融スズ上に供給された溶融ガラスは、下流方向に流れる本流(フロントフロー)と、スパウトリップの下方に間隔を空けて設けられたタイルに向けて逆流する支流(バックフロー)とを形成する。タイルの内部に埋設される発熱体によって、溶融スズ上の溶融ガラスが加熱される(例えば、特許文献1参照)。
発熱体がタイルの内部に埋設されていると、タイルが溶融ガラスや溶融スズに浸食されるときに、発熱体の成分が溶融ガラスなどに溶出することがある。また、発熱体がタイルの内部に埋設されていると、発熱体のみの交換が難しい。
そこで、タイルの外部に発熱体を設置することが考えられるが、この場合、発熱体の表面に、溶融ガラスから蒸発した成分などが付着する。この付着物が、溶融スズ上の溶融ガラスに落下すると、ガラスの割れや欠陥の原因になる。また、タイルの外部に発熱体を設置する場合、発熱体が周辺雰囲気と反応して徐々に劣化する。
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、発熱体の付着物の、溶融スズ上の溶融ガラスへの落下を抑制でき、且つ、発熱体の劣化を抑制できる、板ガラスの製造方法および板ガラスの製造装置の提供を目的とする。
上記課題を解決するため、本発明の一態様による板ガラスの製造方法は、
フロートバス内の溶融スズ上にスパウトリップから溶融ガラスを連続的に供給し、前記スパウトリップの下方に間隔を空けて設けられるタイルに接触させた溶融ガラスを前記溶融スズ上で流動させる、板ガラスの製造方法であって、
前記スパウトリップと前記タイルとの間に設けられ、前記タイルにおける溶融ガラスとの接触面よりも上流側に設けられる発熱体を用いて前記タイルを加熱し、
また、前記スパウトリップと前記タイルとの間の隙間空間に、不活性ガスを吹き込む。
フロートバス内の溶融スズ上にスパウトリップから溶融ガラスを連続的に供給し、前記スパウトリップの下方に間隔を空けて設けられるタイルに接触させた溶融ガラスを前記溶融スズ上で流動させる、板ガラスの製造方法であって、
前記スパウトリップと前記タイルとの間に設けられ、前記タイルにおける溶融ガラスとの接触面よりも上流側に設けられる発熱体を用いて前記タイルを加熱し、
また、前記スパウトリップと前記タイルとの間の隙間空間に、不活性ガスを吹き込む。
また、本発明の他の一態様による板ガラスの製造装置は、
フロートバス内の溶融スズ上に溶融ガラスを連続的に供給するスパウトリップと、
該スパウトリップの下方に間隔を空けて設けられ、前記スパウトリップから供給された溶融ガラスと接触するタイルと、
前記スパウトリップと前記タイルとの間に設けられ、前記タイルにおける溶融ガラスとの接触面よりも上流側に設けられる発熱体と、
前記スパウトリップと前記タイルとの間の隙間空間に、不活性ガスを吹き込む不活性ガス供給部とを有する。
フロートバス内の溶融スズ上に溶融ガラスを連続的に供給するスパウトリップと、
該スパウトリップの下方に間隔を空けて設けられ、前記スパウトリップから供給された溶融ガラスと接触するタイルと、
前記スパウトリップと前記タイルとの間に設けられ、前記タイルにおける溶融ガラスとの接触面よりも上流側に設けられる発熱体と、
前記スパウトリップと前記タイルとの間の隙間空間に、不活性ガスを吹き込む不活性ガス供給部とを有する。
本発明によれば、発熱体の付着物の、溶融スズ上の溶融ガラスへの落下を抑制でき、且つ、発熱体の劣化を抑制できる、板ガラスの製造方法および板ガラスの製造装置が提供される。
以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明する。尚、各図面において、同一のまたは対応する構成には同一の又は対応する符号を付して説明を省略する。各図面において、矢印A方向は下流方向、矢印B方向は上流方向を表す。
(第1の実施形態)
図1は、第1の実施形態における板ガラスの製造装置の要部を示す断面図である。図2は、図1の溶融スズ上の溶融ガラスの流れを模式的に示す平面図である。
図1は、第1の実施形態における板ガラスの製造装置の要部を示す断面図である。図2は、図1の溶融スズ上の溶融ガラスの流れを模式的に示す平面図である。
図1に示すように、板ガラスの製造装置は、フロートバス10内の溶融スズ20上に溶融ガラス30を連続的に供給し、供給した溶融ガラス30を溶融スズ20上で流動させて帯板状のガラスリボン30Aに成形する。成形されたガラスリボン30Aは、フロートバス10の下流域において溶融スズ20から引き上げられ、徐冷炉内に搬送され、徐冷された後、所定の寸法に切断され、板ガラスとなる。
フロートバス10内の空間11は、仕切り壁(フロントリンテル)17によって、下流側のメイン空間111と、上流側のスパウト空間112とに仕切られている。メイン空間111は、スパウト空間112よりも十分に大きい。
メイン空間111には、溶融スズ20の酸化を防止するため、還元性ガスが供給される。還元性ガスは、例えば窒素ガスと水素ガスとの混合ガスであってよく、窒素ガスを85体積%〜98.5体積%、水素ガスを1.5体積%〜15体積%含んでいる。
メイン空間111に還元性ガスを供給する還元性ガス供給部60は、メイン空間111の天井面を形成する天井12に設けられる孔などで構成される。
板ガラスの製造装置は、フロートバス10内の溶融スズ20上に溶融ガラス30を連続的に供給するスパウトリップ14と、スパウトリップ14の下方に間隔を空けて設けられ、スパウトリップ14から供給された溶融ガラス30と接触するタイル15とを備える。スパウトリップ14やタイル15は、フロートバス10の前壁13に設置される。スパウトリップ14およびタイル15は、アルミナ質やジルコニア質などの耐火物で構成される。
スパウトリップ14、タイル15、およびタイル15から斜めに延びる側壁16は、重量%でZrO2が85%以上97%以下、残部がSiO2を主体とするガラス質である熱溶融耐火物で構成されることが好ましい。熱溶融耐火物は、耐火物の原料を高温で溶融して再結晶させたものである。熱溶融耐火物のZrO2は、おもにバデライト結晶として存在する。熱溶融耐火物の残部は、SiO2を主体とするガラス質であり、ZrO2のバデライト結晶の粒界に存在し、熱溶融耐火物を緻密化する。このガラス質には、SiO2以外にAl2O3 、Na2O、P2O5などを微量含有することができる。この熱溶融耐火物は、耐熱性に優れており、溶融ガラス30との反応等による泡の発生を抑制でき、また、ガラスリボン30Aの流れ方向に生ずる微細な筋も抑制できる。溶融ガラスが無アルカリガラス、特にホウ酸を含有する無アルカリガラスの場合に特に効果的である。
尚、本実施形態では、スパウトリップ14、タイル15、左側の側壁16、および右側の側壁16の全てが上記熱溶融耐火物で構成されるが、全てが上記熱溶融耐火物で構成されなくてもよい。少なくとも1つが上記熱溶融耐火物で構成されていれば、上記効果をある程度得ることができる。
スパウトリップ14上を流れる溶融ガラス30の左右両側には、溶融ガラス30がスパウトリップ14から左右にこぼれるのを防止するための横壁が配設されてよい。該横壁が設けられる場合、該横壁を含めてスパウトリップ14という。
スパウトリップ14から溶融スズ20上に供給される溶融ガラス30は、ツイール19によって流量調節される。スパウトリップ14の先端部142から溶融スズ20上に供給された溶融ガラス30は、図2に示すように、下流方向に流れる本流31(フロントフロー)と、タイル15に向けて上流方向に逆流する支流(バックフロー)32とを形成する。
支流32は、スパウトリップ14に接触していた部分を含んでいるので、スパウトリップ14との反応によって生じた泡を含んでいる。この支流32は、タイル15に向けて逆流した後、タイル15に沿って左右に分かれて流れる。左右に分かれた支流32は、それぞれ、タイル15から斜めに延びる側壁16に沿って流れ、本流31の幅方向端部に合流する。よって、ガラスリボン30Aの幅方向端部に泡を集めることができ、ガラスリボン30Aの幅方向中央部から欠陥の少ない製品を切り出すことができる。
左右に分かれた支流32がそれぞれ本流31の幅方向端部に合流しやすいように、タイル15から斜めに側壁16が延びている。側壁16は、下流側に行くほど、幅方向外側に向かうように斜めに延びている。
板ガラスの製造装置は、図1に示すように、上流方向に逆流する支流32の流動性を高め、支流32の流れを安定化させるため、タイル15を加熱する発熱体40を有する。発熱体40は、スパウトリップ14とタイル15との間に設けられ、タイル15を加熱することで、溶融スズ20上の溶融ガラス30も加熱している。
発熱体40は、タイル15周辺の溶融ガラス30を、ガラスの失透温度よりも10℃〜50℃高い温度で加熱してよい。タイル15周辺でのガラスの失透を防止することができる。
発熱体40は、スパウトリップ14とタイル15との間に設けられ、タイル15の外部に設けられる。よって、タイル15が溶融ガラス30や溶融スズ20に浸食されるときに、発熱体40や発熱体40の付着物の成分が溶融ガラス30や溶融スズ20に溶出することがない。また、発熱体40のみの交換が可能である。
発熱体40は、タイル15における溶融ガラス30との接触面152よりも上流側に設けられている。即ち、発熱体40は、上面視にて溶融スズ20上の溶融ガラス30に重ならない位置に設けられている。よって、発熱体40の付着物が溶融スズ20上の溶融ガラス30に落下しにくく、ガラスの割れや欠陥が発生しにくい。尚、発熱体40は、タイル15の浸食に応じて、適当な駆動装置または手動で移動されてよい。
発熱体40は、還元性ガスに対する耐腐食性に優れた材料で形成される。発熱体40の材料としては、特に限定されないが、例えば炭化ケイ素(SiC)、炭化ケイ素(SiC)と金属ケイ素(Si)との複合材料、窒化ケイ素(Si3N4)などがある。発熱体40は、アルミナなどのセラミックス材料で被覆されたものであってもよい。
発熱体40は、棒状であって、タイル15における溶融ガラス30との接触面152に対して平行に設けられてよい。支流32がタイル15に沿って左右に流れやすい。
発熱体40は、上面視にて、タイル15の外縁154(図2参照)の内側に位置してよく、タイル15よりも短くてよい。タイル15の加熱効率が良い。
発熱体40は、開気孔率(JIS R 1634)が15%以下であることが好ましく、10%以下であることがより好ましい。開気孔率が15%を超えると、周辺雰囲気に曝される発熱体40の表面積が大き過ぎ、発熱体40が劣化しやすい。
発熱体40は、円筒状であって、20mm〜40mmの外径を有することが好ましい。角筒状であると、局所発熱しやすく、劣化しやすい。また、中空ではなく、中実であると、発熱体40の原料コストが増大する。さらに、外径が40mmよりも大きいと、大きな設置スペースが必要になる。一方、外径が20mmよりも小さいと、発熱体40の発熱量が同じ場合、発熱体40の外表面温度が高過ぎ、発熱体40が劣化しやすい。
板ガラスの製造装置は、スパウトリップ14とタイル15との間の隙間空間113に不活性ガスを吹き込む第1の不活性ガス供給部50をさらに有する。隙間空間113に吹き込む不活性ガスとしては、窒素ガス、アルゴンガスなどが用いられる。隙間空間113に不活性ガスを吹き込むことで、発熱体40の周辺雰囲気を不活性化することができ、発熱体40の劣化を抑制することができる。また、隙間空間113に不活性ガスを吹き込むことで、発熱体40の周辺雰囲気中の塩化水素ガスの濃度を低下させることができ、塩化水素ガスによる発熱体40の劣化を抑制することができる。
尚、塩化水素ガスは、溶融ガラス30から蒸発した塩素ガスと、メイン空間111に供給された水素ガスとが反応して生成される。塩素ガスが溶融ガラス30から蒸発するのは、不可避的不純物として、塩化物がガラス原料に含まれることがあるためである。
発熱体40の外表面から10mm離れた位置における雰囲気中の塩化水素ガスの濃度は、体積比で150ppm以下であることが好ましい。塩化水素ガスの濃度が体積比で150ppmを超えると、発熱体40が劣化しやすい。
第1の不活性ガス供給部50は、隙間空間113に不活性ガスを連続的に吹き込んでよい。その吹き込み量は、棒状の発熱体40の長さ1m当たり2Nl(ノルマルリットル)/min〜15Nl/minであることが好ましい。不活性ガスの吹き込み量が多過ぎると、溶融スズ20上の溶融ガラス30が冷却され、支流32の流動性が損なわれる。一方、不活性ガスの吹き込み量が少な過ぎると、発熱体40の周辺雰囲気を不活性化する効果が十分に得られない。
尚、本実施形態の第1の不活性ガス供給部50は、隙間空間113に不活性ガスを連続的に吹き込むが、不連続的に吹き込んでもよい。
第1の不活性ガス供給部50は、少なくとも一部がフロートバス10内のガスに曝される不活性ガス供給管などで構成されてよい。フロートバス10内の高温のガスで、不活性ガス供給管50が温められ、不活性ガス供給管50の内部を流れる不活性ガスが予熱される。予熱された不活性ガスが隙間空間113に吹き込まれるので、隙間空間113の温度変動が小さく、溶融ガラス30の温度変動が小さい。
尚、予め所定の温度に温めた不活性ガスを不活性ガス供給管50に導入してもよい。
不活性ガス供給管50は、還元性ガスに対する耐食性に優れた材料で構成され、例えばアルミナなどのセラミックス材料で構成される。
不活性ガス供給管50は、スパウトリップ14よりも下方、且つ、タイル15よりも上方の位置に設けられる。不活性ガス供給管50は、タイル15における溶融ガラス30との接触面152よりも上流側に設けられてよい。つまり、不活性ガス供給菅50は、上面視で溶融スズ20上の溶融ガラス30と重ならない位置に設けられてよい。不活性ガス供給管50が破損した場合に、破損物が溶融ガラス30に落下しにくく、ガラスの割れや欠陥が発生しにくい。尚、不活性ガス供給管50は、タイル15の浸食に応じて、適当な駆動装置または手動で移動されてよい。
不活性ガス供給管50は、例えば、隙間空間113の両サイドから不活性ガスを吹き込むように、複数(例えば1対)設けられてよい。不活性ガス供給管50の先端に設けられる吹出口54は、隙間空間113の外に設けられ、風圧で、隙間空間113に不活性ガスを吹き込んでよい。
尚、本実施形態の吹出口54は、隙間空間113の外に設けられるが、隙間空間113内に設けられてもよい。また、本実施形態の吹出口54は、不活性ガス供給菅50の先端に設けられるが、途中に設けられてもよい。
不活性ガス供給管50の吹出口54は、発熱体40よりも上方の位置に設置されてよい。吹出口54から吹き出される不活性ガスは、隙間空間113のガスよりも冷たく重いので、吹出口54から吹き出された後、上から下に向かう流れを形成するからである。
また、板ガラスの製造装置は、スパウト空間112のうち、スパウトリップ14よりも上方の上方空間114に不活性ガスを供給する第2の不活性ガス供給部70をさらに有する。上方空間114に供給する不活性ガスとしては、窒素ガス、アルゴンガスなどが用いられる。上方空間114における水素濃度を低減することができ、ツイール19やスパウトリップ14が白金または白金合金で被覆される場合に、被覆層の水素ガスによる劣化を抑制することができる。
第2の不活性ガス供給部70は、上方空間114に不活性ガスを連続的に吹き込んでもよいし、不連続的に吹き込んでもよい。
第2の不活性ガス供給部70は、第1の不活性ガス供給部50と同様に、少なくとも一部がフロートバス10内のガスに曝される不活性ガス供給管などで構成することができる。フロートバス10内の高温のガスで、不活性ガス供給管が温められ、不活性ガス供給管の内部を流れる不活性ガスが予熱される。予熱された不活性ガスが上方空間114に吹き込まれるので、上方空間114の温度変動が小さく、溶融ガラス30の温度変動が小さい。
(第2の実施形態)
本実施形態は、隙間空間113に不活性ガスを供給する第1の不活性ガス供給部の変形例に関する。
本実施形態は、隙間空間113に不活性ガスを供給する第1の不活性ガス供給部の変形例に関する。
図3は、第2の実施形態における板ガラスの製造装置の要部を示す断面図である。図3に示すように、第1の不活性ガス供給部50Aは、隙間空間113に不活性ガスを吹き込むことで、発熱体40の近傍に不活性ガスの流れを形成している。よって、還元性ガスや塩化水素ガスが発熱体40に近づきにくく、発熱体40の劣化が抑制できる。また、溶融ガラス30から蒸発した成分が発熱体40に近づきにくく、発熱体40の付着物の生成が抑制できる。
発熱体40の近傍に形成される不活性ガスの流れは、発熱体40から下方に向かう流れであることが望ましい。発熱体40から溶融スズ20上の溶融ガラス30に向かう流れが形成されると、この流れを構成する不活性ガスは、周辺のガスよりも冷たいため、支流32の流動性を損なうからである。また、発熱体40から溶融スズ20上の溶融ガラス30に向かう流れが形成されると、発熱体40の付着物が溶融スズ20上の溶融ガラス30に運ばれるからである。
第1の不活性ガス供給部50Aは、少なくとも一部がフロートバス10内のガスに曝される不活性ガス供給管などで構成されてよい。不活性ガス供給管50Aは、タイル15の浸食に伴う発熱体40の移動に応じて、適当な駆動装置または手動で移動されてよい。
本実施形態では、上記第1の実施形態と異なり、不活性ガス供給管50Aの吹出口54Aが隙間空間113内に設けられる。例えば、吹出口54Aは、図3に示すように、発熱体40の斜め上方に位置し、発熱体40の上方に向けて不活性ガスを吹き出す。吹出口54Aから吹き出される不活性ガスは、隙間空間113内のガスよりも冷たく重いので、吹出口54Aから吹き出された後、上から下に向かう流れを形成する。そうして、発熱体40の近傍に不活性ガスの流れが形成される。
尚、本実施形態では、吹出口54Aは、発熱体40の斜め上方に位置するとしたが、本発明はこれに限定されない。例えば、吹出口54Aは、発熱体40の上方に位置し、発熱体40に向けて不活性ガスを吹き出してもよい。
吹出口54Aは、単数であってもよいし、複数であってもよい。複数の吹出口54Aは、不活性ガス供給管50Aの軸方向に沿って等間隔で配列されてもよいし、不等間隔で配列されてもよい。要は、発熱体40周辺の水素ガスまたは塩化水素ガスの濃度が高い領域に、不活性ガスの流れを形成することができればよい。
尚、本実施形態における第1の不活性ガス供給部50Aは、第1実施形態における第1の不活性ガス供給部50に代えて用いることができる。
(実施例1)
実施例1では、図1に示す板ガラスの製造装置を用いて、無アルカリガラス板を製造した。スパウトリップとタイルとの間の隙間空間に吹き込む不活性ガスには、窒素ガスを用いた。この窒素ガスの吹き込み量は、円筒形状の発熱体の長さ1m当たり6Nl/minとした。発熱体の材料には、炭化ケイ素を用いた。
実施例1では、図1に示す板ガラスの製造装置を用いて、無アルカリガラス板を製造した。スパウトリップとタイルとの間の隙間空間に吹き込む不活性ガスには、窒素ガスを用いた。この窒素ガスの吹き込み量は、円筒形状の発熱体の長さ1m当たり6Nl/minとした。発熱体の材料には、炭化ケイ素を用いた。
尚、スパウトリップ、タイル、およびタイルから斜めに延びる左右の側壁は、ZrO2を94重量%、SiO2を4重量%、Al2O3を1重量%、Na2Oを0.3重量%含有する熱溶融耐火物で構成する。
その結果、実施例1では、発熱体を6週間交換することなく、無アルカリガラス板を連続的に製造することができた。発熱体の長手方向中央の外表面から下方に10mm離れた位置における雰囲気中の塩化水素ガスの濃度は、塩化水素検知管(光明理化学工業社製、Tube No.173SA(20−1200ppm))により測定したところ、体積比で150ppmであった。
(比較例1)
比較例1では、スパウトリップとタイルとの間の隙間空間に不活性ガスを吹き込まなかった以外は、実施例1と同様にして、無アルカリガラス板を製造した。
比較例1では、スパウトリップとタイルとの間の隙間空間に不活性ガスを吹き込まなかった以外は、実施例1と同様にして、無アルカリガラス板を製造した。
その結果、比較例1では、新品の発熱体が2週間で多孔化により異常発熱し、発熱体を交換する必要があった。発熱体の長手方向中央の外表面から下方に10mm離れた位置における雰囲気中の塩化水素ガスの濃度は、体積比で500ppmであった。
以上、板ガラスの製造装置、および板ガラスの製造方法の実施形態等について説明したが、本発明は上記実施形態等に限定されることはなく、特許請求の範囲に記載された本他本発明の要旨の範囲内で、種々の変形、改良が可能である。
10 フロートバス
11 フロートバス内の空間
111 メイン空間
112 スパウト空間
113 隙間空間
114 上方空間
14 スパウトリップ
15 タイル
152 タイルにおける溶融ガラスとの接触面
154 タイルの外縁
16 タイルから斜めに延びる側壁
17 仕切り壁(フロントリンテル)
20 溶融スズ
30 溶融ガラス
30A ガラスリボン
40 発熱体
50 第1の不活性ガス供給部
54 吹出口
60 還元性ガス供給部
70 第2の不活性ガス供給部
11 フロートバス内の空間
111 メイン空間
112 スパウト空間
113 隙間空間
114 上方空間
14 スパウトリップ
15 タイル
152 タイルにおける溶融ガラスとの接触面
154 タイルの外縁
16 タイルから斜めに延びる側壁
17 仕切り壁(フロントリンテル)
20 溶融スズ
30 溶融ガラス
30A ガラスリボン
40 発熱体
50 第1の不活性ガス供給部
54 吹出口
60 還元性ガス供給部
70 第2の不活性ガス供給部
Claims (18)
- フロートバス内の溶融スズ上にスパウトリップから溶融ガラスを連続的に供給し、前記スパウトリップの下方に間隔を空けて設けられるタイルに接触させた溶融ガラスを前記溶融スズ上で流動させる、板ガラスの製造方法であって、
前記スパウトリップと前記タイルとの間に設けられ、前記タイルにおける溶融ガラスとの接触面よりも上流側に設けられる発熱体を用いて前記タイルを加熱し、
また、前記スパウトリップと前記タイルとの間の隙間空間に、不活性ガスを吹き込む、板ガラスの製造方法。 - 前記隙間空間に前記不活性ガスを吹き込み、前記発熱体の近傍に前記不活性ガスの流れを形成する、請求項1に記載の板ガラスの製造方法。
- 前記隙間空間に前記不活性ガスを吹き込む不活性ガス供給菅の少なくとも一部が、前記フロートバス内のガスに曝される、請求項1または2に記載の板ガラスの製造方法。
- 前記隙間空間への前記不活性ガスの吹き込み量は、棒状の前記発熱体の長さ1m当たり2Nl/min〜15Nl/minである、請求項1〜3のいずれかに記載の板ガラスの製造方法。
- 前記発熱体の開気孔率が15%以下である、請求項1〜4のいずれかに記載の板ガラスの製造方法。
- 前記発熱体は、棒状であって、前記タイルにおける溶融ガラスとの接触面に対して平行に配設され、上面視にて前記タイルの外縁の内側に位置する、請求項1〜5のいずれかに記載の板ガラスの製造方法。
- 前記発熱体は、円筒形状であって、20mm〜40mmの外径を有する、請求項1〜6のいずれかに記載の板ガラスの製造方法。
- 前記フロートバス内の空間は、仕切り壁によって、前記スパウトリップが設けられる上流側のスパウト空間と、下流側のメイン空間とに仕切られ、
前記メイン空間に還元性ガスを供給し、また、前記スパウト空間のうち、前記スパウトリップよりも上方の上方空間に不活性ガスを供給する、請求項1〜7のいずれかに記載の板ガラスの製造方法。 - 前記タイルから斜めに延びる側壁、前記スパウトリップ、および前記タイルのうち少なくとも1つは、重量%でZrO2が85%以上97%以下、残部がSiO2を主体とするガラス質である熱溶融耐火物で構成される、請求項1〜8のいずれかに記載の板ガラスの製造方法。
- フロートバス内の溶融スズ上に溶融ガラスを連続的に供給するスパウトリップと、
該スパウトリップの下方に間隔を空けて設けられ、前記スパウトリップから供給された溶融ガラスと接触するタイルと、
前記スパウトリップと前記タイルとの間に設けられ、前記タイルにおける溶融ガラスとの接触面よりも上流側に設けられる発熱体と、
前記スパウトリップと前記タイルとの間の隙間空間に、不活性ガスを吹き込む第1の不活性ガス供給部とを有する、板ガラスの製造装置。 - 前記第1の不活性ガス供給部は、前記隙間空間に前記不活性ガスを吹き込み、前記発熱体の近傍に前記不活性ガスの流れを形成する、請求項10に記載の板ガラスの製造装置。
- 前記第1の不活性ガス供給部は、少なくとも一部が前記フロートバス内のガスに曝される不活性ガス供給菅を含む、請求項10または11に記載の板ガラスの製造装置。
- 前記隙間空間への前記不活性ガスの吹き込み量は、棒状の前記発熱体の長さ1m当たり2Nl/min〜15Nl/minである、請求項10〜12のいずれかに記載の板ガラスの製造装置。
- 前記発熱体の開気孔率が15%以下である、請求項10〜13のいずれかに記載の板ガラスの製造装置。
- 前記発熱体は、棒状であって、前記タイルにおける溶融ガラスとの接触面に対して平行に配設され、上面視にて前記タイルの外縁の内側に位置する、請求項10〜14のいずれかに記載の板ガラスの製造装置。
- 前記発熱体は、円筒形状であって、20mm〜40mmの外径を有する、請求項10〜15のいずれかに記載の板ガラスの製造装置。
- 前記フロートバス内の空間を、下流側のメイン空間と、上流側のスパウト空間とに仕切る仕切り壁と、
前記メイン空間に還元性ガスを供給する還元性ガス供給部と、
前記スパウト空間のうち、前記スパウトリップよりも上方の上方空間に不活性ガスを供給する第2の不活性ガス供給部とを有する、請求項10〜16のいずれかに記載の板ガラスの製造装置。 - 前記タイルから斜めに延びる側壁、前記スパウトリップ、および前記タイルのうち少なくとも1つは、重量%でZrO2が85%以上97%以下、残部がSiO2を主体とするガラス質である熱溶融耐火物で構成される、請求項10〜17のいずれかに記載の板ガラスの製造装置。
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