JP2016027092A5 - 自己分散顔料の製造方法、インクの製造方法、及びインクジェット記録方法 - Google Patents

Description

本発明は、自己分散顔料の製造方法、インクの製造方法、及びインクジェット記録方法に関する。

したがって、本発明の目的は、インクなどの色材として有用な自己分散顔料の高反応効率な製造方法を提供することにある。また、本発明の別の目的は、前記自己分散顔料の製造方法によって製造される自己分散顔料を用いたインクの製造方法、及びインクジェット記録方法を提供することにある。

本発明によれば、インクなどの色材として有用な自己分散顔料の高反応効率な製造方法を提供することができる。また、本発明によれば、この自己分散顔料の製造方法によって製造される自己分散顔料を用いたインクの製造方法、及びインクジェット記録方法を提供することができる。

Claims (12)

1. 自己分散顔料を製造する方法であって、
   下記一般式（１）で表される化合物からの水素原子の引き抜きによるラジカル付加反応によって、下記一般式（１）中のＲ₁で表される基を顔料の粒子表面に結合させる工程を有することを特徴とする自己分散顔料の製造方法。
   ＨＮ＝Ｎ−Ｒ₁ ・・・（１）
   （前記一般式（１）中、Ｒ₁は、脂肪族基及び芳香族基の少なくとも一方を有する基に、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基、及びホスホン酸基からなる群より選ばれる少なくとも１種の親水性基が置換した基を表す）
2. 前記一般式（１）で表される化合物を、下記一般式（２）で表される化合物からの水素原子の引き抜きによって生成させる請求項１に記載の自己分散顔料の製造方法。
   Ｈ₂Ｎ−ＮＨ−Ｒ₁ ・・・（２）
   （前記一般式（２）中、Ｒ₁は、脂肪族基及び芳香族基の少なくとも一方を有する基に、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基、及びホスホン酸基からなる群より選ばれる少なくとも１種の親水性基が置換した基を表す）
3. 前記一般式（１）及び（２）中のＲ₁が、アリーレン基及び複数のカルボン酸基を含む構造、並びにアミド結合及びホスホン酸基を含む構造の少なくとも一方を有する請求項１又は２に記載の自己分散顔料の製造方法。
4. 前記工程を、ｐＨ１以上１３以下の条件下で行う請求項１乃至３のいずれか１項に記載の自己分散顔料の製造方法。
5. 前記工程を、酸化剤の存在下で行う請求項１乃至４のいずれか１項に記載の自己分散顔料の製造方法。
6. 前記工程を、液媒体中で行う請求項１乃至５のいずれか１項に記載の自己分散顔料の製造方法。
7. 前記工程を、水系で行う請求項１乃至５のいずれか１項に記載の自己分散顔料の製造方法。
8. 前記工程を、温度８０℃以下で行う請求項１乃至７のいずれか１項に記載の自己分散顔料の製造方法。
9. 前記自己分散顔料を構成する顔料種が、無機顔料及び有機顔料の少なくとも１種である請求項１乃至８のいずれか１項に記載の自己分散顔料の製造方法。
10. 前記自己分散顔料を構成する顔料種が、カーボンブラックである請求項１乃至８のいずれか１項に記載の自己分散顔料の製造方法。
11. 自己分散顔料を含有するインクの製造方法であって、
    前記自己分散顔料として、請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の製造方法によって製造された自己分散顔料を用いることを特徴とするインクの製造方法。
12. インクをインクジェット方式の記録ヘッドから吐出して記録媒体に画像を記録するインクジェット記録方法であって、
    前記インクとして、請求項１１に記載の製造方法によって製造されたインクを用いることを特徴とするインクジェット記録方法。