JP2016023350A - 浸炭装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】ヒータに対するバーンアウトを容易にした、浸炭装置を提供する。
【解決手段】被処理物Wを加熱処理して浸炭処理を行う炉体2を有する浸炭装置1である。炉体2内に、被処理物Wを加熱処理するためのヒータ9が、鉛直方向に立てて設けられている。ヒータ9の下端部に、ヒータ9に向けてバーンアウト用のガスを供給するガス供給手段が設けられている。ヒータ9は、鉛直方向に立てて設けられた保護管10内に挿通させられており、ガス供給手段は、保護管10とヒータ9との間にバーンアウト用のガスを供給するように構成されている。
【選択図】図2

Description

本発明は、浸炭装置に関する。
被処理物である金属材を加熱して浸炭処理する浸炭装置として、真空浸炭炉が知られている(例えば、特許文献1参照)。
真空浸炭炉は、高温減圧下にて炭化水素系ガス(浸炭ガス)による真空浸炭処理を行う装置であり、真空浸炭処理は、炭化水素系ガスを炭素と水素に分解して炭素分を鋼の表面で反応させ、浸炭を起こさせる処理である。
このような真空浸炭処理では、炭化水素系ガスが高温減圧下にて炭素と水素に分解するほかに、重合反応を起こして重合物を生成する可能性がある。また、分解した炭素が煤化することもある。このような重合物や煤といった生成物が炉内、特に加熱源であるヒータの表面に付着し堆積すると、ヒータの加熱機能が低下してしまい、良好な浸炭処理が行えなくなったり、浸炭処理に過剰なエネルギーや時間等が必要になる。
そこで、従来では、このような断熱性能の低下を防止するべく、炉内に空気を導入して煤等の生成物を燃焼させるバーンアウトと呼ばれる操作が行われている。
また、特許文献1では、熱源としての電気ヒータをセラミックス製ラジアントチューブで覆い、電気ヒータの表面に重合物や煤といった生成物が付着するのを防止している。
特開2006−112770号公報
しかしながら、単にヒータをチューブ内に挿通配置するだけでは、チューブの開口から炭化水素系ガスやその生成物が入り込み、ヒータ表面に重合物や煤といった生成物が付着してしまう。また、このようにヒータ表面に前記生成物が付着すると、特にヒータをチューブ内に挿通配置している場合には、ヒータに対するバーンアウトが難しくなってしまう。
本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、ヒータに対するバーンアウトを容易にした、浸炭装置を提供することにある。
本発明の浸炭装置は、被処理物を加熱処理して浸炭処理を行う炉体を有する浸炭装置であって、前記炉体内に、前記被処理物を加熱処理するためのヒータが、鉛直方向に立てて設けられ、前記ヒータの下端部に、該ヒータに向けてバーンアウト用のガスを供給するガス供給手段が設けられ、前記ヒータは、鉛直方向に立てて設けられた保護管内に挿通させられており、前記ガス供給手段は、前記保護管と前記ヒータとの間にバーンアウト用のガスを供給するように構成されていることを特徴とする。
また、前記浸炭装置において、前記ガス供給手段は、前記保護管の下部開口の下方に配置されて前記保護管の下端を受ける受け部材と、該受け部材内にバーンアウト用のガスを供給する供給配管とを備えることが好ましい。
また、前記浸炭装置において、前記ヒータは、複数が水平方向に整列配置されてヒータ列を形成し、前記受け部材は、水平方向に延在する筒状の筒状体を有し、該筒状体が前記ヒータ列に対して一つ配置されていることが好ましい。
本発明の浸炭装置によれば、炉体内に被処理物を加熱処理するためのヒータを、鉛直方向に立てて設けられた保護管内に挿通させ、ガス供給手段を、保護管とヒータとの間にバーンアウト用のガスを供給するように構成しているので、ヒータを炉体内の加熱処理室から分離した保護管内に格納することにより、ヒータの汚れを除去するバーンアウトを、加熱処理室内のバーンアウトとは別に実施することができる。従って、操業率向上に寄与することができる。
本発明に係る浸炭装置の一実施形態の概略構成を示す、正面視した縦断面図である。 本発明に係る浸炭装置の一実施形態の概略構成を示す、側面視した縦断面図である。 図2の要部拡大図である。
以下、図面を参照して本発明を詳しく説明する。なお、以下の図面においては、各部材を認識可能な大きさとするため、各部材の縮尺を適宜変更している。
図1、図2は、本発明に係る浸炭装置の一実施形態の概略構成を示す図であって、図1は正面視した縦断面図、図2は側面視した縦断面図である。
図1、図2において符号1は浸炭装置である。この浸炭装置1は、被処理物Wを加熱処理して真空浸炭処理を行う真空浸炭炉であり、連続真空浸炭炉の一部を構成している。連続真空浸炭炉は、真空浸炭炉(浸炭装置1)と冷却装置とを備え、真空浸炭処理後の被処理物Wを連続的に冷却装置に移送し、冷却処理するように構成されている。
浸炭装置1には、図1に示すように一方の側部にドア部1aを有し、他方の側部にドア部1bを有している。ドア部1aは、被処理物Wを浸炭装置1に搬入するための搬入室(図示せず)に通じており、ドア部1bは、被処理物Wを冷却するための冷却室(図示せず)に通じている。
浸炭装置1は、略直方体形状の炉体2を備え、図2に示すようにこの炉体2内に浸炭処理を行うための処理室3を有している。処理室3は、所定の断熱性能を有する外断熱材4a、内断熱材4bからなる断熱層4によって囲まれて形成されており、その下部に炉床5を有している。炉床5には、被処理物Wを支持し、且つ移送するための複数のレール6が設けられている。
レール6上には搬送板7が移動可能に載せられ、搬送板7上にはトレイ8が載せられる。搬送板7には、その下面に、前記レール6上を走行する複数のローラ7aが設けられている。また、搬送板7には、その上面に支持部材7bが設けられ、トレイ8には、その下面に前記支持部材7bに着脱可能に係合する係合脚8aが設けられている。このような構成によってトレイ8は、係合脚8a、支持部材7bを介して搬送板7上に載せられ、支持される。
また、トレイ8上には、金属材からなる被処理物Wが載置されており、処理室3内にて浸炭処理がなされるようになっている。ここで、トレイ8は、被処理物Wへの浸炭ガス(炭化水素系ガス)の接触を妨げないように、格子状や網目状に形成されている。
炉体2には、その正面側及び背面側に、それぞれヒータ9が配置されている。ヒータ9は、図2に示すように鉛直方向に立てて配置された長細い円柱状のもので、長さ方向の大部分が前記処理室3内に配置されている。また、ヒータ9は、電気が流れることで発熱する発熱部9aが、処理室3内に位置するように配置されている。これにより、ヒータ9は処理室3内を良好に加熱し、処理室3内の被処理物Wを加熱して後述するように浸炭処理する。ヒータ9には、その上端部及び下端部にそれぞれに配線(図示せず)が接続されており、該配線によって電力が供給されるようになっている。なお、炉体2には、その下部に、ヒータ9の下端部に接続する配線を引き出したり、各種の操作を行うための開口部2bが形成され、この開口部2bには蓋体2cが開閉可能に取り付けられている。
また、ヒータ9は、本実施形態では鉛直方向に立てて設けられた保護管10内に挿通されている。保護管10は、アルミナ等のセラミックス製のもので、その内径がヒータ9の外径よりも大きく形成されている。そして、ヒータ9はその中心軸が保護管10の中心軸に一致するように挿通配置され、これによってその外周面が保護管10の内周面に接しないように配置されている。従って、これら保護管10とヒータ9との間には、後述するようにバーンアウト用の空気(ガス)が良好に流れる流路が形成されている。
また、ヒータ9は、図1に示すように複数が水平方向、すなわち一方のドア部1a側から他方のドア部1b側にかけて整列配置させられており、これによってヒータ列11を形成している。このようなヒータ列11は、図2に示すように本実施形態では、炉体2の正面側と背面側とにそれぞれ1列ずつ、計2列配置されている。
保護管10には、その上端部に上部保護管受け12が設けられており、この上部保護管受け12が炉体2の天井部2aに取り付けられ、固定されていることにより、保護管10の上端部は炉体2の天井部2aに固定されている。また、保護管10の下端部は、図2の要部拡大図である図3に示すように、処理室3を形成する断熱層4の底部に取り付けられた下部保護管受け13に支持され、固定されている。
下部保護管受け13は、断熱層4の底部を貫通する円筒部13aと、円筒部13aの下端に設けられて断熱層4の底面に当接させられた円環板状の鍔部13bとによって形成されている。鍔部13bは、その内径が円筒部13aの内径より小さく形成されている。このような構成の基に、下部保護管受け13はその円筒部13a内に保護管10の下端部を内挿させ、鍔部13bの内周縁部にて保護管10の下端部を支持している。ここで、鍔部13bの内径はヒータ9の外径よりも大きく形成されている。これにより、鍔部13bの内周縁とヒータ9との間には、後述するようにバーンアウト用の空気(ガス)が良好に流れるようになっている。
ヒータ9は、その上端部が保持部材14によって保護管10の上端開口に取り付けられている。ただし、保持部材14は保護管10の上端開口を閉塞することなく、充分な大きさの開口面積を残して、保護管10の上端開口に取り付けられている。また、ヒータ9は、その下端側が保護管10の下方に延び出て形成配置されており、その下端が、保護管10の下方に配置された受け部材15に受けられて支持されている。
受け部材15は、本発明におけるガス供給手段を構成するもので、図1に示すように水平方向に延在する四角筒状の筒状体15aと、該筒状体15a内にてその長さ方向に沿って設けられたリブ板15bとを有して構成されている。筒状体15aは、ヒータ列11の列方向に沿って配置されており、その上面には、各ヒータ9の下端部を通す複数の開口15cが形成されている。これら開口15cは、前記鍔部13bと同様に、その開口径(内径)がヒータ9の外径よりも大きく形成されており、これによって開口15c内をバーンアウト用の空気(ガス)が良好に流れるようになっている。なお、この筒状体15aは、その両端部が開口することなく、閉塞されている。
リブ板15bは、筒状体15aの鉛直方向の高さの、半分程度の高さ(幅)に形成された細板であり、その上端にてヒータ9の下端を支持している。すなわち、リブ板15bは、図3に示すようにヒータ9の下端面の中心を支持するべく、該下端面の中心線に対応して配置されており、これによってヒータ9を安定的に支持している。
なお、以上の構成からなる受け部材15は、2列配置されたヒータ列11のそれぞれの下方に配置されている。
このような受け部材15には、その筒状体15aにバーンアウト用のガスを供給する供給配管16が接続されている。供給配管16は、各受け部材15の筒状体15aの、それぞれの内側面中央部に接続され、筒状体15a内に連通して設けられている。これら供給配管16は、略水平に配置されており、炉体2の底部下方から炉体2内に立ち上がって配置された主管17の上端部に、分岐管18を介して接続されている。主管17は、炉体2の外に配置された空気源(バーンアウトガス源)に接続されており、分岐管18、供給配管16を介して前記受け部材15内に空気(ガス)を供給するようになっている。
このような空気源、主管17、分岐管18、供給配管16、受け部材15により、ヒータ9に向けてバーンアウト用の空気(ガス)を供給する、本発明に係るガス供給手段が構成されている。このガス供給手段は、ヒータ9の下端部に接続した状態に設けられている。そして、空気源から導出された空気が主管17、分岐管18、供給配管16、受け部材15を通って受け部材15の開口15cからヒータ9の長さ方向に沿って上昇するように構成されている。
その際、受け部材15の開口15cから流出した空気は、図2に示すようにヒータ9の長さ方向に沿って上昇することにより、保護管10とヒータ9との管の隙間に入り込み、そのままヒータ9の長さ方向に沿って上昇する。
なお、供給配管16から受け部材15内に流入した空気は、リブ板15bに衝突することでリブ板15bの長さ方向、すなわち水平方向に拡がり、複数の開口15cのそれぞれから流出し、上昇するようになっている。
また、炉体2には、主にその処理室3内の断熱層4内面や保護管10の外周面に対してバーンアウト処理を行うための、空気供給管(図示せず)も設けられている。
また、炉体2には、その天井部2aに、アセチレン系ガス等の浸炭ガス(炭化水素系ガス)を供給するための浸炭ガス供給管(図示せず)が、一つあるいは複数設けられている。浸炭ガス供給管は、その先端が処理室3内に開口するとともに、後端が浸炭ガス供給源(図示せず)に接続されている。浸炭ガス供給源は、所定流量の浸炭ガスを浸炭ガス供給管に吐出する。これにより、処理室3内には、浸炭ガス供給源によって流量設定された浸炭ガスが供給される。
また、炉体2には、処理室3内のガス(浸炭ガスや該浸炭ガスが熱分解した熱分解ガス等)を処理室3外に排気するための、排気管(図示せず)が設けられている。この排気管には排気ポンプ(図示せず)が接続されており、この排気ポンプの作動によって処理室3内のガスが炉体2外に排気されるようになっている。
また、炉体2には、その天井部2aに撹拌翼19が配置されている。撹拌翼19は、モータ(図示せず)によって回転駆動することにより、処理室3内のガスを撹拌する。なお、この撹拌翼19については、その設置を省略することも可能である。
また、炉体2には、複数の熱電対20が、処理室3内において被処理物Wを取り囲むように離散配置されている。このような熱電対20は、被処理物Wの表面温度と同等な処理室3内の雰囲気温度を検出し、検出結果を制御部(図示せず)に出力する。
このような浸炭装置1によって浸炭処理を行うには、まず、搬入室(図示せず)から炉体2内の処理室3内に、被処理物Wをトレイ8に載せた状態で搬入する。そして、被処理物Wを炉床5上の所定位置にセットしたら、排気ポンプを作動させて処理室3内の空気を外部に排気し、処理室3内の雰囲気(被処理物Wの周囲雰囲気)を所定の真空状態(圧力状態)にまで減圧する。
また、これと並行して、あるいは減圧した後、ヒータ9に通電して処理室3内を加熱し、被処理物Wを加熱する。その際、熱電対20の検出結果に基づいて処理室3内、すなわち被処理物Wの表面温度を加熱することにより、被処理物Wの表面温度を、温度一定の圧力環境下で一定時間を掛けて徐々に昇温し、浸炭温度に到達させる。
そして、被処理物Wの表面温度を浸炭温度に到達させ、この浸炭温度で安定させたら、処理室3内に所定流量の浸炭ガスを連続的に導入する。一方、排気ポンプも作動させることにより、処理室3内のガスを排気管から外部に排気する。
このような浸炭ガスの導入、排気ポンプによる排気を並行して行うことにより、処理室3内の真空度(圧力)は所定圧力(浸炭圧力)に維持される。すなわち、処理室3内に連続導入される浸炭ガスの導入量と排気管からのガスの排出量とがバランスされることにより、処理室3内の圧力は所望の浸炭圧力に維持される。
そして、浸炭圧力の維持状態が所定の時間(浸炭時間)に亘って継続することにより、浸炭ガスが熱分解して発生した炭素原子(C)が被処理物Wの表面から被処理物W内に徐々に浸入し、この結果として被処理物Wの表面近傍に所定深さ(浸炭深さ)の浸炭層が形成される。
このような浸炭処理を行うと、浸炭ガスが高温減圧下にて炭素と水素に分解するほかに、重合反応を起こして重合物を生成することがある。また、分解した炭素が煤化することもある。そして、このような重合物や煤は、ヒータ9側では多くがこれを外挿する保護管10の外周面に付着するものの、一部は、保護管10の下端側開口などから入り込み、ヒータ9の外周面に付着する。
このようにして浸炭処理を予め設定した時間行ったら、浸炭ガスの供給を停止し、更にヒータ9による加熱も停止する。そして、排気ポンプによる減圧も停止し、処理室3内から被処理物Wをトレイ8に載せた状態で搬出する。その後、新たな被処理物Wを処理室3内に搬入し、前記操作を繰り返すことにより、新たな被処理物Wに対しても浸炭処理を行う。
被処理物Wに対する浸炭処理の回数が重ねられ、ヒータ9表面や処理室3内に前記の重合物や煤が多く付着し、堆積したら、バーンアウトを行う。その際、本実施形態では特にヒータ9に向けて空気を供給するガス供給手段を設けているので、受け部材15を介してヒータ9の下側から上側に向けて空気を流すことにより、保護管10内に立てて配置されたヒータ9に対して容易に、且つ効果的にバーンアウト処理を行うことができるとともに、このヒータ9に対するバーンアウトを、処理室3内のバーンアウトとは別に実施することができる。
すなわち、本実施形態の浸炭装置1にあっては、主管17から導入した空気を、分岐管18、供給配管16を介して受け部材15に供給し、この受け部材15から各ヒータ9の外周面に沿わせて保護管10内を上昇させることができる。すると、ヒータ9に沿って上昇した空気は、受け部材15の開口15cの直上に位置する保護管10とヒータ9との隙間から入り込み、そのまま上昇して上部保護管受け12側から流出し、炉体2の外部に排出される。
このように保護管10内に流入する空気は、ヒータ9の余熱等によって加熱されることにより、上昇気流を形成することで確実に保護管10内を流れ、従ってヒータ9の外周面に接触することでここに付着した前記の重合物や煤を確実にバーンアウトする。
よって、本実施形態の浸炭装置1によれば、ヒータ9を炉体2内の処理室3から分離した保護管10内に格納することにより、ヒータ9の汚れを除去するバーンアウトを、処理室3内のバーンアウトとは別に実施することができる。従って、操業率向上に寄与することができる。
また、ガス供給手段が、保護管10の下部開口の下方に配置されて保護管10の下端を受ける受け部材15と、該受け部材15内にバーンアウト用のガスを供給する供給配管16とを備えて成されているので、供給配管16によって供給した空気を、受け部材15によって複数のヒータ9に向けて流すことができ、これによって種々の構成部材が配置されてスペースの余裕が少ない炉体2の底部に、ガス供給手段を比較的効率良く配置することができる。
また、複数のヒータ9を水平方向に整列配置してヒータ列11を形成し、受け部材15の筒状体15aをヒータ列11に対して一つ配置しているで、前述したように炉体2の底部に、ガス供給手段を比較的効率良く配置することができる。
また、ヒータ列11を複数(2列)設けているので、処理室3内を均一に加熱して浸炭処理を良好に行うことができる。
また、受け部材15の筒状体15a内にその長さ方向に沿ってリブ板15bを設け、該リブ板15bによってヒータ9の下端を支持しているので、供給配管16から受け部材15内に流入した空気を、リブ板15bに衝突させることでリブ板15bの長さ方向(水平方向)に拡がらせ、複数の開口15cのそれぞれから流出させてヒータ9に向けて上昇させることができ、これによって簡易な構成で複数のヒータ9のバーンアウト処理を良好に行うことができる。
なお、本発明は前記実施形態に限定されることなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲です種々の変更が可能である。
例えば、炉体2の構成や処理室3の構成、被処理物Wを搬送するための機構については、前記実施形態に限定されることなく種々の構成を採用することができる。
また、ヒータ9の数や配置(配列)についても、前記実施形態に限定されることなく種々の形態を採用することができる。
更に、ヒータ9の下端部に空気(バーンアウト用のガス)を供給するガス供給手段についても、前記実施形態に限定されることなく種々の形態を採用することができる。
1…浸炭装置、2…炉体、9…ヒータ、10…保護管、11…ヒータ列、15…受け部材、15a…筒状体、15b…リブ板、16…供給配管、17…主管、18…分岐管、W…被処理物

Claims (3)

  1. 被処理物を加熱処理して浸炭処理を行う炉体を有する浸炭装置であって、
    前記炉体内に、前記被処理物を加熱処理するためのヒータが、鉛直方向に立てて設けられ、
    前記ヒータの下端部に、該ヒータに向けてバーンアウト用のガスを供給するガス供給手段が設けられ、
    前記ヒータは、鉛直方向に立てて設けられた保護管内に挿通させられており、
    前記ガス供給手段は、前記保護管と前記ヒータとの間にバーンアウト用のガスを供給するように構成されていることを特徴とする浸炭装置。
  2. 前記ガス供給手段は、前記保護管の下部開口の下方に配置されて前記保護管の下端を受ける受け部材と、該受け部材内にバーンアウト用のガスを供給する供給配管とを備えることを特徴とする請求項1記載の浸炭装置。
  3. 前記ヒータは、複数が水平方向に整列配置されてヒータ列を形成し、
    前記受け部材は、水平方向に延在する筒状の筒状体を有し、該筒状体が前記ヒータ列に対して一つ配置されていることを特徴とする請求項2記載の浸炭装置。
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