JP7161638B1 - マッフル炉 - Google Patents

Abstract

【課題】搬送空間の搬送方向に沿ってマッフル内の温度調整を容易にすること【解決手段】マッフル炉１０は、マッフル１１と、複数のヒータ１２と、炉体１３と、仕切り１３ａとを有している。複数のヒータ１２は、炉体１３に配置されている。マッフル１１は、複数のヒータ１２が配置された空間５１，５２に対して処理物３０が搬送される搬送空間１１ａ１を隔離するトンネル状の部材である。仕切り１３ａは、複数のヒータ１２が配置された空間５１，５２を仕切っている。このマッフル炉１０では、炉体１３は、マッフル１１が配置された空間４０の一部において天井３２ｄが外部に解放されている。【選択図】図１

Description

本開示は、マッフル炉に関する。

国際公開２０１３／０６５５５６号には、窒化ホウ素粉末の連続的製造方法が開示されている。かかる製造方法に用いられる連続反応炉として、プッシャ式トンネル炉が開示されている。プッシャ式トンネル炉は、炉内に、グラファイト製ヒータやグラファイト製のマッフルを備えている。プッシャ式トンネル炉は、窒素気流が流れるように構成されている。かかるプッシャ式トンネル炉を用いることによって、揮発物によるヒータの汚染を防ぐことができるとされている。ここでは、トンネル型のマッフルを備えた、加熱炉をマッフル炉と称する。

かかるマッフル炉は、マッフルの外側に設けられたヒータによってマッフル内部が加熱される。マッフルの内部は、加熱処理に適した雰囲気に調整される。例えば、上述した特許文献では、マッフル内を高純度の窒素ガス雰囲気として熱処理されている。マッフル炉では、被処理物が置かれる空間が、マッフルによって、ヒータが配置される空間から隔離される。このため、被処理物が置かれる空間の処理雰囲気を隔離でき、例えば、有毒ガスが発生するような用途や、希ガス雰囲気下で処理される、処理雰囲気を安定して回収したい場合などに好適である。

国際公開２０１３／０６５５５６号

ところで、粉体を熱処理する際、粉体を予め定められた温度で一次加熱した後、さらに高温で二次加熱したい場合がある。このような場合、トンネル型のマッフルを有するマッフル炉では、マッフル内は空間が繋がっている。また、マッフル炉は、プッシャ炉であり、処理物が押されながら進む。このため、マッフル内に温度差を設けるための仕切りを設けることは難しい。このため、マッフルの外側の炉体内に仕切りを設けて温度が管理されたゾーンが設けられる。しかし、マッフルの外側で仕切りが設けられていても放射熱が隣接するゾーンに伝わるため、ゾーン毎の温度差を大きく設けることが難しい。例えば、一次加熱から二次加熱に昇温させる場合に、一次加熱の温度と二次加熱の温度に大きな差がある場合には、段階的に温度が上がるように、一次加熱のゾーンと二次加熱のゾーンとの間に、複数のゾーンを設ける必要がある。一次加熱のゾーンと二次加熱のゾーンとの間に、複数のゾーンが設けられるとマッフルを移動する際に段階的に昇温していくが、昇温に時間が掛かる。このことから、一次加熱の温度と二次加熱の温度に大きな差を設けるような場合に、急激に昇温させることが難しい。また、降温させる場合も同様である。このように、マッフル炉は、搬送空間の搬送方向に沿ってマッフル内の温度を急激に変化させることが難しい。

ここで開示されるマッフル炉は、炉体と、炉体に配置された複数のヒータと、複数のヒータが配置された空間に対して処理物が搬送される搬送空間を隔離するトンネル状のマッフルと、ヒータが配置された空間を、前記搬送空間の搬送方向に沿って仕切る仕切りと、を有しており、マッフルが配置された空間の一部において、炉体の天井が外部に解放されている。かかるマッフル炉によれば、搬送空間の搬送方向に沿ってマッフル内の温度を急激に変化させやすい。

炉体は、マッフルが配置された空間よりも上に、搬送空間の搬送方向に沿って間欠的に配置された複数の梁を備え、マッフルが配置された空間の一部において、天井を取り付けたり、取り外したりできるように構成されていてもよい。

図１は、マッフル炉１０の縦断側面図である。 図２は、マッフル炉１０の模式的な平面図である。 図３は、図２において、ヒータ１２が省略された模式図である。 図４は、ヒータ１２が設けられた部位を示す断面図である。

以下、本開示における実施形態について、図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、本発明は以下の実施形態に限定されない。各図面は模式的に描かれており、必ずしも実物を反映していない。例えば、各図における寸法関係（長さ、幅、厚みなど）は実際の寸法関係を反映するものではない。また、各図面は、一例を示すのみであり、特に言及されない限りにおいて本発明を限定しない。また、同一の作用を奏する部材・部位には、適宜に同一の符号を付し、重複する説明を省略する。上、下、左、右、前、後の向きは、図中、Ｕ、Ｄ、Ｌ、Ｒ、Ｆ、Ｒｒの矢印でそれぞれ表されている。

〈マッフル炉１０〉
図１は、マッフル炉１０の縦断側面図である。図２は、マッフル炉１０の模式的な平面図である。図１では、炉体１３およびマッフル１１の内部が分かるように、マッフル１１の中心線に沿って縦断したＩ－Ｉ断面（図２参照）が示されている。図２では、ヒータ１２とマッフル１１の位置関係が分かるように、炉体１３内のヒータ１２とマッフル１１が露見した状態で図示されている。

マッフル炉１０は、図１および図２に示されているように、マッフル１１と、複数のヒータ１２と、炉体１３と、排気筒１４と、搬送用プッシャ１５と、搬出用プッシャ１６とを有している。ここでは、炉体１３の高さ方向に沿って上下が規定されている。また、炉体１３に対して、処理物が搬送される方向に沿って、上流側を後（Ｒｒ）、下流側を前（Ｆ）とし、前後が規定されている。また、かかる処理物が搬送される方向に沿って前方に向かって左右（Ｌ，Ｒ）が規定されている。

〈マッフル１１〉
マッフル炉１０では、マッフル１１と複数のヒータ１２は、炉体１３に配置されている。マッフル１１は、複数のヒータ１２が配置された空間に対して処理物３０が搬送される搬送空間１１ａ１を隔離するトンネル状の部材である。

図３は、図２において、ヒータ１２が省略された模式図である。また、各図は、適宜、簡略化された模式図である。マッフル１１は、図３に示されているように、搬送部１１ａと、搬入部１１ｂと、搬出部１１ｃとを有している。図３では、搬入部１１ｂと、搬出部１１ｃにおいて、マッフル１１が部分的に破断され、マッフル１１の内部空間が露見した状態で模式的に図示されている。搬送部１１ａは、搬送空間１１ａ１を有している。この実施形態では、搬送部１１ａの搬送空間１１ａ１は、処理物３０が搬送される略矩形断面の直線に沿った空間である。搬送部１１ａの搬送空間１１ａ１は、処理物３０の加熱処理空間でありうる。搬送部１１ａの第１端１１ｆには、搬送用プッシャ１５が取付けられている。搬送部１１ａの前方側の第２端１１ｇには蓋１１ｇ１が取り付けられている。

搬入部１１ｂは、図３に示されているように、搬送部１１ａの第１端１１ｆ側の側面に設けられている。搬入部１１ｂには、処理物３０を搬入するための管路１１ｂ１が設けられている。搬出部１１ｃは、搬送部１１ａの第２端１１ｇ側の側面に設けられている。搬出部１１ｃには、処理物３０を取り出すための管路１１ｃ１が設けられている。かかるマッフル１１には、金属製、セラミック製、カーボン製のものを用いることができる。また、マッフル１１の搬送部１１ａ、搬入部１１ｂおよび搬出部１１ｃには、適宜、ガイドレール２２が配置されていてもよい。ガイドレール２２は、搬送部１１ａ、搬入部１１ｂおよび搬出部１１ｃの側面または床に配置されている。搬入部１１ｂと搬出部１１ｃのガイドレール２２には、ローラ２３が設けられている。また、搬送部１１ａの前方の端部には、搬出部１１ｃに搬出される処理物３０を予め定められた位置で停止させるためのストッパ２４を備えている。

処理物３０は、矩形の焼成容器に収容されている。容器に収容される処理物は、例えば、圧電体、誘導体などの電子部品材料、リチウムイオン二次電池などの正極や負極に用いられる電極材料、セラミックス材料などでありうる。

〈ヒータ１２〉
ヒータ１２は、加熱装置である。図４は、ヒータ１２が設けられた部位を示す断面図である。ヒータ１２は、マッフル１１の外側において、炉体１３に配置されている。マッフル炉１０では、マッフル１１によって、複数のヒータ１２が配置された空間に対して処理物が搬送される搬送空間が隔離されている。この実施形態では、ヒータ１２は、円筒形状のカーボンヒータが用いられている。図１および図２に示されているように、マッフル１１の搬送部１１ａの搬送方向に沿って、複数のヒータ１２が、予め定められた間隔で並べられている。各ヒータ１２は、マッフル１１の搬送部１１ａの搬送方向に対して直交する方向に沿って配置されている。各ヒータ１２は、炉体１３に取付けられている。この実施形態では、ヒータ１２は、マッフル１１の上方と下方にそれぞれ配置されており、マッフル１１の上方と下方にそれぞれヒータ１２が配置される空間５１，５２が設けられている。

ヒータ１２には、例えば、セラミックヒータや遠赤外線ヒータが用いられうる。また、ヒータ１２が設けられる近傍位置には、温度センサ１２ａが取付けられており、ヒータ１２が設けられる位置が予め定められた温度になるようにヒータ１２の出力が適当に調整されるとよい。温度センサ１２ａには、例えば、熱電対やサーミスタや測温抵抗体などが用いられうる。また、図示は省略するが、制御装置によって、ヒータ１２は、温度センサ１２ａによる温度の検知に基づいて、出力が制御されるように構成されているとよい。なお、ヒータ１２の数や配置は、適宜、変更可能である。また、図示の都合、図１では、ヒータ１２を特に模式的に示している。

〈炉体１３〉
炉体１３は、トンネル状の炉体である。炉体１３は、マッフル１１とヒータ１２とを収容している。炉体１３は、断熱材３２と、外枠３４とから構成されている。断熱材３２は、マッフル１１の搬送方向の周りを全周に亘って囲っている。断熱材３２としては、例えば、所定の形状に成形されたセラミックファイバーボードが厚み方向に積み重ねられたものや、カーボン繊維が積層されて構成されたものが用いられうる。この実施形態では、断熱材３２として、カーボン繊維製の断熱材が用いられている。断熱材３２の厚さは、炉体１３内の熱が十分に断熱される程度の所要の厚さに設定されている。断熱材３２の外側は、外枠３４によって囲われている。外枠３４は、剛性および耐熱性に優れる金属製の材料によって構成される。外枠３４には、例えば、ステンレス等が用いられうる。

炉体１３には、マッフル１１の搬送部１１ａの搬送方向に沿って空間を仕切る仕切り１３ａが設けられている。かかる仕切り１３ａは、断熱材で構成されている。炉体１３は、マッフル１１が配置された空間の一部において天井が外れるように構成されており、マッフル１１が配置された空間４０が上方において外部に解放されている。かかる構成については、後で、さらに説明する。図１に示された例では、マッフル１１が配置された空間４０では、天井の断熱材が外されており、マッフル１１が配置された空間４０が上方において外部に解放されている。

この実施形態では、図４に示されているように、炉体１３は、断熱材で形成された床３２ａと、左右の側壁３２ｂ、３２ｃと、天井３２ｄと、仕切り１３ａとを備えている。床３２ａは、マッフル１１の下方に配置されている。左右の側壁３２ｂ、３２ｃは、マッフル１１の左右の側方に配置されている。天井３２ｄは、マッフル１１の上方に取り付けられるように構成されている。この実施形態では、床３２ａと、左右の側壁３２ｂ、３２ｃと、天井３２ｄとは、鉄やステンレスなどの金属で構成された外枠３４で保持されている。マッフル１１が配置された空間４０よりも上には、搬送空間１１ａ１の搬送方向に沿って間欠的に配置された複数の梁３４ａが設けられている。この実施形態では、複数の梁３４ａは、外枠３４の一部として構成されている。これにより、マッフル１１が配置された空間４０の一部において、天井３２ｄとなる断熱材３２ｄ１を取り付けたり、取り外したりできるように構成されている。図４は、天井３２ｄとなる断熱材３２ｄ１が取り外された状態が示されている。天井３２ｄとなる断熱材３２ｄ１は、２点鎖線で示されている。

〈排気筒１４〉
図１から図３に示されているように、マッフル１１には、排気筒１４が接続されている。排気筒１４は、図１から図３に示されているように、炉体１３の外部から炉体１３を貫通してマッフル１１に接続されている。排気筒１４は、被処理物が加熱されることによって発生しうる反応ガスや、雰囲気ガスを排気する。マッフル１１には、排気筒１４が接続された部分に孔が形成されている。排気筒１４は、炉体１３の外部で図示しない排気ポンプに接続されている。排気ポンプが吸引を開始すると、排気筒１４が、マッフル１１内に対して負圧になる。これにより、マッフル１１内で、処理物が加熱されることによって発生する反応ガスは、排気筒１４に吸引される。この実施形態では、反応ガスは、排気筒１４を通じて、マッフル１１および炉体１３の外に排出される。これにより、マッフル１１および炉体１３の劣化を抑制することができる。また、マッフル１１に排気筒１４が接続されていることによって、マッフル１１内で発生した反応ガスを適切に回収することができる。

この実施形態では、排気筒１４は、マッフル１１の天井部に接続されている。被処理物が加熱されることによって発生する反応ガスは、雰囲気ガスよりも軽く、上方に向かって流れうる。そのため、排気筒１４が天井部に接続されていることによって、反応ガスをより効率よく排気しうる。また、排気筒１４は、マッフル１１の天井部の幅方向の中央部に接続されている。これによって、マッフル１１の幅方向においてバランスよく反応ガスが排気されうる。なお、マッフル１１には、雰囲気ガスを導入する図示しない給気筒が接続されていてもよい。給気筒には、窒素やアルゴン等の雰囲気ガスを導入するための給気装置が接続されている。給気筒は、例えば、マッフル１１の底面や側面に接続されているとよい。

〈搬送用プッシャ１５〉
搬送用プッシャ１５は、図２および図３に示されているように、マッフル１１の搬送部１１ａの第１端１１ｆ側の側面に設けられており、搬入部１１ｂからマッフル１１の搬送部１１ａに供給された処理物３０を搬送部１１ａの搬送方向に押し出す装置である。この実施形態では、搬送用プッシャ１５は、アクチュエータ１５ａと、アーム１５ｂと、ヘッド１５ｃとを備えている。アーム１５ｂは、第１端１１ｆ側の側面から搬送部１１ａの内部に挿入されている。第１端１１ｆ側の側面には、シール部材６１が設けられている。シール部材６１は、搬送部１１ａの気密性を確保しつつ、アーム１５ｂの摺動を支持している。ヘッド１５ｃは、マッフル１１内部に延びたアーム１５ｂの先端に取り付けられている。搬送用プッシャ１５は、アクチュエータ１５ａが操作されることでアーム１５ｂが前方に動き、マッフル１１の搬送部１１ａの処理物３０を前方に向けて押し出す。マッフル１１の搬送部１１ａの処理物３０を前方に押し出した後は、アーム１５ｂを後方に待機させる。これにより、搬入部１１ｂからマッフル１１の搬送部１１ａに新たに処理物３０が搬送されるスペースが確保される。この実施形態では、アクチュエータ１５ａとして、サーボモータが用いられている。アクチュエータ１５ａは、シリンダ機構でもよい。

〈搬出用プッシャ１６〉
搬出用プッシャ１６は、マッフル１１の搬送部１１ａの第２端１１ｇ側の側面に設けられており、マッフル１１の搬送部１１ａから搬出部１１ｃに処理物３０を押し出す装置である。この実施形態では、搬出用プッシャ１６は、アクチュエータ１６ａと、アーム１６ｂと、ヘッド１６ｃとを備えている。アーム１６ｂは、搬送部１１ａのうち搬出部１１ｃの開口に対向する側面から搬送部１１ａの内部に挿入されている。アーム１６ｂが挿入された側面には、シール部材６２が設けられている。シール部材６２は、搬送部１１ａの気密性を確保しつつ、アーム１６ｂの摺動を支持している。ヘッド１６ｃは、マッフル１１内部に延びたアーム１６ｂの先端に取り付けられている。搬出用プッシャ１６は、アクチュエータ１６ａが操作されることでアーム１６ｂが前方に動き、マッフル１１の搬送部１１ａから搬出部１１ｃに向けて処理物３０を押し出す。マッフル１１の搬送部１１ａの処理物３０を搬出部１１ｃに押し出した後は、アーム１６ｂを後方に待機させる。これにより、マッフル１１の搬送部１１ａに前方に向けて処理物３０を押し出すスペースが確保される。この実施形態では、アクチュエータ１５ａとして、サーボモータが用いられている。アクチュエータ１５ａは、シリンダ機構でもよい。

このように搬出用プッシャ１６によって処理物３０が搬出部１１ｃに押し出された後で、搬送用プッシャ１５によって搬送部１１ａの処理物３０が前方に押し出されるとよい。そして、搬送用プッシャ１５によって搬送部１１ａの処理物３０が前方に押し出された後で、搬入部１１ｂから搬出部１１ｃに未処理の処理物３０が送られるとよい。搬送用プッシャ１５と搬出用プッシャ１６は、シーケンス制御によって予め定められたタイミングで動作するように制御されているとよい。搬送用プッシャ１５と搬出用プッシャ１６の動作タイミングは、例えば、プログラムが変更されることによって適宜に変更されうる。また、ここでは、シーケンス制御によって制御されることが例示されているが、処理物３０の位置を検知して、搬送用プッシャ１５と搬出用プッシャ１６を駆動させてもよい。

〈マッフル炉１０による加熱処理〉
上述したように、ここで開示されるマッフル炉１０は、図１～図３に示されているように、マッフル１１と、複数のヒータ１２と、炉体１３と、仕切り１３ａとを有している。複数のヒータ１２は、炉体１３に配置されている。マッフル１１は、複数のヒータ１２が配置された空間５１，５２に対して処理物３０が搬送される搬送空間１１ａ１を隔離するトンネル状の部材である。仕切り１３ａは、複数のヒータ１２が配置された空間５１，５２を仕切っている。このマッフル炉１０では、マッフル１１が配置された空間４０の一部において炉体１３の天井３２ｄが外部に解放されている。この実施形態では、マッフル１１が配置された空間の一部において炉体１３の天井が外れるように構成されている。これにより、炉体１３の天井が外された部分において、マッフル１１が配置された空間４０が上方に解放されている。

炉体１３の天井が外された部分では、マッフル１１が配置された空間４０が上方に解放されているので、ヒータ１２の放射熱は、上方に抜けやすい。他方で、ヒータ１２の放射熱は、上方に抜けやすい分、仕切り１３ａで区切られた隣の空間には伝わりにくい。このため、仕切り１３ａで区切られた、複数のヒータ１２が配置された空間５１，５２毎に、温度を調整しやすい。このため、仕切り１３ａで区切られた空間毎にヒータ１２の出力を調整することによって、隣り合う空間の温度差を大きく差を付けることができる。これにより、マッフル１１内の温度を搬送空間１１ａ１の搬送方向に沿って段階的に、かつ、より急激に温度上昇させることができる。そして、マッフル炉１０で処理される処理物３０を、急激に昇温させることができる。このように、このマッフル炉１０によれば、マッフル１１が配置された空間４０の一部において炉体１３の天井３２ｄが外部に解放されているので、搬送空間１１ａ１の搬送方向に沿ってマッフル１１内の温度をより急激に変化させやすい。

なお、炉体１３の天井３２ｄが閉じられていると、ヒータ１２の放射熱が籠もりやすく、仕切り１３ａと通じて隣接する空間に影響を及ぼす。このため、仕切り１３ａで区切られた隣接する空間の温度差が生じにくい。特に、マッフル１１内の空間が繋がっているので、マッフル１１の搬送空間１１ａ１に沿って徐々に温度を変化させうるが、急激な温度変化が生じさせにくい。これに対して、マッフル炉１０では、炉体１３の天井３２ｄが開かれていることによって、仕切り１３ａで区切られた隣接する空間の温度差を大きくできる。

例えば、搬送空間１１ａ１の搬送方向に沿ってマッフル１１内の温度を１５０℃から４００℃に段階的に上昇させたい場合や、４１０℃から８００℃に段階的に上昇させたい場合などがある。このような場合、例えば、仕切り１３ａで区切られた隣接する空間の温度差を５０℃ずつや、１００℃ずつなど、段階的に、かつ、より急激に温度上昇させることができる。また、仕切り１３ａで区切られた隣接する空間により明確な温度差を付けることができる。仕切り１３ａで区切られた隣接する空間により明確な温度差を付けるとの観点では、仕切り１３ａは、区切られた隣接する空間の温度差を付けるべく適当な厚さを有しているとよい。他方で、仕切り１３ａを厚くすることは、コストが掛かる。このマッフル炉１０では、炉体１３の天井３２ｄが開かれていることによって、上方へ熱が抜けやすくなり、隣接する空間への伝熱が抑えられ、隣接する空間により明確な温度差を付けることができる。このため、仮に仕切り１３ａが十分に厚くなく、隣接する空間への伝熱を完全に抑えられない場合でも、隣接する空間の温度差を大きく設定することができる。

このように、マッフル１１が配置された空間の一部において、炉体１３の天井が外部に解放されているとよい。マッフル炉１０において、処理物３０の温度履歴をコントロールしやすくなる。これにより、急激な昇温が必要となる熱処理を、マッフル炉１０で実現しやすくなる。つまり、マッフル１１の搬送部１１ａの搬送空間１１ａ１を搬送方向に沿って、段階的に温度が上がるように、複数のゾーンを設ける場合に、隣接するゾーンで大きな温度差を設けることができる。マッフル炉１０で、炉体１３の天井が解放されない場合に比べて、マッフル炉１０で急激に温度を降下させることもできる。なお、炉体１３は、天井が解放されているとよく、床３２ａや、左右の側壁３２ｂ、３２ｃは、ヒータを挿通する穴など、必要な開口を除いて閉じられているとよい。これにより、ヒータ１２の熱が側方や下方に逃げず、ヒータ１２の熱によって、マッフル１１を適切に加熱することができる。また、ヒータ１２は、マッフル１１の上下に配置された形態が例示されているとよい。仕切り１３ａで区切られた隣接する空間には、複数のヒータが配置されていてもよい。仕切り１３ａで区切られた隣接する空間には、複数のヒータが配置されている場合、ヒータは横に並べられてもよいし、縦に並べられてもよい。また、ヒータ１２は、マッフル１１の下側だけに配置されていてもよい。また、ヒータ１２は、マッフル１１の上側だけに配置されていてもよい。

この実施形態では、マッフル１１が配置された空間４０よりも上には、搬送空間１１ａ１の搬送方向に沿って間欠的に配置された複数の梁３４ａが設けられている。このため、炉体１３は、搬送空間１１ａ１の搬送方向に沿って適当な位置で天井を空けたり、閉じたりすることができる。例えば、搬送空間１１ａ１の搬送方向に沿って温度を一定としたい、あるいは、小さい温度変化でコントロールしたい区間では、天井が閉じられていることで、ヒータ１２の熱が籠もりやすくなるので、エネルギロスが抑えられる。この実施形態では、搬送空間１１ａ１の搬送方向に沿って間欠的に天井に複数の梁３４ａが設けられている。複数の梁３４ａが設けられていることによって、天井３２ｄに配置した断熱材３２ｄ１が設置しやすくなる。なお、天井３２ｄに配置した断熱材３２ｄ１は、炉体１３の左右の側壁３２ｂ，３２ｃ、あるいは、左右の側壁３２ｂ，３２ｃの上部に設けられた炉体１３の外枠３４で支持することも可能である。また、炉体１３の左右の側壁３２ｂ，３２ｃあるいは、左右の側壁３２ｂ，３２ｃの上部に設けられた炉体１３の外枠３４で支持される構造をさらに有する場合には、かかる支持と合わせて、搬送空間１１ａ１の搬送方向に沿って間欠的に天井に設けられた複数の梁３４ａによって、天井３２ｄに配置した断熱材３２ｄ１が脱落しにくくなり、設置しやすくなる。

以上、ここで開示される発明の詳細な説明を行ったが、これらは例示にすぎず、請求の範囲を限定するものではない。また、ここでの開示は、種々変更でき、特段の問題が生じない限りにおいて、各構成要素やここで言及された各処理は適宜に省略され、または、適宜に組み合わされうる。

１０ マッフル炉
１１ マッフル
１１ａ 搬送部
１１ａ１ 搬送空間
１１ｂ 搬入部
１１ｂ１ 処理物３０を搬入するための管路
１１ｃ 搬出部
１１ｃ１ 処理物３０を取り出すための管路
１１ｆ 第１端
１１ｇ 第２端
１１ｇ１ 蓋
１２ ヒータ
１２ａ 温度センサ
１３ 炉体
１３ａ 仕切り
１４ 排気筒
１５ 搬送用プッシャ
１５ａ アクチュエータ
１５ｂ アーム
１５ｃ ヘッド
１６ 搬出用プッシャ
１６ａ アクチュエータ
１６ｂ アーム
１６ｃ ヘッド
２２ ガイドレール
２３ ローラ
２４ ストッパ
３０ 処理物
３２ 断熱材
３２ａ 床
３２ｂ，３２ｃ 側壁
３２ｄ 天井
３２ｄ１ 天井３２ｄとなる断熱材
３４ 外枠
３４ａ 梁
４０ マッフル１１が配置された空間
５１，５２ ヒータ１２が配置される空間

Claims (2)

1. 炉体と、
   前記炉体内に配置された複数のヒータと、
   前記複数のヒータが配置された空間に対して処理物が搬送される搬送空間を隔離するトンネル状のマッフルと、
   前記ヒータが配置された空間を、前記搬送空間の搬送方向に沿って仕切る仕切りと
   を有し、
   前記炉体は、前記マッフルが配置された空間の一部において、前記炉体の天井が外部に解放されるように構成された、
   マッフル炉。
2. 前記炉体は、
   前記マッフルが配置された空間よりも上に、前記搬送空間の搬送方向に沿って間欠的に配置された複数の梁を備え、
   前記マッフルが配置された空間の一部において、天井を取り付けたり、取り外したりできるように構成された、請求項１に記載されたマッフル炉。

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