JP5830586B1 - 浸炭装置 - Google Patents
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Abstract
Description
真空浸炭炉は、高温減圧下にて炭化水素系ガス(浸炭ガス)による真空浸炭処理を行う装置であり、真空浸炭処理は、炭化水素系ガスを炭素と水素に分解して炭素分を鋼の表面で反応させ、浸炭を起こさせる処理である。
また、特許文献1では、熱源としての電気ヒータをセラミックス製ラジアントチューブで覆い、電気ヒータの表面に重合物や煤といった生成物が付着するのを防止している。
図1、図2は、本発明に係る浸炭装置の一実施形態の概略構成を示す図であって、図1は正面視した縦断面図、図2は側面視した縦断面図である。
なお、以上の構成からなる受け部材15は、2列配置されたヒータ列11のそれぞれの下方に配置されている。
なお、供給配管16から受け部材15内に流入した空気は、リブ板15bに衝突することでリブ板15bの長さ方向、すなわち水平方向に拡がり、複数の開口15cのそれぞれから流出し、上昇するようになっている。
また、炉体2には、その天井部2aに、アセチレン系ガス等の浸炭ガス(炭化水素系ガス)を供給するための浸炭ガス供給管(図示せず)が、一つあるいは複数設けられている。浸炭ガス供給管は、その先端が処理室3内に開口するとともに、後端が浸炭ガス供給源(図示せず)に接続されている。浸炭ガス供給源は、所定流量の浸炭ガスを浸炭ガス供給管に吐出する。これにより、処理室3内には、浸炭ガス供給源によって流量設定された浸炭ガスが供給される。
また、炉体2には、複数の熱電対20が、処理室3内において被処理物Wを取り囲むように離散配置されている。このような熱電対20は、被処理物Wの表面温度と同等な処理室3内の雰囲気温度を検出し、検出結果を制御部(図示せず)に出力する。
よって、本実施形態の浸炭装置1によれば、ヒータ9を炉体2内の処理室3から分離した保護管10内に格納することにより、ヒータ9の汚れを除去するバーンアウトを、処理室3内のバーンアウトとは別に実施することができる。従って、操業率向上に寄与することができる。
また、ヒータ列11を複数(2列)設けているので、処理室3内を均一に加熱して浸炭処理を良好に行うことができる。
例えば、炉体2の構成や処理室3の構成、被処理物Wを搬送するための機構については、前記実施形態に限定されることなく種々の構成を採用することができる。
更に、ヒータ9の下端部に空気(バーンアウト用のガス)を供給するガス供給手段についても、前記実施形態に限定されることなく種々の形態を採用することができる。
Claims (3)
- 被処理物を加熱処理して浸炭処理を行う炉体を有する浸炭装置であって、
前記炉体内に、前記被処理物を加熱処理するためのヒータが、鉛直方向に立てて設けられ、
前記ヒータの下端部に、該ヒータに向けてバーンアウト用のガスを供給するガス供給手段が設けられ、
前記ヒータは、鉛直方向に立てて設けられた保護管内に挿通させられており、
前記ガス供給手段は、前記保護管と前記ヒータとの間にバーンアウト用のガスを供給するように構成されていることを特徴とする浸炭装置。 - 前記ガス供給手段は、前記保護管の下部開口の下方に配置されて前記保護管の下端を受ける受け部材と、該受け部材内にバーンアウト用のガスを供給する供給配管とを備えることを特徴とする請求項1記載の浸炭装置。
- 長手方向が鉛直方向とされた複数の前記ヒータが、水平方向に整列して配置されることによりヒータ列が形成され、
前記受け部材は、水平方向に延在する筒状の筒状体を有し、該筒状体が前記ヒータ列に対して一つ配置されていることを特徴とする請求項2記載の浸炭装置。
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