JP2016014190A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2016014190A5
JP2016014190A5 JP2015141418A JP2015141418A JP2016014190A5 JP 2016014190 A5 JP2016014190 A5 JP 2016014190A5 JP 2015141418 A JP2015141418 A JP 2015141418A JP 2015141418 A JP2015141418 A JP 2015141418A JP 2016014190 A5 JP2016014190 A5 JP 2016014190A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
opening
forming
vapor deposition
intersection
point
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2015141418A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2016014190A (ja
JP6409701B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2015141418A priority Critical patent/JP6409701B2/ja
Priority claimed from JP2015141418A external-priority patent/JP6409701B2/ja
Publication of JP2016014190A publication Critical patent/JP2016014190A/ja
Publication of JP2016014190A5 publication Critical patent/JP2016014190A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6409701B2 publication Critical patent/JP6409701B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Claims (27)

  1. 開口部を有する樹脂マスクを含む蒸着マスクの製造方法であって、
    樹脂板を準備する工程と、
    前記樹脂板にレーザーを照射して前記開口部を形成する工程と、を含み、
    前記開口部を形成する工程においては、
    樹脂板の一方の面を第1面、他方の面を第2面とした場合において、
    前記開口部を構成するための内壁面が、厚み方向断面において少なくとも1つの屈折点を有しており、
    前記厚み方向断面において、前記第1面と前記内壁面の交点を第1交点とし、前記第2面と前記内壁面との交点を第2交点とし、前記屈折点のうち前記第1交点から第2交点にむかって最初に位置する屈折点を第1屈折点としたときに、
    前記第1交点と前記第1屈折点を結ぶ直線と前記第1面とのなす角(θ1)が、前記第1屈折点と前記第2交点を結ぶ直線と前記第2面とのなす角(θ2)よりも大きくなり、且つ、前記内壁面が、厚み方向断面において前記第1面から前記第2面側に向かって広がりをもつ形状となるように、
    前記開口部を形成する、蒸着マスクの製造方法。
  2. 前記開口部を形成する工程において、
    前記第1交点から第1屈折点までの距離が、前記第1屈折点から第2交点までの距離よりも短くなるように、前記開口部を形成する、
    請求項1に記載の蒸着マスクの製造方法。
  3. 前記開口部を形成する工程において、
    前記屈折点が2つ以上存在し、前記屈折点のうち、前記第1交点から第2交点にむかって最初に位置する屈折点を第1屈折点とし、前記第1屈折点の次に位置する屈折点を第2屈折点としたときに、
    前記第1交点から第1屈折点までの距離が、前記第1屈折点から第2屈折点までの距離よりも長くなるように、前記開口部を形成する、
    請求項1に記載の蒸着マスクの製造方法。
  4. 前記開口部を形成する工程において、
    前記屈折点が2つ以上存在し、前記屈折点のうち、前記第1交点から第2交点にむかって最初に位置する屈折点を第1屈折点とし、前記第1屈折点の次に位置する屈折点を第2屈折点としたときに、
    前記第1交点から第1屈折点までの距離が、前記第1屈折点から第2屈折点までの距離よりも短くなるように、前記開口部を形成する、
    請求項1に記載の蒸着マスクの製造方法。
  5. 前記開口部を形成する工程において、
    前記屈折点が4つ以上存在し、前記屈折点のうち、前記第1交点から第2交点にむかって最初に位置する屈折点を第1屈折点としたときに、
    前記第1交点から第1屈折点までの厚み方向の距離が、前記第1屈折点から第2交点までの厚み方向の距離よりも短くなるように、前記開口部を形成する、
    請求項1に記載の蒸着マスクの製造方法。
  6. 前記開口部を形成する工程において、
    前記屈折点が2つ以上存在し、前記屈折点のうち、前記第1交点から第2交点にむかって最初に位置する屈折点を第1屈折点としたときに、
    前記第1屈折点以外の屈折点が、前記第1屈折点と前記第2交点を結ぶ直線よりも第1面側に位置するように、前記開口部を形成する、
    請求項1に記載の蒸着マスクの製造方法。
  7. 前記開口部を形成する工程において、
    前記第2交点から前記第1面へ垂線をひいたときに、
    前記第1交点から前記垂線と前記第一面との交点までの距離が、前記第2交点から前記垂線と前記第一面との交点までの距離よりも短くなるように、前記開口部を形成する、
    請求項1に記載の蒸着マスクの製造方法。
  8. 前記開口部を形成する工程において、
    前記第2交点から前記第1面へ垂線をひいたときに、
    前記第1交点から前記垂線と前記第一面との交点までの距離が、前記第2交点から前記垂線と前記第一面との交点までの距離よりも長くなるように、前記開口部を形成する、
    請求項1に記載の蒸着マスクの製造方法。
  9. 前記開口部を形成する工程において、
    前記第1屈折点と前記第1交点を結ぶ直線と前記第1面とのなす角(θ1)が60°〜90°の範囲内となるように、前記開口部を形成する、
    請求項1乃至8の何れか1項に記載の蒸着マスクの製造方法。
  10. 前記開口部を形成する工程において、
    前記第1屈折点と前記第2交点を結ぶ直線と前記第2面とのなす角(θ2)が30°〜70°の範囲内となるように、前記開口部を形成する、
    請求項1乃至9の何れか1項に記載の蒸着マスクの製造方法。
  11. 前記樹脂板として、第2面側に金属部分が設けられた樹脂板を用いる、
    請求項1乃至10の何れか1項に記載の蒸着マスクの製造方法。
  12. 前記樹脂板として、コーティングにより形成された樹脂板を用いる、
    請求項1乃至11の何れか1項に記載の蒸着マスクの製造方法。
  13. 前記樹脂板として、フレームに樹脂板が固定されたフレーム付き樹脂板を用いる、
    請求項1乃至12の何れか1項に記載の蒸着マスクの製造方法。
  14. 前記開口部を形成する工程の後に、
    フレームに、前記開口部が形成された樹脂板を固定する工程をさらに含む、
    請求項1乃至12の何れか1項に記載の蒸着マスクの製造方法。
  15. 前記開口部を形成する工程において、
    複数の前記開口部を形成する、
    請求項1乃至14の何れか1項に記載の蒸着マスクの製造方法。
  16. 前記開口部を形成する工程において、
    複数の前記開口部が、縦方向、及び横方向の両方に並ぶように形成する、
    請求項15に記載の蒸着マスクの製造方法。
  17. 前記開口部を形成する工程において、
    複数の前記開口部が、縦方向、及び横方向の何れか一方にのみに並ぶように形成する、
    請求項15に記載の蒸着マスクの製造方法。
  18. 前記開口部を形成する工程において、
    複数の前記開口部が、縦方向に並んで複数列あり、隣り合う列同士の開口部が、互いに縦方向にずれて配置されるように、又は、横方向に並んで複数行あり、隣り合う行同士の開口部が、互いに横方向にずれて配置されるように、複数の前記開口部を形成する、
    請求項15に記載の蒸着マスクの製造方法。
  19. 前記開口部を形成する工程において、
    1画面分の蒸着パターンを形成するために必要な、前記開口部を形成する、
    請求項1乃至18の何れか1項に記載の蒸着マスクの製造方法。
  20. 前記開口部を形成する工程において、
    複数の画面分の蒸着パターンを形成するために必要な、前記開口部を形成する、
    請求項1乃至18の何れか1項に記載の蒸着マスクの製造方法。
  21. 前記開口部を形成する工程において、
    1画面分の蒸着パターンを形成するために必要な開口部と、他の1画面分の蒸着パターンを形成するために必要な開口部との間の距離のうちその距離が最も短くなるものを画面間の距離としたときに、前記画面間の距離が、1画面分の蒸着パターンを形成するために必要な開口部において隣接する各開口部間の距離よりも長くなるように、前記開口部を形成する、
    請求項20に記載の蒸着マスクの製造方法。
  22. 前記開口部を形成する工程において、
    前記画面間の距離が、1mm以上で100mm以下の範囲となるように、前記開口部を形成する、
    請求項21に記載の蒸着マスクの製造方法。
  23. 前記樹脂板として、溝が形成された樹脂板を用いる、
    請求項1乃至22の何れか1項に記載の蒸着マスクの製造方法。
  24. 前記樹脂板として、厚みが4μm以上で8μm以下の樹脂板を用いる、
    請求項1乃至23の何れか1項に記載の蒸着マスクの製造方法。
  25. 前記開口部を形成する工程において、
    前記開口部の大きさが、500μm 2 以上で1000μm 2 以下の範囲となるように、前記開口部を形成する、
    請求項1乃至24の何れか1項に記載の蒸着マスクの製造方法。
  26. 蒸着で作製されるパターンの形成方法であって、
    請求項1乃至25の何れか1項に記載の蒸着マスクの製造方法で製造された蒸着マスクを用いる、
    パターンの形成方法。
  27. 有機半導体素子の製造方法であって、
    請求項1乃至25の何れか1項に記載の蒸着マスクの製造方法で製造された蒸着マスクを用いる、
    有機半導体素子の製造方法。
JP2015141418A 2013-11-14 2015-07-15 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、及び有機半導体素子の製造方法 Active JP6409701B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015141418A JP6409701B2 (ja) 2013-11-14 2015-07-15 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、及び有機半導体素子の製造方法

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013235711 2013-11-14
JP2013235711 2013-11-14
JP2015141418A JP6409701B2 (ja) 2013-11-14 2015-07-15 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、及び有機半導体素子の製造方法

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014207030A Division JP5780350B2 (ja) 2013-11-14 2014-10-08 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、及び有機半導体素子の製造方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018176101A Division JP6597863B2 (ja) 2013-11-14 2018-09-20 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、有機半導体素子の製造方法、及び蒸着マスクの製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2016014190A JP2016014190A (ja) 2016-01-28
JP2016014190A5 true JP2016014190A5 (ja) 2018-02-15
JP6409701B2 JP6409701B2 (ja) 2018-10-24

Family

ID=55230606

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015141418A Active JP6409701B2 (ja) 2013-11-14 2015-07-15 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、及び有機半導体素子の製造方法
JP2018176101A Active JP6597863B2 (ja) 2013-11-14 2018-09-20 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、有機半導体素子の製造方法、及び蒸着マスクの製造方法
JP2019174338A Pending JP2020037742A (ja) 2013-11-14 2019-09-25 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、有機半導体素子の製造方法、及び蒸着マスクの製造方法

Family Applications After (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018176101A Active JP6597863B2 (ja) 2013-11-14 2018-09-20 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、有機半導体素子の製造方法、及び蒸着マスクの製造方法
JP2019174338A Pending JP2020037742A (ja) 2013-11-14 2019-09-25 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、有機半導体素子の製造方法、及び蒸着マスクの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (3) JP6409701B2 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6465075B2 (ja) * 2016-05-26 2019-02-06 大日本印刷株式会社 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、有機半導体素子の製造方法、及びに有機elディスプレイの製造方法
CN112859507A (zh) * 2021-03-11 2021-05-28 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 光罩、显示面板
JP2024050251A (ja) * 2022-09-29 2024-04-10 大日本印刷株式会社 マスクの製造方法及びマスク

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11222664A (ja) * 1998-02-04 1999-08-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd メタルマスク、このメタルマスクを用いた抵抗体の形成方法およびこのメタルマスクを用いた抵抗器の製造方法
JP4046269B2 (ja) * 2001-05-24 2008-02-13 九州日立マクセル株式会社 有機el素子用蒸着マスクと有機el素子用蒸着マスクの製造方法
JP2009041054A (ja) * 2007-08-07 2009-02-26 Sony Corp 蒸着用マスクおよびその製造方法ならびに表示装置の製造方法
JP5262226B2 (ja) * 2007-08-24 2013-08-14 大日本印刷株式会社 蒸着マスクおよび蒸着マスクの製造方法
JP2009068082A (ja) * 2007-09-14 2009-04-02 Sony Corp 蒸着マスクの作製方法および蒸着マスク
JP5228586B2 (ja) * 2008-04-09 2013-07-03 株式会社Sumco 蒸着用マスク、ならびにそれを用いる蒸着パターン作製方法、半導体ウェーハ評価用試料の作製方法、半導体ウェーハの評価方法および半導体ウェーハの製造方法
JP3164800U (ja) * 2010-10-05 2010-12-16 Tdk株式会社 マスク
KR20210046847A (ko) * 2012-01-12 2021-04-28 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 수지판을 구비한 금속 마스크, 증착 마스크, 증착 마스크 장치의 제조 방법, 및 유기 반도체 소자의 제조 방법
KR102354233B1 (ko) * 2012-01-12 2022-01-20 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 스텝 앤드 리피트 증착 마스크의 제조 방법, 이것에 의해 얻어지는 스텝 앤드 리피트 증착 마스크, 및 유기 반도체 소자의 제조 방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5780350B2 (ja) 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、及び有機半導体素子の製造方法
JP2014058969A5 (ja)
WO2017062798A8 (en) Glass-based substrate with vias and process of forming the same
JP2017210657A5 (ja)
JP2016014190A5 (ja)
JP2017534519A5 (ja)
JP2016174148A5 (ja)
RU2015146763A (ru) Способ изготовления асимметричного компонента с применением аддитивного производства
JP2016189007A5 (ja)
JP2017002408A5 (ja)
KR101338601B1 (ko) 비정형 구조물용 조립식 거푸집
JP2013247367A5 (ja)
JP2016035967A5 (ja)
WO2015144228A8 (en) Cable tray and a method of producing such a cable tray
JP2015129894A5 (ja)
JP2018059211A5 (ja)
JP2013070112A5 (ja)
JP6597863B2 (ja) 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、有機半導体素子の製造方法、及び蒸着マスクの製造方法
JP2016108578A5 (ja)
WO2018099818A3 (en) Optical component for generating a light effect
JP2017210687A5 (ja)
JP2016127144A5 (ja)
WO2015010687A3 (de) Polymerlaminat und verfahren zu seiner herstellung
JP6417083B2 (ja) 外壁材
JP2017146812A5 (ja)