CN112859507A - 光罩、显示面板 - Google Patents

光罩、显示面板 Download PDF

Info

Publication number
CN112859507A
CN112859507A CN202110262879.7A CN202110262879A CN112859507A CN 112859507 A CN112859507 A CN 112859507A CN 202110262879 A CN202110262879 A CN 202110262879A CN 112859507 A CN112859507 A CN 112859507A
Authority
CN
China
Prior art keywords
wall
space
opening
mask
average thickness
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202110262879.7A
Other languages
English (en)
Inventor
练文东
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
Original Assignee
Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd filed Critical Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
Priority to CN202110262879.7A priority Critical patent/CN112859507A/zh
Publication of CN112859507A publication Critical patent/CN112859507A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

本发明实施例公开了一种光罩、显示面板。光罩包括第一开口以及围绕第一开口的掩膜条;掩膜条包括第一部分和的第二部分;其中,第二部分的平均厚度大于第一部分的平均厚度,第一部分和第二部分围成连通第一开口的总空间,总空间包括第一空间和第二空间,第一部分包括围绕第一空间的第一壁,第二部分包括围绕第二空间的第二壁,第一壁与第二壁具有接触部,第二壁在接触部处与水平面的夹角小于第一壁在接触部处与水平面的夹角。本发明实施例通过在现有光罩远离现有开口的一侧增加第二空间,增加了光罩开口边缘区域镀膜材料的容纳空间,镀膜材料在沉积过程中可以更快速达到目标膜厚,减小了未达标膜层区域的面积,改善了镀膜的工作性能。

Description

光罩、显示面板
技术领域
本发明涉及显示领域,具体涉及一种光罩、显示面板。
背景技术
近些年,显示面板的镀膜工艺精度要求越来越高。
在不需要镀膜的区域,会设置光罩,在镀膜过程中,在光罩开口边缘与镀膜基板之间会沉积产生未达标膜层区域(指膜厚未达到目标镀膜膜厚一定百分比的区域),当显示面板边缘区域的未达标膜层区域面积过大时,会影响镀膜的工作性能,目前,请参阅图1,现有光罩90包括连通开口91的空间92,现有光罩90围绕所述空间92的壁面在正视视角下呈圆弧形,即壁面的相邻的两段在其连接点处与水平面的夹角相等,导致形成的空间92较小,无法承载更多镀膜材料,限制了镀膜材料沉积速度,无法减小未达标膜层区域。
因此,亟需一种光罩、显示面板以解决上述技术问题。
发明内容
本发明实施例提供一种光罩、显示面板,可以解决目前镀膜过程中,光罩开口边缘与镀膜基板之间的未达标膜层区域过大的技术问题。
本发明实施例提供一种光罩,包括第一开口以及围绕所述第一开口的掩膜条;
所述掩膜条包括靠近所述第一开口的第一部分和远离所述第一开口的第二部分;
其中,所述第二部分的所述平均厚度大于所述第一部分的平均厚度,所述第一部分和所述第二部分围成连通所述第一开口的总空间,所述总空间包括第一空间和位于所述第一空间上并连通所述第一空间的第二空间,所述第一部分包括围绕所述第一空间的第一壁,所述第二部分包括围绕所述第二空间的第二壁,所述第一壁与所述第二壁具有接触部,所述第二壁在所述接触部处与水平面的夹角小于所述第一壁在所述接触部处与所述水平面的夹角。
在一实施例中,所述掩膜条包括连接于所述第二部分的远离所述第一部分的一侧的第三部分,所述第三部分的平均厚度大于所述第二部分的平均厚度,所述第三部分包括围绕所述第一空间的第三壁,所述第二壁在所述接触部处与所述水平面的所述夹角以及所述第一壁在所述接触部处与所述水平面的所述夹角均为锐角。
在一实施例中,所述第一壁为凹向所述掩膜条的弧面,所述第二壁为平面,所述第三壁为平面。
在一实施例中,在所述第三部分至所述第一开口的方向上,所述第二部分的厚度变小。
在一实施例中,所述第一壁为凹向所述掩膜条的弧面,所述第二壁为凹向所述掩膜条的弧面,所述第三壁为平面。
在一实施例中,所述光罩还包括连接于所述第二部分与所述第三部分的第四部分,所述第四部分的平均厚度大于所述第二部分的平均厚度,所述第四部分的所述平均厚度小于所述第三部分的平均厚度。
在一实施例中,所述第四部分的遮挡表面为平面,或者所述第四部分的遮挡表面为凹向所述掩膜条的弧面。
在一实施例中,在所述第一开口至所述第三部分的方向上,所述第二部分的宽度大于所述第一部分的宽度。
在一实施例中,所述第三部分的平均厚度为100毫米~250毫米,所述第二部分的平均厚度为所述第三部分的平均厚度的二分之一。
本发明的实施例还提供了一种显示面板,所述显示面板包括由上述任一种的光罩制作而成的膜层。
本发明实施例通过设置连通所述第一开口的第一空间和位于第一空间上的第二空间,围绕所述第一空间的第一壁与围绕所述第二空间的第二壁具有接触部,所述第二壁在所述接触部处与水平面的第二夹角小于所述第一壁在所述接触部处与所述水平面的第一夹角,相对于现有技术中围绕空间的壁面在正视视角下呈圆弧形,即壁面的相邻的两段在其连接点处与水平面的夹角相等,本发明实施例的第二空间大于现有技术中按照相等的夹角继续延伸的圆弧壁面所围成的空间,有效增加了光罩开口边缘区域镀膜材料的容纳空间,镀膜材料在沉积过程中可以更快速达到目标膜厚,减小了未达标膜层区域的面积,改善了镀膜的工作性能。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是现有技术的现有光罩结构;
图2是本发明实施例提供的光罩的俯视示意图;
图3是本发明实施例提供的光罩的第一种结构的局部结构示意图;
图4是本发明实施例提供的光罩的第二种结构的局部结构示意图;
图5是本发明实施例提供的光罩的第三种结构的局部结构示意图;
图6是本发明实施例提供的光罩的第四种结构的局部结构示意图;
图7是本发明实施例提供的光罩的第五种结构的局部结构示意图;
图8是本发明实施例提供的光罩的第六种结构的局部结构示意图;
图9是本发明实施例提供的光罩的第七种结构的局部结构示意图;
图10是本发明实施例提供的光罩的第八种结构的局部结构示意图;
图11是本发明实施例提供的显示面板的制作方法的步骤流程图;
图12是本发明实施例提供的显示面板制作方法的流程示意图;
图13是本发明实施例提供的显示面板的结构示意图。
附图标记说明:
Figure BDA0002970762420000031
Figure BDA0002970762420000041
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。此外,应当理解的是,此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明,并不用于限制本发明。在本发明中,在未作相反说明的情况下,使用的方位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下,具体为附图中的图面方向;而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。
在不需要镀膜的区域,会设置光罩,在镀膜过程中,在光罩开口边缘与镀膜基板之间会沉积产生未达标膜层区域(指膜厚未达到目标镀膜膜厚一定百分比的区域),当显示面板边缘区域的未达标膜层区域面积过大时,会影响镀膜的工作性能,目前,请参阅图1,现有光罩90包括连通开口91的空间92,现有光罩90围绕所述空间92的壁面在正视视角下呈圆弧形,即壁面的相邻的两段在其连接点处与水平面的夹角相等,导致形成的空间92较小,无法承载更多镀膜材料,限制了镀膜材料沉积速度,无法减小未达标膜层区域。
本发明实施例提供一种光罩、显示面板。以下分别进行详细说明。需说明的是,以下实施例的描述顺序不作为对实施例优选顺序的限定。
请参阅图2~图10,本发明的实施例公开了一种光罩100,包括第一开口200以及围绕所述第一开口200的掩膜条300;
所述掩膜条300包括靠近所述第一开口200的第一部分A和远离所述第一开口200的第二部分B;
其中,所述第二部分B的所述平均厚度大于所述第一部分A的平均厚度,所述第一部分A和所述第二部分B和所述第三部分C围成连通所述第一开口200的总空间500,所述总空间500包括第一空间510和位于所述第一空间510上并连通所述第一空间510的第二空间520,所述第一部分A包括围绕所述第一空间510的第一壁610,所述第二部分B包括围绕所述第二空间520的第二壁620,所述第一壁610与所述第二壁620具有接触部601,所述第二壁620在所述接触部601处与水平面的夹角θ2小于所述第一壁610在所述接触部601处与所述水平面的夹角θ1
本发明实施例通过在现有光罩远离现有开口的一侧增加第二空间,增加了光罩开口边缘区域镀膜材料的容纳空间,镀膜材料在沉积过程中可以更快速达到目标膜厚,减小了未达标膜层区域的面积,改善了镀膜的工作性能。
现结合具体实施例对本发明的技术方案进行描述。
请参阅图2~图10,所述光罩100包括第一开口200以及围绕所述第一开口200的掩膜条300。所述掩膜条300包括靠近所述第一开口200的第一部分A和远离所述第一开口200的第二部分B。
其中,图1、图3~图10为图2在VV’方向的正视结构示意图。
本实施例中,具体请参阅图3,所述第二部分B的所述平均厚度大于所述第一部分A的平均厚度,所述第一部分A和所述第二部分B和围成连通所述第一开口200的总空间500,所述总空间500包括第一空间510和位于所述第一空间510上并连通所述第一空间510的第二空间520,所述第一部分A包括围绕所述第一空间510的第一壁610,所述第二部分B包括围绕所述第二空间520的第二壁620,在正视视角下,所述第一壁610与所述第二壁620的接触面为接触部601,所述第二壁620在所述接触部601处与水平面的夹角θ2小于所述第一壁610在所述接触部601处与所述水平面的夹角θ1。可以理解,图4~图10中没有标明所述接触部601、θ1、θ2
本实施例中,所述掩膜条300包括连接于所述第二部分B的远离所述第一部分A的一侧的第三部分C,所述第三部分C包括围绕所述第一空间510的第三壁630,具体请参阅图4,所述第二壁620在所述接触部处601与所述水平面的所述夹角θ2与所述第一壁610在所述接触部601处与所述水平面的夹角θ1均为锐角,具体请参阅图3。
本实施例中,所述第三部分C的平均厚度大于所述第二部分B的平均厚度,
具体请参阅图1、图3、图4,将现有光罩90设计中较厚的第二部b,增设呈现一段具有厚度变化的区域,构成本实施例的所述第二部分B、所述第三部分C,所述第一部分A对应空间为第一空间510,现有技术中的现有空间为92,可以有效增加光罩100开口边缘区域镀膜材料的容纳空间,镀膜材料在沉积过程中可以更快速达到目标膜厚,减小了未达标膜层区域的面积,改善了镀膜的工作性,其中,本实施例中的光罩100的最大厚度可以与现有光罩90的最大厚度相同,相比于现有技术中直接将现有光罩90中的整体减薄的设计,本实施例的耐久度更好,使用寿命更长,从而第一部分A即可变得更薄,进一步方便与待镀膜基板贴合,可以进一步减少镀膜材料从光罩100与待镀膜基板之间的贴合缝隙进入。
请参阅图1,现有光罩90包括至少一现有开口91,靠近所述现有开口91的部分为第一部a,可以看出第一部a的膜层较厚,不利于现有光罩90与待镀膜基板贴合。
本实施例中,所述第一部分A、所述第二部分B以及所述第三部分C围绕所述第一开口200呈环形设置,具体请参阅图2,所述第一部分A、所述第二部分B以及所述第三部分C既可以是可拆卸的分块设置,方便更换不同的部分,也可以是一体设置,方便整体制作。
本实施例中,所述光罩100可以包括多个阵列式排布的第一开口200。
本实施例中,所述第一壁610为凹向所述掩膜条300的弧面,所述第二壁620为平面,所述第三壁630为平面,具体请参阅图4、图5。
本实施例中,在所述第三部分C至所述第一开口200的方向上,所述第二部分B的厚度相同,具体请参阅图4。
本实施例中,所述第三部分C至所述第一开口200的方向上,所述第二部分B的厚度变小,具体请参阅图5,可以提高镀膜材料的下降沉积速率。
本实施例中,在所述第一开口200至所述第三部分C的方向上,所述第二部分B的宽度大于所述第一部分A的宽度,具体请参阅图3~图10。所述第一部分A设置成较薄的部分,主要用于更好地与待镀膜基板贴合,以减少镀膜材料从光罩100与待镀膜基板之间的贴合缝隙进入,所以所述第一部分A不需要很长的宽度,而所述第二部分B用于承载的镀膜材料,所以将所述第二部分B设置成较长的宽度,可以承载更多的镀膜材料,镀膜材料在沉积过程中可以更快速达到目标膜厚。
本实施例中,所述第一壁610为凹向所述掩膜条300的弧面,所述第二壁620为凹向所述掩膜条300的弧面,所述第三壁630为平面,具体请参阅图6。将所述第二部分B的所述第二壁620设置为凹向所述掩膜条300的弧面,可以进一步承载更多的镀膜材料,镀膜材料在沉积过程中可以更快速达到目标膜厚。
本实施例中,所述第三部分C的平均厚度为100毫米~250毫米,所述第二部分B的平均厚度为所述第三部分C的平均厚度的二分之一。所述第三部分C的厚度可以设计较厚的厚度,用于增加所述光罩100的耐久度,延长所述光罩100的使用寿命,所述第二部分B的厚度为所述第三部分C的厚度的二分之一,既可以承载更多的镀膜材料,镀膜材料在沉积过程中可以更快速达到目标膜厚,又可以兼顾所述第二部分B的厚度,增加所述第二部分B的耐久度,延长所述第二部分B的使用寿命。
本实施例中,所述第一开口200位于所述光罩100边缘一侧,具体请参阅图2。目前从小尺寸的移动电话显示屏,到大尺寸高分辨率的平板电视,逐步采用OLED(OrganicLight-Emitting Diode,有机发光半导体)显示面板,由于水氧会导致OLED失效,因此OLED器件完成后需要进行封装,目前柔性OLED主流的封装方式为无机膜+有机膜+无机膜结构,其中的无机膜一般由CVD(Chemical Vapor Deposition,化学气相沉积)设备进行化学气相沉积,成膜气体从上电极由上往下经电场解离成等离子混合气体后,在基板上形成薄膜,镀膜的方式形成且为主要的水氧阻隔膜层,一般CVD的镀膜边界设定为显示面板的狭缝区域以内,因此就需要CVD光罩100进行遮挡不需要镀膜的区域。将所述第一开口200设置于靠近所述光罩100外围一侧,可以更好地对应显示面板的狭缝区域,在制作窄边框产品时,从产品的发光区到狭缝区域的长度会被压缩,对镀膜边缘的膜厚有着更严格的要求,将所述第一开口200设置于靠近所述光罩100外围一侧,可以减小CVD的未达标膜层区域的面积,有效保证边缘封装效果。
本实施例中,所述光罩100还包括连接于所述第二部分B与所述第三部分C之间的第四部分D,所述第四部分的平均厚度大于所述第二部分的平均厚度,所述第四部分的所述平均厚度小于所述第三部分的平均厚度,具体请参阅图7、图8,增加所述第四部分D以作为缓冲区,避免镀膜材料堆积在所述第三部分与第二部分之间。
本实施例中,所述第四部分D的遮挡表面为平面,或者所述第四部分D的遮挡表面为凹向所述掩膜条300的弧面,具体请参阅图7、图8。所述第四部分D的遮挡表面可以理解为朝向所述第一开口200的表面,所述第四部分D连接所述第二部分B与所述第三部分C,所述第四部分D降低了所述第三部分C的高度,配合所述第二部分B可以承载镀膜材料,所述第四部分D的遮挡表面为凹向所述掩膜条300的弧面,可以进一步提高镀膜材料的承载量,镀膜材料在沉积过程中可以更快速达到目标膜厚。
本实施例中,所述第四部分D的遮挡表面为凸向所述第一开口200弧面。所述第四部分D的遮挡表面为凸向所述第一开口200弧面,虽然牺牲了一定镀膜材料的承载量,但是可以增加镀膜材料流向所述第一开口200的趋势动力,减少可能在所述第四部分D上镀膜材料的滞留量,使镀膜材料可以更顺滑地沉积下降至所述第一开口200,有利于加快形成镀膜,有效保证边缘封装效果。
本实施例中,所述第四部分D为多段式下降阶梯,在所述第一开口200至所述第三部分C的方向上,所述第四部分D的宽度小于所述第一部分A的宽度。由于所述第二部分B与所述第三部分C的落差较大,在所述第四部分D的遮挡表面为凹面时,容易使镀膜材料滞留,多段式下降阶梯可以缓解镀膜材料滞留问题。
本实施例中,所述第二部分B为多段式下降阶梯。多段式下降阶梯可以缓解镀膜材料滞留问题。
本实施例中,所述光罩100还包括由所述第一部分A向所述第一开口200延伸的第五部分E。在所述第一部分A至所述第一开口200的方向上,所述第五部分E的厚度减小,所述第五部分E的遮挡表面为凸向所述第一开口200的弧面,具体请参阅图9。将所述第一部分A靠近所述第一开口200的侧面做弧形圆角设置,所述第五部分E对进入到所述第一开口200的镀膜材料起到阻挡作用,可以进一步减少镀膜材料从光罩100与待镀膜基板之间的贴合缝隙进入,从而减小了未达标膜层区域的面积,改善了镀膜的工作性能。
本实施例中,所述第五部分E与待贴合基板之间的靠近所述第一开口200一侧的接触位置的接触角度避免过于尖锐,避免影响镀膜效果。
本实施例中,所述第五部分E的厚度小于所述第一部分A的厚度。本实施例的结构既可以方便镀膜材料流进所述第一开口200,又可以减少所述第一开口200内的镀膜材料从光罩100与待镀膜基板之间的贴合缝隙进入。
本实施例中,所述光罩100还包括位于远离遮挡一侧的粘结层400,所述粘结层400在所述光罩100上的正投影位于所述第一部分A内和/或所述粘结层400在所述光罩100上的正投影位于所述第五部分E内,具体请参阅图10,所述粘结层400设置在靠近所述第一开口200的方向,加强光罩100与待镀膜基板之间的贴合,减少光罩100与待镀膜基板之间的贴合缝隙,减少镀膜材料从光罩100与待镀膜基板之间的贴合缝隙进入,从而减小未达标膜层区域的面积,改善镀膜的工作性能。
本发明实施例通过在现有光罩远离现有开口的一侧增加第二空间,增加了光罩开口边缘区域镀膜材料的容纳空间,镀膜材料在沉积过程中可以更快速达到目标膜厚,减小了未达标膜层区域的面积,改善了镀膜的工作性能。
请参阅图11,本发明的实施例还公开了一种显示面板的制作方法,包括:
S100、将上述任一种光罩100移动至显示面板主体20上。
S200、在所述光罩100的所述第一开口200对应的所述显示面板主体20上形成镀膜。
本发明实施例通过在现有光罩远离现有开口的一侧增加第二空间,增加了光罩开口边缘区域镀膜材料的容纳空间,镀膜材料在沉积过程中可以更快速达到目标膜厚,减小了未达标膜层区域的面积,改善了镀膜的工作性能。
现结合具体实施例对本发明的技术方案进行描述。
请参阅图11~图13,所述显示面板的制作方法包括:
S100、将上述任一种光罩100移动至显示面板主体20上。
本实施例中,在所述光罩100的具体结构请参阅上述任一光罩100的实施例以及图2~图10,在此不再赘述。
本实施例中,在步骤S100之前,所述显示面板的制作方法还包括:
S101、在所述显示面板主体20上形成坝体层30。
本实施例中,所述坝体层30位于所述显示面板主体20的边缘,具体请参阅图12。
本实施例中,所述坝体层30包括第一坝体层31以及第二坝体层32,所述第一坝体层31靠近所述显示面板主体20的边缘,所述第一坝体层31的厚度大于所述第二坝体层32的厚度,具体请参阅图12。
S102、在所述显示面板主体20上形成狭缝缺口40。
本实施例中,所述狭缝缺口40位于狭缝区域内,所述狭缝缺口40用于界定后续制程的镀膜边界,具体请参阅图12。
本实施例中,所述狭缝缺口40位于所述显示面板主体20的边缘与所述坝体层30之间。
本实施例中,所述狭缝缺口40还位于所述第一坝体层31与所述第二坝体层32之间,有利于镀膜边界的形成。
S200、在所述光罩100的所述第一开口200对应的所述显示面板主体20上形成镀膜。
本发明实施例通过在现有光罩的第一部远离现有开口的一侧增加第二空间,有效增加了光罩开口边缘区域镀膜材料的容纳空间,镀膜材料在沉积过程中可以更快速达到目标膜厚,减小了未达标膜层区域的面积,改善了镀膜的工作性能。
请参阅图13,本发明的实施例还公开了一种显示面板10,所述显示面板10包括由上述任一光罩制作而成的膜层。
本发明实施例通过在现有光罩的第一部远离现有开口的一侧增加第二空间,有效增加了光罩开口边缘区域镀膜材料的容纳空间,镀膜材料在沉积过程中可以更快速达到目标膜厚,减小了未达标膜层区域的面积,改善了镀膜的工作性能。
现结合具体实施例对本发明的技术方案进行描述。
请参阅图13,所述显示面板10包括显示面板主体20以及位于所述显示面板主体20上的镀膜。其中镀膜没有展示出。
本实施例中,所述显示面板主体20包括衬底、阵列基板、发光器件层。
本实施例中,所述显示面板10还包括位于所述显示面板主体20上的坝体层30,具体请参阅图13。
本实施例中,所述坝体层30位于所述显示面板主体20的边缘,具体请参阅图13。
本实施例中,所述坝体层30包括第一坝体层31以及第二坝体层32,所述第一坝体层31靠近所述显示面板主体20的边缘,所述第一坝体层31的厚度大于所述第二坝体层32的厚度,具体请参阅图13。
本实施例中,所述显示面板10还包括位于所述显示面板主体20上的狭缝缺口40,具体请参阅图13。
本实施例中,所述狭缝缺口40位于狭缝区域内,所述狭缝缺口40用于界定后续制程的镀膜边界。
本实施例中,所述狭缝缺口40位于所述显示面板主体20的边缘与所述坝体层30之间,具体请参阅图13。
本实施例中,所述狭缝缺口40还位于所述第一坝体层31与所述第二坝体层32之间,有利于镀膜边界的形成。
本发明实施例通过在现有光罩远离现有开口的一侧增加第二空间,增加了光罩开口边缘区域镀膜材料的容纳空间,镀膜材料在沉积过程中可以更快速达到目标膜厚,减小了未达标膜层区域的面积,改善了镀膜的工作性能。
本发明实施例公开了一种光罩、显示面板。光罩包括第一开口以及围绕第一开口的掩膜条;掩膜条包括第一部分和的第二部分;其中,第二部分的平均厚度大于第一部分的平均厚度,第一部分和第二部分围成连通第一开口的总空间,总空间包括第一空间和第二空间,第一部分包括围绕第一空间的第一壁,第二部分包括围绕第二空间的第二壁,第一壁与第二壁具有接触部,第二壁在接触部处与水平面的夹角小于第一壁在接触部处与水平面的夹角。本发明实施例通过在现有光罩远离现有开口的一侧增加第二空间,增加了光罩开口边缘区域镀膜材料的容纳空间,镀膜材料在沉积过程中可以更快速达到目标膜厚,减小了未达标膜层区域的面积,改善了镀膜的工作性能。
以上对本发明实施例所提供的一种光罩、显示面板进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想;同时,对于本领域的技术人员,依据本发明的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处,综上所述,本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims (10)

1.一种光罩,其特征在于,包括第一开口以及围绕所述第一开口的掩膜条;
所述掩膜条包括靠近所述第一开口的第一部分和远离所述第一开口的第二部分;
其中,所述第二部分的所述平均厚度大于所述第一部分的平均厚度,所述第一部分和所述第二部分围成连通所述第一开口的总空间,所述总空间包括第一空间和位于所述第一空间上并连通所述第一空间的第二空间,所述第一部分包括围绕所述第一空间的第一壁,所述第二部分包括围绕所述第二空间的第二壁,所述第一壁与所述第二壁具有接触部,所述第二壁在所述接触部处与水平面的夹角小于所述第一壁在所述接触部处与所述水平面的夹角。
2.根据权利要求1所述的光罩,其特征在于,所述掩膜条包括连接于所述第二部分的远离所述第一部分的一侧的第三部分,所述第三部分的平均厚度大于所述第二部分的平均厚度,所述第三部分包括围绕所述第一空间的第三壁,所述第二壁在所述接触部处与所述水平面的所述夹角以及所述第一壁在所述接触部处与所述水平面的所述夹角均为锐角。
3.根据权利要求2所述的光罩,其特征在于,所述第一壁为凹向所述掩膜条的弧面,所述第二壁为平面,所述第三壁为平面。
4.根据权利要求3所述的光罩,其特征在于,在所述第三部分至所述第一开口的方向上,所述第二部分的厚度变小。
5.根据权利要求2所述的光罩,其特征在于,所述第一壁为凹向所述掩膜条的弧面,所述第二壁为凹向所述掩膜条的弧面,所述第三壁为平面。
6.根据权利要求2所述的光罩,其特征在于,所述光罩还包括连接于所述第二部分与所述第三部分的第四部分,所述第四部分的平均厚度大于所述第二部分的平均厚度,所述第四部分的所述平均厚度小于所述第三部分的平均厚度。
7.根据权利要求6所述的光罩,其特征在于,所述第四部分的遮挡表面为平面,或者所述第四部分的遮挡表面为凹向所述掩膜条的弧面。
8.根据权利要求2所述的光罩,其特征在于,在所述第一开口至所述第三部分的方向上,所述第二部分的宽度大于所述第一部分的宽度。
9.根据权利要求2所述的光罩,其特征在于,所述第三部分的平均厚度为100毫米~250毫米,所述第二部分的平均厚度为所述第三部分的平均厚度的二分之一。
10.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括由权利要求1~9中任一项所述的光罩制作而成的膜层。
CN202110262879.7A 2021-03-11 2021-03-11 光罩、显示面板 Pending CN112859507A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110262879.7A CN112859507A (zh) 2021-03-11 2021-03-11 光罩、显示面板

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110262879.7A CN112859507A (zh) 2021-03-11 2021-03-11 光罩、显示面板

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN112859507A true CN112859507A (zh) 2021-05-28

Family

ID=75993994

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202110262879.7A Pending CN112859507A (zh) 2021-03-11 2021-03-11 光罩、显示面板

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN112859507A (zh)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016014190A (ja) * 2013-11-14 2016-01-28 大日本印刷株式会社 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、及び有機半導体素子の製造方法
CN105568217A (zh) * 2016-01-06 2016-05-11 京东方科技集团股份有限公司 金属掩模板及其制作方法
JP2016148113A (ja) * 2015-02-10 2016-08-18 大日本印刷株式会社 蒸着マスクの製造方法および蒸着マスク
US20170275749A1 (en) * 2014-10-06 2017-09-28 Japan Display Inc. Vapor deposition mask and organic el display device
JP2019099862A (ja) * 2017-11-30 2019-06-24 大日本印刷株式会社 蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法
CN110724906A (zh) * 2019-11-21 2020-01-24 云谷(固安)科技有限公司 掩膜板及其制作方法
CN111893432A (zh) * 2020-08-11 2020-11-06 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板及其制作方法、显示基板及其制作方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016014190A (ja) * 2013-11-14 2016-01-28 大日本印刷株式会社 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、及び有機半導体素子の製造方法
US20170275749A1 (en) * 2014-10-06 2017-09-28 Japan Display Inc. Vapor deposition mask and organic el display device
JP2016148113A (ja) * 2015-02-10 2016-08-18 大日本印刷株式会社 蒸着マスクの製造方法および蒸着マスク
CN105568217A (zh) * 2016-01-06 2016-05-11 京东方科技集团股份有限公司 金属掩模板及其制作方法
JP2019099862A (ja) * 2017-11-30 2019-06-24 大日本印刷株式会社 蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法
CN110724906A (zh) * 2019-11-21 2020-01-24 云谷(固安)科技有限公司 掩膜板及其制作方法
CN111893432A (zh) * 2020-08-11 2020-11-06 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板及其制作方法、显示基板及其制作方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11805667B2 (en) Encapsulation structure, electronic apparatus and encapsulation method
US11248290B2 (en) Mask, film forming method using the same, and film forming apparatus
US10141541B1 (en) Package component of an OLED device and a package method thereof, and a display device
US20190305252A1 (en) Method for manufacturing oled display screen and oled display screen
JP7286541B2 (ja) 薄膜封止方法、薄膜封止構造、表示装置
CN111477108B (zh) 显示面板及其制备方法、显示装置
US20210028388A1 (en) Oled display panel
CN109920816B (zh) 显示基板及其制作方法、显示装置
JP2022550490A (ja) 表示基板及び表示装置
CN111106150A (zh) Oled显示装置
US20190081241A1 (en) Mask for thin film deposition, and fabrication method thereof
US11322719B2 (en) Organic light emitting diode comprising inverted triangular groove structure at boundary line between display region and non-display region and method of fabricating thereof
US20170278897A1 (en) Package substrate and manufacturing method thereof, and oled display device and manufacturing method thereof
CN114730225B (zh) 触控面板、触控显示面板和电子装置
JP2022538329A (ja) 表示パネル
US9982339B2 (en) Film-forming mask, film-forming device, and film-forming method
WO2020252944A1 (zh) 发光面板及显示装置
JP2021535534A (ja) 封止構造、封止方法及び表示装置
CN112859507A (zh) 光罩、显示面板
CN106848103B (zh) 一种oled基板及其制作方法、显示装置
US20210159447A1 (en) Organic light emitting component, fabrication method thereof, and display device
CN106206426B (zh) 阵列基板及其制造方法、显示装置
CN108493357B (zh) 一种柔性封装结构和封装方法
US8455915B2 (en) Light emitting device
CN112018131A (zh) 柔性显示面板及其制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination