CN112018131A - 柔性显示面板及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种柔性显示面板及其制备方法，该柔性显示面板包括：衬底基板；电路驱动层，设置在所述衬底基板上，所述电路驱动层包括像素定义层，所述像素定义层定义出多个相互间隔的像素单元；发光器件层，设置在所述电路驱动层的所述像素定义层上；封装层，设置在所述发光器件层上并阻隔各所述像素单元；及有机填充层，覆盖在所述封装层上并间隔各所述像素单元，其中部份所述衬底基板选择性的暴露于所述有机填充层。本发明通过在该柔性显示面板上开设凹槽，减少面板边缘弯曲区内的膜层，并以刚性小、弹性大的有机材料填充所述凹槽形成有机填充层，达到增加弯曲区弯曲性能的目的，缓解弯曲应力，减少裂纹出现，提高了产品质量和使用寿命。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种应用于曲面显示屏的柔性显示面板及其制备方法。
背景技术
有机发光二极管(Organic light emitting diode，OLED)器件具有结构简单、响应速度快、主动发光、低功耗等优点，在手机、平板、电视等显示领域已经有了广泛的应用。曲面显示屏(Curve Diaplay)是指面板带有弧度的显示器设备，是目前手机行业的主流方向，该种显示屏微微弯曲的边缘能够贴近用户，并实现与屏幕中央位置相同的观赏角度，可以扩展用户的视野，让其体验到更好的观影效果。
然而，曲面屏的边缘会进行弯曲，高强度、长时间的弯曲应力会导致弯曲区域内的无机层出现层内裂纹或是层间剥离等现象，严重影响显示屏使用寿命。
综上所述，该种曲面显示屏的工艺难点在于如何克服边缘弯曲过程中产生的应力集中，解决弯曲导致的膜层破损现象，延长面板使用寿命。
发明内容
本发明实施例提供一种柔性显示面板及其制备方法，用于解决现有技术中的曲面显示屏存在边缘弯曲应力过于集中，从而导致膜层破损，面板使用寿命下降的技术问题。
为解决上述问题，第一方面，本发明提供一种柔性显示面板，其中，包括：
衬底基板；
电路驱动层，设置在所述衬底基板上，所述电路驱动层包括像素定义层，所述像素定义层定义出多个相互间隔的像素单元；
发光器件层，设置在所述电路驱动层的所述像素定义层上；
封装层，设置在所述发光器件层上并阻隔各所述像素单元；及
有机填充层，覆盖在所述封装层上并间隔各所述像素单元，其中部份所述衬底基板选择性的暴露于所述有机填充层。
在本发明的一些实施例中所述衬底基板包括玻璃基板及柔性衬底，所述电路驱动层包括层叠设置的阻挡层、薄膜晶体管层及平坦化层，所述平坦化层设置在所述像素定义层与所述薄膜晶体管层之间，所述阻挡层设置在所述柔性衬底上。
在本发明的一些实施例中，当所述衬底基板与所述有机填充层之间设置有所述阻挡层时，在所述衬底基板邻接所述有机填充层的一侧表面设置有第一缓冲图案，且对应所述第一缓冲图案的所述阻挡层还设置有第二缓冲图案。
在本发明的一些实施例中，当所述衬底基板与所述有机填充层之间设置有所述封装层时，在所述衬底基板邻接所述有机填充层的一侧表面设置有第一缓冲图案，且对应所述第一缓冲图案的所述封装层还设置有第三缓冲图案。
在本发明的一些实施例中，所述第一缓冲图案、所述第二缓冲图案和所述第三缓冲图案为呈波浪状的缓冲结构。
在本发明的一些实施例中，所述有机填充层包括掺杂有可固化的液态吸湿剂或吸湿颗粒的有机材料。
第二方面，本发明提供一种柔性显示面板的制备方法，所述制备方法用于制备如第一方面中任一所述的柔性显示面板，包括以下步骤：
提供一衬底基板，在所述衬底基板上制备电路驱动层，所述电路驱动层包括像素定义层，所述像素定义层定义出多个相互间隔的像素单元；
对所述电路驱动层进行蚀刻处理，形成第一凹槽，选择性的暴露出所述衬底基板；
在所述电路驱动层的所述像素定义层上制备发光器件层；
在所述发光器件层上制备封装层，所述封装层阻隔各所述像素单元；
对各所述像素单元之间的膜层进行处理，在所述第一凹槽的基础上形成第二凹槽，选择性的暴露出所述衬底基板；
在所述第二凹槽内制备有机材料，固化后形成所述有机填充层。
在本发明的一些实施例中，所述电路驱动层包括阻挡层，制备所述电路驱动层之前包括通过纳米压印或光图案化工艺在所述衬底基板上制备第一缓冲图案；制备所述第一凹槽和所述第二凹槽时保留所述阻挡层。
在本发明的一些实施例中，制备所述电路驱动层之前包括通过纳米压印或光图案化工艺在所述衬底基板上制备第一缓冲图案；制备所述封装层时，部分所述封装层覆设于所述第一凹槽中所述衬底基板表面，制备所述第二凹槽时保留所述封装层。
在本发明的一些实施例中，制备所述第一凹槽或所述第二凹槽的工艺包括曝光显影、蚀刻或激光，制备所述有机填充层包括涂布法。
相较于现有的柔性显示面板及其制备方法，本发明通过在该柔性显示面板上开设凹槽，减少面板边缘弯曲区内的膜层，并以刚性小、弹性大的有机材料填充所述凹槽形成有机填充层，达到增加弯曲区弯曲性能的目的，缓解弯曲应力，减少裂纹出现，提高了产品质量和使用寿命。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明一个实施例中柔性显示面板的示意图；
图2为图1中I-I’方向上的剖面图；
图3为本发明另一个实施例中柔性显示面板的结构示意图；
图4为本发明又一个实施例中柔性显示面板的结构示意图；
图5为本发明一个实施例中制备方法的流程图；及
图6A～6D为本发明一个实施例中制备方法的分步示意图
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
现有技术中的柔性显示面板存在边缘弯曲应力过于集中，从而导致膜层破损，面板使用寿命下降的技术问题。
基于此，本发明实施例提供一种柔性显示面板及其制备方法。以下分别进行详细说明。
首先，本发明实施例提供一种柔性显示面板，如图1所示，图1为本发明一个实施例中柔性显示面板的示意图。所述柔性显示面板的边缘呈弯曲状，弯曲弧度可为锐角、直角、钝角等。所述柔性显示面板包括多个像素单元，所述凹槽位于相邻的所述像素单元之间。在本实施例中，所述柔性显示面板包括红色子像素单元601、绿色子像素单元602和蓝色子像素单元603，每个所述蓝色子像素单员像素单元603的面积大于一个红色子像素单元601或所述绿色子像素单元602。由于本发明实施例中所述发光区包括所述弯曲区，所述弯曲区内也包括多个像素单元，为了不影响所述像素单元正常发光，所述凹槽位于相邻的所述像素单元之间的空隙中，值得一提的是，本实施例中所针对的是所述柔性显示面板内无机膜层易于破损的问题，缓解的是纵向的弯曲应力。
如图2所示，图2为图1中沿I-I’方向上的剖面图。所述柔性显示面板包括：衬底基板100；
电路驱动层200，设置在所述衬底基板100上，所述电路驱动层200包括像素定义层204，所述像素定义层204定义出多个相互间隔的像素单元；
发光器件层300，设置在所述电路驱动层200的所述像素定义层204上；
封装层400，设置在所述发光器件层300上并阻隔各所述像素单元；及
有机填充层500，覆盖在所述封装层400上并间隔各所述像素单元，其中部份所述衬底基板100选择性的暴露于所述有机填充层500。
相较于现有的柔性显示面板，本发明实施例通过在该柔性显示面板上开设凹槽，减少面板边缘弯曲区内的膜层，并以刚性小、弹性大的有机材料填充所述凹槽形成有机填充层，达到增加弯曲区弯曲性能的目的，缓解弯曲应力，减少裂纹出现，提高了产品质量和使用寿命。
在本发明实施例中，所述柔性显示面板包括弯曲区，所述凹槽位于所述弯曲区。由于弯曲时，所述弯曲区应力最为集中，故所述凹槽设置于所述弯曲区以缓解应力，防止膜层破损。同时，为了不影响所述柔性显示面板内其它膜层的制备，所述有机填充层500与所述凹槽齐平，不超过所述凹槽。
所述衬底基板100包括层叠设置的玻璃基板101和柔性衬底102，所述电路驱动层200包括层叠设置的阻挡层201、薄膜晶体管层202、平坦化层203、像素定义层204和挡墙205，所述平坦化层203设置在所述像素定义层204与所述薄膜晶体管层202之间，所述阻挡层201设置在所述柔性衬底102上，所述挡墙205设置于所述像素定义层204的边缘处，防止所述像素定义层204内的墨水溢出所述像素定义层204的边缘，影响产品品质。
所述发光器件层300包括空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极和微腔调节层，所述封装层400包括无机封装层和有机封装层，具体的，所述无机封装层包括第一封装层401、第三封装层403，所述有机封装层包括第二封装层402，所述第二封装层402设置于所述第一封装层401与所述第三封装层403之间。
在上述实施例的基础上，在本实施例中，部分所述衬底基板100直接暴露于所述有机填充层500，所述有机填充层500与所述衬底基板100直接接触，在此实施例中，所述凹槽所在区域内无机膜层达到尽可能少，填充的刚性小、弹性大的有机材料尽可能多，弯曲性能达到本申请实施例中最好。
由于所述凹槽内缺失了一些无机膜层，此处隔绝水氧和保护作用的性能下降，为了弥补这一缺陷，对所述有机填充层500继续优化，所述有机填充层500包括掺杂有可固化的液态吸湿剂或吸湿颗粒的有机材料，进一步，所述有机材料中还掺杂有可固化的液态吸氧剂或吸氧颗粒。
经比较，所述有机填充层500虽然可以一定程度上可以取代无机膜层，但隔绝水氧和保护作用的性能相对所述无机膜层来说稍弱，故提出其它实施例以供在实际生产中按需选用。
如图3所示，图3为本发明另一个实施例中柔性显示面板的结构示意图。在本发明的另一个实施例中，当所述衬底基板100与所述有机填充层500之间设置有所述阻挡层201时，在所述衬底基板100邻接所述有机填充层500的一侧表面设置有第一缓冲图案，且对应所述第一缓冲图案的所述阻挡层201还设置有第二缓冲图案。即制备所述凹槽时，图2中保留了所述阻挡层201，由于所述阻挡层201为多层无机叠膜，相较于所述有机填充层500，所述阻挡层201虽然隔绝水氧和保护作用较强，但弯曲性能较差，易产生破损。故在所述柔性衬底102靠近所述有机填充层500的一侧表面采用纳米压印或是光图案化工艺制备有第一缓冲图案，设置于所述衬底基板100与所述有机填充层500之间的所述阻挡层201靠近所述衬底基板100的一侧表面也随之具有与所述第一缓冲图案相配合的第二缓冲图案。
如图4所示，图4为本发明又一个实施例中柔性显示面板的结构示意图。在本发明的又一个实施例中，当所述衬底基板100与所述有机填充层500之间设置有所述封装层400时，在所述衬底基板100邻接所述有机填充层500的一侧表面设置有第一缓冲图案，且对应所述第一缓冲图案的所述封装层400还设置有第三缓冲图案。即制备所述凹槽时，图3中保留所述封装层400，由于位于所述凹槽中的所述封装层400为无机封装层，相较于所述有机填充层500，所述阻挡层201虽然隔绝水氧和保护作用较强，但弯曲性能较差，易产生破损。故在所述柔性衬底102靠近所述有机填充层500的一侧表面采用纳米压印或是光图案化工艺制备有第一缓冲图案，设置于所述衬底基板100与所述有机填充层500之间的所述封装层400靠近所述衬底基板100的一侧表面也随之具有与所述第一缓冲图案相配合的第三缓冲图案。
优选的，所述第一缓冲图案、所述第二缓冲图案和所述第三缓冲图案为呈波浪状的缓冲结构。其中所述第二缓冲图案或所述第三缓冲图案需与所述第一缓冲图案相配合，进对比，波浪状的缓冲结构在所述柔性显示面板弯折时，所述缓冲结构能够缓冲释放膜层弯折时产生的应力，防止应力集中，防止所述阻挡层201和所述封装层400破损，提高所述柔性显示面板的弯曲性能。
为了更好地制得本发明实施例中的柔性显示面板，在所述柔性显示面板的基础之上，本发明实施例中还提供一种柔性显示面板的制备方法，所述制备方法用于制备如上述实施例中所述柔性显示面板。
如图5和6A～6D所示，图5为本发明一个实施例中制备方法的流程图，图6A～6D为本发明一个实施例中制备方法的分步示意图。所述柔性显示面板的制备方法，包括以下步骤：：
S1、提供一衬底基板100，在所述衬底基板上制备电路驱动层200，所述电路驱动层包括像素定义层204，所述像素定义层定义204出多个相互间隔的像素单元；
S2、对所述电路驱动层200进行蚀刻处理，形成第一凹槽，选择性的暴露出所述衬底基板100；
具体的，在步骤S2中还包括：对所述电路驱动层200先进行曝光显影，然后蚀刻处理。曝光显影和刻蚀处理仅针对所述像素单元外围，即相邻的所述像素单元之间的间隙，如图6A所示。
S3、在所述电路驱动层200的所述像素定义层上制备发光器件层300；
具体的，所述发光器件层300包括空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极或微腔调节层，制备所述发光器件层采用RGB印刷工艺，如图6B所示。
S4、在所述发光器件层300上制备封装层400，所述封装层400阻隔各所述像素单元；
具体的，所述封装层400包括无机封装层和有机封装层，所述无机封装层包括第一封装层401、第三封装层403，所述有机封装层包括第二封装层402，通过等离子体增强化学气相沉积法、原子层沉积、溅射沉积等工艺沉积所述第一封装层401和所述第三封装层403，所述无机封装层采用氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)、氮氧化硅(SiONx)、氧化铝(Al2O3)、氧化钛(TiO2)等用于增加阻水性能的无机功能材料；通过喷墨打印或等离子体增强化学气相沉积法制备所述第二封装层402，所述第二封装层402采用亚克力、六甲基二硅醚、聚丙烯酸酯类、聚碳酸脂类、聚苯乙烯等用于缓冲弯曲折叠时的应力，所述第二封装层402设置于所述第一封装层401与所述第三封装层403之间，如图6C所示。
S5、对各所述像素单元之间的膜层进行处理，在所述第一凹槽的基础上形成第二凹槽，选择性的暴露出所述衬底基板100；
具体的，在步骤S5中通过激光或蚀刻工艺对所述膜层进行处理，如图6D所示。
S6、在所述第二凹槽内制备有机材料，固化后形成所述有机填充层500。
具体的,如图2所示。制备所述有机填充层500包括涂布法，所述有机材料优选的为环氧树脂、丙烯酸树脂等。所述有机填充层500还可以对所述有机材料进行优化，如：一种是把可固化的液态吸湿剂或吸湿颗粒掺杂到具有弹性的有机材料里，另一种是对具有弹性的有机材料进行分子修饰，让其具有吸收水汽的基团，同时兼具弹性。
在实施例中，制备所述第一凹槽和所述第二凹槽时，均将该区域内的所述衬底基板100上方的膜层全部处理掉，以暴露出所述衬底基板100，从而最后制备所述有机填充层500时，所述有机填充层500与部分所述衬底基板100直接接触。
在另一个实施例中，所述电路驱动层200包括阻挡层201，制备所述电路驱动层200之前包括通过纳米压印或光图案化工艺在所述衬底基板100上制备第一缓冲图案；制备所述第一凹槽和所述第二凹槽时保留所述阻挡层201，则位于所述第一缓冲图案上方的所述阻挡层201也随之具有第二缓冲图案，最后制备完成所述有机填充层500后，所述衬底基板100与所述有机填充层500之间设置有所述阻挡层201。
在又一个实施例中，制备所述电路驱动层200之前包括通过纳米压印或光图案化工艺在所述衬底基板100上制备第一缓冲图案；制备所述封装层400时，部分所述封装层400覆设于所述第一凹槽中所述衬底基板100表面，制备所述第二凹槽时保留所述封装层400，则位于所述第一缓冲图案上方的所述封装层400也随之具有第三缓冲图案，最后制备完成所述有机填充层500后，所述衬底基板100与所述有机填充层500之间设置有所述封装层400。
优选的，所述第一缓冲图案、所述第二缓冲图案和所述第三缓冲图案为呈波浪状的缓冲结构。
在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见上文针对其他实施例的详细描述，此处不再赘述。具体实施时，以上各个单元或结构可以作为独立的实体来实现，也可以进行任意组合，作为同一或若干个实体来实现，以上各个单元、结构或操作的具体实施可参见前面的方法实施例，在此不再赘述。
以上对本发明实施例进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。
Claims (10)
1.一种柔性显示面板，其特征在于，包括：
衬底基板；
电路驱动层，设置在所述衬底基板上，所述电路驱动层包括像素定义层，所述像素定义层定义出多个相互间隔的像素单元；
发光器件层，设置在所述电路驱动层的所述像素定义层上；
封装层，设置在所述发光器件层上并阻隔各所述像素单元；及
有机填充层，覆盖在所述封装层上并间隔各所述像素单元，其中部份所述衬底基板选择性的暴露于所述有机填充层。
2.根据权利要求1所述的柔性显示面板，其特征在于，所述衬底基板包括玻璃基板及柔性衬底，所述电路驱动层包括层叠设置的阻挡层、薄膜晶体管层及平坦化层，所述平坦化层设置在所述像素定义层与所述薄膜晶体管层之间，所述阻挡层设置在所述柔性衬底上。
3.根据权利要求2所述的柔性显示面板，其特征在于，当所述衬底基板与所述有机填充层之间设置有所述阻挡层时，在所述衬底基板邻接所述有机填充层的一侧表面设置有第一缓冲图案，且对应所述第一缓冲图案的所述阻挡层还设置有第二缓冲图案。
4.根据权利要求2所述的柔性显示面板，其特征在于，当所述衬底基板与所述有机填充层之间设置有所述封装层时，在所述衬底基板邻接所述有机填充层的一侧表面设置有第一缓冲图案，且对应所述第一缓冲图案的所述封装层还设置有第三缓冲图案。
5.根据权利要求3或4任一项所述的柔性显示面板，其特征在于，所述第一缓冲图案、所述第二缓冲图案和所述第三缓冲图案为呈波浪状的缓冲结构。
6.根据权利要求1所述的柔性显示面板，其特征在于，所述有机填充层包括掺杂有可固化的液态吸湿剂或吸湿颗粒的有机材料。
7.一种柔性显示面板的制备方法，其特征在于，包括：
提供一衬底基板，在所述衬底基板上制备电路驱动层，所述电路驱动层包括像素定义层，所述像素定义层定义出多个相互间隔的像素单元；
对所述电路驱动层进行蚀刻处理，形成第一凹槽，选择性的暴露出所述衬底基板；
在所述电路驱动层的所述像素定义层上制备发光器件层；
在所述发光器件层上制备封装层，所述封装层阻隔各所述像素单元；
对各所述像素单元之间的膜层进行处理，在所述第一凹槽的基础上形成第二凹槽，选择性的暴露出所述衬底基板；
在所述第二凹槽内制备有机材料，固化后形成所述有机填充层。
8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述电路驱动层包括阻挡层，制备所述电路驱动层之前包括通过纳米压印或光图案化工艺在所述衬底基板上制备第一缓冲图案；制备所述第一凹槽和所述第二凹槽时保留所述阻挡层。
9.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，制备所述电路驱动层之前包括通过纳米压印或光图案化工艺在所述衬底基板上制备第一缓冲图案；制备所述封装层时，部分所述封装层覆设于所述第一凹槽中所述衬底基板表面，制备所述第二凹槽时保留所述封装层。
10.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，制备所述第一凹槽或所述第二凹槽的工艺包括曝光显影、蚀刻或激光，制备所述有机填充层包括涂布法。
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