CN113193024A - 显示面板及其制备方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本公开涉及显示技术领域，公开了一种显示面板及其制备方法、显示装置；该显示面板包括：衬底基板具有相对设置的第一面和第二面；第一像素限定层包括多个第一像素限定条，第一像素限定条沿第一方向设置在第一面，相邻两个第一像素限定条之间设置有间隔；第二像素限定层包括多个第二像素限定条，第二像素限定条沿第二方向设置在第一面，且跨越第一像素限定层，第一方向与第二方向相交，第二像素限定条具有第三面、第四面以及第五面，第三面为靠近衬底基板的一面，第四面为远离衬底基板的一面，第五面为连接于第三面与第四面之间的侧面，且第五面沿第二方向延伸，在第五面上设置有多个突出部。该显示面板能够提高发光层墨水利用率。

Description

显示面板及其制备方法、显示装置

技术领域

本公开涉及显示技术领域，具体而言，涉及一种显示面板及显示面板的制备方法、包括该显示面板的显示装置。

背景技术

有机电致发光器件(OrganicLight-Emitting Diode，OLED)相对于液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点，被认为是下一代显示技术。OLED的成膜方式主要有蒸镀制程和溶液制程。蒸镀制程在小尺寸显示面板中应用较为成熟，目前该技术已经应用于量产中。而溶液制程的OLED成膜方式主要有喷墨打印、喷嘴涂覆、旋涂、丝网印刷等，其中喷墨打印技术由于其材料利用率较高、可以实现大尺寸化，被认为是大尺寸OLED实现量产的重要方式。

但是，喷墨打印时，会存在画面不均匀的现象，这是因为：每个喷嘴喷出的体积不完全相同会导致像素内的suji mura(随机不均匀)，器件点亮后人眼即可以分辨出这种情况导致的像素间发光均匀性差异；另外，像素限定区的尺寸较小，液体流动性较差，很难形成膜厚均一的薄膜，影响显示面板的发光质量，而且浪费发光层墨水。

需要说明的是，在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

发明内容

本公开的目的在于克服上述现有技术的很浪费发光层墨水的不足，提供一种不浪费发光层墨水的显示面板及显示面板的制备方法、包括该显示面板的显示装置。

根据本公开的一个方面，提供了一种显示面板，包括：

衬底基板，具有相对设置的第一面和第二面；

第一像素限定层，包括多个第一像素限定条，所述第一像素限定条沿第一方向设置在所述第一面，相邻两个所述第一像素限定条之间设置有间隔；

第二像素限定层，包括多个第二像素限定条，所述第二像素限定条沿第二方向设置在所述第一面，且跨越所述第一像素限定层，所述第一方向与所述第二方向相交，所述第二像素限定条具有第三面、第四面以及第五面，所述第三面为靠近所述衬底基板的一面，所述第四面为远离所述衬底基板的一面，所述第五面为连接于所述第三面与所述第四面之间的侧面，且所述第五面沿第二方向延伸，在所述第五面上设置有多个突出部。

在本公开的一种示例性实施例中，所述突出部的与所述衬底基板平行的截面设置为矩形、梯形、半圆形、半椭圆形。

在本公开的一种示例性实施例中，所述显示面板还包括：

第三像素限定层，设于所述第二像素限定层的远离所述衬底基板的一侧，所述第三像素限定层包括多个第三像素限定条，所述第二像素限定条在所述衬底基板上的正投影以及所述突出部在所述衬底基板上的正投影均位于所述第三像素限定条在所述衬底基板上的正投影内。

在本公开的一种示例性实施例中，所述第三像素限定层的材质为疏水材质。

在本公开的一种示例性实施例中，所述第二像素限定条的厚度与所述第三像素限定条的厚度之和大于所述第一像素限定条的厚度。

在本公开的一种示例性实施例中，所述衬底基板与所述第三像素限定条之间设置有多个间隙，且所述间隙位于相邻两个所述突出部之间。

在本公开的一种示例性实施例中，所述第二像素限定条为导电材料，所述第二像素限定条包括两个第二像素子限定条，两个所述第二像素子限定条平行且间隔设置，部分所述第三像素限定条位于两个所述第二像素子限定条之间。

在本公开的一种示例性实施例中，所述第二像素限定条的厚度大于所述第一像素限定条的厚度。

在本公开的一种示例性实施例中，所述显示面板还包括：

第一电极层，设于所述衬底基板与所述第一像素限定层之间，所述第一电极层包括多个第一电极，相邻两个所述第一电极之间设置有间隙，所述间隙在所述衬底基板上的正投影位于所述第一像素限定条在所述衬底基板上的正投影内。

在本公开的一种示例性实施例中，所述显示面板还包括：

发光层，设于所述第一电极的远离所述衬底基板的一侧；其中，相邻的两个所述第二像素限定条之间设置有同一颜色的发光层，且所述发光层覆盖两个所述第二像素限定条之间的所述第一像素限定条。

在本公开的一种示例性实施例中，所述显示面板还包括：

第二电极层，设于所述发光层的远离所述衬底基板的一侧以及所述第二像素限定层的远离所述衬底基板的一侧。

根据本公开的另一个方面，提供了一种显示面板的制备方法，包括：

提供一衬底基板，所述衬底基板具有相对设置的第一面和第二面；

在所述衬底基板的第一面形成第一像素限定层，所述第一像素限定层包括多个第一像素限定条，所述第一像素限定条沿第一方向延伸，相邻两个所述第一像素限定条之间设置有间隔；

在所述衬底基板的第一面形成第二像素限定层和多个突出部；

其中，所述第二像素限定层包括多个第二像素限定条，所述第二像素限定条沿第二方向延伸，且跨越所述第一像素限定层，所述第一方向与所述第二方向相交，所述第二像素限定条具有第三面、第四面以及第五面，所述第三面为靠近所述衬底基板的一面，所述第四面为远离所述衬底基板的一面，所述第五面为连接于所述第三面与所述第四面之间的侧面，且所述第五面沿第二方向延伸，在所述第五面上设置所述多个突出部。

在本公开的一种示例性实施例中，所述制备方法还包括：

在所述第二像素限定层的远离所述衬底基板的一侧形成第三像素限定层，所述第三像素限定层包括多个第三像素限定条，所述第二像素限定条在所述衬底基板上的正投影以及所述突出部在所述衬底基板上的正投影均位于所述第三像素限定条在所述衬底基板上的正投影内。

在本公开的一种示例性实施例中，形成所述第二像素限定条和所述第三像素限定条包括：

在所述衬底基板的第一面形成多个金属条，所述金属条与所述第一像素限定条平行；

在所述金属条的远离所述衬底基板的一侧形成像素限定材料层，形成在所述金属条之间的所述像素限定材料层为第二像素限定材料层，形成在所述金属条的远离所述衬底基板的一侧的所述像素限定材料层为第三像素限定材料层；

对所述像素限定材料层进行图案化处理形成多个所述第二像素限定条、所述突出部和多个所述第三像素限定条；

对所述金属条进行过刻形成多个间隙，所述间隙位于所述衬底基板与所述第三像素限定条之间，且位于相邻两个所述突出部之间。

在本公开的一种示例性实施例中，所述在所述衬底基板的第一面形成第二像素限定层和多个突出部，包括：

在所述衬底基板的第一面形成第二像素限定材料层，所述第二像素限定材料层包括多个第二像素限定条，第二像素限定条包括两个第二像素子限定条，所述第二像素子限定条包括依次层叠设置的第一金属层、第二金属层以及第三金属层，对所述第二金属层的部分进行钻刻形成所述突出部和间隙，所述间隙位于相邻两个所述突出部之间。

根据本公开的再一个方面，提供了一种显示装置，包括：上述任意一项所述的显示面板。

本公开的显示面板，在衬底基板的第一面设置有多个第一像素限定条和多个第二像素限定条，多个第一像素限定条和多个第二像素限定条相交，且第二像素限定条跨越第一像素限定条，在第二像素限定条的侧面设置有突出部；突出部使后续打印的发光层墨水表面张力重新分布，可以对发光层墨水起到一个拉伸的作用，从而减少第一像素限定条上的发光层墨水，增加像素发光区域的发光层墨水，提高发光层墨水利用率。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。

附图说明

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本公开的实施例，并与说明书一起用于解释本公开的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本公开显示面板一示例实施方式的结构示意图。

图2为按照图1中的A-A剖切的剖视示意图。

图3为按照图1中的B-B剖切的剖视示意图。

图4为按照图1中的C-C剖切的剖视示意图。

图5为按照图1中的D-D剖切的剖视示意图。

图6为本公开显示面板的制备方法一示例实施方式的流程示意框图。

图7为形成第一像素限定层后的结构示意图。

图8为形成第二像素限定层后的结构示意图。

图9为形成金属条后的结构示意图。

图10为形成第三像素限定条后的结构示意图。

图11为本公开显示面板另一示例实施方式的剖视结构示意图。

附图标记说明：

1、衬底基板；

2、第一像素限定层；21、第一像素限定条；

3、第二像素限定层；31、第二像素限定条；32、突出部；33、第二像素子限定条；331、第一金属层；332、第二金属层；333、第三金属层；334、绝缘层；

4、第三像素限定层；41、第三像素限定条；

5、间隙；6、金属条。

具体实施方式

现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本公开将全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略它们的详细描述。此外，附图仅为本公开的示意性图解，并非一定是按比例绘制。

虽然本说明书中使用相对性的用语，例如“上”“下”来描述图标的一个组件对于另一组件的相对关系，但是这些术语用于本说明书中仅出于方便，例如根据附图中所述的示例的方向。能理解的是，如果将图标的装置翻转使其上下颠倒，则所叙述在“上”的组件将会成为在“下”的组件。当某结构在其它结构“上”时，有可能是指某结构一体形成于其它结构上，或指某结构“直接”设置在其它结构上，或指某结构通过另一结构“间接”设置在其它结构上。

用语“一个”、“一”、“该”、“所述”和“至少一个”用以表示存在一个或多个要素/组成部分/等；用语“包括”和“具有”用以表示开放式的包括在内的意思并且是指除了列出的要素/组成部分/等之外还可存在另外的要素/组成部分/等；用语“第一”、“第二”和“第三”等仅作为标记使用，不是对其对象的数量限制。

本公开实施方式提供了一种显示面板，如图1-图5以及图7和图8所示，该显示面板可以包括衬底基板1、第一像素限定层2以及第二像素限定层3；衬底基板1具有相对设置的第一面和第二面；第一像素限定层2包括多个第一像素限定条21，第一像素限定条21沿第一方向设置在第一面，相邻两个第一像素限定条21之间设置有间隔；第二像素限定层3包括多个第二像素限定条31，第二像素限定条31沿第二方向设置在第一面，且跨越第一像素限定层2，第一方向与第二方向相交，第二像素限定条31具有第三面、第四面以及第五面，第三面为靠近衬底基板1的一面，第四面为远离衬底基板1的一面，第五面为连接于第三面与第四面之间的侧面，且第五面沿第二方向延伸，在第五面上设置有多个突出部32。

本公开的显示面板，在第二像素限定条31的侧面设置有突出部32；突出部32使后续打印的发光层墨水表面张力重新分布，可以对发光层墨水起到一个拉伸的作用，从而减少第一像素限定条21上的发光层墨水，增加像素发光区域的发光层墨水，提高发光层墨水利用率。

在本示例实施方式中，衬底基板1可以为硬质绝缘材料也可以为柔性绝缘材料。衬底基板1的材质可以为无机绝缘层，可以为玻璃板、石英板、金属板等，例如，具体材质可以为氮化硅、氧化硅；还可以是有机绝缘层，例如，聚酰亚胺树脂、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、聚醚酰亚胺、聚醚砜、聚对苯二甲酸乙二醇酯和聚萘二甲酸乙二醇酯等树脂类材料。该衬底基板1还可以由多个材料层形成，例如衬底基板1可以包括基底，基底的材料可以由上述的材料构成。

衬底基板1具有相对设置的第一面和第二面。在第一面设置有缓冲层，在缓冲层的远离衬底基板1的一侧设置有阵列基板(图中未示出)，阵列基板可以包括多个阵列排布的薄膜晶体管，各个薄膜晶体管可以包括有源层、栅极、源极、漏级以及设置在各导电层之间的绝缘层。

在阵列基板的远离衬底基板1的一侧设置有第一电极层(图中未示出)。第一电极层可以为阳极层，第一电极层可以包括多个第一电极，多个第一电极可以呈阵列排布，相邻两个第一电极之间设置有间隙5，使多个第一电极间隔设置，第一电极电连接至薄膜晶体管的源极或漏级，通过薄膜晶体管控制第一电极的通断电。

参照图7所示，在阵列基板的远离衬底基板1的一侧设置有第一像素限定层2，第一像素限定层2可以包括多个第一像素限定条21，第一像素限定条21沿第一方向设置，即第一像素限定条21沿第一方向延伸。相邻两个第一电极之间的间隙5在衬底基板1上的正投影位于第一像素限定条21在衬底基板1上的正投影内，即第一像素限定条21的部分设置在间隙5内，且第一像素限定条21的两侧延伸至第一电极的远离衬底基板1的一侧。第一像素限定条21的厚度在0.6um以下。

第一像素限定层2的材料为无机材料，具体地，第一像素限定层2可以是氧化硅、氮化硅或氮氧化硅中任一种或多种的组合。无机材料的制程能够改善第一像素限定层2的厚度，提高减薄水平。第一像素限定层2厚度降低后，能够改善发光层的爬坡流动性，所以既大大缓解了像素间膜厚不均匀的现象，又缓解了第一方向像素限定层造成的像素内膜厚不均匀的现象，目前160ppi(Pixel per inch)分辨率的显示面板第一方向像素的均一性可以达到90％以上。

另外，第一像素限定层2采用有机材料时，其水平长度(taper distance)较长，对开口率影响较大。因此采用无机材料制作第一像素限定层2，在减薄第一像素限定层2厚度的同时，降低了第一像素限定层2的水平长度。另外，还可以改善发光层墨水的爬坡流动性。

参照图8所示，在阵列基板的远离衬底基板1的一侧还设置有第二像素限定层3，第二像素限定层3可以包括多个第二像素限定条31，第二像素限定条31沿第二方向设置，即第二像素限定条31沿第二方向延伸；且第二像素限定条31跨越第一像素限定层2，第一方向与第二方向相交。

其中，第二像素限定条31厚度大于第一像素限定条21的厚度。由于第一像素限定条21与第二像素限定条31重叠部分的厚度是第一像素限定条21与第二像素限定条31的厚度之和，高度较高，在打印的时候在第一像素限定条21上的发光层墨水会较多，从而造成不发光区域(第一像素限定条21)的发光层墨水较多而造成墨水浪费的问题。

需要说明的是，本示例实施方式中，提及的厚度均为垂直于衬底基板1方向上的尺寸，宽度和长度为平行于衬底基板1方向上的尺寸，具体地，第一像素限定条21长度为沿第一方向的尺寸，宽度为沿第二方向的尺寸；第二像素限定条31长度为沿第而方向的尺寸，宽度为沿第一方向的尺寸。

上述通过减低第一像素限定条21的厚度增加发光层在第一方向上(第一像素限定条21延伸方向)的成膜厚度均一性，但是在第二方向上(第二像素限定条31延伸方向)的成膜厚度均一性并没有得到改善。

需要说明的是，图1中的沿x轴延伸的方向为第一方向，沿y轴延伸的方向为第二方向。图1中以第一方向与第二方向相互垂直为示例，并非是对本申请提供的第一像素限定条21和第二像素限定条31排布方向的限制。

第二像素限定条31具有第三面、第四面以及第五面，第三面为靠近衬底基板1的一面，第四面为远离衬底基板1的一面，即第三面与第四面相对设置；第五面为连接于第三面与第四面之间的侧面，且第五面沿第二方向延伸，在第五面上设置有多个突出部32。

突出部32的与衬底基板1平行的截面设置为矩形、梯形、半圆形、半椭圆形。多个突出部32的截面形状可以相同，也可以不同；即多个突出部32的截面形状均可以是矩形、梯形、半圆形、半椭圆形中的一种，还可以是多个突出部32中其中部分是矩形、另一部分是梯形，还有部分是半圆形。

多个突出部32可以间隔设置，也可以连接设置。例如，在突出部32的截面形状为矩形的情况下，突出部32是间隔设置；在突出部32的截面形状为梯形、半圆形、半椭圆形的情况下，突出部32可以是连接设置，当然，这种情况下，突出部32也可以是间隔设置。

需要说明的是，上述的半圆形、半椭圆形并不是圆形或椭圆形的一半，也可以是多半或少半。

当然，上述只是举例说明了突出部32的截面的形状，但是在实际生产过程中突出部32的形状并不限于上述描述。只要设置有突出部32均属于本公开保护的范围。

突出部32的厚度可以与第二像素限定条31的厚度相同。

在本示例实施方式中，突出部32设置在第一像素限定条21之间的第二像素限定条31的侧面，即跨越在第一像素限定条21的远离衬底基板1一侧的第二像素限定条31的侧面没有设置突出部32。当然，在本公开的其他示例实施方式中，也可以在整个第二像素限定条31的侧面均设置突出部32。

突出部32使后续打印的发光层墨水表面张力重新分布，可以对发光层墨水起到一个拉伸的作用，从而减少第一像素限定条21上的发光层墨水，增加像素发光区域的发光层墨水，提高发光层墨水利用率。

第二像素限定层3以及突出部32可采用有机硅、有机氟、聚烯烃、聚碳酸酯、聚酰胺或聚丙烯腈。第二像素限定层3以及突出部32主要用于分隔不同颜色的发光材料，因此采用有机疏水材料，防止发光材料混色，避免影响显示效果。

第二像素限定层3以及突出部32还可以是导电材料。参照图11所示，在这种情况下，为了避免相邻两个像素之间导电，一个第二像素限定条可以包括两个第二像素子限定条33，第二像素子限定条33包括依次层叠设置的第一金属层331、第二金属层332、第三金属层333，两个第二像素子限定条33平行且间隔设置，部分第三像素限定条41位于两个第二像素子限定条33之间，对第二像素子限定条33进行绝缘。当然，第二像素子限定条33可以仅包括一层导电材料，还可以包括两层或更多层导电材料。

在第二像素限定层3的远离衬底基板1的一侧设置有第三像素限定层4，第三像素限定层4可以包括多个第三像素限定条41，第二像素限定条31在衬底基板1上的正投影以及突出部32在衬底基板1上的正投影均位于第三像素限定条41在衬底基板1上的正投影内，即第三像素限定条41的宽度等于第二像素限定条31的宽度与突出部32的最宽处的宽度之和，使得第三像素限定条41将第二像素限定条31和突出部32覆盖。即使第二像素限定条31处的膜层有不均一的现象也会被第三像素限定条41遮挡，以提高第二方向上(第二像素限定条31延伸方向)的成膜厚度均一性。

参照图3所示，在没有突出部32的部分，第二像素限定条31的宽度小于第三像素限定条41的宽度。参照图4所示，在有突出部32的部分，第二像素限定条31的宽度等于第三像素限定条41的宽度。

第三像素限定层4的材质为疏水材质，具体地，第三像素限定层4可采用有机硅、有机氟、聚烯烃、聚碳酸酯、聚酰胺或聚丙烯腈。第三像素限定层4和第二像素限定层3主要用于分隔不同颜色的发光层，因此采用有机疏水材料，防止发光层混色，避免影响显示效果。

参照图5所示，在衬底基板1与第三像素限定层4之间设置有多个间隙5，且间隙5位于相邻两个突出部32之间；即在相邻两个突出部32之间的第三像素限定层4是架空设置的，如此设置能够避免将第二像素限定层3上突出部32之间的空间填满，从而导致没有起到突出部32的作用；而且能够遮挡第二像素限定条31处的膜层不均一的现象。

在第一电极的远离衬底基板1的一侧设置有发光层。相邻的两个第二像素限定条31之间设置有同一颜色的发光层，且发光层覆盖两个第二像素限定条31之间的第一像素限定条21。

在发光层的远离衬底基板1的一侧以及第二像素限定层3的远离衬底基板1的一侧设置有第二电极层，第二电极层可以是阴极。

进一步的，本公开实施方式还提供了一种显示面板的制备方法，如图6所示的显示面板的制备方法的流程示意框图，显示面板的制备方法可以包括以下步骤：

步骤S10，提供一衬底基板1，所述衬底基板1具有相对设置的第一面和第二面。

步骤S20，在所述衬底基板1的第一面形成第一像素限定层2，所述第一像素限定层2包括多个第一像素限定条21，所述第一像素限定条21沿第一方向延伸，相邻两个所述第一像素限定条21之间设置有间隔。

步骤S30，在所述衬底基板1的第一面形成第二像素限定层3和多个突出部32；

其中，所述第二像素限定层3包括多个第二像素限定条31，所述第二像素限定条31沿第二方向延伸，且跨越所述第一像素限定层2，所述第一方向与所述第二方向相交，所述第二像素限定条31具有第三面、第四面以及第五面，所述第三面为靠近所述衬底基板1的一面，所述第四面为远离所述衬底基板1的一面，所述第五面为连接于所述第三面与所述第四面之间的侧面，且所述第五面沿第二方向延伸，在所述第五面上设置所述多个突出部32。

下面对显示面板的制备方法的各个步骤进行详细说明。

在衬底基板1的第一面形成阵列基板(图中未示出)，阵列基板的制备方法采用目前现有的制备方法，因此，此处不再赘述。

在阵列基板的远离衬底基板1的一侧通过溅射形成第一电极材料层，并对第一电极材料层进行图案化处理形成第一电极层(图中未示出)，第一电极层可以包括多个第一电极，第一电极的材质可以是ITO。

在第一电极层的远离衬底基板1的一面通过沉积的方法形成第一像素限定材料层，并对第一像素限定材料层进行图案化处理形成第一像素限定层2，形成如图7所示的结构。

在第一电极层的远离衬底基板1的一侧以及第一像素限定层2的远离衬底基板1的一侧通过沉积的方法形成第二像素限定材料层，并对第二像素限定材料层进行图案化处理形成第二像素限定层3，形成如图8所示的结构。

在不设置第三像素限定层4的情况下，按照常规方法对第二像素限定材料层进行刻蚀即可在第二像素限定条31上形成突出部32。

如果需要形成第三像素限定层4，第三像素限定条41与衬底基板1之间设置有多个间隙5，且间隙5位于相邻两个突出部32之间，那么可以通过下面的方法来实现。

具体地，可以在第一电极层的远离衬底基板1的一侧以及第一像素限定层2的远离衬底基板1的一侧通过溅射的方法形成金属层，并对金属层进行刻蚀形成与第一像素限定条21基本平行的多个金属条6，参照图9所示的结构。在金属条6的远离衬底基板的一侧形成像素限定材料层，像素限定材料层的材料会沉积在金属条6之间的间隔内形成第二像素限定材料层，形成在金属条的远离衬底基板的一侧的为第三像素限定材料层，并对像素限定材料层进行蚀刻形成与第一像素限定条21交叉的条状，即形成第二像素限定条31、突出部32和多个第三像素限定条41，且将相对的多个金属条6的端部覆盖中间部分裸露，参照图10所示的结构；然后再对剩余的金属条6进行过刻，去除剩余的金属条6，在原来有金属条6的部分会形成间隙5，原来金属条6上方的第三像素限定材料层形成第三像素限定条41。当然，也可以在形成金属条6之前，在第一电极层的远离衬底基板1的一侧以及第一像素限定层2的远离衬底基板1的一侧沉积形成一层像素限定材料层，并对像素限定材料层进行刻蚀形成与第一像素限定条21交叉的条状，该条状像素限定材料层可以作为第二像素限定条的一部分。

还可以，在第一电极层的远离衬底基板1的一侧以及第一像素限定层2的远离衬底基板1的一侧通过溅射的方法形成第二像素限定材料层，第二像素限定材料层形成为多个长条状的第二像素子限定条33，且两两为一组最终形成一个第二像素限定条31。参照图11所示，第二像素限定材料层可以包括依次层叠设置的第一金属层331、第二金属层332、第三金属层333，第一金属层331为钛，第二金属层332为铝，第三金属层333为钛。在第二像素限定材料层的远离衬底基板1的一侧涂布光刻胶，对光刻胶依次进行前烘和图案化曝光，使得在光刻胶上形成有凸出，该凸出与第二像素限定条31上的突出部32相对设置，然后对第二像素限定材料层进行钻刻，由于光刻胶的保护和对钛金属和铝金属刻蚀速率的不同，在有光刻胶的凸出保护的部分铝金属层和钛金属层均没有被刻蚀形成突出部32，在没有被凸出保护的部分的铝金属层被刻蚀的较深形成间隙5。最后，去除光刻胶。这种方法形成的第二像素限定条为三层金属(钛铝钛)；当然，上述金属材料的限定只是举例说明，并不构成限定，还可以是其他金属。

在第一电极层的远离衬底基板1的一侧以及第二像素限定层3的远离衬底基板1的一侧通过沉积的方法形成第三像素限定材料层，第三像素限定材料层的材料会有部分沉积在间隙5内形成绝缘层334，第三像素限定材料层的材料会有部分沉积在两个第二像素子限定条33之间，对两个第二像素子限定条33之间进行绝缘，并对第三像素限定材料层进行图案化处理形成第三像素限定层4，形成如图11所示的结构。

在本公开的另外一些示例实施方式中，还可以在第一电极层的远离衬底基板1的一侧以及第一像素限定层2的远离衬底基板1的一侧通过溅射的方法形成第二像素限定材料层，并对第二像素限定材料层进行蚀刻形成为多个与第一像素限定条21交叉的长条状。第二像素限定材料层为金属。然后在第一电极层的远离衬底基板1的一侧以及第二像素限定材料层的远离衬底基板1的一侧旋涂形成第三像素限定材料层，并对第三像素限定材料层进行刻蚀形成长条状。在第三像素限定材料层的远离衬底基板1的一侧以及第一电极层的远离衬底基板1的一侧涂布光刻胶，对光刻胶依次进行前烘和图案化曝光，使得在光刻胶上形成有凸出，该凸出与第二像素限定条31上的突出部32相对设置，然后对第二像素限定材料层进行钻刻，由于光刻胶的保护，在有光刻胶的凸出保护的部分金属没有被刻蚀形成突出部32，在没有被凸出保护的部分的金属层被刻蚀的较深形成间隙5。最后，去除光刻胶。这种方法形成的第二像素限定条为一层金属。

在第一电极的远离衬底基板1的一侧通过喷墨打印形成发光层，相邻的两个第二像素限定条31之间设置有同一颜色的发光层，且发光层覆盖两个第二像素限定条31之间的第一像素限定条21。

在发光层的远离衬底基板1的一侧以及第二像素限定层3的远离衬底基板1的一侧通过沉积、溅射或蒸镀等形成第二电极层。

需要说明的是，尽管在附图中以特定顺序描述了本公开中显示面板的制备方法的各个步骤，但是，这并非要求或者暗示必须按照该特定顺序来执行这些步骤，或是必须执行全部所示的步骤才能实现期望的结果。附加的或备选的，可以省略某些步骤，将多个步骤合并为一个步骤执行，以及/或者将一个步骤分解为多个步骤执行等。

进一步的，本公开实施方式还提供了一种显示装置，该显示装置可以包括上述任意一项所述的显示面板，显示面板的具体结构上述已经进行了详细说明，因此，此处不再赘述。

而该显示装置的具体类型不受特别的限制，本领域常用的显示装置类型均可，具体例如手机等移动装置、手表等可穿戴设备、VR装置等等，本领域技术人员可根据该显示设备的具体用途进行相应地选择，在此不再赘述。

需要说明的是，该显示装置除了显示面板以外，还包括其他必要的部件和组成，以显示器为例，具体例如外壳、电路板、电源线，等等，本领域技术人员可根据该显示装置的具体使用要求进行相应地补充，在此不再赘述。

与现有技术相比，本发明示例实施方式提供的显示装置的有益效果与上述示例实施方式提供的显示面板的有益效果相同，在此不做赘述。

本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后，将容易想到本公开的其它实施方案。本申请旨在涵盖本公开的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本公开的一般性原理并包括本公开未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本公开的真正范围和精神由所附的权利要求指出。

Claims (16)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

衬底基板，具有相对设置的第一面和第二面；

第一像素限定层，包括多个第一像素限定条，所述第一像素限定条沿第一方向设置在所述第一面，相邻两个所述第一像素限定条之间设置有间隔；

第二像素限定层，包括多个第二像素限定条，所述第二像素限定条沿第二方向设置在所述第一面，且跨越所述第一像素限定层，所述第一方向与所述第二方向相交，所述第二像素限定条具有第三面、第四面以及第五面，所述第三面为靠近所述衬底基板的一面，所述第四面为远离所述衬底基板的一面，所述第五面为连接于所述第三面与所述第四面之间的侧面，且所述第五面沿第二方向延伸，在所述第五面上设置有多个突出部。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述突出部的与所述衬底基板平行的截面设置为矩形、梯形、半圆形、半椭圆形。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：

第三像素限定层，设于所述第二像素限定层的远离所述衬底基板的一侧，所述第三像素限定层包括多个第三像素限定条，所述第二像素限定条在所述衬底基板上的正投影以及所述突出部在所述衬底基板上的正投影均位于所述第三像素限定条在所述衬底基板上的正投影内。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第三像素限定层的材质为疏水材质。

5.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第二像素限定条的厚度与所述第三像素限定条的厚度之和大于所述第一像素限定条的厚度。

6.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述衬底基板与所述第三像素限定条之间设置有多个间隙，且所述间隙位于相邻两个所述突出部之间。

7.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第二像素限定条为导电材料，所述第二像素限定条包括两个第二像素子限定条，两个所述第二像素子限定条平行且间隔设置，部分所述第三像素限定条位于两个所述第二像素子限定条之间。

8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二像素限定条的厚度大于所述第一像素限定条的厚度。

9.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：

第一电极层，设于所述衬底基板与所述第一像素限定层之间，所述第一电极层包括多个第一电极，相邻两个所述第一电极之间设置有间隙，所述间隙在所述衬底基板上的正投影位于所述第一像素限定条在所述衬底基板上的正投影内。

10.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：

发光层，设于所述第一电极的远离所述衬底基板的一侧；其中，相邻的两个所述第二像素限定条之间设置有同一颜色的发光层，且所述发光层覆盖两个所述第二像素限定条之间的所述第一像素限定条。

11.根据权利要求10所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：

第二电极层，设于所述发光层的远离所述衬底基板的一侧以及所述第二像素限定层的远离所述衬底基板的一侧。

12.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：

提供一衬底基板，所述衬底基板具有相对设置的第一面和第二面；

在所述衬底基板的第一面形成第一像素限定层，所述第一像素限定层包括多个第一像素限定条，所述第一像素限定条沿第一方向延伸，相邻两个所述第一像素限定条之间设置有间隔；

在所述衬底基板的第一面形成第二像素限定层和多个突出部；

其中，所述第二像素限定层包括多个第二像素限定条，所述第二像素限定条沿第二方向延伸，且跨越所述第一像素限定层，所述第一方向与所述第二方向相交，所述第二像素限定条具有第三面、第四面以及第五面，所述第三面为靠近所述衬底基板的一面，所述第四面为远离所述衬底基板的一面，所述第五面为连接于所述第三面与所述第四面之间的侧面，且所述第五面沿第二方向延伸，在所述第五面上设置所述多个突出部。

13.根据权利要求12所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述制备方法还包括：

在所述第二像素限定层的远离所述衬底基板的一侧形成第三像素限定层，所述第三像素限定层包括多个第三像素限定条，所述第二像素限定条在所述衬底基板上的正投影以及所述突出部在所述衬底基板上的正投影均位于所述第三像素限定条在所述衬底基板上的正投影内。

14.根据权利要求13所述的显示面板的制备方法，其特征在于，形成所述第二像素限定条和所述第三像素限定条包括：

在所述衬底基板的第一面形成多个金属条，所述金属条与所述第一像素限定条平行；

在所述金属条的远离所述衬底基板的一侧形成像素限定材料层，形成在所述金属条之间的所述像素限定材料层为第二像素限定材料层，形成在所述金属条的远离所述衬底基板的一侧的所述像素限定材料层为第三像素限定材料层；

对所述像素限定材料层进行图案化处理形成多个所述第二像素限定条、所述突出部和多个所述第三像素限定条；

对所述金属条进行过刻形成多个间隙，所述间隙位于所述衬底基板与所述第三像素限定条之间，且位于相邻两个所述突出部之间。

15.根据权利要求12所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述在所述衬底基板的第一面形成第二像素限定层和多个突出部，包括：

在所述衬底基板的第一面形成第二像素限定材料层，所述第二像素限定材料层包括多个第二像素限定条，第二像素限定条包括两个第二像素子限定条，所述第二像素子限定条包括依次层叠设置的第一金属层、第二金属层以及第三金属层，对所述第二金属层的部分进行钻刻形成所述突出部和间隙，所述间隙位于相邻两个所述突出部之间。

16.一种显示装置，其特征在于，包括：权利要求1～11任意一项所述的显示面板。

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