JP2016009698A - 硬化性樹脂組成物、保護膜、液晶表示素子および固体撮像素子 - Google Patents
硬化性樹脂組成物、保護膜、液晶表示素子および固体撮像素子 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】本発明に係る硬化性樹脂組成物は、ラジカル重合性基、カチオン重合性基および加水分解シリル基よりなる群から選択される少なくとも1種を有する重合体(A)と、酸発生剤(B)と、を含有する硬化性樹脂組成物であって、前記酸発生剤(B)が、下記一般式(1)で表されるスルホニウム塩であり、液晶表示素子用保護膜または固体撮像素子用保護膜を形成する用途で用いられることを特徴とする。
(上記式(1)中、R1は置換もしくは非置換のアリール基、R2は置換もしくは非置換のベンジル基、R3は炭素数1〜6のアルキル基を表す。X−は非求核性の対アニオンを表す。)
【選択図】なし
Description
本発明に係る硬化性樹脂組成物の一態様は、
ラジカル重合性基、カチオン重合性基および加水分解シリル基よりなる群から選択される少なくとも1種を有する重合体(A)と、酸発生剤(B)と、を含有する硬化性樹脂組成物であって、
前記酸発生剤(B)が、下記一般式(1)で表されるスルホニウム塩であり、
液晶表示素子用保護膜または固体撮像素子用保護膜を形成する用途で用いられることを特徴とする。
適用例1の硬化性樹脂組成物において、
前記酸発生剤(B)が、下記一般式(3)で表される化合物および下記一般式(4)で表される化合物よりなる群から選択される少なくとも1種であることができる。
本発明に係る液晶表示素子用または固体撮像素子用の保護膜の一態様は、
適用例1または適用例2の硬化性樹脂組成物を用いて形成された塗膜を150℃以下の温度で加熱処理することにより得られることを特徴とする。
本発明に係る液晶表示素子の一態様は、
透明基板と、
前記透明基板上に形成されたカラーフィルターと、
前記カラーフィルターと透明電極との間に形成された適用例3の保護膜と、
を含むことを特徴とする。
本発明に係る固体撮像素子の一態様は、
信号読出し回路が形成された半導体基板上に形成された画素電極と、
前記画素電極上に形成された有機光電変換層と、
前記有機光電変換層上に形成された対向電極と、
前記対向電極上に形成された適用例3の保護膜と、
を含むことを特徴とする。
晶、カラーフィルター、有機高分子フィルム等の有機材料に対するダメージを大幅に低減することが可能となる。
本実施の形態に係る硬化性樹脂組成物(以下、単に「樹脂組成物」ともいう。)は、ラジカル重合性基、カチオン重合性基および加水分解シリル基よりなる群から選択される少なくとも1種を有する重合体(A)と、酸発生剤(B)と、を含有する硬化性樹脂組成物であって、前記酸発生剤(B)が、後述するような特定の酸発生剤であり、液晶表示素子用保護膜または固体撮像素子用保護膜を形成する用途で用いられることを特徴とする。
本実施の形態で用いられる重合体(A)は、ラジカル重合性基、カチオン重合性基および加水分解シリル基よりなる群から選択される少なくとも1種を有する単量体(以下、「化合物(a1)」という。)を重合する工程を経て製造された重合体である。
チルアクリル酸6,7−エポキシヘプチル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテル、3−メチル−3−(メタ)アクロイロキシメチルオキセタン、3−エチル−3−(メタ)アクロイロキシメチルオキセタン等を挙げることができる。これらのカチオン重合性基を有する単量体は、1種単独で用いてもよいし、2種以上組み合わせて用いてもよい。
り、アルコキシシラン縮合物を得る。その後、冷却し、エバポレーションすることにより、イオン交換水および加水分解縮合で発生したアルコールを除去する。こうして、加水分解シリル基を有する単量体を重合して得られた重合体(A)を得る。
本実施の形態で用いられる酸発生剤(B)としては、下記一般式(1)で表されるスルホニウム塩が挙げられる。このような酸発生剤(B)によれば、昇華性の低い保護膜をより低温(具体的には150℃以下の温度)で形成することが可能となる。すなわち、下記一般式(1)において、R1が置換もしくは非置換のアリール基であることにより、化合物自体の安定性を維持することができる。また、R2が置換もしくは非置換のベンジル基であることにより、化合物自体の安定性を確保すると共に、通常よりも少し高い温度で硬化させることが可能となる。さらに、R3が炭素数1〜6のアルキル基であることにより、より低温で硬化させることが可能となる。このような酸発生剤(B)を用いることで、LCDやCMOSイメージセンサー等の素子製造において、有機TFT、液晶、カラーフィルター、有機高分子フィルム等の有機材料に対するダメージを保護膜により大幅に低減することができ、また低温で保護膜を形成することができるため、該保護膜を形成する際の有機材料に与える熱的ダメージを大幅に低減することが可能となる。
本実施の形態に係る樹脂組成物には、必要に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で、重合体(A)及び酸発生剤(B)以外の任意添加成分、例えば多官能性化合物、ラジカル重合開始剤、硬化剤、界面活性剤、接着助剤、硬化促進剤等を添加することができる。
本実施の形態に係る樹脂組成物に添加し得る多官能性化合物としては、カチオン重合性化合物および/または多官能(メタ)アクリレート化合物が用いられる。カチオン重合性化合物は分子内に2個以上のエポキシ基を有する化合物(ただし前述の重合体(A)を除く。)である。上記分子内に2個以上のエポキシ基を有する化合物としては、例えば、分子内に2個以上のエポキシ基を有する化合物、あるいは3,4−エポキシシクロヘキシル基を有する化合物が挙げられる。
152、同154、同157S65(以上、ジャパンエポキシレジン(株)製)、EPPN201、同202(以上、日本化薬(株)製)等;クレゾールノボラック型エポキシ樹脂として、EOCN102、同103S、同104S、1020、1025、1027(以上、日本化薬(株)製)、エピコート180S75(ジャパンエポキシレジン(株)製)等;ポリフェノール型エポキシ樹脂として、エピコート1032H60、同XY−4000(以上、ジャパンエポキシレジン(株)製)等;環状脂肪族エポキシ樹脂として、CY−175、同177、同179、アラルダイトCY−182、同192、184(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)、ERL−4234、4299、4221、4206(以上、U.C.C社製)、ショーダイン509(昭和電工(株)製)、エピクロン200、同400(以上、大日本インキ(株)製)、エピコート871、同872(以上、ジャパンエポキシレジン(株)製)、ED−5661、同5662(以上、セラニーズコーティング社製)等;脂肪族ポリグリシジルエーテルとしてエポライト100MF(共栄社化学(株)製)、エピオールTMP(日本油脂(株)製)等が挙げられる。
00(大阪有機工業(株)製)などが挙げられる。
本実施の形態に係る樹脂組成物にラジカル重合開始剤を添加することにより、感放射線性樹脂組成物とすることができる。特に、重合体(A)が加水分解シリル基を有する重合体である場合には、ラジカル重合開始剤を添加して感放射線性樹脂組成物とすることが好ましい。感放射線性樹脂組成物とすることで、容易に微細かつ精巧なパターンを形成することができる。
−アシルオキシム化合物は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
硬化剤は、形成される保護膜の耐熱性および硬度を向上させるために添加される。硬化剤としては、酸無水物基を有する重合性不飽和化合物とオレフィン性不飽和化合物との重合体(ただし、重合体(A)を除く。)、または多価カルボン酸無水物が挙げられる。
シトラコン酸、無水マレイン酸およびシス1,2,3,4−テトラヒドロフタル酸無水物等が挙げられる。
界面活性剤は、組成物の塗布性を向上させるために添加される。このような界面活性剤としては、例えばフッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤等が挙げられる。
接着助剤は、形成される保護膜と基板などとの密着性を向上させるために添加される。このような接着助剤としては、例えばカルボキシル基、メタクリロイル基、ビニル基、イソシアネート基、エポキシ基などの反応性基を有するシランカップリング剤が好ましい。
硬化促進剤としては、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、2,4−ジアミノ−6−〔2’−メチルイミダゾリル−(1’)〕−エチル−S−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−〔2’−ウンデシルイミダゾリル−(1’)〕−エチル−S−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−〔2’−エチル−4’−メチルイミダゾリルウンデシルイミダゾリル−(1’)〕−エチル−S−トリアジン、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール等が挙げられる
本実施の形態に係る樹脂組成物は、前記の各成分を、好ましくは適当な溶媒中に均一に溶解または分散させることにより調製される。使用される溶媒としては、組成物の各成分を溶解または分散し、各成分と反応しないものが好ましく用いられる。
レングリコールプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールブチルエーテルアセテート等が挙げられる。前記プロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネートとしては、プロピレングリコールメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールプロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールブチルエーテルプロピオネート等が挙げられる。前記ケトンとしては、シクロヘキサノン、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン、メチルイソアミルケトン等が挙げられる。
本発明の一実施形態に係る保護膜は、液晶表示素子用または固体撮像素子用の保護膜であって、上記の硬化性樹脂組成物を用いて形成された塗膜を150℃以下の温度で加熱処理することにより得られることを特徴とする。
本実施の形態に係る液晶表示装置は、透明基板と、前記透明基板上に形成されたカラーフィルターと、前記カラーフィルターと透明電極との間に上記の樹脂組成物を用いて形成された保護膜と、を含むことを特徴とする。図1は、本実施の形態に係る液晶表示装置を示す模式的断面図である。図1に示すように、液晶表示装置100は、偏光板10を設けた透明基板12上に、透明電極18a、透明絶縁膜24およびTFT素子28を設け、その上から配向膜20を設けた背面基板と、偏光板10を設けた透明基板12上に、カラーフィルター14、保護膜16および透明電極18bを設け、その上から配向膜20を設け、前記背面基板と対向させた前面基板と、前記基板間に設けられたシール材30と、前面基板、背面基板およびシール材30に囲まれた封止領域に封入された液晶層22と、を備えている。
ン誘導体、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレ−ト等のポリエステル、ポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリビニルアルコ−ル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアミド、ポリイミド、ポリイミドアミド、ポリスチレン、ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレ−ト、ポリエーテルサルホン、ポリアリレート、さらにガラス繊維−エポキシ樹脂、ガラス繊維−アクリル樹脂などの無機−有機複合材料などを用いることができる。
を採用することができる。
(1)上述の樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程、
(2)工程(1)で形成した塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
(3)工程(2)で放射線を照射された塗膜を現像する工程、及び
(4)工程(3)で現像された塗膜を加熱する工程。
シド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の4級アンモニウム塩等を挙げることができる。
本実施の形態に係る固体撮像素子は、信号読出し回路が形成された半導体基板上に形成された画素電極と、前記画素電極上に形成された有機光電変換層と、前記有機光電変換層上に形成された対向電極と、前記対向電極上に形成された上述の保護膜と、を含むことを
特徴とする。以下、図面を参照しながら、本実施の形態に係る固体撮像素子の製造方法について説明する。
以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。実施例、比較例中の「部」および「%」は、特に断らない限り質量基準である。
3.1.1.合成例1
冷却管と攪拌機を備えたフラスコに、2,2’−アゾビス−イソブチロニトリル0.8質量部、およびメチル−3−メトキシプロピオネート200質量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸グリシジル80質量部およびスチレン20質量部を仕込み、窒素置換した後ゆるやかに撹拌を始めた。溶液温度を95℃に上昇させ、この温度を5時間保持し重合体(A−1)を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、31.8質量%であった。この重合体は、Mw=27,000、Mw/Mn=1.9であった。
冷却管と攪拌機を備えたフラスコに、2,2’−アゾビス−イソブチロニトリル2質量部およびメチル−3−メトキシプロピオネート200質量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸グリシジル79質量部、メタクリル酸メチル1質量部、およびスチレン20質量部を仕込み、窒素置換した後ゆるやかに撹拌を始めた。溶液温度を95℃に上昇させ、この温度を5時間保持し重合体(A−2)を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、30.5質量%であった。この重合体は、Mw=10,000、Mw/Mn=1.8であった。
冷却管と攪拌機を備えたフラスコに、2,2’−アゾビス−イソブチロニトリル0.6質量部、およびメチル−3−メトキシプロピオネート200質量部を仕込んだ。引き続きメタクリル酸ジシクロペンタニル50質量部およびメタクリル酸グリシジル50質量部を仕込み、窒素置換した後ゆるやかに撹拌を始めた。溶液温度を95℃に上昇させ、この温度を5時間保持し重合体(A−3)を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、38.7質量%であった。この重合体は、Mw=74,000、Mw/Mn=4.0であった。
冷却管と攪拌機を備えたフラスコに、2,2’−アゾビス−イソブチロニトリル0.6質量部、およびメチル−3−メトキシプロピオネート200質量部を仕込んだ。引き続きt−ブチルメタクリレート38質量部およびメタクリル酸グリシジル62質量部を仕込み、窒素置換した後ゆるやかに撹拌を始めた。溶液温度を95℃に上昇させ、この温度を5時間保持し重合体(A−4)を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は、31.8質量%であった。この重合体は、Mw=63,000、Mw/Mn=3.3であった。
撹拌機付の容器内に、プロピレングリコールモノメチルエーテル24質量部を仕込み、続いて、メチルトリメトキシシラン(MTMS)25質量部、p−トリメトキシシリルスチレン(StTMS)75質量部を仕込み、溶液温度が60℃になるまで加熱した。溶液温度が60℃に到達後、無水マレイン酸0.2質量部、イオン交換水19質量部を仕込み、75℃になるまで加熱し、2時間保持した。45℃に冷却後、エバポレーションすることにより、イオン交換水および加水分解縮合で発生したメタノールを除去した。以上により、ポリシロキサン(A−5)を得た。ポリシロキサン(A−5)は、固形分濃度が40質量%であり、重量平均分子量(Mw)が610であり、分散度(Mw/Mn)が1.1であった。
撹拌機付の容器内に、プロピレングリコールモノメチルエーテル24質量部を仕込み、続いて、メチルトリメトキシシラン(MTMS)70質量部、p−トリメトキシシリルスチレン(StTMS)30質量部を仕込み、溶液温度が60℃になるまで加熱した。溶液温度が60℃に到達後、無水マレイン酸0.2質量部、イオン交換水19質量部を仕込み、75℃になるまで加熱し、2時間保持した。45℃に冷却後、エバポレーションすることにより、イオン交換水および加水分解縮合で発生したメタノールを除去した。以上により、ポリシロキサン(A−6)を得た。ポリシロキサン(A−6)は、固形分濃度が40質量%であり、重量平均分子量(Mw)が900であり、分散度(Mw/Mn)が1.3であった。
3.2.1.樹脂組成物の調製
上記合成例1で得られた重合体(A−1)を含む溶液(重合体(A−1)100質量部(固形分)に相当する量)に対して、酸発生剤(B)としてメチル(4−アセトキシフェニル)(2−メチルベンジル)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート(表1中では「B−1」と表記)1質量部を加え、固形分濃度が12質量%になるようにメチル−3−メトキシプロピオネートを添加した後、孔径0.5μmのミリポアフィルターで濾過して樹脂組成物を調製した。
スピンコーターを用いて上記で得られた樹脂組成物を、シリコンウェハ上あるいはガラス基板上に塗布した後、ホットプレート上で140℃、5分間ベークして膜厚4.0μmの保護膜を形成した。
(1)透明性の評価
上記のようにして得られた非感放射線性保護膜を有するガラス基板について、分光光度計(株式会社日立製作所製、型式「150−20型ダブルビーム」)を用いて400〜800nmの透過率を測定した。表1には、400〜800nmの透過率の最小値を示した。この値が95%以上のとき、保護膜の透明性は良好と判断できる。
上記のようにして得られた非感放射線性保護膜を有するガラス基板について、「JIS
K−5400−1990 8.4.1 鉛筆引っかき試験」に準じて非感放射線性保護膜の表面硬度を測定した。この値を表1に示す。この値が4Hまたはそれより硬いとき、表面硬度は良好と判断できる。
上記のようにして得られた非感放射線性保護膜を有するガラス基板について、プレッシャークッカー試験(120℃、湿度100%、4時間)を行った後、「JIS K−5400−1990 8.5.3 付着性碁盤目テープ法」に準じて非感放射線性保護膜の密着性(SiO2に対する密着性)を評価した。碁盤目100個中、残った碁盤目の数を表1に示した。
上記のようにして得られた非感放射線性保護膜を有するガラス基板について、23℃で24時間放置し、非感放射線性保護膜の表面にクラックが発生しているか否かを以下の判定基準により、レーザー顕微鏡(キーエンス製VK−8500)を用いて評価した。
<判定基準>
◎:全くクラックがない。
○:1〜3個のクラックがある。
△:4〜10個のクラックがある。
×:10個以上のクラックがある。
シリコン基板上に樹脂組成物をそれぞれスピンコーターにより塗布し、塗布膜厚が1.0μmの塗膜を形成した。この塗膜についてヘッドスペースガスクロマトグラフィ―/質量分析(ヘッドスペースサンプラ:日本分析工業(株)製、型式名「JHS−100A」;ガスクロマトグラフィー/質量分析装置:日本分析工業(株)製、「JEOL JMS−AX505W型質量分析計」)により分析を行った。パージ条件を100℃/10minとし、硬化膜の揮発成分の発生に関するピーク面積Aを求めた。標準物質としてn−オクタン(比重:0.701;注入量:0.02μL)を使用し、そのピーク面積を基準として、下記式からn−オクタン換算による昇華物揮発量を算出し、結果を表1に示した。
昇華物揮発量(μg)=A×(n−オクタンの量(μg))/(n−オクタンのピーク面積)
この昇華物揮発量が1.0μg以下のとき、保護膜からの昇華物が少ないといえる。昇華物が1.0μgよりも多くなると、ベーク炉の汚染や露光時のフォトマスクの汚染等の点で不都合が生じるため、使い難い材料といえる。
上記のようにして得られた非感放射線性保護膜を有するシリコン基板について、室温で表1記載の薬品に5分間浸漬させた後、スピンコーター上で十分回転乾燥させた後の膜厚を光干渉式膜厚測定装置(大日本スクリーン社製、型式「VM−2200」)を用いて測定した。耐薬品性は、下記式に基づいて算出された非感放射線性保護膜の残存率によって評価した。その値を表1に示した。
耐薬品性=((薬品浸漬後の膜厚)/(薬品浸漬前の膜厚))×100(%)
樹脂組成物の各成分の種類および量を表1に記載の通りとした以外は、実施例1と同様にして樹脂組成物を調製した。また、このようにして得られた樹脂組成物を使用した以外
は、実施例1と同様に非感放射線性保護膜を形成し評価した。その結果を表1に示した。
3.4.1.樹脂組成物の調製
合成例5で得られたポリシロキサン(A−5)を含む溶液(ポリシロキサン(A−5)100質量部(固形分)に相当する量)に、酸発生剤(B)としてメチル(4−アセトキシフェニル)(2−メチルベンジル)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート5質量部、感放射線性ラジカル重合開始剤(C)として1,2−オクタンジオン−1−[4−(フェニルチオ)フェニル]−2−(o−ベンゾイルオキシム)10質量部、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート(成分(D))10質量部、ノニオン系界面活性剤(E)として含フッ素ノニオン系界面活性剤(株式会社ネオス社製、FX−218)0.1質量部を混合して感放射線性ポリシロキサン組成物を固形分濃度12質量%になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルを添加した後、孔径0.5μmのミリポアフィルターで濾過して樹脂組成物を調製した。
上記で得られた感放射線性ポリシロキサン組成物を、東京エレクトロン製クリーントラックを用いてSi基板に塗布した後、ホットプレート上で50℃、1分間プレベークして塗膜を形成した。次いで、ニコン製i線ステッパを用いて、得られた塗膜にパターン形成用マスクを介し、100−1,000mJ/cm2の露光量で露光した。続いて、2.38質量%のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液により、25℃で60秒現像した後、純水で1分間洗浄し、更に230℃のオーブン中で2分間加熱することにより、1.5μm膜厚のポリシロキサンパターンを形成した。
透明性、鉛筆硬度、密着性、クラック、保護膜形成時の昇華物揮発量、耐薬品性については、上記の非感放射線性保護膜の評価と同様に行った。感放射線性保護膜では、これらの評価に加えて「パターニング性」および「現像残渣」についても評価した。
上記で露光現像処理した基板について、そのパターニング性を以下の判定基準により、測長SEM(日立 S−9260)を用いて確認した。
<判定基準>
◎:5μmLS未満のパターンが良好に解像される。
○:5μmLS以上のパターンが良好に解像される。
△:パターンは解像するが、形状は良好ではない。
×:パターンが解像しない。
上記で露光現像処理した基板について、所定の未露光部の現像性を以下の判定基準により、目視およびレーザー顕微鏡(キーエンス製VK−8500)で確認した。
<判定基準>
○:未露光部上は完全に現像されて塗布膜成分が観察されない。
×:未露光部上に塗布膜成分が観察される。
樹脂組成物の各成分の種類および量を表2に記載の通りとした以外は、実施例15と同様にして樹脂組成物を調製した。また、このようにして得られた樹脂組成物を使用した以外は、実施例15と同様に感放射線性保護膜を形成し評価した。その結果を表2に示した。
表1に、実施例1〜14および比較例1〜4で使用した樹脂組成物の組成、ならびに各評価試験の結果を示す。表2に、実施例15〜20および比較例5〜8で使用した樹脂組成物の組成、ならびに各評価試験の結果を示す。
<重合体(A)>
・A−1:上記合成例1で得られた重合体
・A−2:上記合成例2で得られた重合体
・A−3:上記合成例3で得られた重合体
・A−4:上記合成例4で得られた重合体
・A−5:上記合成例5で得られた重合体
・A−6:上記合成例6で得られた重合体
<酸発生剤(B)>
・B−1:メチル(4−アセトキシフェニル)(2−メチルベンジル)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート
・B−2:ベンジルメチル(4−アセトキシフェニル)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート
・B−3:ベンジルメチル(4−ヒドロキシフェニル)スルホニウムヘキサフルオロホスフェート
・B−4:ベンジルメチル(4−ヒドロキシフェニル)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート
・B−5:ジメチル(4−ヒドロキシフェニル)スルホニウムヘキサフルオロホスフェート
・B−6:ベンジルメチル(4−ヒドロキシフェニル)スルホニウムトリフルオロメタンスルホネート
・B−7:ジメチル(4−アセトキシフェニル)スルホニウムヘキサフルオロホスフェート
・B−8:ジメチル(4−ヒドロキシフェニル)スルホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート
なお、上記酸発生剤は、活性温度が低い順から、B−1、B−2、B−3、B−4、B−5、B−6、B−7、B−8である。
<ラジカル重合開始剤>
・C−1:1,2−オクタンジオン−1−[4−(フェニルチオ)フェニル]−2−(o−ベンゾイルオキシム)
<多官能性化合物(D)>
・D−1:ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート
<ノニオン系界面活性剤(E)>
・E−1:含フッ素ノニオン系界面活性剤(株式会社ネオス社製、FX−218)
<耐薬品性に用いた薬品>
・TMAH:水酸化テトラメチルアンモニウム
・PGMEA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
・EL:乳酸エチル
・GBL:γ−ブチロラクトン
Claims (5)
- ラジカル重合性基、カチオン重合性基および加水分解シリル基よりなる群から選択される少なくとも1種を有する重合体(A)と、酸発生剤(B)と、を含有する硬化性樹脂組成物であって、
前記酸発生剤(B)が、下記一般式(1)で表されるスルホニウム塩であり、
液晶表示素子用保護膜または固体撮像素子用保護膜を形成する用途で用いられることを特徴とする、硬化性樹脂組成物。
- 請求項1または請求項2に記載の硬化性樹脂組成物を用いて形成された塗膜を150℃以下の温度で加熱処理することにより得られる、液晶表示素子用または固体撮像素子用の保護膜。
- 透明基板と、
前記透明基板上に形成されたカラーフィルターと、
前記カラーフィルターと透明電極との間に形成された請求項3に記載の保護膜と、
を含む、液晶表示素子。 - 信号読出し回路が形成された半導体基板上に形成された画素電極と、
前記画素電極上に形成された有機光電変換層と、
前記有機光電変換層上に形成された対向電極と、
前記対向電極上に形成された請求項3に記載の保護膜と、
を含む、固体撮像素子。
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