JP2016003164A - 多結晶シリコン棒の表面温度の算出方法および制御方法、多結晶シリコン棒の製造方法、多結晶シリコン棒、ならびに、多結晶シリコン塊 - Google Patents
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- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 214
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 132
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 21
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 title claims description 8
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims abstract description 39
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 62
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 41
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 41
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 19
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 18
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 claims description 9
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 28
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 20
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 20
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 12
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 12
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 11
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 10
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 9
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 7
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 6
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 4
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- 241001391944 Commicarpus scandens Species 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
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- G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
- G01N23/207—Diffractometry using detectors, e.g. using a probe in a central position and one or more displaceable detectors in circumferential positions
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- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/02—Silicon
- C01B33/021—Preparation
- C01B33/027—Preparation by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds other than silica or silica-containing material
- C01B33/035—Preparation by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds other than silica or silica-containing material by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds in the presence of heated filaments of silicon, carbon or a refractory metal, e.g. tantalum or tungsten, or in the presence of heated silicon rods on which the formed silicon is deposited, a silicon rod being obtained, e.g. Siemens process
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- G—PHYSICS
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- G01K11/30—Measuring temperature based upon physical or chemical changes not covered by groups G01K3/00, G01K5/00, G01K7/00 or G01K9/00 using measurement of the effect of a material on X-radiation, gamma radiation or particle radiation
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/60—Specific applications or type of materials
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Analytical Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
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Abstract
【解決手段】本発明では、第1の回折チャートと第2の回折チャートから、回転角度(φ)についての平均回折強度比(y=(h1,k1,l1)/(h2,k2,l2))を求め、この平均回折強度比に基づいて、析出時の表面温度を算出する。そして、算出された多結晶シリコン棒の表面温度と該多結晶シリコン棒の析出時の供給電流と印加電圧のデータに基づき、多結晶シリコン棒を新たに製造する際の供給電流と印加電圧を制御して、析出プロセス中の表面温度を制御する。このような温度制御方法を用いることにより、析出プロセス中における多結晶シリコン棒の中心温度Tcと表面温度Tsの差ΔT(=Tc−Ts)を制御して、多結晶シリコン棒中の残留応力値を制御することも可能である。
【選択図】図4
Description
式(2):T=a×ln(ρ/b)−c
表面温度の算出に用いる円板状試料(直径19mm、厚み2mm)を、特開2014−1096号公報(特許文献3)に記載の方法に従いサンプリングした。逆U字状に組んだシリコン芯線上に析出させて得た多結晶シリコン棒の直径は160mmであり、下端部から上端部(ブリッジ近傍)までの高さは約1,800mmである。また、上記シリコン芯線は、炉内中央部およびその周辺に多環式ロッド配置し、これらのシリコン芯線上に多結晶シリコンを析出させた。
図5に示した結果に基づき算出された多結晶シリコン棒の表面温度と該多結晶シリコン棒の析出時の供給電流と印加電圧のデータに基づき、多結晶シリコン棒を新たに製造する際の供給電流と印加電圧を制御して析出プロセス中の表面温度を制御しながら、新たに、直径160mmの多結晶シリコン棒を育成した。
析出プロセス中の表面温度差ΔT(℃)と残留応力の関係を求めた。その結果を表2に纏めた。
ΔTが160℃未満の場合には、圧縮応力の残留のみが認められ引張応力の残留は認められない。
10 多結晶シリコン棒
11 ロッド
20 板状試料
30 スリット
40 X線ビーム
Claims (10)
- シーメンス法により育成される多結晶シリコン棒の析出プロセス中の表面温度の算出方法であって、
前記多結晶シリコン棒を析出させるシリコン芯線の中心線から半径Rに対応する位置から、前記多結晶シリコン棒の径方向に垂直な断面を主面とする板状試料を採取するステップと、
前記板状試料をミラー指数面(h1,k1,l1)からのブラッグ反射が検出される位置に配置し、スリットにより定められるX線照射領域が前記板状試料の主面上をφスキャンするように該板状試料の中心を回転中心として回転角度φで面内回転させ、前記ミラー指数面(h1,k1,l1)からのブラッグ反射強度の前記板状試料の回転角度(φ)依存性を示す第1の回折チャートを求めるステップと、
前記板状試料をミラー指数面(h2,k2,l2)からのブラッグ反射が検出される位置に配置し、スリットにより定められるX線照射領域が前記板状試料の主面上をφスキャンするように該板状試料の中心を回転中心として回転角度φで面内回転させ、前記ミラー指数面(h2,k2,l2)からのブラッグ反射強度の前記板状試料の回転角度(φ)依存性を示す第2の回折チャートを求めるステップと、
前記第1の回折チャートと前記第2の回折チャートから、前記回転角度(φ)についての平均回折強度比(y=(h1,k1,l1)/(h2,k2,l2))を求めるステップと、
前記平均回折強度比に基づいて、前記多結晶シリコン棒の半径Rに対応する位置の多結晶シリコンの析出時の表面温度を算出するステップと、を備えていることを特徴とする多結晶シリコン棒の表面温度の算出方法。 - 前記表面温度の算出は、予め求めておいた、平均回折強度比(y)と表面温度の換算表に基づいてなされる、請求項1に記載の多結晶シリコン棒の表面温度の算出方法。
- 前記換算表は、多結晶シリコン棒の径、該多結晶シリコン棒への供給電流と印加電圧から算出した前記多結晶シリコン棒の抵抗率に基づく推定温度をxとしたときに、該推定温度xと前記平均回折強度比yの関係を回帰式化して得られる換算式に基づく、請求項1または2に記載の多結晶シリコン棒の表面温度の算出方法。
- 前記ミラー指数面(h1,k1,l1)および前記ミラー指数面(h2,k2,l2)は(111)および(220)である、請求項1〜3の何れか1項に記載の多結晶シリコン棒の表面温度の算出方法。
- シーメンス法により多結晶シリコン棒を製造する際の温度制御方法であって、
請求項1〜4の何れか1項に記載の方法で算出された多結晶シリコン棒の表面温度と該多結晶シリコン棒の析出時の供給電流と印加電圧のデータに基づき、
多結晶シリコン棒を新たに製造する際の供給電流と印加電圧を制御して、析出プロセス中の表面温度を制御する、多結晶シリコン棒の表面温度の制御方法。 - 請求項5に記載の温度制御方法を用い、析出プロセス中における多結晶シリコン棒の中心温度Tcと表面温度Tsの差ΔT(=Tc−Ts)を制御して、前記多結晶シリコン棒中の残留応力値を制御する、多結晶シリコン棒の製造方法。
- 前記析出プロセス中におけるΔTを、一貫して70℃以下に制御する、請求項6に記載の多結晶シリコン棒の製造方法。
- 請求項6に記載の多結晶シリコン棒の製造方法において、前記ΔTを160℃以上に制御して育成された、多結晶シリコン棒。
- 請求項8に記載の多結晶シリコン棒を破砕して得られた多結晶シリコン塊。
- 請求項6に記載の多結晶シリコン棒の製造方法において、前記ΔTを160℃未満に制御して育成された、多結晶シリコン棒。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014124542A JP6131218B2 (ja) | 2014-06-17 | 2014-06-17 | 多結晶シリコン棒の表面温度の算出方法および制御方法、多結晶シリコン棒の製造方法、多結晶シリコン棒、ならびに、多結晶シリコン塊 |
PCT/JP2015/003022 WO2015194170A1 (ja) | 2014-06-17 | 2015-06-17 | 多結晶シリコン棒の表面温度の算出方法および制御方法、多結晶シリコン棒の製造方法、多結晶シリコン棒、ならびに、多結晶シリコン塊 |
EP15809419.3A EP3159680A1 (en) | 2014-06-17 | 2015-06-17 | Surface temperature calculation method and control method for polycrystalline silicon rod, method for production of polycrystalline silicon rod, polycrystalline silicon rod, and polycrystalline silicon ingot |
US15/316,987 US20170113937A1 (en) | 2014-06-17 | 2015-06-17 | Surface temperature calculation method and control method for polycrystalline silicon rod, method for production of polycrystalline silicon rod, polycrystalline silicon rod, and polycrystalline silicon ingot |
KR1020177001053A KR20170021286A (ko) | 2014-06-17 | 2015-06-17 | 다결정 실리콘 봉의 표면 온도의 산출 방법 및 제어 방법, 다결정 실리콘 봉의 제조 방법, 다결정 실리콘 봉, 및 다결정 실리콘 괴 |
CN201580032684.6A CN106461580A (zh) | 2014-06-17 | 2015-06-17 | 多晶硅棒的表面温度的计算方法和控制方法、多晶硅棒的制造方法、多晶硅棒以及多晶硅块 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014124542A JP6131218B2 (ja) | 2014-06-17 | 2014-06-17 | 多結晶シリコン棒の表面温度の算出方法および制御方法、多結晶シリコン棒の製造方法、多結晶シリコン棒、ならびに、多結晶シリコン塊 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016003164A true JP2016003164A (ja) | 2016-01-12 |
JP6131218B2 JP6131218B2 (ja) | 2017-05-17 |
Family
ID=54935175
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014124542A Active JP6131218B2 (ja) | 2014-06-17 | 2014-06-17 | 多結晶シリコン棒の表面温度の算出方法および制御方法、多結晶シリコン棒の製造方法、多結晶シリコン棒、ならびに、多結晶シリコン塊 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20170113937A1 (ja) |
EP (1) | EP3159680A1 (ja) |
JP (1) | JP6131218B2 (ja) |
KR (1) | KR20170021286A (ja) |
CN (1) | CN106461580A (ja) |
WO (1) | WO2015194170A1 (ja) |
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JP2014001096A (ja) | 2012-06-18 | 2014-01-09 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 多結晶シリコンの結晶配向度評価方法、多結晶シリコン棒の選択方法、多結晶シリコン棒、多結晶シリコン塊、および、単結晶シリコンの製造方法 |
-
2014
- 2014-06-17 JP JP2014124542A patent/JP6131218B2/ja active Active
-
2015
- 2015-06-17 EP EP15809419.3A patent/EP3159680A1/en not_active Withdrawn
- 2015-06-17 CN CN201580032684.6A patent/CN106461580A/zh active Pending
- 2015-06-17 US US15/316,987 patent/US20170113937A1/en not_active Abandoned
- 2015-06-17 KR KR1020177001053A patent/KR20170021286A/ko unknown
- 2015-06-17 WO PCT/JP2015/003022 patent/WO2015194170A1/ja active Application Filing
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EP3159680A1 (en) | 2017-04-26 |
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JP6131218B2 (ja) | 2017-05-17 |
KR20170021286A (ko) | 2017-02-27 |
US20170113937A1 (en) | 2017-04-27 |
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