JP2015534110A - ミラー - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ミラー、およびこのタイプのミラーを含む光学構成要素に関する。その上、本発明は、このタイプのミラーを含む投影光学ユニット、このタイプの投影光学ユニットを含む光学システム、およびこのタイプの投影光学ユニットを含む投影露光装置に関する。なおまた、本発明は、ミラーの設計を最適化する方法に関する。最後に、本発明は、マイクロまたはナノ構造構成要素を生成する方法に関する。
第1に、リソグラフィマスクとしての役割を果たすレチクルの反射率は、照明で使用されるEUV放射の特定の入射角から始まって大幅に減少する。第2に、小さい入射角を用いたレチクルの照明の場合には、特にレチクルの垂直照明の場合には、すなわち、光軸に平行な照明光学ユニットの主光線の進路および光軸に対するレチクルの垂直方位の場合には、照明および/または投影光学ユニットのビーム経路の掩蔽(obscuration)が、構造上の指針のために生じる。特に、物体側開口数が増加するとき、主光線角度の対応する増加は、レチクルの反射率のかなりの損失なしにはもはや可能ではない。この問題を解決するための本発明による1つの手法は、分断化された(fragmented)全表面区域をもつミラーを具現することにある。ミラーは、特に、多数の第1の領域を含み、第1の領域は各々少なくとも1つの第2の領域から構造的に区切られ、それによって周辺を取り巻くように囲まれる。第1の領域は、第2の放射反射領域に関して多数の掩蔽を形成する。言い換えれば、第1の領域の総計は、ミラーの、特に第2の放射反射領域の分断化された掩蔽を形成する。個々の第1の領域は、ここで、いずれの場合にも、単連結に具現されることが好ましい。2つの異なる第1の領域はそれぞれ離ればなれに具現される。特に、それらは第2の領域によって互いに分離される。
その上、本発明によれば、ミラーの第1の領域の配列は、光学品質、特に、テレセントリシティ、正規化画像対数勾配(NILS)、およびそれの像視野にわたる変動(NILS視野プロファイル)などの画像化パラメータによって特徴づけることができる、特に、画像特性に決定的な影響があることが認識されている。
本発明の核心は、第1の領域をミラーに非周期的に配列することにある。それらは、特に、非対称に、特に非点対称に配列される。
非周期的配列は、特に、平行移動不変でなく、および/または回転不変でない配列を意味すると理解されたい。1つの好ましい実施形態によれば、第1の領域の配列は、変位または回転のいずれかによってそれ自体に変換することができない、または、言い換えれば、第1の領域の配列のいかなる恣意的な変位および/または回転の際にも、第2の領域に重なる第1の領域の正の数がある。
第1の領域の直径は、特に1mmから20mmの範囲に、特に2mmから15mmの範囲に、特に3mmから10mmの範囲に、特に4mmから8mmの範囲にある。
第1の領域の好ましい1つの配列は、例えば、第1の領域が、それぞれ、ペンローズタイルの格子点に配列されるものである。
第1の領域のそのような配列によって達成できることは、レチクルでの反射の際に生じ、一般に平行移動に不変である次数の回折が、第1の領域、すなわち、ミラーの掩蔽に統計的にランダムにしか突き当たらないことである。それによって特に達成することができることは、この次数の回折への掩蔽の影響が最小化されることである。逆に言えば、掩蔽の任意の周期的配列では、多くの次数の回折が第1の領域に入射し、すなわち、掩蔽され、それにより、レチクル構造の画像品質が低下するレチクル構造を見いだすことが可能である。
本発明によるさらなる態様によれば、第1の領域が、格子の頂点上の配列から発して、格子の隣接する頂点間の平均距離のせいぜい4分の3、特にせいぜい3分の2、特にせいぜい半分だけ格子の頂点に対してオフセットされるように配列されることを規定することができる。それによって特に保証できることは、第1の領域がミラーに比較的均一に分布することである。これにより、画像化の良好なテレセントリシティがもたらされることが確証されている。
本発明のさらなる態様によれば、第1の領域の数は、少なくとも100、特に少なくとも200、特に少なくとも300、特に少なくとも500、特に少なくとも700、特に少なくとも1000である。この場合の第1の領域の数が多いほど、テレセントリシティ誤差が小さくなる。
第1の領域の数は、特にせいぜい特に30000、特にせいぜい10000、特にせいぜい5000、特にせいぜい3000である。それは、さらに、せいぜい1000、特にせいぜい500、特にせいぜい300、特にせいぜい200、特にせいぜい100とすることができる。第1の領域の数が少ないほど、ミラーの生成は簡単になる。
本発明のさらなる態様によれば、第1の領域の総計は、ミラーの全表面区域のせいぜい30%、特にせいぜい20%、特にせいぜい10%を占める表面区域を有する。これは、ミラーの掩蔽が十分に小さいことを保証する。なおまた、これは、十分に高いNILS値、特にNILS>1、すなわち、十分に高いコントラストを保証する。
第1の領域に別々のミラーを配列することも可能である。特に、瞳ファセットミラーの瞳ファセットを第1の領域に配列することが可能である。瞳ファセットミラーはミラーの一部とすることができる。この場合、瞳ファセットは第1の領域を形成する。
瞳ファセットミラーは、分断化されたミラーから切り離すこともできる。この場合、瞳ファセットは、第1の領域の場所に配列されることが好ましい。
この目的は、請求項8の特徴によって達成される。
本発明の核心は、前の説明によるミラーを、前記ミラーを調節するための調節デバイスとともに提供することにある。
これにより、特に、投影露光装置のビーム経路中のミラーを調節することが可能になる。ミラーの調節の結果として、特に、第1の領域の配列も調節される。
調節デバイスは、特に少なくとも1つ、好ましくは2つの平行移動、すなわち、直線の自由度を、横に、特に光軸に垂直に、またはミラーシステムで表すと、ミラーの中心軸、特に、ミラーの中央領域のミラーの第2の領域の表面に対する法線に垂直に有することができる。代替としてまたは追加として、調節デバイスは、光軸のまわりに、または表面への前記法線のまわりに1つの回転自由度を有することができる。調節デバイスは、ミラーの連続的に可変な調節を可能にすることができる。それは、さらに、2つ以上の個別の位置を有するか、または可能にすることができる。
本発明のさらなる目的は、物体視野を像視野に画像化するための投影光学ユニットを改善することである。この目的は、請求項10の特徴によって達成される。利点は、上述のものに対応する。
この場合、D(SA)は、ミラーMの場所の物体視野点から生じる光線束のサブ開口直径であり、D(CR)は、画像化光学ユニットによって画像化され、光学システムの基準面で測定された、ミラーMの表面上の有効物体視野の主光線間の最大距離である。基準面は、画像化光学ユニットの対称面または子午線面とすることができる。パラメータP(M)の定義は、国際公開第2009/024164号に示されているものに対応する。視野面では、P(M)=0が当てはまる。瞳面では、P(M)=1が当てはまる。特に、本発明によるミラーMの配列では、P(M)≧0.6、特にP(M)≧0.7、特にP(M)≧0.8、特にP(M)≧0.9が当てはまる。
既に上述したように、ミラーの第1の領域は、投影光学ユニットの掩蔽を形成する。それらは分断化された掩蔽を全体的に形成する。
これらの目的は、請求項11および13の特徴によって達成される。利点は、上述のものに対応する。この光学系により、特に、大きい物体側開口数(NAO)および小さい主光線角度(CRA)でレチクルを照明することが可能になる。特に、arcsin(NAO)≧CRA、特にarcsin(NAO)≧2CRAが当てはまる。この場合、CRA≦6°、特にCRA≦3°、特にCRA≦2°、特にCRA≦1°、特にCRA=0°が当てはまることが好ましい。物体側開口数(NAO)は、特に少なくとも0.45、少なくとも0.5、特に少なくとも0.6、特に少なくとも0.7である。光学系は、最大で8:1、特に最大で6:1、好ましくは最大で4:1の減少がある。
この目的は、請求項14の特徴によって達成される。
本発明は、最初に、格子の頂点上のミラーの特定の数の第1の領域の配列を用いてミラーの開始設計を予め定めることを準備する。加えて、このタイプのミラーをもつ投影光学ユニットの画像品質を評価するための適合関数fが予め定められる。最後に、少なくとも1つの目標値と終了規準が予め定められる。次に、第1の領域の配列が、少なくとも1つの予め定められた目標値および/または終了規準が達せられるまで予め定められたアルゴリズムよって変更される。
適合関数に組み込まれる適切なパラメータには、以下のパラメータ、すなわち、テレセントリシティ、NILS、NILS視野プロファイルのうちの1つまたは複数の選択が含まれる。適合関数は、これらのパラメータ、特にこれらのパラメータのすべての一次結合を含むことが好ましい。
いわゆる進化的アルゴリズムは、特に、第1の領域の配列を変更するためのアルゴリズムの役割を果たす。いわゆる焼きなまし法も適切である。好ましくは、進化戦略は、確実にまたは少なくともほとんど確実に収束する方法と組み合わされる。
アルゴリズムにおいて、例えば、第1の領域の分布の均一性の最小値などの一連の二次条件または境界条件を考慮に入れることができる。
最も簡単な場合には、アルゴリズムは、直線平行移動、および/または特に0.1°から5°の範囲の角度だけの回転を単に含む。これは、特に上述の調節デバイスと組み合わせて、特に、既に存在するミラーを最適化するのに有利である。
本発明のさらなる目的は、投影露光装置を使用して構成要素を生成する方法を明示することである。
この目的は、本発明により、請求項15に記載の生成方法によって達成される。
利点は、既に上述したものに対応する。
本発明のさらなる詳細および明細は、図面に関連するいくつかの例示的な実施形態の説明から明らかになるであろう。
EUV放射14は、照明光または照明放射とも呼ばれる。
照明光学ユニット4は、多数の視野ファセット17を有する視野ファセットミラー16を含む。視野ファセットミラー16は、物体平面6に対して光学的に共役である照明光学ユニット4の平面に配列される。EUV放射14は、視野ファセットミラー16から照明光学ユニット4の瞳ファセットミラー18まで反射される。瞳ファセットミラー18は、多数の瞳ファセット19を有する。瞳ファセットミラー18の助けにより、視野ファセットミラー16の視野ファセット17は物体視野5に画像化される。
照明光学ユニット4および投影光学ユニット9のEUV放射14のビーム経路と、特に、視野ファセットミラー16および瞳ファセットミラー18の構造配列とは、図1から知ることはできない。
投影光学ユニット9は、図1に示されていない多数の投影ミラーMiを含む。投影光学ユニット9は、特に少なくとも3つ、特に少なくとも5つの投影ミラーM1からM5を含む。それは、特に少なくとも6つ、7つ、または8つの投影ミラーM1からM8を有することがある。
レチクル7をウェハ12に投影している間に、レチクルホルダ8および/またはウェハホルダ13は、物体平面6と平行な方向におよび/または画像平面11と平行な方向に変位させることができる。レチクル7およびウェハ12の変位は、互いに同期して達成されうることが好ましい。
本発明による光学システム27は照明光学ユニット4と投影光学ユニット9とを含む。本発明による光学システム27はミラー20を有しており、それは以下でさらに詳細に説明する。
第1の領域22の数は、放射チャネルの数と規模において特に少なくとも等しい。第1の領域22の数は、視野ファセット17の数と規模において特に少なくとも等しい。第1の領域22の数は、瞳ファセット19の数と規模において等しくすることができる。放射チャネルの数、すなわち、照明放射14を照射することができる瞳ファセット19の数に対する第1の領域22の数の比は、フレックス比(flex ratio)とも呼ばれる。フレックス比は、特に1から2の範囲にある。
加えて、ミラー20は、第2の放射反射領域、特にEUV放射反射領域23を含む。第1の領域22と第2の領域23との組合せが、ミラー20の全表面区域24を形成する。
第1の領域22は、全表面区域24に非周期的に分布するように配列される。第1の領域22の配列は、以下でさらに詳細に説明する。
第1の領域22は、特に、いずれの場合にも、丸状に、特に円状に具現される。それらは、1mmから20mmの範囲、特に2mmから15mmの範囲、特に3mmから10mmの範囲、好ましくは4mmから8mmの範囲の長さ寸法、特に直径を有する。原則として、第1の領域22を、角張ったように、特に多角形状に、例えば正方形または六角形状に具現することも可能である。
第1の領域22は、特に、ありうる変倍は別として、瞳ファセットミラー18の瞳ファセット19の形状に正確に対応する形状を有する。
第1の領域22の総計は、ミラー20の全表面区域のせいぜい30%、特にせいぜい20%、特にせいぜい10%を占める表面区域を有する。
第1の領域22は、特に放射透過式に、特にEUV放射透過式に具現される。ミラー本体21の貫通開口37を特に含むことができる。図2および3に概略的に示すように、この場合、照明放射14は第1の領域22を通過することができる。言い換えれば、照明放射14は、レチクル7を照明するために第1の領域22を通って特に投影光学ユニット9に縫うように進むことができる。
ミラー20は、特に、第1の領域22が照明の瞳平面の領域に配列されるように照明光学ユニット4のビーム経路に配列することができる。特に、レチクル7の均一発散照明の場合には、ミラー20をこのように配列することができる。これにより、照明瞳が物体視野5にわたって変わらないことが保証される。言い換えれば、同じ照明瞳が、物体視野5のすべての点に存在する。照明瞳は、特に、視野非依存である。図15aから15cに、これが第1の領域22の格子によって概略的に示されている。この場合、図15aは、物体視野5の左手縁部の照明状況を概略的に示す。図15bは、物体視野5の中心の照明状況を概略的に示す。図15cは、物体視野5の右手縁部の照明状況を概略的に示す。この場合、第1の領域22の格子は、単に、照明瞳の視野非依存性を解明するのに役立つ。それは、ミラー20の第1の領域22の実際の配列を表していない。
図15aから15cから明らかなように、瞳内で見ることができるよりも多くの領域22をミラー20に配列することを可能にすることができる。瞳が見ることができない領域22は、少なくともウェハ12の照明に直接寄与しない領域22を意味することを理解されたい。瞳で見ることができるよりも多くの領域22をミラー20に配列することにより、像視野10の上で見られるとき瞳から出ていく領域22は、他の領域22によって取り替えられることが可能になる。これにより、掩蔽された表面の幾何学的重心を実質的に一定に保持することが可能になる。これにより、結果として生じるテレセントリシティ誤差を減少させることが可能になる。
さらに、瞳ファセットミラー18の瞳ファセット19を貫通開口37に配列することも可能である。この場合、瞳ファセット19は、補助基板36に配列されることが好ましい。瞳ファセット19は、いずれの場合にも間隙38によってミラー20のミラー本体21から分離される。この場合、第1の領域22は、照明光14のための貫通開口を形成しない。この実施形態では、ミラー20および瞳ファセットミラー18は、単一構成要素の一部と解釈することができる。さらに、ミラー20および瞳ファセットミラー18は、この実施形態では2つの別個の構成要素と解釈することも可能である。両方の場合において、第1の領域22は、投影光学ユニット9のビーム経路に関して、ミラー20の、特に第2の領域23の掩蔽を形成する。
図2は、例として、ミラー20で達成することができるような照明放射14のビーム経路を示す。いずれの場合にも貫通開口37のうちの1つを通ってミラー20を通過する照明放射14の別個の光線141、142、143が、例として示されている。図2に示された光線経路は、単に、図面の平面への投影を示している。特に、それらは、図面の平面に対する照明放射14の傾きを表していない。したがって、特にミラー20を通過する光線141は、反射されてミラー20上に戻る光線143に対応しておらず、むしろそれに対して斜行している。
ミラー20のすべての実施形態において、第1の領域22は、第2の領域23の掩蔽を形成する。それ故に、ミラー20は、分断化された掩蔽を有するミラーとも呼ばれる。
第1の領域22は、特に、像視野10への物体視野5の画像化に寄与せず、特に、ウェハ12上へのレチクル7の画像化に寄与しない。
1つの有利な実施形態では、ミラー20は調節デバイス32を備える。ミラー20および調節デバイス32は光学構成要素33を形成する。調節デバイス32は、図7に概略的に示される。それは、特にミラー20の中心軸31に垂直な方向に、ミラー20の直線変位、すなわち平行移動変位を可能にする。したがって、調節デバイス32は、少なくとも1つの、好ましくは2つの直線自由度を用いてミラー20の調節機能を有効にする。それに加えてまたはそれの代替として、調節デバイス32は、1つの回転自由度、特に、ミラー20の中心軸31のまわりまたは光軸に平行な軸のまわりのミラー20の回転を用いてミラー20の調節を可能にすることができる。調節デバイス32がミラー20の連続的な可変調節を可能にすることが好ましい。しかしながら、調節デバイス32がミラー20の異なる個別の位置を予め定めるように調節デバイス32を具現することも可能である。調節デバイス32は、特に、2つ以上の個別のミラー位置を予め定めることができる。
直線可動性は、マイクロメートル、ミリメートル、またはセンチメートルの範囲とすることができる。回転可動性は、数ミリラジアンから5°の範囲とすることができる。
1つの有利な実施形態によれば、調節デバイス32は、2つのミラー20を交換または変更するための交換デバイスまたは変更デバイスとして具現される。言い換えれば、光学構成要素33は、1つ、2つ、またはそれを超えるミラー20を含むことができる。ミラー20は、調節デバイス32によって交換することができる。
所与の配列の回転および/または変位のさらなる例が、図9および10に示される。規則的な正方格子の頂点上の第1の領域22の配列が、図9の開始配列としての役割を果たした。この配列は、中心から外れた軸34のまわりにほぼ9°だけ回転された。
図10による実施形態の場合には、三方格子が開始配列としての役割を果たした。前記格子は、隣接する第1の領域22の間の距離のほぼ1/3だけ直線的に変位された。
なおまた、適合関数fの少なくとも1つの目標値と終了規準とが、ミラー20の第1の領域22の配列を最適化するために予め定められる。
次に、第1の領域22の配列は、少なくとも1つの予め定められた目標値および/または終了規準が達せられるまで予め定められたアルゴリズムよって変更される。
進化戦略の変形として、(μ+λ)進化戦略の選択演算子を使用することが可能である。この場合、パラメータμは集団サイズ、すなわち、極の記憶の範囲(the extent of the memory of the pole)を示す。パラメータλは子孫の数である。
アルゴリズムの収束挙動を改善するために、後者はほとんど確実に収束する方法と組み合わされる。
第1の領域22の配列を最適化するために、一般に、前記領域22の各個別の領域の配列が個別に変更される。特に、格子の頂点上のすべての第1の領域22の配列から発して、第1の領域22の少なくとも10%、それの特に少なくとも20%、特に少なくとも30%、特に少なくとも50%が、最小量だけオフセットされるように配列されることが規定される。第1の領域22の直径の半分または直径または直径の特定の倍数が、最小量としての役割を果たすことができる。格子の頂点を基準とした第1の領域22のオフセットは、第1の領域22がいずれの場合にも格子の隣接頂点間の平均距離のせいぜい半分だけオフセットされるという趣旨で制限することができる。第1の領域22のオフセットは、各反復ステップの間動的に適応させることができる。それによって、最適化の収束挙動を改善することができる。第1の領域は、1/5成功ルールよってオフセットされることが好ましい。
図8aから8c、9、10、12aから12d、14aおよび14bにおけるのと同様に、図11aおよび11bの第1の領域22の配列の説明図は、それのサイズではなくそれの位置のみを示す。図11aおよび11bに示した例示的な実施形態の場合には、第1の領域22は、ミラー20の最大被照明領域の半径の0.018の半径を有する。この点に関して、ミラー20を、好ましくは、照明瞳よりも大きくし、その結果として、視野依存掩蔽による望ましくないテレセントリシティ効果を避けることができることに再度留意されたい。
特に、最適化の際に、強度が所与の放射チャネルの入射強度の少なくとも20%であるすべての次数の回折を考慮に入れることが可能である。特に、少なくとも0次および±1次の回折が考慮に入れられる。
その上、特に、評価の際に異なるピッチを考慮に入れることが可能である。特に少なくとも3つ、特に少なくとも5つ、特に少なくとも8つ、特に少なくとも12個、特に少なくとも20個、特に少なくとも30個のピッチを考慮に入れることができる。図に11cに示した照明瞳の場合には、22nmから320nmの範囲に対数的に等距離に分布した12個の異なるピッチが考慮に入れられた。
瞳のそのような高密度充填は、領域22の各々の位置がその配列の最適化の間に考慮に入れられていることを保証することができる。領域22の配列を最適化するため、画像化パラメータ(正規化画像対数勾配、テレセントリシティ誤差)は、いずれの場合にも異なる設定および/またはピッチに対して計算することができる。次に、引き続き、配列の適合性を計算するために、いずれの場合にもこれらのパラメータの最悪値を使用することを可能にすることができる。対応して決定された適合性が領域22の以前の配列のものよりも大きい場合、新しい配列が最適として使用される。
曲線45は、照明瞳の半径のパーセント(%σ)で表された、領域22の位置がそれぞれの反復において変位される値を表す。領域22の位置の変動は、最適化の間動的に適応される。動的な適応は、特に、いわゆる1/5成功ルールにより達成される。これは、アルゴリズムがより速く収束するという結果をもたらす。手順が既に最適に近い場合、変動はますます少なくなる。図示の例では、変動は、最初に、0.1mσ、すなわち、照明瞳の半径の1/100%であった。おおよそ50番目の反復から開始して、変動は0.01mσ未満であった。
本発明による方法によって、画像化性能が、すべての適切な照明設定および/またはピッチに対して予め定められた最小値に達することを保証することが可能になる。画像化性能は、特にすべての適切な設定および/またはピッチに対して最適化することができる。最適化は、特に、画像化性能が照明設定および/またはピッチと実質的に無関係であるように実行することができる。
図14bからの結果が、再度、図14cおよび14dに要約されている。図14cは、放射チャネルに対して、所与の放射チャネルの強度(1に正規化された)を基準とした0次、1次、および−1次の強度をプロットしている。掩蔽されない場合、0次の回折の強度は0.5であり、±1次の回折の強度は0.333である。0.5または0.333に存在しない入力値は、言い換えれば、第1の領域22のうちの1つと少なくとも部分的に重なる、すなわち、掩蔽されている放射チャネルに対応する。図14cによる分布が図14dに要約されている。これらの図から知ることができるように、0次の回折の位置は、第1の領域22との重なりが実質的にない。なおまた、±1次の回折のわずかな部分のみが領域22によって掩蔽される。
本発明によるさらなる実施形態によれば、瞳の強度分布の微調節のために、個々の第1の領域22の配列をわずかに変更して、それぞれの瞳スポットの強度の一部を部分的に掩蔽する、すなわち、その強度を低減することができる。
Claims (15)
- a.多数の第1の領域(22)と、
b.少なくとも1つの第2の放射反射領域(23)と
を含む分断化された全表面区域(24)を有するミラー(20)であって、
c.前記第1の領域が、いずれの場合にも、前記少なくとも1つの第2の領域から構造的に区切られ、それによって周辺を取り巻くように囲まれ、
d.前記第1の領域(22)が非周期的に配列され、
e.前記第1の領域(22)が、1mmから20mmの範囲の直径を有する、ミラー(20)。 - 前記第1の領域(22)は、格子の頂点上のすべての前記第1の領域(22)の配列から発して、前記第1の領域(22)の少なくとも10%が前記第1の領域(22)の直径の少なくとも半分だけ前記格子の頂点に対してオフセットされるように配列されるように配列されることを特徴とする請求項1に記載のミラー(20)。
- 前記第1の領域(22)は、格子の前記頂点上の配列から発して、前記格子の隣接する頂点間の平均距離のせいぜい半分だけ前記格子の前記頂点に対してオフセットされるように配列されることを特徴とする請求項1または2に記載のミラー(20)。
- 前記第1の領域(22)は、前記ミラー(20)の直径の50%未満の直径を有する領域の前記第1の領域(22)の局所密度が、前記ミラー(20)全体にわたる前記第1の領域(22)の平均密度からせいぜい30%の偏差を有するように均一に分布する方法で配列されることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載のミラー(20)。
- 第1の領域(22)の数が少なくとも100であることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載のミラー(20)。
- 前記第1の領域(22)の総計が、前記ミラー(20)の前記全表面区域(24)のせいぜい30%を占める表面区域を有することを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載のミラー(20)。
- 前記第1の領域(22)が放射透過性であることを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載のミラー(20)。
- a.請求項1から7のいずれかに記載の少なくとも1つのミラー(20)と、
b.前記少なくとも1つのミラー(20)を調節するための調節デバイス(32)と
を含む光学構成要素(33)。 - 請求項1から7のいずれかに記載のミラー(20)を少なくとも2つ有し、それらが前記調節デバイス(32)によって交換可能であることを特徴とする請求項8に記載の光学構成要素(33)。
- 請求項1から7のいずれかに記載のミラーを含む、物体視野(5)を像視野(10)に画像化するための投影光学ユニット(9)。
- a.物体視野(5)を照明放射(14)で照明するための照明光学ユニット(4)と、
b.請求項10に記載の投影光学ユニット(9)と
を含む光学システム(27)であって、
c.前記ミラー(20)の第1の領域(22)が、前記照明光学ユニット(4)のビーム経路に配列され、
d.前記ミラー(20)の少なくとも1つの第2の領域(23)が、前記投影光学ユニット(9)のビーム経路に配列される、光学システム(27)。 - 前記光学システム(27)が物体側開口数(NAO)と主光線角度(CRA)とを有し、arcsin(NAO)≧CRAが当てはまることを特徴とする請求項11に記載の光学システム(27)。
- a.放射源(3)と、
b.請求項11または12に記載の光学システム(27)と
を含むマイクロリソグラフィのための投影露光装置(1)。 - 請求項1から7のいずれかに記載のミラー(20)の設計を最適化する方法であって、
a.格子の頂点上の前記ミラー(20)のいくつかの第1の領域(22)の配列を用いて前記ミラー(20)の開始設計を予め定めるステップと、
b.このタイプのミラー(20)をもつ投影光学ユニット(9)の画像品質を評価するための適合関数(f)を予め定めるステップと、
c.少なくとも1つの目標値と終了規準を予め定めるステップと、
d.予め定められたアルゴリズムにより前記第1の領域(22)の前記配列を、前記少なくとも1つの予め定められた目標値または前記終了規準が達せられるまで変更するステップと
を含む、方法。 - マイクロまたはナノ構造構成要素を生成する方法であって、
− レチクル(7)を用意するステップと、
− 感光被覆を有するウエハ(12)を用意するステップと、
− 請求項13に記載の投影露光装置(1)の助けによって前記レチクル(7)の少なくとも1つの部分を前記ウェハ(12)上に投影するステップと、
−前記ウエハ(12)の前記露光済み感光被覆を現像するステップと
を含む、方法。
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